【課題】確実な位置合わせができ、光軸ズレがなく光の伝送ロスが小さい光電気混載パッケージを提供する。
【解決手段】光電気混載パッケージ４１は、配線基板１０、光素子接続用端子５５及び光導波構造部８２を備える。配線基板１０には、光導波構造部用孔８１と、光伝送媒体９２の先端に接続されて光導波構造部８２内を伝搬する光の進路を変換する光路変換部９３を有する光コネクタ９１のガイド孔に嵌入されるガイドピン５２が嵌入可能な位置決め用ガイド孔５１とが形成される。光素子接続用端子５５は、主面１２側における光導波構造部用孔８１の開口部付近に配置される。光導波構造部８２は、コア８３及びそれを取り囲むクラッド８４を有し、光導波構造部用孔８１内に形成される。位置決め用ガイド孔５１及び光導波構造部８２におけるコア８３は、いずれも同一の位置基準用導体５６を基準として形成される。 （もっと読む）

【課題】グレーテッドインデックス型またはそれに類似した屈折率分布を有する光導波路を効率よく低コストで製造可能な光導波路の製造方法、伝送損失が小さく信頼性の高い光導波路、およびかかる光導波路を備える電子機器を提供すること。
【解決手段】ポリマー９１５を含有する層９１０を形成する第１の工程と、層９１０に活性放射線９３０を照射し、ポリマー９１５中の化学構造の一部を切断し、屈折率を低下させることにより、層９１０中に屈折率分布を形成する第２の工程と、を有する。ここで、第２の工程において、活性放射線９３０の積算光量が徐々に変化するように、開口９３５１の形状が異なる複数枚のマスク９３５を順次介して活性放射線９３０を照射する。これにより、グレーテッドインデックス型の屈折率分布が形成される。 （もっと読む）

【課題】光導波路と配線パターンとの位置ずれの少ない光電気複合基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】光信号伝達用コアパターン、レジスト用コアパターン、配線パターン、パターニングされた下部クラッド層、及び上部クラッド層を有する光電気複合基板であって、下部クラッド層のパターン形状の開口部に、配線パターン及びレジスト用コアパターンが埋め込まれ、かつ、配線パターンが、積層方向に直交する任意の一方向においてレジスト用コアパターンに挟持されていることを特徴とする光電気複合基板及びその製造方法。 （もっと読む）

【課題】高精度かつ効率よく光導波路の位置を測定できる検査工程を備えた光電気複合基板及び光電気複合モジュールの製造方法、並びにそれにより得られる光電気複合基板及び光電気複合モジュールを提供すること。
【解決手段】下部クラッドが形成された基板の一方の面上に、コアパターンとともにダミーコアをパターニングする工程（Ａ）と、コアパターン及びダミーコアに反射ミラーを形成する工程（Ｂ）と、基板の他方の面上に、電極パターンとともに、反射ミラーによりダミーコアの反射光が投影される投影領域の近傍に遮光パターンをパターニングする工程（Ｃ）と、遮光されずに通過したダミーコアの反射光の輝度総量に基づき、コアパターンと電極パターンとの位置ずれ量を測定する工程（Ｄ）とを含むことを特徴とする光電気複合基板の製造方法、及び該製造方法による光電気複合モジュールの製造方法、並びに該製造方法により製造される光電気複合基板及び光電気複合モジュール。 （もっと読む）

【課題】コアパターン層の平坦性に優れ、光伝搬損失を低損失化すると共に、光伝搬損失のばらつきが少ない光導波路を有する光電気複合基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】第１下部クラッド層、そこに埋め込まれた配線パターン、コアパターン及び上部クラッド層を有する光電気複合基板の製造方法であって、（Ａ）支持体上に第１下部クラッド層を形成し、パターニングする工程と、（Ｂ）第１下部クラッド層のパターン形状の開口部に配線パターンを形成する工程と、（Ｃ）第１下部クラッド層上にコアパターンを形成する工程と、（Ｄ）コアパターンを覆うように上部クラッド層を形成する工程と、（Ｅ）支持体を除去して配線パターンを露出させる工程とを有する光電気複合基板の製造方法、並びに該方法によって製造された光電気複合基板。 （もっと読む）

【課題】成形型を用いてオーバークラッド層を形成する場合に、その成形型を位置決めする際に利用するアライメントマークを、ＣＣＤカメラ等の認識装置により容易に認識できるようにする光導波路の製法を提供する。
【解決手段】基板１０上に形成したアンダークラッド層１の上面に、コア２とアライメントマークとをフォトリソグラフィ法により突出形成し、そのアライメントマークを目印として位置決めされる成形型を用いてオーバークラッド層を形成する光導波路の製法において、上記アライメントマークの形成に、フォトマスク２０として、アライメントマーク形成用の開口パターン２３が、開口部２３ａと、この開口部２３ａの周囲の、開口率が１０％を上回り８０％を下回る範囲内に設定された透光量減少領域２３ｂとからなるものを用い、アライメントマークの周側面を傾斜面に形成する。 （もっと読む）

【課題】 Ｘ線の伝搬損失が少なく、導波モードが位相制御されたＸ線導波路を提供する。
【解決手段】 Ｘ線導波路は、物質の屈折率実部が１以下となる波長帯域のＸ線を導波させるためのコア４０４と、コア４０４にＸ線を閉じ込めるためのクラッド４０２，４０３と、を備える。コア４０４とクラッド４０２，４０３が、コア４０４とクラッド４０２，４０３との界面での全反射によりＸ線をコアに閉じ込めてＸ線を導波するように構成されている。コア４０４が、屈折率実部が異なる複数の物質が２次元以上の方向に周期的に配列された周期構造を持つ。Ｘ線導波路には、コア４０４のＸ線の導波方向に垂直な方向においてＸ線の電場強度分布または磁場強度分布の腹または節の数と周期構造の周期数とが一致する導波モードが存在する。 （もっと読む）

【課題】光伝送性能を損なうことなく、コア層とクラッド層の密着力を向上させた光導波路を提供すること。
【解決手段】光導波路１は、コア部２１と前記コア部２１より屈折率の低いクラッド部２２とを有するコア層２と、前記コア層２を挟んで配置される２つのクラッド層３、４とを備え、前記コア層２と前記２つのクラッド層３、４の少なくとも一方との間に厚さが１から１００ｎｍの薄膜層５を含む。薄膜層５はコア部２１よりも屈折率の高い材料からなるものであることが好ましい。薄膜層５は、コア層２とクラッド層３、４の密着力を向上させ、層間剥離を防止することができる。 （もっと読む）

【課題】２系統以上の異なる光路を備える光導波路の製造方法において、高い信頼性が得られる新規な方法を提供する。
【解決手段】第１クラッド層２０の上に第１の光路長を有する第１光路用コア層２２ａを形成する工程と、第１光路用コア層２２ａの端側に傾斜面Ｓを備えた溝部２２ｘを形成する工程と、第１クラッド層２０上の第１光路用コア層２２ａの横領域に、第１の光路長より長い第２の光路長を有する第２光路用コア層２２ｂを形成する工程と、第２光路用コア層２２ｂの端側に第１光路用コア層２２ａの溝部２２ｘより外側に配置される傾斜面Ｓを備えた溝部２２ｙを形成する工程と、第１光路用コア層２２ａ及び第２光路用コア層２２ｂの各々の傾斜面Ｓに光反射性の金属層３０を部分的に形成して光路変換ミラーＭを得る工程と、第１光路用コア層２２ａ及び第２光路用コア層２２ｂを被覆する第２クラッド層２４を形成する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】伝送損失およびパルス信号の鈍りが小さく、信頼性の高い光導波路、およびかかる光導波路を備える電子機器を提供すること。
【解決手段】光導波路１は、コア層１３を有する。コア層１３は、少なくとも２つのクラッド部１５と、２つのクラッド部１５に隣接して設けられ、クラッド部１５の平均屈折率より平均屈折率が高く、かつ屈折率が中心部からクラッド部１５に向かって低くなっており、光を伝送するコア部１４とを備え、（メタ）アクリル系ポリマーと、この（メタ）アクリル系ポリマーと屈折率が異なるモノマーとを含む層に対して活性放射線を照射して、照射領域内において、モノマーの反応を進行させることにより、未照射領域から、未反応のモノマーを照射領域に拡散させ、結果として、照射領域と未照射領域との間に屈折率差を生じさせることにより、照射領域および未照射領域のいずれか一方をコア部１４とし他方をクラッド部１５としてなる。 （もっと読む）