【課題】高品質な３次元表示用パターン位相差フィルムを形成することが可能なパターン配向膜を、容易かつ大量に作製する３次元表示用パターン配向膜用原版の製造方法を提供する。
【解決手段】金属材料からなる下地層１を準備する工程、下地層の表面に平行な帯状のレジスト２を形成する工程、ドライメッキ処理を施すことにより絶縁性を有する無機材料層３’を形成した後、レジストと無機材料層の積層体を剥離し、平行な帯状のパターンを有する第１層３を形成する工程と、第１層の表面に微小なライン状凹凸構造を略一定方向に形成して第１凹凸構造３１を形成する工程と、露出した下地層にウェットメッキ処理により、第１層の厚み以上の金属材料からなる第２層４を形成する工程と、第２層の表面に第１凹凸構造の形成方向と異なる形成方向の微小なライン状凹凸構造を形成する第２凹凸構造４１形成工程とを有する３次元表示用パターン配向膜用原版の製造方法。 （もっと読む）

【課題】広い温度範囲において析出することなく、重合後の液晶配向規制力が高く、焼き付き等の表示特性に不具合を生じないＰＳＡ型表示素子に用いる新規な重合性化合物含有液晶組成物、及び、該重合性化合物含有液晶組成物を用いることで表示ムラ等のない表示品位に優れ、優れた表示特性を有する液晶表示素子を提供する。
【解決手段】少なくとも１種は、式（Ｉ）で表される重合性化合物、及びシクロヘキサン環を構造単位に有する非重合性液晶化合物を少なくとも１種又は２種以上含有する重合性化合物含有液晶組成物。
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【課題】 本発明の課題は、重合性液晶組成物の硬化性の改善による生産性及び信頼性の向上、プレチルト角の安定性向上等の表示特性を改善した液晶表示素子を提供することであり、硬化速度が速く、液晶相温度範囲が広くかつ耐熱性が高い、偏向板、位相差板等の用途に有用な光学異方体を提供することである。
【解決手段】 一般式（I）
【化１】


で表わされる重合性化合物を提供し、併せて当該重合性化合物を含有する液晶組成物及び当該液晶組成物を用いた液晶表示素子を提供する。 （もっと読む）

【課題】消費パワーが低減される電気光学装置を提供する。
【解決手段】一対の向き合った透明基板の間の液晶層と、液晶層と第１の透明基板の内向きの表面との間に配置されるパターン化された電極セットと、液晶層と前記第２の透明基板の内向きの表面との間の導電層と、パターン化された電極セット及び導電層に電圧を印加し、導電層に印加される電圧を閾値電圧（液晶層での光透過性がこれより高い値で変化するＲＭＳ電圧差）以下にする手段と、を備える。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置及び配向膜、並びにこれらの製造方法を提供する。
【解決手段】上記液晶表示装置は、第１表示板と第２表示板との間に、液晶分子を有する液晶層を含み、上記第１表示板と上記第２表示板の中の少なくとも一つに形成された配向膜は、第１ポリシロキサンと該第１ポリシロキサン上に配置された第２ポリシロキサンを含む。上記第２ポリシロキサンのケイ素原子の第１部位は、上記液晶層の液晶分子と相互作用をする垂直官能基と結合し、さらに上記液晶層の液晶分子を上記第１又は第２表示板に対して傾くように配向する第１プレチルト官能基と結合する。上記第２ポリシロキサンの結合構造は、上記第１ポリシロキサンの結合構造と異なる。 （もっと読む）

【課題】少量の放射線照射によっても光配向が可能であって、かつ照射中及び照射後の加熱工程が不要な位相差フィルム用液晶配向膜を形成可能な液晶配向剤、この位相差フィルム用液晶配向膜を備え、液晶配向性及び熱安定性に優れる位相差フィルム及びその製造方法を提供する。
【解決手段】［Ａ］桂皮酸構造を有する基を含むセルロースを含有する位相差フィルム用液晶配向剤である。また、［Ａ］セルロースは下記式（１）で表される。
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【課題】良好な表示特性の液晶装置を高い生産性で製造する製造方法を提供する。
【解決手段】画素電極９を備えた第１基板１０と、これに対向配置される第２基板と、これら基板間に挟持された液晶層とを備え、画素電極９に対応する位置が表示領域Ｐとされ、この表示領域Ｐ間が非表示領域ＢＭとされる液晶装置の製造方法である。画素電極９を表示領域Ｐとなる位置に、その周縁部を非表示領域ＢＭとなる位置に形成し、画素電極９上の表示領域Ｐとなる位置に垂直配向膜４１を形成し、非表示領域ＢＭの少なくとも画素電極９の周縁部上に水平配向膜４２を形成する。このとき、基板１０Ａ上の配向膜４２ａにラビング処理し、レジストパターンＲをマスクにして表面改質して、水平配向膜４２を形成し、垂直配向膜４１の材料を形成する。 （もっと読む）

【課題】無機配向膜が水分や不純物を吸着することを抑制しながら、無機配向膜を選択的に形成することのできる液晶装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】液晶装置１００において、素子基板１０に配向膜１６を形成するにあたっては、犠牲膜形成工程において、素子基板１０における配向膜１６の非形成領域１０ｈに犠牲膜１８ａ、１８ｂを形成した後、無機配向膜形成工程において、犠牲膜１８ａ、１８ｂの表面側に、シリコン酸化膜等からなる配向膜１６を斜め蒸着する。次に、リフトオフ工程では、犠牲膜１８ａ、１８ｂを選択的にエッチングする反応性ガスによって犠牲膜１８ａ、１８ｂを除去する。ここで、犠牲膜１８ａ、１８ｂはシリコン膜であり、反応性ガスは二フッ化キセノンガスである。 （もっと読む）

【課題】安定したプレチルト角を有し、密着性に優れ、且つ残像問題を改善する液晶配向剤を提供する。
【解決手段】液晶配向剤は、ポリマー（Ａ）およびポリマー（Ｂ）を含む。ポリマー（Ａ）は、側鎖ジアミンを有するポリイミド−ポリアミック酸である。ポリマー（Ｂ）は、側鎖ジアミンを有するポリアミック酸である。ポリマー（Ａ）と前記ポリマー（Ｂ）の重量比（Ａ）／（Ｂ）が、５／９５〜９５／５である。 （もっと読む）

【課題】有機溶媒溶解性に優れ、又液晶配向膜として光配向処理法での液晶配向性の発現が期待されるポリイミド用のモノマーである酸二無水物化合物、その製造法、ポリアミック酸及びポリイミドを提供すること。
【解決手段】下記式［１］で表される化合物、その製造方法及びポリイミド。
【化１】


（式中、Ｒ¹及びＲ^２は、それぞれ独立に水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素
数１〜２０のハロアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロアルコキシ基及び炭素数２〜２０のシアノアルキル基を表す。） （もっと読む）