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国際特許分類[C11D7/06]の内容

国際特許分類[C11D7/06]に分類される特許

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【課題】合成樹脂を含む複合材料、又は合成樹脂が付着した固体基材から、合成樹脂を溶解・剥離するための溶剤組成物の提供。
【解決手段】(a)N−メチル−2−ピロリドン、ノルマルプロピルブロマイド、γ−ブチロラクトン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、及びトリエタノールアミンからなる群より選択される有機溶媒30質量%〜95質量%、(b)塩基性無機化合物0.5質量%〜5.0質量%、及び(c)グリセリン4.5質量%〜65質量%からなる合成樹脂溶剤組成物。 (もっと読む)


【課題】シリコーン樹脂系のコーキングや軟質ポリ塩化ビニル樹脂系のパッキンなどの樹脂部に生えたカビに対し優れた漂白力を示す液体漂白洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】(a)次亜塩素酸アルカリ金属塩、(b)アルカリ金属水酸化物、及び(c)水酸基を有する特定の水溶性溶剤を、それぞれ特定範囲の濃度で含有する液体漂白洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】毛髪除去性に優れ、繊維製品の強度低下が極めて低く、短時間で処理できる毛髪除去剤及び毛髪除去方法を提供する。
【解決手段】(A)金属封鎖剤、(B)アルカリ金属水酸化物、および(C)ケイ酸塩を含有してなる毛髪除去剤を用いる。 (もっと読む)


【課題】食器洗浄機による食器の洗浄において、優れた洗浄力を示し、洗浄機内のスケール付着が抑制され、且つ食器の使用、洗浄の繰り返しによる色素汚れの付着遅延性にも優れた食器洗浄機用液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】(A)塩素系の漂白成分(有効塩素濃度として)0.1〜10質量%、(B)ポリカルボン酸又はその塩5〜30質量%、(C)オルト珪酸塩及びメタ珪酸塩から選ばれる1種以上1〜20質量%、(D)アルカリ金属水酸化物0〜5質量%、並びに(E)水40〜90質量%を含有し、炭酸塩の含有量が1質量%以下である食器洗浄機用液体洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】人工透析装置における透析液ラインの汚れを除去して確実に殺菌でき、透析液ラインに介在する中空糸膜型の透析液フィルターの劣化及び機能低下を効果的に抑制し得る洗浄方法を提供する。
【解決手段】中空糸膜束の少なくとも一端側をポリウレタン系樹脂層にて結着した透析液フィルターが介在する透析液ラインに対し、次亜塩素酸を含まない苛性アルカリ水溶液による洗浄と、過酢酸水溶液による洗浄とを施す。 (もっと読む)


【課題】飲料等の液体製品の製造過程において、液体製品中から不溶性物質等を分離するための分離膜に蓄積された濾過物の洗浄性に優れ、分離膜を短時間で効率良く洗浄することができる分離膜用洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】本発明の分離膜用洗浄剤組成物は、(A)成分として、アルカリ剤、(B)成分として、次亜塩素酸塩、(C)成分として、重合リン酸塩、(D)成分として、ホスホン酸塩を含有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】26〜40質量%の水酸化ナトリウムとエチレンジアミン四酢酸および/またはその塩を含有する洗浄剤組成物において、常温、つまり−5〜40℃において長期間結晶析出、あるいは凍結することのない安定で且つ高濃縮化した硬質表面用液体洗浄剤組成物を提供すること。
【解決手段】(A)成分として水酸化ナトリウムを26〜40質量%、(B)成分としてエチレンジアミン四酢酸および/またはその塩、(C)成分としてトリエチレンテトラアミン六酢酸、グリコールエーテルジアミン四酢酸、エチレンジアミン二コハク酸およびこれらの塩から選択される少なくとも1種の可溶化剤、および(D)成分として水を含有することを特徴とする硬質表面用液体洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】実質的に中性に調整された特定の洗浄剤を含有する洗浄組成物に特有の課題を解決し、半導体基板の金属層のみならず、シリコンの洗浄により腐食を防止し、しかもその製造工程で生じるプラズマエッチング残渣やアッシング残渣を十分に除去することができる洗浄組成物、これを用いた洗浄方法及び半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】水に、洗浄剤と、塩基性化合物と、酸性有機化合物とを含有させ、実質的に中性に調整された洗浄組成物であって、さらに高分子化合物を含有させた洗浄組成物。 (もっと読む)


【課題】固型洗浄剤組成物に優れた水切れ性とウォータースポット抑制機能を持たせることにより、リンス剤を用いることなく、食器の乾燥を速めウォータースポットの発生を効果的に低減させることができる自動洗浄機用の固型洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】(A)カチオン化澱粉の糊化物、(B)結晶水含有のアルカリ金属珪酸塩、
(C)無水アルカリ金属珪酸塩、(D)水酸化アルカリ金属塩、(E)炭酸塩、及び
(F)キレート剤を含有してなる自動洗浄機用固型洗浄剤組成物。
(i)(E)、(B)及び(D)成分を水に加熱溶解させアルカリ水溶液を得る工程、
(ii)前記アルカリ水溶液に、(F)及び(A)成分を添加、分散させ溶融物を得る工程、
(iii)前記溶融物を冷却後、(C)成分を添加、分散させ調製物を得る工程、
(iv)前記調製物を室温で冷却固化させる工程
を含む上記自動洗浄機用固型洗浄剤組成物の製造方法。 (もっと読む)


【課題】配線構造や層間絶縁構造を損傷することなく、半導体基板上のプラズマエッチング残渣を十分に除去しうる洗浄組成物、及び前記洗浄組成物を用いた半導体装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】(成分a)水、(成分b)ヒドロキシルアミン及び/又はその塩、(成分c)塩基性化合物、(成分d)有機酸、並びに、0.1重量%以上、0.5重量%未満の(成分e)無機酸及び/又はその塩、を含み、pHが6〜8であることを特徴とする、半導体基板上に形成されたプラズマエッチング残渣除去用の洗浄組成物、並びに、前記洗浄組成物により、半導体基板上に形成されたプラズマエッチング残渣を洗浄する工程を含む、半導体装置の製造方法。 (もっと読む)


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