式（Ｉ）で表される化合物及びこれを用いた潤滑剤ならびに磁気ディスク。
Ａ−ＣＨ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）ｍ−（ＣＦ_２Ｏ）ｎ−ＣＦ_２ＣＨ_２−Ｂ （Ｉ）（式中Ａは水酸基を有するアミノ基、Ｂは水酸基、水酸基を有しないアミノ基又は水酸基を有するアミノ基であり、ｍは５〜３６の実数、ｎは４〜３０の実数である。）
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【課題】 低温環境下であっても、潤滑層の修復性及びそれによる摺動特性が長期にわたり良好であって、極低浮上型あるいは接触型ヘッドを搭載した磁気記録再生装置に適用しても信頼性が高い磁気記録媒体を得る。
【解決手段】 両端に各々１以上のＣＨ₃基またはＣＦ₃基を有する第１のパーフルオロポリエーテル、及び少なくとも一末端に極性基を有する第２のパーフルオロポリエーテルを含有する潤滑剤を用いて潤滑層を形成する。 （もっと読む）

低い蒸気圧および粘性を有し、使用時の劣化の問題を防ぎ、潤滑剤、表面改質剤等、または界面活性剤等として有用に用いうる化合物を提供する。
次式（Ｘ−）_ｘＹ（−Ｚ）_ｚで表わされる含フッ素ポリエーテル化合物。
ただし、Ｘは次式ＨＯ−（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ａ・（ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２Ｏ）_ｂ−（ＣＨ_２）_ｃ−ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｄ−で表される基（ａは０〜１００の整数、ｂは０〜１００の整数、ｃは１〜１００の整数、ｄは１〜２００の整数。）、Ｚは次式Ｒ^ＦＯ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｇ−で表わされる基（Ｒ^Ｆは炭素数１〜２０の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入されたペルフルオロアルキル基等、ｇは３〜２００の整数。）、Ｙは（ｘ＋ｚ）価のペルフルオロ化飽和炭化水素基等、ｘは２以上の整数、ｚは０以上の整数、（ｘ＋ｚ）は３〜２０の整数。 （もっと読む）

１０nm以下の極低浮上量においてもフライスティクション障害や腐食障害などが防止でき、５４００ｒｐｍ以上の高速回転においても、マイグレーションを抑制し得る付着性の高い潤滑層を形成でき、特にロードアンロード方式用に好適な潤滑層を形成するための潤滑剤及び磁気ディスクを提供する。
パーフルオロポリエーテルを少なくとも含む潤滑剤を脱気処理した後、精製処理する、または、パーフルオロポリエーテルを少なくとも含む液体状の潤滑剤を気化させ、気化したパーフルオロポリエーテル分子を、その平均自由行程以内の距離で液化させることにより、前記潤滑剤を精製処理する。得られた潤滑剤を、基板上に炭素系保護層まで形成した磁気ディスクの保護層上に成膜することにより潤滑層を形成し、磁気ディスクを得る。磁気ディスク用潤滑剤は、パーフルオロポリエーテルを含み、分子量分散度が１．３以下である。 （もっと読む）

Ｃ₂Ｆ₅ＣＦ（ＯＣＨ₃）ＣＦ（ＣＦ₃）₂（１，１，１，２，２，３，４，５，５，５−デカフルオロ−３−メトキシ−４−トリフルオロメチルペンタン）および有機溶媒を含む共沸混合物様組成物、および前記共沸混合物様組成物の使用が記載されている。
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