国際特許分類［C08F38/00］の内容
化学；冶金 (1,075,549) | 有機高分子化合物；その製造または化学的加工；それに基づく組成物 (224,083) | 炭素−炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物 (38,630) | １個以上の炭素−炭素三重結合を含有する化合物の単独重合体または共重合体 (148)
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アセチレン (27)
ビニルアセチレン
国際特許分類［C08F38/00］に分類される特許
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高分子膜の選択的成長方法
【目的】 例えばドーナッツ型開口部を有するパターンに導電性高分子膜を成長させることができ、しかも１μｍ以下のような微細パターンの形成を有機高分子膜の選択的成長により可能にする。
【構成】 所定のパターニングを有するフォトレジスト上に触媒を適用し、そのフォトレジストと接触する部分の触媒を失活させ、フォトレジストと非接触の触媒適用部分のみに高分子膜を選択的に成長させる。
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