【課題】パターンピッチの微細化や均一なパターン形状(パターンの幅やライン形状が均一)の形成を実現できる積層体、及び、積層体を用いたモールドの製造方法を提供すること。
【解決手段】
本発明の積層体１は、基材１１と、基材１１上に設けられ、熱反応型レジストを含有するレジスト層１２と、レジスト層１２上に設けられる少なくとも１層の熱伝導層１３と、を具備し、熱伝導層１３は、３００Ｋにおける熱伝導率が、０．７Ｗ／ｍ・Ｋ以上であり、且つ、露光波長における消衰係数が０．２以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】低温焼成と保存安定性とを両立し、かつ高い放射線感度を有する感放射線性樹脂組成物、及びフレキシブルディスプレイ用として好適な、表面硬度、耐溶媒性及び比誘電率に優れる層間絶縁膜、保護膜又はスペーサーとしての硬化膜の提供。
【解決手段】［Ａ］（Ａ１）不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群より選択される少なくとも１種の単量体と、（Ａ２）エポキシ基含有不飽和化合物とを共重合してなるアルカリ可溶性樹脂、［Ｂ］キノンジアジド化合物、並びに［Ｃ］電子吸引性基およびアミノ基を有するベンゼン化合物、電子吸引性基およびアミノ基を有するベンゼン環を２個有する化合物、３級アミン化合物、アミン塩、ホスホニウム塩、アミジン塩、アミド化合物、ケチミン化合物、ブロックイソシアネート化合物、イミダゾール環含有化合物及び包接化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の硬化剤を含有する感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】パターン形成後の他のレジスト組成物からの影響を低減できるポジ型レジスト組成物、並びにレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分（Ａ）は、アミド基と、水酸基又はアミノ基と置換して脱離しうる保護基を含み、その構造中に環骨格を有さないアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ０−１）、第一級若しくは第二級の水酸基又は第一級若しくは第二級のアミノ基を含み、その構造中に環骨格を有さないアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ０−２）、及びアクリル酸エステルから誘導される構成単位であって、酸解離性溶解抑制基を含む構成単位（ａ１）を有する樹脂成分を含有する。 （もっと読む）

【課題】表面極性をリソグラフィ的に変え、自己組織化層によるパターン形成方法の提供。
【解決手段】光酸発生剤を含む感光層の一部分を照射し、発生した酸を隣の下層１２０ａの部分に拡散させる工程。前記下層１２０ａは酸分解可能基、アタッチメント基および官能基を含む酸感受性コポリマーを含む。感光層は下層の表面上に配置されており、拡散させる工程は下層１２０ａおよび感光層を加熱することを含み、下層１２０ａ中の酸感受性コポリマーの酸感受性基は拡散した酸と反応して下層の表面に極性領域を形成し、前記極性領域はパターンの形状を有する。感光層は除去され、下層の表面上に自己組織化層１５０ｂを形成する工程。前記自己組織化層１５０ｂは極性領域に対する親和性を有するブロックと、極性領域に対する親和性が低いブロックとを有するブロックコポリマーを含む。第１もしくは第２のドメインのいずれかを除去し下層の部分を露出させる工程。 （もっと読む）

【課題】数百ｎｍオーダー以下のリング状のパターンを形成する。
【解決手段】基板１０上に、オキソノール系色素からなり、波長５８０ｎｍの光に対するＯＤ値が１．０以上１．６以下であるレジスト層３０を形成し、形成されたレジスト層３０上に走査速度３ｍ／ｓ以上１０ｍ／ｓ以下でレーザー光を走査し、レーザー光が走査されたレジスト層を、アルコールを主成分とする現像液で現像する。 （もっと読む）

【解決手段】ラクトンを密着性基として有する繰り返し単位と酸不安定基含有繰り返し単位とを共重合してなる高分子化合物と、光酸発生剤と、９−フルオレニルメチルオキシカルボニル基で置換されたアミノ基とカルボキシル基とを有する塩基発生剤とを含む第１ポジ型レジスト材料を基板上に塗布する第１レジスト膜形成工程、第１レジスト膜を露光、加熱処理、現像するパターン形成工程、これを加熱して塩基発生剤よりアミン化合物を発生させて酸に不活性化し、上記パターン上に該パターンを溶解させず第２ポジ型レジスト材料を塗布する第２レジスト膜形成工程、第２レジスト膜を露光、ＰＥＢ後、現像して第２レジストパターンを形成する工程を含むパターン形成方法。
【効果】第１レジストパターンが形成されていない部分に第２パターンを形成し、パターン間のピッチを半分にするダブルパターニングを行い、一度のドライエッチングによって基板を加工できる。 （もっと読む）

【課題】有機溶剤を含む現像液によるネガ型パターン形成において、感度、現像欠陥低減、パターン形状のいずれにも優れるパターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物及びレジスト膜を提供する。
【解決手段】（ア）（Ａ）酸の作用により、極性が増大して有機溶剤を含む現像液に対する溶解性が減少する樹脂と、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、（Ｃ）第三級アルコールとを含有する化学増幅型レジスト組成物によって膜を形成する工程、
（イ）該膜を露光する工程、及び
（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程
を含むパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ブリッジ前寸法等の解像力、ＤＯＦに優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用により分解してアミド基又はチオアミド基を生じる樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】露光装置の解像限界よりも微細な非周期的な部分を含むパターンを、露光装置を用いて形成する。
【解決手段】パターン形成方法は、ウエハＷ上に第１Ｌ＆Ｓパターン７１を形成し、第１Ｌ＆Ｓパターン７１を覆うように第１保護層４８、周期方向が直交する第２Ｌ＆Ｓパターン７８、及びフォトレジスト層６０を形成し、第２Ｌ＆Ｓパターン７８の一部と重なるように、フォトレジスト層６０に第１開口部６０Ａ，６０Ｂを有する第３パターンを形成し、第１開口部６０Ａ，６０Ｂを介して第１保護層４８に第２開口部４８Ａ，４８Ｂを形成し、第２開口部４８Ａ，４８Ｂを介して第１Ｌ＆Ｓパターン７１の一部を除去する。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は感度及び解像性に優れる感放射線性樹脂組成物、並びにムラが少なく、透明性、現像密着性、比誘電率等に優れる層間絶縁膜を提供することである。
【解決手段】［Ａ］共重合体、［Ｂ］重合性不飽和化合物、［Ｃ］感放射線性重合開始剤及び［Ｄ］有機溶媒を含有し、［Ａ］共重合体が（Ａ１）構造単位、（Ａ２）構造単位、（Ａ３）構造単位、並びに（Ａ４）構造単位を含み、［Ａ］共重合体における（Ａ１）構造単位の含有割合が１モル％以上４０モル％以下、（Ａ２）構造単位の含有割合が１モル％以上１５モル％以下、（Ａ３）構造単位の含有割合が１モル％以上７０モル％以下、及び（Ａ４）構造単位の含有割合が１モル％以上３０モル％以下である感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）