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国際特許分類[C11D1/28]の内容

国際特許分類[C11D1/28]に分類される特許

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本発明は、硼酸塩および胞子(細菌または真菌の)、増殖性細菌、または真菌を含有する安定な洗浄用組成物に関するものである。この組成物はさらにポリオールを含有できる。
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本発明は、化粧石鹸素地、保湿成分、および界面活性剤からなる化粧石鹸組成物に係り、水素添加硬化ヤシ油または硬化パーム核油および遊離脂肪酸からなる化粧石鹸素地、オイルおよび多価アルコール類の液状エモリエントの保湿成分、およびイセチオン酸ココイルナトリウム、スルホコハク酸ラウリル二ナトリウム、およびこれらの混合物の界面活性剤からなり、水素添加工程および選択的な遊離脂肪酸を添加して硬度を高めることによって、生産性の低下を発生させず、ヤシ油またはパーム核油の優秀な気泡力と気泡安定性、および洗浄効果の特性を維持しつつ、割れ現象なしに保湿性の向上した化粧石鹸組成物を提供できる。 (もっと読む)


極性溶媒及び疎水性界面活性剤を含む布地物品処理組成物であって、親油性流体に混和可能である組成物が提供される。 (もっと読む)


本発明は、複数個の基材層を含有する使い捨て物品を対象とする。この物品は、パッドサイズの物品、グリップサイズの物品、シートサイズの物品、及び組み合わせから成る群から選択される。これらの物品は、基材層に結合した洗浄組成物を有する。この物品は、有効な洗浄の効果を、皮膚及び毛髪に、使いやすく、安価で、衛生的な方式で提供する。本発明の物品はまた優れた厚さを有する。更に、この物品は、可撓性であると同時に増加した剛性を有する。剛性及び厚さの増加は、使用中に破砕したり又はしわくちゃになったりしない物品を提供する。本発明の物品はまた、治療的又は審美的効果を、別個の効果提供製品を必要とせずに提供することができる。 (もっと読む)


【課題】 低臭性のスルホコハク酸モノエステルの製造法の提供。
【解決手段】 炭素数8〜20のアルコールに炭素数2〜4のアルキレンオキシドを付加させて得られる、アルカリ金属水酸化物及び/又は有機酸のアルカリ金属塩を特定割合で含有する、アルコールのアルキレンオキシド付加物を、仕込モル比にて、(無水マレイン酸)/(アルコールのアルキレンオキシド付加物)=1.05〜1.15、反応温度85℃以下、不活性ガス雰囲気下で無水マレイン酸と反応させることによりマレイン酸モノエステルを合成する第1工程、及び第1工程で得られたマレイン酸モノエステルと亜硫酸アルカリ金属塩及び/又はアルカリ金属水酸化物を含有する酸性亜硫酸アルカリ金属塩とを反応させてスルホコハク酸モノエステルを合成する第2工程からなる。 (もっと読む)


【課題】 皮膚に対する安全性が高く、使用上適度な粘性を有するとともに、その粘性が長期間安定に維持され、かつpHの長期安定性に優れる、ヒトの皮膚、毛髪等を洗浄するための洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】 特定の長鎖アシル低級アルキルタウリン塩型陰イオン性界面活性剤の1種または2種以上と、N−アルキルピロリドンの1種または2種以上とを含有してなる洗浄剤組成物。 (もっと読む)



【課題】各種物質と水との界面張力を著しく低下させることにより、精密加工、微細加工された構造物に含まれる微細な(特に数十〜数μ程度)穴又は隙間に水を浸透させ、前記部分に残存する汚染物質を効率的に除去することのできる水系組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】(a)1〜60重量%の水溶性溶剤、(b)0.1〜50重量%の液状炭化水素、及び(c)0.5〜40重量%の非イオン界面活性剤を含む第1組成物と共に、(d)0.05〜40重量%のアルキルスルフォサクシネート、及び(e)残部は全組成物を100重量%とするに足る量の水を含有する水系組成物を提供する。 (もっと読む)


【課題】 泡立ち、泡質ともに良く、泡立ちのpH依存性が少なく、きしみ感やつっぱり感を有さないうえに、悪臭の出ない優れた洗浄剤組成物を提供すること。
【解決手段】 下記一般式で表される脂肪酸のN−メチルタウリンアルカリ金属塩を必須成分として配合することを特徴とする洗浄剤組成物である。
R−COO-2+(CH3)−CH2−CH2−SO3+(但し、式中Rは炭素数7〜23の飽和又は不飽和の炭化水素基、Xはアルカリ金属を表す。)を表す。) (もっと読む)


水性の増粘中性またはアルカリ性過酸化水素組成物およびその製造方法を提供する。この組成物は、ポリマー増粘剤と一つ以上の界面活性剤とによって増粘される。前記ポリマー増粘剤は、ポリエチレン主鎖、カルボキシル側基、および化学式−(OCH2CH2)m(OCHXCHY)n−O−Rを有する側基から成り、前記式において、mは正整数、nは0または正整数であり、XとYは水素原子、メチル基、およびエチル基から独立に選択され、Rは8個以上の炭素原子を含む疎水基である。前記界面活性剤は、アルコールエトキシレート、10個以上の炭素原子を含むアルキルベンゼンスルホネート、6個以上の炭素原子を含むアルキルスルフェート、アルコールエーテルスルフェート、アルファースルホエステル、およびアルキルグルコシドから成るグループから選択される。 (もっと読む)


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