【課題】耐光性・耐熱性が低下するのを抑える。
【解決手段】本発明に係る光学素子としての対物レンズ１０は、所定の脂環式炭化水素系共重合体に添加剤を混合した光学素子用樹脂組成物を成形して得られた光学素子であって、前記脂環式炭化水素系共重合体が、前記脂環式炭化水素系共重合体３質量部を４０℃でシクロヘキサン１００質量部に溶解させ、前記シクロヘキサンに対し体積比で１０倍のアセトンを前記脂環式炭化水素系共重合体と前記シクロヘキサンとの溶液に加えて前記脂環式炭化水素系共重合体を沈殿させたときに、溶解成分として溶媒中に残留する前記脂環式炭化水素系共重合体由来の成分量が、前記シクロヘキサンに溶解させる前の前記脂環式炭化水素系共重合体量に対して４重量％以下である。 （もっと読む）

【課題】 耐熱性、透明性、低吸水性及び成形性に優れ、かつ線膨張係数の高い（温度応答性の高い）光学材料となりうる環状オレフィン付加共重合体、その製造方法並びにこの環状オレフィン付加共重合体からなる成形用材料を提供する。
【解決手段】 環状オレフィン（Ａ）単量体単位と炭素数４〜１２のα−オレフィン（Ｂ）単量体単位とからなり、線膨張係数が８０×１０^−６／℃以上である環状オレフィン付加共重合体。環状オレフィン（Ａ）単量体と炭素数４〜１２のα−オレフィン（Ｂ）単量体とを、特定の周期表第４族遷移金属化合物（ａ）の存在下で共重合する上記環状オレフィン付加共重合体の製造方法。上記環状オレフィン付加共重合体からなる成形用材料。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、透明性及び溶融成形性の全てに優れる新規な環化共重合体、並びにその製造方法を提供する。
【解決手段】ノルボルネン系単量体（ノルボルネン類，テトラシクロドデセン類）と非共役ジエン化合物とを（Ｃｐ）_２Ｍ^２Ｚ^１_ｐＬ^１_ｑで示される特定の重合触媒の存在下に重合した、架橋脂環式繰り返し単位と、脂環式繰り返し単位とを有する、重量平均分子量１，０００〜１，０００，０００である環化共重合体、及びその製造方法。 （もっと読む）

【課題】 本発明によれば、良好な赤外線吸収性を示し、加えて耐熱性、低吸水、高透明性等に優れた樹脂組成物、及びそれを用いた赤外線吸収成形体を提供することができる。
【解決手段】 エポキシ基を有する環状オレフィン系樹脂（Ａ）、及び赤外線吸収体（Ｂ）を含む樹脂組成物。前記環状オレフィン系樹脂が、ポリノルボルネン樹脂であり、前記赤外線吸収体が、金属錯体化合物であることが好ましい。また、これらの樹脂組成物を主成分として構成される赤外線吸収成形体。 （もっと読む）

【課題】環境による粉塵及び汚れの付着を抑制し、その光学特性を長時間に亘って維持
することができ、耐久性、信頼性に優れた光学素子と、それを用いた良好なピックアップ
特性を有する光ピックアップ装置を得る。
【解決手段】樹脂組成物を成形してなる光学素子であって、前記光学素子の帯電特性が＋２ｋＶ〜＋１５ｋＶであり、前記光学素子の４０５ｎｍでの光線透過率が８５％以上であることを特徴とする光学素子。 （もっと読む）

【課題】真空紫外領域、特にＦ２レーザー（１５７ｎｍ）光において透明で、かつアルカリ現像液に対する溶解性に優れたフォトレジスト用含フッ素重合体の製造方法および該フッ素重合体を含むフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】主鎖に脂肪族環構造を有する含フッ素重合体であって、重合体中に酸で反応する酸反応性基または酸反応性基に変換可能な基を有するレジスト用含フッ素重合体を製造する際、主鎖に脂肪族環構造を与え得る単量体を含む単量体混合物、ラジカル重合開始剤とともに、一般式 Ｒ−（Ｘ）_n（Ｒは炭素数１〜２０のエーテル結合を含んでいても良い炭化水素基で水素原子の一部がフッ素原子で置換されていても良い；Ｘは酸素原子含有の官能基または置換または非置換アミノ基；ｎは１〜４の整数）で示される連鎖移動剤を共存させることを特徴とする現像液への溶解性に優れたレジスト用含フッ素重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】光学材料や吸水による反りが問題になるシート等、高精度な寸法安定性が要求される成形品や吸水と乾燥が長期に亘って繰り返される環境下で使用される成形品の材料として好適な低吸水性の新規な（メタ）アクリル系共重合体を提供すること。
【解決手段】（メタ）アクリル酸エステル単量体（Ａ）に由来する単位、及び下記一般式（Ｉ）で示される脂環状メチレン単量体（Ｂ）に由来する単位を含有する（メタ）アクリル系共重合体。
【化１】


（式中、Ｘは、水素または炭素数１〜２０の炭化水素基を表し、ｎは、２以上２０以下のいずれかの整数を表す。） （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することであり、パターンエッジラフネス、ドライエッチング耐性が改善された液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】（Ａ）少なくとも２種類の特定な繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】環境温湿度変化に対して光学特性変化が少なく、かつ面内レターデーションＲｅおよび膜厚方向レターデーションＲｔｈの設計の自由度の高い光学補償シートを提供すること。またこのような優れた光学補償シートを有する偏光板および液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】環状オレフィン系付加重合体を含有する基体フィルム上に、光学異方性層を積層したことを特徴とする光学補償シート。偏光子と、その両側に配置された２枚の保護膜からなる偏光板において、前記保護膜のうちの少なくとも１枚が、該光学補償シートであることを特徴とする偏光板。該偏光板を少なくとも１枚使用したことを特徴とする液晶表示装置。 （もっと読む）

【課題】レジストパターン形状が良好で、保存安定性も向上し、高い解像性、良好なパターン形状、保存安定性が得られる化学増幅型レジスト材料の提供。
【解決手段】酸分解性基をもつ、（メタ）アクリル酸、ビシクロヘプテンカルボン酸、又は、ビシクロヘプテンジカルボン酸のエステルを原料とし、分子量分布が狭く、低分子量成分を除去した重合体を化学増幅レジスト材料に用いる。 （もっと読む）