国際特許分類[C10N40/18]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | 石油,ガスまたはコークス工業;一酸化炭素を含有する工業ガス;燃料;潤滑剤;でい炭 (63,767) | サブクラスC10Mに関連するインデキシング系列 (21,188) | 潤滑組成物が意図する特定の使用または応用 (6,296) | 電気的または磁気的用途 (260) | 磁気テープまたはディスクへの記録に関連した (105)
国際特許分類[C10N40/18]に分類される特許
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磁気ディスク
【課題】近年の高記録密度化に伴う磁気ヘッドの低浮上量のもとで、用途の多様化に伴う非常に厳しい環境耐性のもとで高信頼性を有する磁気ディスクを提供する。
【解決手段】基板上に、少なくとも磁性層と保護層と潤滑層が順次設けられた磁気ディスクである。潤滑層は、構造中にパーフルオロポリエーテル主鎖を有し、且つ末端にはヒドロキシル基を有するパーフルオロポリエーテル基同士が、構造中に少なくとも3個のヒドロキシル基を有する2価の連結基を介して結合している化合物を含有し、保護層は、窒素を含有する炭素系保護層であり、該保護層中の窒素(N)と炭素(C)の含有量比(N/C)が0.15〜0.30の範囲である。
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潤滑剤塗布装置および潤滑剤塗布方法
【課題】 本発明は、潤滑剤の塗布に関し、より詳細には潤滑剤の溶液に浸漬した塗布対象物を引き上げる際に、外気の乱れに影響されことなく、溶剤から揮発する蒸気層を通って引き上げる潤滑剤塗布装置と潤滑剤塗布方法に関する。
【解決手段】 本発明の潤滑剤塗布装置はディップ槽と昇降機構とを備え、ディップ槽は溶液の液面の上部をカバーで覆い、そのカバーには塗布対象物を懸架した昇降機構が通過する開口部が形成され、開口部から立直した所定高さの囲いを有し、囲い内の溶液から揮発する蒸気層が外気の乱れの影響を受けない、よう構成する。
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エーテル化合物および潤滑剤
【課題】基材への定着性が高く、かつ塗膜としたときの表面の摩擦係数が低いエーテル化合物および潤滑剤を提供する。
【解決手段】(X2−)4Yで表される化合物および該化合物を含む潤滑剤。X2はHOCH2CH(OH)CH2OCH2CF2O(CF2CF2O)d−であり、Yは下式(Y−1)で表される基であり、dは1〜200の整数である。
[化1]
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潤滑剤組成物
【課題】フッ素オイルやフッ素グリースと好適であり、耐熱性を有しながら優れた防錆性を有する潤滑剤組成物を提供すること。
【解決手段】下記一般式(I)で示される含フッ素ジアミド化合物と、潤滑油とからなる防錆に優れた潤滑剤組成物。
一般式(I)
〔式中、Yは酸素原子(O)、硫黄原子(S)、CO基、SO基又はSO2基を表わし、kは1〜5の整数であり、mは0〜10の整数であり、nは1以上の整数である。フェニル基に有する2つの置換基の置換位置は、オルト位、メタ位、パラ位の何れでも良い。〕
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潤滑剤組成物
【課題】フッ素オイルやフッ素グリースと好適であり、分解防止性に優れた潤滑剤組成物を提供すること。
【解決手段】下記一般式(I)で示される含フッ素ジアミド化合物と、潤滑油と、からなる潤滑剤組成物。
一般式(I)
〔式中、Yは酸素原子(O)、硫黄原子(S)、CO基、SO基又はSO2基を表わし、kは1〜5の整数であり、mは0〜10の整数であり、nは2以上の整数である。フェニル基に有する2つの置換基の置換位置は、オルト位、メタ位、パラ位の何れでも良い。〕
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硬質薄膜の製造方法
【課題】密着性の高い硬質薄膜を成膜でき、しかもその硬質薄膜における膜厚を部分的に異ならせることのできる硬質薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】PVD法により被処理材(バルブリフタ1)の被処理面(摺動面1a)に硬質薄膜を形成する方法であって、被処理面の裏面1bに永久磁石3をパターン配置して被処理面上に磁界を局所的に発生させることにより、被処理面に形成される硬質薄膜の膜厚を部分的に異ならせる。
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表面処理剤
【課題】高い化学的安定性、塗膜自己修復性を有し、基材への定着性が高く、基材への塗布工程において紫外線照射による末端基の配向処理が可能な表面処理剤を提供する。
【解決手段】(X−)x(W−)w(Z−)zYを含む表面処理剤。Xは式(X)、Wは式(W)、Zは式(Z)、Yは(x+w+z)価のペルフルオロ化飽和炭化水素基等、xは1以上の整数、w、zは0以上の整数、(x+w+z)は3以上の整数。
U−(CH2CH2O)a−(CH2)b−CF2O(CF2CF2O)c−・・・(X)、RW−(CH2CH2O)d−(CH2)e−CF2O(CF2CF2O)f−・・・(W)、RFO(CF2CF2O)g−・・・(Z)。Uは紫外線吸収基、a、bは0〜100の整数、cは1〜200の整数、RwはHO−、HOC(O)−等、d、eは0〜100の整数、fは1〜200の整数、RFはペルフルオロアルキル基等、gは3〜200の整数。
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磁気ディスク及び磁気ディスク装置
【課題】非付着性、適度な流動性、結合性の全てを備えた潤滑層を有する磁気ディスクを提供する。
【解決手段】潤滑層は、第一成分と第二成分とを含有する潤滑剤から構成され、前記第一成分は、重量平均分子量が500〜6000の範囲で、分散度は1.3未満であり、その主成分として式(1)で示される第一パーフルオロポリエーテル化合物を含有し、前記第二成分は、重量平均分子量が500〜6000の範囲で、1分子内に含まれる水酸基の平均個数が6〜10の範囲である、第二パーフルオロポリエーテル化合物である磁気ディスクとする。
(但し、Rf1は式(2)で、Rtは式(3)で示される末端基である。)
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磁気記録媒体
【課題】様々な環境下で良好な記録再生が可能な磁気記録媒体を提供すること。
【解決手段】非磁性支持体上に、放射線照射によって硬化した放射線硬化性化合物を含む下塗り層、非磁性粉末と結合剤とを含む非磁性層、および強磁性粉末と結合剤とを含む磁性層をこの順に有する磁気記録媒体。前記磁性層および/または非磁性層は、下記一般式(1)で表される炭酸エステルを含有し、かつ、前記下塗り層の押し込み硬度は、前記非磁性支持体の押し込み硬度よりも低い。
一般式(1)中、R1およびR2は、それぞれ独立に飽和炭化水素基を表し、R1およびR2の炭素数の合計は12以上50以下である。
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磁気ディスク
【課題】 例えば10nmあるいはそれ以下の浮上量で磁気ヘッドが浮上走行した場合であっても、フライスティクション障害や腐食障害などを防止することができ、故障が抑制され、安全性に優れる磁気ディスクを提供する。
【解決手段】 基板上に磁性層、保護層、潤滑層がこの順で成膜された磁気ディスクであって、拡張Fowkesの式により求められる前記磁気ディスク表面の表面自由エネルギーγSが0を超え24mN/m以下であり、かつ前記表面自由エネルギーγSを構成する、γSd(表面自由エネルギーの分散力成分)が0を超え17mN/m以下、γSp(表面自由エネルギーの双極子成分)が0を超え1mN/m以下、γSh(表面自由エネルギーの水素結合力成分)が0を超え6mN/m以下である磁気ディスクである。
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