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国際特許分類[C30B19/12]の内容

化学;冶金 (1,075,549) | 結晶成長 (9,714) | 単結晶成長;そのための装置 (9,714) | 液相エピタキシャル成長 (350) | 基板によって特徴づけられたもの (49)

国際特許分類[C30B19/12]に分類される特許

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【課題】III族窒化物単結晶の基板からの剥離の成功率を高め、クラックの発生を抑制することである。
【解決手段】基板1上にIII 族金属窒化物単結晶の複数の帯状の種結晶膜3を形成し、この際基板に非育成面1bを形成する。複数の種結晶膜3上にフラックス法によってIII 族金属窒化物単結晶を育成する。複数の種結晶膜3が互いに非育成面1bによって分けられており、複数の種結晶膜3が、それぞれ、一方の端部3a、他方の端部3bおよび一方の端部と他方の端部との間の本体部3cを備えている。種結晶膜3の一方の端部3aの幅Waが他方の端部3bの幅Wbよりも小さく、前記複数の種結晶膜において一方の端部が各種結晶膜の長手方向に見て同じ側に設けられている。 (もっと読む)


【課題】表面加工を施したテンプレート基板を種基板に用い、フラックス法で結晶成長を実施するに際して、クラックのない窒化物結晶を再現性よく高い歩留まりで得る方法を提供することである。
【解決手段】基板1上にIII 族金属窒化物単結晶からなる種結晶膜を成膜し、この際基板に種結晶膜によって被覆されていない非育成面1bを形成する。種結晶膜上にフラックス法によってIII 族金属窒化物単結晶を育成する。基板1が、基板の外縁に沿って全周にわたって設けられた外縁部13と、外縁部13の内側に設けられた中央部12とを含む。中央部の全体にわたって種結晶膜からなる複数の帯状部19が配列されており、外縁部の全周にわたって種結晶膜からなる複数の分離部25が配列されている。外縁部13の種結晶面積比率が中央部12の種結晶面積比率よりも小さい。 (もっと読む)


【課題】結晶品質の良いIII族窒化物単結晶を得ると共に、その基板からの自然剥離を促進することで、クラックを更に低減することである。
【解決手段】基板1と、基板1上に形成されたIII族窒化物からなるバッファ層2およびこのバッファ層2上に形成されたIII族窒化物単結晶からなる種結晶膜3を備える複数の育成部9とを備えており、隣り合う複数の育成部9の間に基板1の表面1bが露出している育成用部材7を使用する。育成用部材7をウエットエッチングに供することによってバッファ層2を育成部9の端面からエッチングし、次いでIII族窒化物単結晶を種結晶膜3上にフラックス法によって育成する。 (もっと読む)


【課題】挿入損失で0.6dBを下回り、高い収率で製造可能なビスマス置換型希土類鉄ガーネット結晶膜(RIG)と光アイソレータを提供する。
【解決手段】化学式Gd3(ScGa)512で示される非磁性ガーネット基板上に液相エピタキシャル成長法により育成されたビスマス置換型希土類鉄ガーネット結晶膜において、化学式Nd3-x-yGdxBiyFe512で示され、xとyが0.89≦x≦1.43、0.85≦y≦1.19であることを特徴とする。化学式Nd3-x-yGdxBiyFe512で示される本発明のRIGは、従来のRIGと比較して挿入損失で0.6dBを下回り、かつ、波長1μm程度の光吸収に起因した発熱量の低減が図れるため、加工用高出力レーザー装置の光アイソレータ用ファラデー回転子に使用するできる顕著な効果を有する。 (もっと読む)


【課題】挿入損失で0.60dBを下回り、高い収率で製造可能なビスマス置換型希土類鉄ガーネット結晶膜(RIG)と光アイソレータを提供する。
【解決手段】化学式Gd3(ScGa)512で示される非磁性ガーネット基板上に液相エピタキシャル成長法により育成されたビスマス置換型希土類鉄ガーネット結晶膜であって、化学式La3-x-yGdxBiyFe512(但し、0<x<3、0<y<3)で示され、La、Gd、Biの組成割合が、La-Gd-Bi三元系組成図上において、組成点A、組成点B、組成点C、組成点Dを頂点とする四角形の内部に相当する数値範囲を有することを特徴とする。
組成点A(La/0.15,Gd/1.66,Bi/1.19)、組成点B(La/0.32,Gd/1.88,Bi/0.80)、
組成点C(La/0.52,Gd/1.68,Bi/0.80)、組成点D(La/0.35,Gd/1.46,Bi/1.19)。 (もっと読む)


【課題】加工処理を行わずとも結晶の所在および結晶方位を容易に視認できる窒化物結晶およびその製造方法を提供する。
【解決手段】種結晶の外周に成長した窒化物結晶において、第1の部分領域と、光学的特性が該第1の部分領域と異なっており、かつ結晶方位を示す光学的特性を有する第2の部分領域と、を備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】複数の種結晶基板を用いて表面にピットを発生させることなく大型のIII族窒化物結晶を成長させるIII族窒化物結晶の成長方法を提供する。
【解決手段】本III族窒化物結晶の成長方法は、複数の種結晶基板1を、それらの主表面1mが互いに平行にかつそれらの側表面1sが互いに隣り合うように配置し、それらの種結晶基板1の主表面1m上に、液相成長法により、第1のIII族窒化物結晶10を成長させる第1の結晶成長工程と、第1のIII族窒化物結晶10の主表面上に、ハイドライド気相成長法により、第2のIII族窒化物結晶20を成長させる第2の結晶成長工程とを備える。 (もっと読む)


【課題】工業的に安価な方法で、成長表面に凹凸がなく良質の第13族金属窒化物結晶を製造する方法を提供する。
【解決手段】溶融塩中に窒素元素と第13族金属元素とを含む溶液において、シード上に第13族金属窒化物結晶を成長させる第13族金属窒化物結晶の製造方法であって、該シードの主面が半極性面である第13族金属窒化物結晶の製造方法。 (もっと読む)


【課題】Naフラックス法において、簡便な方法によりテンプレート基板のサファイア基板を分離すること。
【解決手段】GaとNaの混合融液中にサファイア基板100とGaN層101とからなるテンプレート基板102を置き、混合融液の温度を850℃、窒素の圧力を2.5MPaとして、GaN層101の一部をサファイア基板100が露出するまでメルトバックし、GaN層101を複数の立設した柱状に残した。次に、圧力を3MPaに加圧し、GaN層101上にGaN層103を結晶成長させた。次に、降温によってサファイアとGaNとの線膨張係数差、格子定数差による応力を生じさせ、GaN層101にクラックを発生させた。これにより、GaN層103とサファイア基板100とを分離させた。 (もっと読む)


【課題】転位密度の低い高品質の3B族窒化物単結晶の製法を提供する。
【解決手段】3B族窒化物の種結晶層を含む下地基板18を3B族金属とアルカリ金属とを含む混合融液へ浸漬し、該混合融液へ窒素ガスを導入しながら下地基板18の主面上に3B族窒化物単結晶を成長させる3B族窒化物単結晶の製法において、下地基板18として、主面に対する法線が種結晶層の<0001>方向に対して<11−20>方向に0.5〜2°のオフ角を有するように加工したものを使用する。また、3B族窒化物単結晶を成長させる際、主面に沿った方向の流れを混合融液に発生させる。 (もっと読む)


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