【課題】走査電磁石のヒステリシスの影響を低減し、高精度なビーム照射を実現する粒子線治療装置を得ることを目的とする。
【解決手段】荷電粒子ビーム１ｂの目標照射位置座標Ｐｉに基づいて走査電磁石３を制御する照射管理装置３２と、荷電粒子ビーム１ｂの測定位置座標Ｐｓを測定する位置モニタ７とを備え、照射管理装置３２は、走査電磁石の励磁パターンが本照射の計画と同一である事前照射において位置モニタ７により測定された測定位置座標Ｐｓ及び目標照射位置座標Ｐｉに基づいて生成された補正データＩａと、補正データＩａを保存するメモリと、メモリに保存された補正データＩａと目標照射位置座標Ｐｉとに基づいて走査電磁石３への制御入力Ｉｏ（Ｉｒ）を出力する指令値生成器２５を有する。 （もっと読む）

【課題】患部の移動に合わせて精度よく照射野を追従させ、患部組織に正確に粒子線ビームを照射できる粒子線治装置を得ることを目的とする。
【解決手段】呼吸に伴う患部の変位を測定する患部変位測定装置９と、加速器１から供給された荷電粒子ビームの軌道を偏向させるステアリング電磁石６と、ステアリング電磁石６を経由して入射した荷電粒子ビームを所定の照射形状に加工して患部に照射する照射装置４と、ステアリング電磁石６と照射装置４との間に設置され、照射装置４に入射する荷電粒子ビームのビーム位置を測定するビーム位置モニタ５と、測定したビーム位置に基づくフィードバック制御機能を有し、測定した患部の変位に対応して荷電粒子ビームの軌道を偏向するように、ステアリング電磁石６の励磁量を制御するステアリング電磁石制御部１０と、患部の変位に対応して照射装置４を移動させる照射装置位置制御部４_Ｍと、を備える （もっと読む）

【課題】粒子線ビームの走査範囲や照射時間を拡大することなく患部の深さ方向の全域に渡って所望の線量分布平坦度を確保することができる粒子線ビーム照射装置を提供する。
【解決手段】粒子線ビーム照射装置は、ビーム走査部と、粒子線ビームのビーム幅を所定のビーム幅に拡大する散乱体と、粒子線ビームの体内飛程を、患部のビーム進行方向の大きさに合わせて分散し拡大するビーム飛程拡大装置と、粒子線ビームの最深体内飛程を、患部の奥側の外郭形状に合致させる補償フィルタと、ビーム進行方向と直交する面における患部の外周形状の外側へのビーム照射を遮蔽するコリメータと、ビーム進行方向と直交する面における線量分布の平坦度を測定する平坦度モニタと、を備え、各構成品は、患部に近い方から、補償フィルタ、コリメータ、ビーム飛程拡大装置、平坦度モニタ、散乱体、ビーム走査部、の順に配置される。 （もっと読む）

【課題】重イオンビームを収束することができるキャピラリーを製造する装置を提供する。
【解決手段】室内を真空にする手段を有する製造室１０を備え、前記製造室内１０に、管状金属１２の端部に、前記管状金属１２の長手方向に対して外向きに荷重を加える荷重装置と、前記管状金属１２の一部を加熱する加熱装置とを備え、室内を真空にした前記製造室１０内で、荷重を加えた前記管状金属１２の一部をクリープ温度まで加熱し、前記管状金属１２の加熱された部分が、前記管状金属１２の長手方向に対して外向きに伸延されて、破断することによって、破断した端部に向かって先細となるような形状の金属キャピラリーを形成する金属キャピラリー製造装置。 （もっと読む）

【課題】実データに基づいたより実現象に近い高精度なビーム照射位置を実現できる粒子線照射装置を得る。
【解決手段】逆写像数式モデルは、目標照射位置座標を表す変数を含む多項式であり、前記多項式に含まれる未知の係数は、Ｘ方向とＹ方向スキャニング電磁石に予め設定した複数組のＸ方向とＹ方向指令値を入力すると共に、加速器に予め設定した複数の運動エネルギー指令値を入力して、荷電粒子ビームを制御し、実際に照射されたそれぞれの照射位置座標の実データに対して、一部のデータに低い重み付けをする重み付け最小二乗法により求める。 （もっと読む）

【課題】電気的操作でＸ線ビームの２次元空間における微細な強度変調が可能なＸ線空間変調装置を提供する。
【解決手段】 Ｘ線空間変調装置１は、スピン注入により磁化方向が反転されるスピン注入型磁化反転素子（以下、素子）５を２次元に配列したＸ線変調手段１０と、２次元に配列した素子５の中から、磁化方向を反転させる素子５を選択する素子選択手段１１と、素子選択手段１１によって選択した素子５に磁化反転のための電流である磁化反転電流を注入して、当該素子５の磁化方向を反転させる磁化反転電流注入手段１２とを備える。Ｘ線空間変調装置１は、素子選択手段１１によって個々の素子５の磁化方向を制御して単色円偏光Ｘ線ビームＢ２に対する素子５の吸収率を変化させることによって、素子５に入射し、当該素子５を透過する単色円偏光Ｘ線ビームＢ２の２次元空間における強度分布を変調する。 （もっと読む）

【課題】簡便に荷電粒子を輸送することができるガイド装置及びその製造方法、並びに荷電粒子の輸送方法を提供すること。
【解決手段】本発明の一態様にかかるガイド装置１００は、絶縁体で被覆された被覆導線によって荷電粒子を輸送するための電場を発生させるガイド装置であって、荷電粒子が内部を通過する螺旋部１０を設けるために螺旋状に巻かれた第１の被覆導線１１と、螺旋部１０における第１の被覆導線１１と互いに絡み合うように螺旋状に巻かれた第２の被覆導線１２と、螺旋部１０を包むように設けられた導電体１３と、を備えるものである。
を備えるものである。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、高加速から低加速に亘って従来の集束イオンビーム装置に比べはるかに大きいビーム電流が得、かつ、小さい収差で集束イオンビームを形成することに関する。
【解決手段】本発明は、液体金属イオン源と、液体金属イオン源からイオンビームを引出す引出電極と、イオンビームを加速する加速（アース）電極と、イオンビームを収束する静電レンズと、を備え、液体金属イオン源の加速電圧が液体金属イオン源のエミッション閾値電圧より低い場合は、引出電極の電圧を加速（アース）電極より低い電位とする集束イオンビーム装置において、引出電極に印加される電圧の極性に連動して静電レンズに印加する電圧の極性を切り換えることに関する。本発明によれば、高加速電圧では静電レンズの耐電圧から減速モード集束法で行い、低加速電圧では加速モード集束法を同じ焦点距離の静電レンズで実施できる。 （もっと読む）

【課題】 電子ビーム照射装置から電子と共に光が放射されると、電子ビーム照射部分が明るくなり不都合な場合がある。
【解決手段】 電子ビーム照射装置内に電子ビームの偏向手段を設け、電子ビームと光を分離すると同時に、電子ビーム照射装置内で光を反射しないように、構成部材に黒色処理又は、構成部材を黒色材料で構成した。 （もっと読む）

【課題】小型化を図ることを可能にした中性子線回転照射装置を提供する。
【解決手段】 中性子線回転照射装置１は、イオンビームが照射されて中性子を発生するターゲット７を有する中性子発生部２と、中性子を減速する減速材９と、中性子発生部２の出射側に設けられたコリメータ３と、イオンビームを偏向させるための２つの偏向電磁石４，５と、イオンビームを輸送するビームダクト６とを備える。ターゲット収容部１０とビームダクト６Ｃとを連通する連通口１０ａは、ターゲット収容部１０の頂部１０ｂよりも低い位置に配置され、イオンビームのターゲット７への照射方向Ｆ１と中性子の取出方向Ｆ２とがなす角度αは９０°である。 （もっと読む）