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国際特許分類[C25F3/00]の内容

化学;冶金 (1,075,549) | 電気分解または電気泳動方法;そのための装置 (15,555) | 材料の電気分解による除去方法;そのための装置 (703) | 電解エッチングまたは電解研摩 (415)

国際特許分類[C25F3/00]の下位に属する分類

エッチング (230)
研摩 (145)

国際特許分類[C25F3/00]に分類される特許

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【課題】Low−k膜等の絶縁膜に対するダメージが少なく、ディッシング、エロージョンが低減できる基板を電解研磨する方法を提供する。
【解決手段】バリア膜3と配線金属層4とを被加工面に有する基板1A,1Bを陰極とし、当該被加工面と陽極との間に電圧を印加して、当該被加工面と当該被加工面に対向して接触する研磨パッドとを相対運動させることによってバリア膜3を除去する、基板を電解研磨する方法を採用する。 (もっと読む)


【課題】ELID研削法を用いてウェハを研削するに際し、ウェハのうち研削すべき面とは反対側の面に不純物膜が形成されてしまうことを防止する。
【解決手段】ウェハ30を設置するポーラスチャック20の周囲に接地用部材40を配置し、この接地用部材40にグランド端子50を接触させる。これにより、導電性の研削液を介してウェハ30と接地用部材40とを電気的に接続することができる。したがって、研削液が帯電すると共にウェハ30が帯電したとしても、ウェハ30をグランド電位とすることができ、ウェハ30の裏面32に不純物膜が形成されてしまうことを防止することができる。 (もっと読む)


本発明は、電解液(8)および金属部材(5)の電気化学的加工方法に関し、前記電解液(8)はプロトン性溶媒(15)を含む。
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本発明は、少なくとも1つの構成要素(3)の電気化学処理用の方法およびデバイス(1)であって、処理チャンバ(2)と、処理チャンバ(2)への電解質(25)用の少なくとも1つの供給ユニットとを有し、電解質(8)のpH値を設定するための少なくとも1つの設定手段が、処理チャンバ(2)の前に提供される方法およびデバイス(1)に関する。
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【課題】ウェハ表面の導電性膜の通電不良による加工残りを無くし、ウェハ全面に安定して電流を供給して導電性膜を除去し、既に加工された導電性膜の腐食を防止する。
【解決手段】ウェハWの外周部に複数のウェハチャック41〜46を着脱可能に取り付け、各ウェハチャック41〜46に電解加工時にウェハWと接触する給電電極を設ける。加工ヘッド3はアーム6によりウェハWの半径方向に移動可能に保持し、加工ヘッド3をウェハWの中心から外周部に向かって移動させながら、常に均等な電気を供給してウェハW表面の導電性膜Mを除去する。又、既に電解加工が終了した部分から、導電性膜を保護する表面保護用の酸化防止剤53を塗布する。 (もっと読む)


【課題】電解加工において安定した電気供給を確保し、且つ、電極の腐食劣化を防止し、ウエハに形成されたメタル膜を平坦化する際に好適に用いられる電解加工装置及び電解加工方法を提供する。
【解決手段】電解加工装置1はウェハWと対向する加工電極5を備え、ウェハWと加工電極5の間に電解液を供給しつつ電解加工を行う。ウェハWの外周部にはウェハチャック41〜46を着脱可能に取り付ける。又、各ウェハチャック41〜46内にはウェハWと接触する給電電極A〜Fを設け、給電電極A〜Fの周囲をゴム等の弾性体にて被覆保護する。給電電極A〜Fの先端部には可撓性の導電部材を設け、導電部材をウェハWに弾接させる。更に、非電解加工時に保護カバー又はシャッター等により給電電極A〜Fの外気との暴露を遮断する。 (もっと読む)


【課題】機械的ダメージおよび熱的ダメージを与えることなく所望の形状に容易に加工を行うことができる、被加工物の加工方法を提供する。
【解決手段】シリコン、炭化ケイ素、およびIII〜V族の元素を含む半導体からなる群より選ばれる少なくとも一種の材料からなる試料1を被加工物とし、該試料1を、フッ化水素またはフッ化物イオンを含む水溶液からなる処理液8中に浸漬し、該処理液8中で、上記材料の酸化反応における触媒からなる層を少なくとも表面に備えたワイヤ2と接触させ、かつ、該ワイヤ2を陽極として上記試料1との接触部で電気化学反応を起こさせることにより、上記試料1における上記ワイヤ2との接触部分を酸化して上記処理液8に溶解させるとともに、該試料1の溶解に伴って上記ワイヤ2を重力により移動させることで、上記試料1を切断または上記試料1に切れ込みを形成する。 (もっと読む)


【課題】対象物内に孔を形成する方法を提供する。
【解決手段】本方法は、対象物内にスタート孔を形成する段階と、それを実質的に囲む少なくとも1つの絶縁セクションと少なくとも1つの非絶縁セクションとを有する電解加工電極を準備する段階と、第1の断面積を有する少なくとも1つの第1のセクションと第2の断面積を有する少なくとも1つの第2のセクションとによって形成された孔を形成するのを可能にするようにスタート孔内に電極を挿入する段階とを含む。 (もっと読む)


【課題】 針径が160μm未満の細い縫合針であっても、縫合針の径の1/2を越える穴径を持ったアイレス針の製造方法を提案する。
【解決手段】 ステンレス鋼製アイレス縫合針の端面に穴を穿設し、該穴に縫合糸の一端を挿入してかしめ固定して形成するアイレス縫合針の製造方法において、アイレス縫合針の太さより太い針材20の端面20aに縫合糸を挿入するための穴を穿設してから1回目の電解研磨を行い、針材の太さを細くする。次に、細くした針材を縫合針の形状に整形した中間品22とし、これに第2回目の電解研磨を行い、縫合針23とする。電解研磨を2回に分けることで、研磨量を大きくできるので、縫合針の穴径を針径の1/2以上に大きくすることができる。 (もっと読む)


【課題】金型等に対しても、より微細な加工を行える技術を提供すること。
【解決手段】容器体内に電解液及び被加工物2を入れる。光ファイバー22と、光ファイバー22の先端部に設けられた光触媒物質を含有する光触媒部材24とを有する加工針部材20を用い、光ファイバー22を通じて光触媒部材24に光を照射してその光触媒部材24を活性化した状態で、加工針部材20を光触媒部材24の表面に接触させることで、被加工物2の表面のうち加工針部材20の接触部分の構成原子である鉄(Fe)原子を電解液中に解離させて微細加工する。 (もっと読む)


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