【課題】単一でありながら逆波長依存性を有するフィルムを作製できる重合体、該重合体により作製したフィルム、およびその他の光学材料を提供すること。
【解決手段】エチレンまたは炭素原子数が３〜２０のα−オレフィンから導かれる構成単位（Ａ）を３０〜７０モル％、
所定の化学式で表される環状オレフィンから導かれる構成単位（Ｂ）を２０〜５０モル％、
芳香族ビニル化合物から導かれる構成単位（Ｃ）を０．１〜２０モル％含み、
下記要件［１］〜［３］を同時に満たすことを特徴とする、環状オレフィン系重合体。
［１］移動粘度計によりＡＳＴＭ Ｊ１６０１に準じた測定方法にて測定を行った場合の１３５℃のデカリン中での極限粘度［η］が０．４〜５．０ｄｌ／ｇの範囲にある。
［２］^１Ｈ−ＮＭＲにおいて６．０〜６．８ｐｐｍの範囲にピークが存在する。
［３］示差走査熱量計（ＤＳＣ）より求められるガラス転移温度が１００℃〜２００℃の範囲にある。 （もっと読む）

【課題】配向性、耐熱性、成形加工性に優れた架橋性液晶フィルムの作成に必要である新規なオキセタン誘導体とそれを用いて得られる架橋可能な液晶性高分子を提供する。
【解決手段】
式（１）で表される化合物。


但し、式（１）中、Ｒ_１は水素またはメチル基を表し、Ｒ₂は水素、メチル基またはエチル基を表し、Ｌ_１およびＬ_２はそれぞれ個別に単結合、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−または−ＣＯ−Ｏ−のいずれかを表し、Ｍは式（２）、式（３）または式（４）を表し、ｎは同一でも異なってもよくそれぞれ０〜１０の整数を示す。
−Ｐ_１−Ｌ_３−Ｐ_２−Ｌ_４−Ｐ_３− （２）
−Ｐ_１−Ｌ_３−Ｐ_３− （３）
−Ｐ_３− （４）
（上記Ｐ_１〜Ｐ_３はフェニレン基その他の基から選ばれる基を表し、Ｌ_３およびＬ_４はそれぞれ個別に単結合、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−または−ＣＯ−Ｏ−を表す。） （もっと読む）

【解決手段】側鎖に、芳香族炭化水素基および三級炭素を含有する鎖状または環状のアルキル基を有する繰り返し単位を有する高分子化合物を含有するポジ型レジスト材料。
【効果】本発明の材料は、微細加工技術、特にＡｒＦリソグラフィー技術において極めて高い解像性を有し、精密な微細加工に極めて有用である。また、マスク加工における、ＥＢ描画において、微細パターンの解像性、高感度で高加速電圧ＥＢ露光に相応しく、エッチング耐性に優れたポジ型レジスト材料を提供でき、マスク加工に極めて有用でもある。 （もっと読む）

【解決課題】簡便な光導波路の製造方法を提供すること。更には、鮮明なコアパターンが得られる光導波路の製造方法を提供すること。
【解決手段】活性放射線を照射することによりマレイミド基と反応する低分子量化合物を含有するマレイミド基を有する活性放射線硬化性ポリマー層を作製する活性放射線硬化性ポリマー層作製工程と、該活性放射線硬化性ポリマー層に、パターン形状のマスクをし、活性放射線を照射する第一の照射工程と、加熱下又は減圧下で、該活性放射線硬化性ポリマー層のうちの活性放射線が照射されなかった未露光部から、該低分子量化合物を揮発させる低分子量化合物揮発工程と、該活性放射線硬化性ポリマー層全体に、活性放射線を照射する第二の照射工程と、を有することを特徴とする光導波路の製造方法。 （もっと読む）

【課題】短波長の結像照射に対して透明であり、かつドライエッチング法に対して耐性のあるフォトレジスト組成物に有用な多環式ポリマー及び多環式ポリマー組成物を提供する。
【解決手段】ポリマー主鎖に沿って繰返し芳香族ペンダント基を含有する多環式ポリマーからなるレジスト組成物を用いる。このポリマーは深ＵＶ波長に対し光透明性の性質を示し、高解像度光平板法への応用に有用である。これらのポリマーは特に化学増幅型ポジおよびネガ型階調レジストに特に有用である。 （もっと読む）

【課題】環状オレフィン官能性ポリシロキサンを含む環状オレフィン付加共重合体及びその製造方法、架橋用組成物、架橋体及びその製造方法を提供。
【解決手段】環状オレフィン官能性ポリシロキサンを含む環状オレフィン付加共重合体式（２）のポリシロキサンに由来する構造単位が、共重合体中０．５〜３５モル％である環状オレフィン付加共重合体。


｛Ｒ¹は脂肪族不飽和結合を有さない一価有機基、ｓは０〜２、ｊは０又は１。｝ （もっと読む）

【課題】膜表面の疎水性が高いレジスト膜を形成でき、かつ、リソグラフィー特性も良好なネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】主鎖に脂環式構造を持ち側鎖にフッ素化アルキルエステルを有する構成単位（ｆ１）及びアルカリ可溶性基を有する構成単位（ｆ２）を含む含フッ素樹脂成分（Ｆ）と、前記含フッ素樹脂成分（Ｆ）を除くアルカリ可溶性樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、架橋剤成分（Ｃ）とを含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【解決手段】酸によってアルカリ溶解性が向上あるいは低下するベース樹脂となる高分子化合物と、高分子添加剤として一般式（１）の（ａ）、（ｂ）で表される繰り返し単位を有する高分子化合物とを含むレジスト材料。


【効果】レジスト材料を用いて形成したレジスト膜は、水に対する良好なバリアー性能を有するため、レジスト膜の水への溶出を抑制でき、このため溶出物によるパターン形状変化を低減できる。 （もっと読む）

【課題】環状オレフィン系樹脂の合成過程で発生するゲル成分に起因する欠点が少なく、吸湿性及び透湿性が低い環状オレフィン系樹脂シートおよびフィルムの提供を目的とする。
【解決手段】炭素原子数２〜３０の直鎖状または分岐状のα−オレフィンに由来する構成単位と、特定環状オレフィンに由来する構成単位とからなるα-オレフィン・環状オレフ
ィン共重合体であって、連鎖構造を含まない、すなわち交互共重合体である環状オレフィン系樹脂を溶融製膜して得られる環状オレフィン系樹脂シート又はフィルムを用いる。 （もっと読む）

【課題】吸湿性や透湿性が低く、適度な弾性を有し、脆さがなく、機械的強度に優れたフィルム、これを用いた偏光板および画像表示装置の提供を目的とする。
【解決手段】（Ａ）炭素数２〜２０のα−オレフィンの少なくとも一種と、（Ｂ）下記一般式で表される環状オレフィンの少なくとも一種とからなる共重合体を含むフィルムであって、該共重合体は該（Ａ）から誘導される繰返し単位のモル分率が１０〜７０モル％、該（Ｂ）から誘導される繰返し単位のモル分率が３０〜９０モル％であり、かつ、重量平均分子量が５０，０００〜１，０００，０００であるフィルム。


式中、Ｒ^１〜Ｒ^４はそれぞれ独立に水素原子またはアルキル基を表すが、Ｒ^１〜Ｒ^４のうち、少なくとも一つは直鎖または分岐状の炭素数４以上のアルキル基である。ｍは０または１を表す。 （もっと読む）