【課題】温度安定時に温度を均一に維持することができ、昇降温時に容易に制御することができる。
【解決手段】制御装置５１は個別に制御される制御ゾーンの数が多い多制御ゾーンモデル７２ａと、制御ゾーンの数が少ない少制御ゾーンモデル７２ｂをとることができる。昇降温時に少制御ゾーンモデル７２ｂをとって少ない数の制御ゾーンＣ_１、…Ｃ_５の温度センサ５０からの信号に基づいて、各制御ゾーンＣ_１、…Ｃ_５に設置されたヒータ１８Ａを個別に制御する。温度安定時に多制御ゾーンモデル７２ａをとって、多い数の制御ゾーンＣ_１、…Ｃ_１０の温度センサ５０からの信号に基づいて、各制御ゾーンＣ_１、…Ｃ_１０に設置されたヒータ１８Ａを個別に制御する。 （もっと読む）

【課題】熱電対の設置コスト低減を図り、かつ熱電対からの信号を校正する必要がない熱処理装置を提供する。
【解決手段】基準領域Ａ_１の炉内温度センサはＲ熱電対またはＳ熱電対からなる第１熱電対８１と、それ以外の熱電対からなる第２熱電対８２とを有し、他の領域Ａ_２、…Ａ_１０の炉内温度センサは第２熱電対８２を有し、基準領域Ａ_１の第２熱電対８２と他の領域Ａ_２、…Ａ_１０の第２熱電対８２は、起電力差回路８３に接続され、この起電力差回路８３によって基準領域Ａ_１と他の領域Ａ_２、…Ａ_１０との間の温度差が求められ、基準領域Ａ_１の第１熱電対８１により基準領域Ａ_１の温度が求められ、この基準領域Ａ_１の温度と起電力差回路８３で求めた温度差により、各他の領域Ａ_２、…Ａ_１０の温度が求められる。 （もっと読む）

【課題】油槽内へワークを浸漬する焼入れ室を備えた連続浸炭炉に対して、該油槽内の液体の影響を防ぎつつ、各処理室内の炉内温度を測定する温度測定装置であって、該炉内温度の影響によって断熱効果が低下することなく、該炉内温度を常に正確に測定することができる温度測定装置を提供することを課題とする。
【解決手段】測定データを処理する測定装置本体２と、測定装置本体２を内装する内耐熱ケース３１と、蓄熱素材３２を介して内耐熱ケース３１を被包する断熱層４と、断熱層４を内装する外耐熱ケース６とを備え、断熱層４が、互いに積層された外側断熱材４Ａ・４Ａ・・・および内側断熱材４Ｂ・４Ｂ・・・によって構成されるとともに、外耐熱ケース６の内面に沿って、積層方向に摺動可能に配設される温度測定装置１であって、外耐熱ケース６と断熱層４との間には、断熱層４を積層方向に沿って挟持する方向に付勢する付勢手段５・５を備える。 （もっと読む）

【課題】浸炭品質のバラつき度合の判定を容易にして浸炭品質の管理を容易に行うことができる真空浸炭の品質管理方法及び真空浸炭炉であり、また、浸炭品質の再現性を向上させ、浸炭品質のバラつきを少なくしてその均一性を確保できる真空浸炭炉を提供する。
【解決手段】処理品に要求される浸炭深さと表面炭素濃度に応じて、被処理品内部への炭素の拡散に基づいて、浸炭処理に必要な浸炭ガスの理論流量の時間変化を求め、該理論流量の時間変化に基づいて、この理論流量における浸炭反応により生じる水素の処理室内の全圧力に対する分圧比を理論水素分圧比とし、この理論水素分圧比の時間変化を求め、この理論水素分圧比の時間変化と、実際の浸炭処理時における処理室内の全圧力に対する水素分圧比の時間変化とを比較し、その近似度合に基づいて、同一操業バッチ内における浸炭品質のバラつき度合を判定する。 （もっと読む）

【課題】ワークに対する乾燥処理を適切なタイミングで終了することによって余分な乾燥処理を行うことを防止し、省電力化を図ることが可能なバッチ式乾燥装置を提供する。
【解決手段】バッチ式の乾燥装置１０は、炉体１２、ヒータ２２、循環ファン２４、ワーク支持ユニット１５、ロードセル２０、およびＣＰＵ５０を備える。ワーク支持ユニット１５は、ワークを回転可能に支持するように構成されており、回転テーブル１６および回転駆動部１８を有する。ロードセル２０は、炉体１２の外部に配置され、ワーク１４を含むワーク支持ユニット１５の総重量を計測するように構成される。ＣＰＵ５０は、乾燥処理時に、ロードセル２０の計測結果を監視し、この計測結果に基づいてヒータ２２、循環ファン２４、および回転駆動部１８の動作を停止させ、かつ、表示部６６に処理完了の表示を行う。 （もっと読む）

【課題】真空室内に配置された被加熱物の接触状態を検出して効率良く加熱する真空加熱装置および方法を提供する。
【解決手段】前記被加熱物に、ヒータ加熱面と温度検知部を接触させ、前記温度検知部から得られた情報に基づいて、加熱初期の被加熱物の温度上昇度を算出し、該温度上昇度が、所定規定値（Ｂ）以上のときは、前記被加熱物とヒータ加熱面との接触状態が良好であると判別し、所定規定値（Ｂ）未満のときは、前記被加熱物とヒータ加熱面との接触状態が不良であると、前記被加熱物とヒータ加熱面との接触状態を判別し、前記被加熱物とヒータ加熱面との接触状態が不良であると判別した場合には、前記ヒータ加熱面を前記被加熱物から離したのち、再度、前記ヒータ加熱面を前記被加熱物に接触させてから、前記温度検知部から得られた加熱初期の被加熱物の温度上昇度に基づいて、前記被加熱物とヒータ加熱面との接触状態を判別する。 （もっと読む）

【課題】ガラスハーメチックを行うハーメチックシール用連続式熱処理炉のマッフル内に水分が侵入することを阻止するようにしたハーメチックシール用連続式熱処理炉を提供する。
【解決手段】一体形状のマッフル２を外部から加熱する加熱部３と冷却する冷却部４及びマッフル２内を通って加熱部３から冷却部４へと所定速度で移動して被焼成体１０を搬送する搬送手段５を有し、被焼成体１０のガラスハーメチックシールを行うハーメチックシール用連続式熱処理炉１において、マッフル２の少なくとも入口側２ａにマッフル２内への水分の侵入を阻止する手段７を設けた。 （もっと読む）

【課題】余分なパージガスやパージ時間を必要とせず、熱処理の省エネルギー化とコストダウンを達成できるとともに、炉を取り扱う作業者の安全にも配慮した密閉式雰囲気熱処理炉を提供する。
【解決手段】密閉式雰囲気熱処理炉に、炉内の酸素濃度を検出する酸素濃度センサを装備するとともに、炉内の酸素濃度が所定の値以下へ低下した際に、この酸素濃度センサの信号により、高温かつ酸欠状態の炉内へのアクセスを防止する炉口扉ロック手段（炉口扉シャッタ４）を設けることにより、熱処理完了前に作業員が誤って炉口扉を開放してしまうことを防止することができる。 （もっと読む）

【課題】焼成時にバインダーガスを放出する電子部品を焼成するためのバッチ式の電子部品用焼成炉とその炉圧制御方法を提供する。
【解決手段】焼成炉本体１の天井部２に、ガス流量調整用のダンパー機構５を備えた排ガス放出用の排気ダクト３と、熱交換器７に通じる連結ダクト４を設け、熱交換器７で冷却したガスを再び焼成炉本体１に戻す循環路８を形成するとともに、この循環路８には炉圧制御器９を設けた。また、この焼成炉の炉圧を制御する方法であって、起動時から脱バインダー処理が終了するまでは、循環路への排ガスの流入を止めて排気ダクトの排気のみで炉圧の制御を行い、次いで、脱バインダー処理が終了した後は、排気ダクトへの排ガスの流入を止めて循環路の流通のみで炉圧の制御を行うようにした。 （もっと読む）

【課題】短時間で効果的に結露を防止し、作業効率を向上させて良好な被処理品を得ることができる単室型真空熱処理炉及び単室型真空熱処理炉における被処理品の酸化防止方法を提供する。
【解決手段】炉壁１１に水冷ジャケット１５が設けられ、該炉壁１１により内部に被処理品Ｗの処理空間Ｓが形成された炉本体１と、炉本体１内に設置された被処理品Ｗを加熱する加熱装置２と、処理空間Ｓ内に冷却ガスを供給する冷却ガス供給装置３と、処理空間Ｓ内に設置された熱交換器５２により前記冷却ガスを介して被処理品Ｗを冷却する第一の冷媒循環系と、前記処理空間内を減圧する減圧装置４と、冷却ジャケット１５に冷媒Ｃを供給する第二の冷媒循環系とを備えた単室型真空熱処理炉Ａにおいて、前記第二の冷媒循環系は、冷媒Ｃを加熱する冷媒加熱部６５を備えていることを特徴とする。 （もっと読む）