【課題】 感光性材料を付した外形が円形の断面を有し軸方向に長い可撓性の被露光材料の表面や内面を所望のパターン形状に露光する。
【解決手段】
被露光材料を吸引保持して該被露光材料の軸方向の形状を直線に矯正する吸着ブロックと、前記被露光材料に軸回りの回転運動をさせるための回転ステージおよび／または該被露光材料に軸方向の移動運動をさせる移動ステージと、該被露光材料に付した前記感光性材料を露光するための光源を含む露光光学系を設け、前記吸着ブロック上で軸方向の形状を直線に矯正した前記被露光材料の部分を連続的または間欠的に露光する。 （もっと読む）

【課題】円筒形状印刷フォームを調製するのに用いる円筒形状エレメントを処理するための処理媒体をエレメントの外側表面に提供する手段と、円筒形状エレメントの支持手段との間の接触圧を軸方向に沿って均一化する。
【解決手段】エレメントの内側表面に接触することで前記エレメントを支持する支持手段と、前記内側表面の反対側のエレメントの外側表面に隣接する処理媒体を提供する手段と、支持手段をその一端のプリセット位置に付勢し、支持手段のまわりを開放または閉鎖するのに適合したクランプ手段、または前記提供手段をその一端のプリセット位置に付勢し、提供手段のまわりを開放または閉鎖するのに適合したクランプ手段と、を具える。 （もっと読む）

【課題】本発明は、複数のラインパターンを短時間で形成することができるフォトレジスト層の加工方法およびパターン形成基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】フォトレジスト層の加工方法およびパターン形成基板の製造方法は、所定の中心軸２Ａから等距離に配置される複数の設置面２２を有する支持部材２の各設置面２２に、フォトレジスト層６２を有する複数の基板６１を固定する設置工程と、フォトレジスト層６２に対してレーザ光を出射するヘッド３および支持部材２の少なくとも一方を中心軸２Ａ回りに回転させるとともに、ヘッド３および支持部材２の少なくとも一方を中心軸２Ａに沿うように移動させながら、ヘッド３からレーザ光を出射する露光工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】円周面において焦点ぼけの発生を抑えて露光が可能な露光方法及び露光装置を提供する。
【解決手段】この露光方法は、円柱状の被露光物Ａの円周面Ａ１に露光を行う際に、光源からの光を円柱状の被露光物の中心軸ｇに対して平行にライン走査することで露光を行う。 （もっと読む）

【課題】複数のレーザユニット間隔が変化してもレーザユニットの記録位置ずれを低減。
【解決手段】温度検出回路３１が光記録ヘッドＨの近傍温度を検出し、制御手段が検出温度に応じて光記録ヘッドＨを通常の送り速度より速い速度で副走査方向Ｙに移動させ、拡大したレーザチャンネル間ピッチＡ＋Ｘを通常のレーザチャンネル間ピッチＡに見合うように、伸び分Ｘを各レーザチャンネルＣｈ１〜Ｃｈ（Ｎ）の記録ラインＬ１〜Ｌ４に均等分散して各レーザチャンネルＣｈ１〜Ｃｈ（Ｎ）の記録エリア間に記録画像の隙間Ｆを発生させず、狭まったレーザチャンネル間ピッチＡ−Ｘを通常のレーザチャンネル間ピッチＡに見合うように光記録ヘッドＨを通常の送り速度より遅い速度で副走査方向Ｙに移動させ、縮み分Ｘを記録ラインＬ１〜Ｌ４に均等分散して各レーザチャンネルＣｈ１〜Ｃｈ（Ｎ）の記録エリアの最終記録ラインＬ４後の記録画像のオーバーラップ部Ｇを拡散させる。 （もっと読む）

【課題】複数のレーザユニットの間隔（レーザチャンネル間ピッチ）が変化しても、画像への影響を少なくすることである。
【解決手段】ユーザー設定入力部３４でレーザチャンネル間ピッチＡの補正指示を行い、この補正指示に基づいて、制御手段は、光記録ヘッドＨを、通常の送り速度より速い速度で副走査方向Ｙに移動させて、一記録ライン当りのピッチ量を増やすことで、レーザチャンネル間ピッチＡの伸び分Ｘを、隣接する各々のレーザユニット２の記録領域の記録ラインＬ１〜Ｌ４に均等に分散して最終記録ラインＬ４後の記録画像の隙間Ｆを拡散させることにより、記録領域を、副走査方向Ｙにおいて全ての隣接するレーザユニット２の一部の記録領域間で重複または記録領域間に隙間ができないようにする。 （もっと読む）

【課題】帯状支持体の上に感光性層を有する感光材料を使用し、消費電力を低くし、所定のパターンを有するマスクを介して露光し、現像処理を経て、帯状支持体の上に連続した金属パターンを形成する電磁波遮蔽フィルムの製造方法及び電磁波遮蔽フィルムの提供。
【解決手段】帯状支持体の上に感光性層を有する感光材料を使用し、遮光部分と透過部分とから構成されたパターンを有する中空円筒状マスクを介して露光し、金属パターンを形成する電磁波遮蔽フィルムの製造方法において、パターンの内面側が、特定の式で示される感光材料の感光波長領域の光に対する平均反射率が７０％以上、１００％未満の鏡面を有し、中空円筒状マスクは内部に光源を配設し、中空円筒状マスクの周面に感光材料を密着させ、感光材料の搬送速度と中空円筒状マスクの周速度とを同じにして露光する電磁波遮蔽フィルムの製造方法。 （もっと読む）

【課題】離散配置されてなるレーザーダイオードのいくつかが破損等の理由によって発光しない状態が生じても、継続的に使用可能なＣＴＰ装置を提供することを目的とする。
【解決手段】一部のチャンネルが非発光状態である場合には、正常時に露光ヘッドを移動させる基準区間の前後に設けられた補完区間においても露光ヘッドを移動させるようにしながら、非発光状態のチャンネルの存在位置に基づいて定められた、発光状態にある特定のチャンネルを用いて露光を行うように、チャンネル別露光データを生成し、移動手段によって、基準区間および補完区間において露光ヘッドを移動させつつ、露光制御手段がチャンネル別露光データに従って前記特定のチャンネルから露光用光を出射させることによって被露光領域を形成する。 （もっと読む）

【課題】多数のレーザユニット間のレーザパワーのバラツキを抑える目的からＡＰＣ処理等のレーザパワー調整を行う場合で、レーザユニットに対峙する位置にドラムなどレーザ光を反射する部材が配置されている場合でも、ドラム表面でのレーザの反射光による干渉がなく、確実にＡＰＣ処理を実行でき、正確にレーザパワーを調整することができる画像記録装置を提供する。
【解決手段】ドラム５のブランキング部分５Ａを光拡散部材４０で覆うことで光拡散部５Ｂを形成し、この光拡散部５Ｂでレーザ光を拡散するようにして、ドラム５の表面で反射されたレーザ光がレーザユニットに再入射することを防止し、フォトディレクタ１４がモニタ光１２ｂを検知できるようにし、制御手段３０は、必要とするレーザ光のモニタ光を受光することによりＡＰＣ処理を確実に実行し、正確にレーザパワーを調整できるようにした。 （もっと読む）

【課題】複数の光源が副走査方向に離散的に配置された記録ヘッドを用いた画像記録装置において安価な焦点調整機構を提供すること。
【解決手段】記録ヘッド部２Ａは副走査方向Ｙに移動可能な可動ベース２３と、可動ベース２３上に配置された光源ホルダ２７とを有する。光源ホルダ２７には副走査方向Ｙに離散的に配置された複数の光源ａが固定されている。光源ホルダ２７を回転軸３５中心に回転させることで光源ａから出射する光ビームＬを傾斜させると共に光路長を変化させて焦点調整が実行できる。 （もっと読む）