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国際特許分類[G03F7/40]の内容

国際特許分類[G03F7/40]に分類される特許

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【課題】高い感度を有し、現像時において残膜率が大きく、残渣の発生が抑制され、且つ、硬化して得られた膜は透明性が高く、しかも熱で着色することがない膜を形成しうるポジ型感光性組成物の提供
【解決手段】下記一般式(1)で表される群および側鎖に環状アルコキシアルキル基を有する群からなる少なくとも1種のモノマー(A1)と、酸基を有するモノマー(A2)と、架橋性基を有するモノマー(A3)とを共重合してなる樹脂(A)、及び感放射線酸発生剤(B)を含み、且つ含水量が0.02質量%以上1.2質量%以下であるポジ型感光性組成物。
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【課題】本発明は、高い放射線感度を有し、また塗布ムラのない高度な平坦性(膜厚均一性)を有する表示素子用スペーサーを形成でき、さらに高速塗布が可能な感放射線性組成物、表示素子用スペーサー及びその形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、[A](メタ)アクリロイル基及びカルボキシル基を含有する芳香族樹脂、[B]重合性不飽和化合物、[C]感放射線性重合開始剤、並びに[D]有機溶媒を含有し、固形分濃度が10質量%以上30質量%以下であり、25℃における粘度が2.0mPa・s以上10mPa・s以下であり、かつ[D]有機溶媒として、少なくとも(D1)20℃における蒸気圧が0.1mmHg以上1mmHg未満の有機溶媒を含む感放射線性組成物である。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、容易に微細かつ精巧なパターンを形成でき、保存安定性と短時間での低温焼成とを両立し、かつ十分な放射線感度及び現像性を有する感放射線性樹脂組成物、並びに耐熱性、圧縮特性等の要求特性に優れる硬化膜及び硬化膜の形成方法を提供することである。
【解決手段】[A](A1)不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群より選択される1種以上と、(A2)エポキシ基含有不飽和化合物とを含む単量体を共重合してなるアルカリ可溶性樹脂、[B]エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物、[C]感放射線性重合開始剤、並びに[D]下記式(1)で表される化合物を含有する感放射線性樹脂組成物。
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【課題】現像欠陥の少ないパターンを形成可能とするパターン形成方法、及び、この方法に用いられる有機系処理液を提供する。
【解決手段】本発明に係るパターン形成方法は、(a)化学増幅型レジスト組成物を用いて膜を形成することと、(b)前記膜を露光することと、(c)有機系処理液を用いて前記露光された膜を処理することとを含んでいる。前記処理液は、標準沸点が175℃以上である有機溶剤を含有し、前記処理液に占める前記溶剤の含有率は30質量%未満である。 (もっと読む)


【課題】ポリマーアロイに配向性の高い相分離構造のパターンを短時間で形成することのできるパターン形成方法及びポリマーアロイ下地材料を提供する。
【解決手段】基板上に自己組織化単分子膜とポリマー膜を積層する工程と、エネルギー線を照射することにより前記ポリマー膜と前記自己組織化単分子膜を化学結合させ、ポリマー表面層を前記自己組織化単分子膜上に形成する工程と、相分離構造のパターンを有するポリマーアロイを前記ポリマー表面層上に形成する工程と、を含むパターン形成方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】ドライ露光、液浸露光やダブルパターンニングプロセスで行われる微細加工に適するレジスト用重合性単量体およびそれら重合体の提供それらを使ったレジスト材料およびパターン形成方法を提供する。
【解決手段】一般式(6)、一般式(7)または一般式(8)のいずれかで表される繰り返し単位を含む重合性単量体。


(Rは水素原子、ハロゲン原子、メチル基またはトリフルオロメチル基を表し、Rはメチル基、エチル基またはイソプロピル基を表し、Aは、それが結合している炭素原子と一緒になってカルボニル基(C=O)または、当該カルボニル基が保護基によって保護されたアセタール構造をとる。) (もっと読む)


【課題】レジスト膜をマスクとした反射防止膜のエッチング工程の前に、良好にレジスト膜を改質する。
【解決手段】プラズマ処理方法は、被エッチング層上に反射防止膜であるSi−ARC15が形成され、反射防止膜上にパターン化されたArFレジスト膜16が形成された積層膜に対して、エッチングガスから生成されたプラズマにより前記レジスト膜をマスクとして前記反射防止膜をエッチングするエッチング工程と、前記エッチング工程の前に実行され、プラズマ処理装置内にCFガスとCOSガスとArガスとを含む改質用ガスを導入し、該改質用ガスから生成されたプラズマによりArFレジスト膜16を改質する改質工程とを含む。 (もっと読む)


【課題】金属箔に破れやシワを生じにくくして安定的に有孔金属箔を生産することができる有孔金属箔の製造方法を提供する。
【解決手段】金属箔1の片面に孔部5を有するエッチングレジスト4が形成される。前記金属箔1の他の片面にキャリアフィルム3が形成される。前記金属箔1の前記孔部5から露出する部分にエッチング液が供給されることにより前記孔部5から露出する部分がエッチング液で溶解されて金属箔1に開口部6が形成される有孔金属箔の製造方法に関する。前記キャリアフィルム3が感光性ドライフィルム2により形成される。前記感光性ドライフィルム2が剥離液により除去される。キャリアフィルム3を剥離液により容易に剥離させて除去することができる。 (もっと読む)


【課題】位置精度よく混色等のない画素を形成な離画壁の提供。
【解決手段】基板上に形成された離画壁用感光性組成物を貧酸素雰囲気下にて露光する工程と、現像して撥インク性化合物を有する離画壁を形成する工程と、を含む離画壁の製造方法であって、離画壁を形成する工程が下記(1)および(5)から選ばれる1種の方法であり、離画壁の断面において、前記離画壁の高さが最も高い点における基板からの高さh、基板から0.8hの位置に前記基板と平行な線L、Lと離画壁表面が交わる点における接線L、hの位置に基板と平行な線L、LとLとの交点から離画壁までの距離dとしたとき、d/hが0.04以下である離画壁の製造方法。
(1)撥インク性化合物を離画壁に練りこむ方法
(5)仮支持体上に撥インク性化合物を含む隣接層と離画壁用感光性組成物層とをこの順に有してなる感光性転写材料を用いて前記離画壁を形成する方法 (もっと読む)


【課題】レイヤ中にフィーチャを形成する方法を提供する。
【解決手段】レイヤ上にフォトレジストレイヤが形成される。フォトレジストレイヤがパターン付けされることによって、フォトレジスト側壁を持つフォトレジストフィーチャが形成され、フォトレジストフィーチャは第1微小寸法を有する。フォトレジストフィーチャの側壁上にコンフォーマルレイヤが堆積されることによって、フォトレジストフィーチャの前記微小寸法が低減される。レイヤ内でフィーチャがエッチングされ、レイヤフィーチャは、第1微小寸法より小さい第2微小寸法を有する。 (もっと読む)


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