【課題】例えば半導体の製造設備や液晶パネルの製造設備から排気された有害排ガスを処理する処理装置に於いて、燃焼室から排気された燃焼排ガスを冷却し、且つ燃焼排ガスに含まれた粉塵の回収と有害ガスの吸収を効率的に行えるようにする。
【解決手段】処理装置は、主燃焼室１に於いて供給された排ガスを高温にして燃焼或いは分解し排気筒４から排気する燃焼室Ａと、排気された燃焼排ガスを冷却すると共に該燃焼排ガスに含まれた粉塵を排除する水スクラバーＣと、燃焼室Ａと水スクラバーＣを納める筐体Ｄと、燃焼室Ａの排気筒４と水スクラバーＣとを接続して配置された閉鎖容器状の排ガス通路Ｂと、排ガス通路Ｂに配置された冷却媒体の噴射ノズル２３と、を有する。 （もっと読む）

【課題】炭酸ガスなどの副生成ガスを発生せず、有毒ガスの分解効率を高めることができ、しかも装置全体として小型化を図ることができる排ガスの燃焼除害装置を提供する。
【解決手段】加熱炉部１０の排ガス導入部１１に導入された排ガスを、ガス流路１３において燃焼バーナ１２に生成する火炎にて加熱，燃焼して熱分解する。前記燃焼バーナ１２には、水素ガスと酸素ガスとの混合比が略２対１の混合ガスを供給するように、水素ガス／酸素ガス発生装置４と燃焼バーナ１２間に設置した流量コントロール装置９によりコントロールする。 （もっと読む）

ガス化システムは、廃棄物をガス化して可燃ガスを生成するガス化炉（１）とガス化炉（１）でガス化によって生成されたチャー及び／又はタールを燃焼する燃焼炉（２）を備える。ガス化システムは、燃焼炉（２）から排出される燃焼ガスをガス化炉（１）と燃焼炉（２）に戻すリターンラインも備える。
（もっと読む）

【課題】 各種焼却燃焼など一連のダイオキシン類発生の虞れのある燃焼システムに簡単に接続でき、しかも有効な急冷手段でダイオキシン類の発生を完全に防止できる方法と装置の提供。
【解決手段】 ダイオキシンの生成温度以上の排ガスの導入口部１６、この導入口部１６に通ずる排ガス受入れ部１７、この排ガス受入れ部１７より下方に向かう多数の分散ノズル機構１８、この分散ノズル機構１８を下方より収容配設できる急冷却水タンク１９、この急冷却水タンク１９より溢水される冷却水を貯溜する下部の冷却水タンク２０を備えると共に、前記急冷却水タンク２０内で得られる温度降下された排ガスの気泡を集める上部タンク２１とより成る排ガス急冷機構１１を、既存または新設の焼却ないし溶融システムに接続して成ることを特徴とする焼却炉等におけるダイオキシン類発生防止装置。 （もっと読む）

【目的】 加圧流動床ボイラの排ガスからサンプリングしたサンプリングガスを、Ｏ₂濃度の計測を行った後、脱硝装置に導いて脱硝できるようにする。
【構成】 加圧流動床ボイラの排ガス出口部と脱硝装置１８入口部との間を圧力容器１を貫通したサンプリング管２６，２７によって接続し、サンプリング管２６，２７に、圧力容器１の貫通部の外側を所要の間隙を有して包囲する外管を設けて該外管とサンプリング管２６，２７との間に加圧流動床ボイラに供給する燃焼空気５の一部を供給することによりサンプリングガス２４を所定温度に冷却するようにした冷却装置３２，３３と、冷却されたサンプリングガス２４の圧力を所定圧力に減圧するオリフィス３５，３６と、減圧されたサンプリングガス２４のＯ₂濃度を計測するジルコニア式限界電流型Ｏ₂計３７，３８とを順次備え、Ｏ₂計測後のサンプリングガス２４を脱硝装置１８に導けるようにした。 （もっと読む）