【課題】半導体装置の製造の際に、銅または銅合金からなる層を高速で研磨することができ、しかも銅残りが生じない高品位の被研磨面が得られる化学機械研磨用水系分散体、およびそれを用いた半導体装置の化学機械研磨方法を提供する。
【解決手段】本発明では、（Ａ）過酸化水素、（Ｂ）過硫酸塩、（Ｃ）砥粒、（Ｄ）複素環を有する化合物、（Ｅ）研磨速度向上剤、および（Ｆ）界面活性剤を含み、前記（Ａ）過酸化水素と、前記（Ｂ）過硫酸塩の質量比（Ａ）／（Ｂ）は、０．０１〜１０である化学機械研磨用水系分散体が提供される。 （もっと読む）

【課題】セルロースを使用せずとも耐熱性に優れ、且つ層間剪断特性等の機械的特性の高温耐久性に優れた湿式摩擦材を提供することを目的とする。
【解決手段】繊維材料、無機フィラー、摩擦調整剤等の成分から成る湿式摩擦材において、繊維材料として、高度にフィブリル化したアラミドパルプをある特定の条件範囲でプラズマ処理したものを使用することにより、層間剪断特性などの機械的特性に優れた湿式摩擦材が得られる。 （もっと読む）

【課題】特に、半導体装置の研磨に好適に用いられ、研磨速度が大きく、エロージョンが小さく、分散安定性に優れる水系分散体を提供する。
【解決手段】イオン交換水に、研磨粒子（ヒュームド法アルミナ粒子）と、例えば、シラン系カップリング剤及びアルミニウム系カップリング剤により処理された有機粒子であって、研磨粒子を凝集させることができる凝集促進粒子と、酸化剤（過硫酸アンモニウム等）等を加えて撹拌して得る。 （もっと読む）

【課題】研磨フィラメントに有用なポリシロキサン類の開発。
【解決手段】（ａ）複数の研磨粒子、および（ｂ）前記複数の研磨粒子を接着する結合系であって、結合剤および式（Ａ）：式中、R, R', R¹, R², R³, R⁴, R⁵およびR⁶は同じであっても異なってもよく、アルキル、ビニル、クロロアルキル、アミノアルキル、エポキシ、フルオロラルキル、クロロ、フルオロまたはヒドロキシであってもよく、ｎは500以上のポリキサンを含有する結合系を含む研磨フィラメント。
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【課題】メモリーハードディスク基板表面のナノスクラッチを低減可能なメモリーハードディスク基板用研磨液組成物を提供する。
【解決手段】本発明のメモリーハードディスク基板用研磨液組成物は、水、コロイダルシリカ、ゲル化抑制剤、並びに、無機酸及び有機ホスホン酸の少なくとも一方を含み、前記ゲル化抑制剤は、窒素原子を含まない有機酸であり、前記ゲル化抑制剤のゲル化抑制能が、（Ｖ２−Ｖ１）≦１０００の関係を示すメモリーハードディスク基板用研磨液組成物である。前記Ｖ１は、２０重量％のコロイダルシリカ及び０．１重量％のゲル化抑制剤を含み、硫酸によってｐＨ１．５に調整した溶液の２５℃における粘度（ｍＰａ・ｓ）を示し、前記Ｖ２は、前記溶液を８０℃で２４時間放置した後の２５℃における粘度（ｍＰａ・ｓ）を示す。 （もっと読む）

【課題】運搬・貯蔵等には高濃度研磨液材料を用い、実際の研磨を行う場合には、これに希釈剤等を加えて金属用研磨液を容易に調製することができる金属用研磨液の製造方法を提供する。
【解決手段】酸化剤と、酸化金属溶解剤と、保護膜形成剤と、該保護膜形成剤の溶解補助剤と、水とを含有してなる金属用研磨液を製造する方法であって、
酸化剤を含む第１の構成要素、
酸化金属溶解剤、保護膜形成剤及び該保護膜形成剤の溶解補助剤からなる成分群のうちの少なくとも一成分を含む第２の構成要素、及び
希釈剤
を混合する混合工程を含む金属用研磨液の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 マトリクス材料中で偏析などが生じにくく、均一に分散し得る金属酸化物複合粒子を製造する方法、該方法により得られる金属酸化物複合粒子および該金属酸化物複合粒子を含む摩擦材を提供する。
【解決手段】
溶媒中において、無機粒子および／または有機粒子の存在下に、加水分解性金属化合物を加水分解、縮合させて金属酸化物ゾルを形成し、得られたゾルを乾燥、加熱、粉砕処理することを特徴とする金属酸化物複合粒子の製造方法、該方法により得られることを特徴とする金属酸化物複合粒子、および該金属酸化物複合粒子を含むことを特徴とする摩擦材である。 （もっと読む）

【課題】 より高速研磨が可能な研磨組成物を提供する。
【解決手段】 本発明の研磨組成物は、金属膜、特に銅（Ｃｕ）膜に好適な研磨組成物であって、アンモニアとアンモニウム塩とを含み、残部が水である。アンモニウム塩としては、塩化アンモニウム、炭酸アンモニウムが好ましい。さらに、本発明の研磨組成物には、砥粒を含んでいてもよく、特に研磨後の表面平滑性が望まれるような用途では、砥粒を含むほうが好ましい。 （もっと読む）

本発明は、約１１０ｇ／ｃｍ²以下の下方向力でガラス基板を研磨するのに好適なガラス研磨組成物および方法を提供する。１つの好ましい研磨組成物は、重合体安定剤、たとえば、約５０〜約１５００ｐｐｍの安定剤および任意選択的な水に可溶な塩を含む水性キャリアの中で懸濁された微粒子状酸化セリウム研磨材（たとえば、約１〜約１５重量パーセント）を含む。好ましくは、微粒子状酸化セリウム研磨材は、約０．３５〜約０．９μｍの範囲内の平均粒径を有する。別の好ましい組成物は、少なくとも約０．２μｍの平均粒径および重量基準で少なくとも約９９．９％のＣｅＯ₂純度によって特徴づけられ、当該酸化セリウム研磨材の等電点（ＩＥＰ）よりも少なくとも約１単位高いかまたは低いｐＨのところで、水性キャリアの中に懸濁された、約１〜約１５重量パーセントの微粒子状酸化セリウム研磨材を含む。 （もっと読む）

【課題】複合材料、例えば樹脂組成物からなる摩擦材の基材として使用される複合チタン酸化合物およびその粉末を含有する改良された摩擦摩耗特性を有する摩擦材を提供する。
【解決手段】この複合チタン酸化合物は、チタン酸塩[I]の結晶粒とチタン酸塩[II]の結晶粒とが結合した複合多結晶粒子からなる。 Ａ_y/x−αＭ_zＴi_8/x−zＯ_16/x−β …［Ｉ］[A：K,Rb,Csの１種以上の元素、M：Mg,Zn,Cu,Fe,Al,Ga,Mn,Ni,Liの１種以上の元素、ｘは、４または１。ｘ=4のとき、2≦ｙ≦4、0≦α＜ｙ/4、0≦β＜4、ｘ=１のとき、0.5≦ｙ≦3、α=0、β=0。ｚは、Mが1価金属のとき、ｚ=ｙ/3ｘ、Mが2価金属のとき、ｚ=ｙ/2ｘ、 Ｍが3価金属のとき、ｚ=ｙ/ｘ] RTiO_３ … [II][R：Mg,Ca,Sr,Baの１種以上の金属元素]。 （もっと読む）