説明

国際特許分類[C23F1/20]の内容

国際特許分類[C23F1/20]に分類される特許

61 - 66 / 66


【課題】アルミニウムおよびアルミニウム合金を溶液に浸漬させて、短時間に腐食量が少なく、あらゆる複雑な形状のアルミニウムおよびアルミニウム合金を表面粗さ2〜20μmに、歪みなく、粗面化する処理方法を提供することにある。
【解決手段】 アルミニウムおよびアルミニウム合金を、塩化水素の濃度1〜36重量%の塩酸に増粘剤を加え、粘度1000〜1000000mPa・sにした溶液(液温が0〜60℃)中に浸漬することによって、アルミニウムおよびアルミニウム合金表面を粗面化する処理方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】 アルミニウム系導電性薄膜とモリブデン系導電性薄膜とからなる多層膜のエッチング処理において、基板表面のエッチング液の流動性が異なっても均一に良好な順テーパー形状を与えることのできる優れたエッチング液を提供することを課題とする。
【解決手段】 リン酸、硝酸(好ましくは濃度1〜10質量%)及び硫酸(好ましくは濃度1〜20質量%)を含有する水溶液(好ましくは水分量20質量%以下)からなるエッチング液組成物を調製し、Moを主成分とする第1の導電性薄膜とAlを主成分とする第2の導電性薄膜からなる2層膜、または、Moを主成分とする第1の導電性薄膜とAlを主成分とする第2の導電性薄膜とMoを主成分とする第3の導電性薄膜からなる3層膜のエッチングに用いる。
(もっと読む)


【課題】 30μmのアルミ細線を形成可能なエッチング方法を提供する。
【解決手段】 表面にレジストパターンマスクが形成されてなるアルミニウム系材料を少なくとも塩化第二鉄と塩化アンモニウムを含有するエッチング溶液でエッチング処理することを特徴とするアルミニウム系材料のエッチング方法。 (もっと読む)


【課題】 機械的強度が強くて、単位面積当たりの静電容量の高い陽極箔を製造することができるアルミ電解コンデンサ用陽極箔の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 アルミニウム箔を電解エッチングしてピットを生成させる前段エッチング工程と、前記前段エッチング工程により形成されたピットを拡大する後段エッチング工程とからなるアルミ電解コンデンサ用電極箔の製造方法であって、前段エッチング工程と後段エッチング工程の間に、アルミニウム箔の表面の皮膜を溶解させる酸性水溶液に浸漬する第1の中間処理工程と、アルミニウム箔の表面に皮膜を生成させる水溶液に浸漬する第2の中間処理工程を設けた製造方法としたものである。 (もっと読む)


【目的】 平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法において、インキが絡み難く、かつブラン汚れ性能を向上させる。
【構成】 アルミニウム板の表面を順に、(1) 酸性またはアルカリ水溶液中で化学的なエッチング処理を行ない、(2) 酸性水溶液中で直流電圧を用いて電気化学的に粗面化を行ない、平均直径が0.5〜10μmのハニカムピットを10000〜100000個/mm2の密度で形成するとともに、平均直径が0.5μm未満のハニカムピットが形成されるか又はハニカムピットが形成されていないプラトーな部分が表面の15〜60%になるようにし、(3) 酸性またはアルカリ水溶液中で化学的なエッチング処理を行ない、プラトーな部分を10%以下にし、(4) 酸性水溶液中で直流または交流を用いて電気化学的な粗面化を行ない平均直径0.1〜2μmのハニカムピットを形成し、(5) 酸性またはアルカリ水溶液中で化学的なエッチング処理を行ない、(6) 酸性水溶液中で陽極酸化処理または陽極酸化処理と親水化処理とを行なう。 (もっと読む)


【目的】 電解コンデンサ用アルミニウム箔への均一なエッチングピット形成による表面積拡大。
【構成】 塩素イオンと硫酸イオンを含む水溶液中において直流電流にて電気化学的にエッチングする第1の工程後、少なくとも硫酸イオンを含む水溶液中にて化学的にエッチングする第2の工程を経てなる電解コンデンサ用アルミニウム箔のエッチング方法において、前記第1の工程の途中にて熱処理を施す。 (もっと読む)


61 - 66 / 66