物体を熱処理する少なくとも１つの装置を含む熱処理システムであって、該装置は、１つのプラットフォーム、または互いに反対側に位置した２つのプラットフォームからなり、ここで少なくとも１つのプラットフォームは物体を加熱または冷却する少なくとも１つの熱的手段を有し、少なくとも１つのプラットフォームは、非接触で物体を支持する流体機械的手段を有している、熱処理システムである。前記プラットフォームは、少なくとも１つの、複数からなる基本セルからなる作動面を有し、この基本セルは、少なくとも１つの、複数からなる圧力吐出口と、少なくとも１つの、複数からなる流体排出流路を有するものである。各基本セルの圧力吐出口の少なくとも１つは、流量絞り機構を介して高圧流体源に流体的に接続され、この圧力吐出口は、前記物体とプラットフォームの作動面の間の流体クッションの形成維持のために加圧流体を供給するものである。流量絞り機構は、特性的には、流体的な戻しばね的な挙動を示すものである。各流体排出路は流入口と流出口を有し、各基本セルに対する質量流量の平衡をとるものである。 （もっと読む）

【目的】 液晶板、集積回路板、半導体板等の板状電子部品に対する焼成を行うための連続炉に関するものあって、ワークが炉内を縦方向に移動するようにした新規の連続炉の提供を図ったものである。
【構成】 炉体２内に、ワークを順次間歇的に上昇させるためのワーク上方移動用支持機構Ａと、当該上方移動用支持機構Ａに依って上昇させられたワークを順次間歇的に降下させるためのワーク下方移動用支持機構Ｂとを收装し、ワークに対する焼成処理が、炉内縦方向の移動中に成されるように構成した連続炉。 （もっと読む）