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国際特許分類[G02B6/13]の内容

国際特許分類[G02B6/13]の下位に属する分類

薄膜堆積によるもの
イオン交換によるもの
エッチングによるもの
重合を用いることによるもの

国際特許分類[G02B6/13]に分類される特許

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【課題】光導波路を切断して外形加工を行なう際に、アライメントマークの視認性の向上による切断位置の精度が向上してなる光導波路の製法を提供する。
【解決手段】基板10表面にアンダークラッド層1,コア2,アライメントマーク2aを形成する。つぎに、上記アライメントマーク2aが露呈するようにフォトマスクを用いて、上記コア2を被覆するようオーバークラッド層3を形成し、上記基板10を剥離して光導波路体を作製した後、上記アンダークラッド層1の裏面側からアライメントマーク2aを基準として切断位置を位置決めし、上記アンダークラッド層1およびオーバークラッド層3を切断することにより光導波路を作製する。 (もっと読む)


【課題】コアパタンの視認性を向上させた光導波路及び光電気複合基板の製造方法と、それらにより得られる光導波路及び光電気複合基板を提供する。
【解決手段】本発明は、略直方体形状の発色性のクラッド層10、及び該発色性のクラッド層10の上面又は下面に搭載された略直方体形状のコア層30からなる略直方体形状部材を形成する第1の工程と、該略直方体形状部材の上面と側面を覆う上部クラッド層40を形成する第2の工程とを含むことを特徴とする光導波路1及び光電気複合基板の製造方法、並びに、その方法によって製造されてなる光導波路1及び光電気複合基板である。 (もっと読む)


【課題】複数の光導波路を一度に製造する場合において、オーバークラッド層の上面が平坦な光導波路を、生産性よく製造することができる光導波路の製法を提供する。
【解決手段】基板A上を複数の光導波路Wに対応する領域に区画し、その領域ごとに、アンダークラッド層1を形成するとともに、隣接し合うアンダークラッド層1の間に、そのアンダークラッド層1と隙間をあけて、ダミーアンダークラッド層Dを形成する。ついで、アンダークラッド層1およびダミーアンダークラッド層Dの上面にコア2を形成した後、オーバークラッド層形成用の感光性樹脂を一面に塗布する。そして、複数の光導波路Wに対応する、感光性樹脂層3aの部分を選択的に露光し、その露光部分をオーバークラッド層3に形成することにより、アンダークラッド層1とコア2とオーバークラッド層3とからなる複数の光導波路Wを形成し、それらを基板Aから剥離する。 (もっと読む)


【課題】光ファイバと光導波路コアとの位置合わせが容易で、基板によらずに光ファイバの位置ずれがしにくい光ファイバコネクタ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に、光ファイバを固定するための溝を有するファイバガイド用コアパターンが形成された光ファイバガイド部材と、第1下部クラッド層上に光信号伝達用コアパターンが形成され、該光信号伝達用コアパターン上に上部クラッド層が形成された光導波路とが並設された光ファイバコネクタであって、前記光ファイバガイド部材が接着剤導入スリットを有し、かつ前記光ファイバが、前記光導波路の光信号伝達用コアパターンに光信号を伝達可能な位置に接合するように、前記光ファイバガイド部材と前記光導波路が並設されてなる光ファイバコネクタである。 (もっと読む)


【課題】複数の光導波路と光ファイバのような複数の光学素子とをそれぞれ接続する際の位置合わせのトレランスが確保できる光導波路基板及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】光素子のような光ファイバ5が接続される光導波路基板10は、基板20の上面22aの上方に形成された、光ファイバ5に光学的に接続する光導波路であるコア層32と、基板20の上面22aの上方に形成されたガイド部40と、を備える。ガイド部40の壁部44及び下部ガイド層としての第2下部クラッド層42は、光ファイバ5の端部6の位置がコア層32の端部35の位置に合うように各光ファイバ5の端部6を案内するためのガイド溝部45を形成する。ガイド溝部45の底面41は、光ファイバ5が挿入方向Xに進むに従って光ファイバ5の端部6がコア層32の端部35に光学的に接続できるように、一対の側面43の間に形成された傾斜面46を含む。 (もっと読む)


【課題】ミラーによって光信号を小さい光損失にて光路変換することができるミラー付き光導波路等を提供する。
【解決手段】ミラー付き光導波路9は、主に、基板1と、下部クラッド層2と、コアパターン3と、コアパターン3に間隔をおいて形成された1対の傾斜面4a,5aと、傾斜面4a,5aに形成された金属層よりなる1対のミラー6a,7aと、コアパターン3上の上部クラッド層8とを有する。1対の傾斜面4a,5aの間の部分は、途切れることなく連なる連続部3aとなっている。第1図(b)の矢印Aのとおり、一方のミラー6aで光路変換された光信号は、コアパターン3の連続部3a内を一度も出光することなく進行して他方のミラー7aまで到達し、かつこの他方のミラー7aが光信号を通過することなく確実に光路変換させるため、光損失が小さい。 (もっと読む)


【課題】グレーテッドインデックス型またはそれに類似した屈折率分布を有する光導波路を効率よく低コストで製造可能な光導波路の製造方法、伝送損失が小さく信頼性の高い光導波路、およびかかる光導波路を備える電子機器を提供すること。
【解決手段】ポリマー915を含有する層910を形成する第1の工程と、層910に対して活性放射線のビーム930を相対的に移動させつつ照射し、ポリマー915中の化学構造の一部を変化させ、屈折率を低下させることにより、層910中に屈折率分布を形成する第2の工程と、を有する。ここで、第2の工程において、ビーム930の移動経路の中心線近傍から離れるにつれて活性放射線の積算光量が連続的に減少するように、ビーム930の横断面形状およびビーム930中の強度分布の少なくとも一方を設定する。これにより、グレーテッドインデックス型の屈折率分布が形成される。 (もっと読む)


【課題】グレーテッドインデックス型またはそれに類似した屈折率分布を有する光導波路を効率よく低コストで製造可能な光導波路の製造方法、伝送損失が小さく信頼性の高い光導波路、およびかかる光導波路を備える電子機器を提供すること。
【解決手段】ポリマー915を含有する層910を形成する第1の工程と、層910に活性放射線のビーム930を照射し、ポリマー915中の化学構造の一部を変化させ、屈折率を低下させることにより、層910中に屈折率分布を形成する第2の工程と、を有する。ここで、第2の工程において、ビーム930の焦点を層910の厚さ方向に沿って往復移動させつつ、かつ、ビーム930を層910の面方向に沿って相対的に移動(面内移動)させつつ、ビーム930を照射する。これにより、焦点近傍とそれ以外の領域での積算光量の差に基づき、グレーテッドインデックス型の屈折率分布が形成される。 (もっと読む)


【課題】グレーテッドインデックス型またはそれに類似した屈折率分布を有する光導波路を効率よく低コストで製造可能な光導波路の製造方法、伝送損失が小さく信頼性の高い光導波路、およびかかる光導波路を備える電子機器を提供すること。
【解決手段】ポリマー915を含有する層910を形成する第1の工程と、層910に活性放射線930を照射し、ポリマー915中の化学構造の一部を切断し、屈折率を低下させることにより、層910中に屈折率分布を形成する第2の工程と、を有する。ここで、第2の工程において、活性放射線930の積算光量が連続的に変化するように、所定の透過率分布を有するマスク935を介して活性放射線930を照射する。これにより、グレーテッドインデックス型の屈折率分布が形成される。 (もっと読む)


【課題】コア層を切削して傾斜面を形成する際にバリが発生しても、光導波路の光伝搬損失の値が大きくなりにくい光導波路及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】光導波路10は、下部クラッド層20と、下部クラッド層20に積層されたコア層30と、コア層30を通り、コア層30の幅方向Yに延びる横断パターン40であって横断パターン40の端面40a、40bの位置がコア層30の側面32a、32bの位置よりも外側に位置する横断パターン40と、コア層30及び横断パターン40に形成された幅方向Yに延びる傾斜面51、52と、を備える。 (もっと読む)


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