第１及び第２のコイルを含む、イオンビームのための磁気偏向器が開示される。コイルは、ビームの上方および下方にそれぞれ配置され、ビーム幅に沿って延在する。コイルの電流によって、両コイル間に、ビームの伝播方向にほぼ直交する磁界が、ビームのほぼ全幅に沿って発生する。本発明の別の態様では、加工物への注入前にビームを偏向する方法が開示される。この方法は、ビームに関する１つまたは複数の特性を判別するステップと、この判別に基づいて、磁気偏向モジュールと静電偏向モジュールの１つを選択的に動作させるステップを含んでいる。 （もっと読む）

イオン注入装置は、イオンビームを生成するイオン源と、イオン注入の標的を支持する標的部と、イオン源及び標的部間のビーム経路を画成するビームラインとを具えている。１つの観点においては、ビーム経路からのイオンビームの不所望なずれを少なくとも部分的に補正するために、磁気スティーラをイオン源及び標的部間に配置する。この磁気スティーラは、イオン光学素子の入射アパーチュアに対してイオンビームを位置決めしうる。他の観点においては、ビームラインが、イオンビームを第１伝送エネルギーから第２伝送エネルギーへ減速させるための減速段を具えている。この減速段は２つ以上の電極を具え、これら電極のうちの少なくとも１つはビーム経路中に配置したグリッド電極とする。
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【課題】複数のマスクを使用して連続して同時に試料上の複数のダイに露光を行う際に、個々のダイ上に前工程で形成されたパターンに応じて露光を行う電子ビーム露光装置、電子ビーム露光方法および電子ビーム露光システムを提供する。
【解決手段】電子ビーム１５を発生する電子ビーム源１４と、電子ビームの経路中に配置され開口を有する複数のマスクｍｉｊを備え、マスクｍｉｊの開口を通過した電子ビーム１５で、試料３０の表面に前記開口に対応するパターンを露光する電子ビーム露光装置１０を、試料３０に形成されたパターンにあわせて、マスクｍｉｊの露光位置を補正する露光位置補正手段８０を備えて構成する。 （もっと読む）

【課題】走査電子顕微鏡において、観察視野の選択時に有効である異種倍率像の同時表示機能では、広い領域の走査に必要な高い感度の偏向コイルをそのまま用いて高倍率とするために走査信号の振幅を縮小していたので、高倍率像走査時には、偏向コイル駆動電流のＳ／Ｎ比が低下し、倍率比の大きな異種倍率像を得る事が困難であった。
【解決手段】高感度偏向コイルと低感度偏向コイルを使用し、低倍率像は、高感度偏向コイルを走査し、高倍率像は低感度偏向コイルを走査することで、Ｓ／Ｎ比低下の問題を解決し、倍率比の大きな異種倍率像を得る事が可能である。
【効果】倍率比の大きな異種倍率像を表示できるので、効率良く視野選択ができ、操作性を向上する効果がある。 （もっと読む）

【課題】サーチ動作による自動焦点合わせを常に良好に行う。
【解決手段】測定制御装置１６は、自動焦点合わせを開始するに先立って、現在の試料ステージの高さ位置を中心としてサーチ動作を行うことができるか否かを判断し、このままではサーチ動作を行うことができないと判断した場合には、予め試料ステージの高さ位置を変更する退避動作を行い、その後にサーチ動作を行わせる。 （もっと読む）

【課題】 成形偏向感度調整と成形偏向方向調整を高精度に行うことができ、描画精度の向上に寄与する。
【解決手段】 第１及び第２の成形アパーチャ１０，１２と成形偏向器１１で電子ビームの寸法を可変する可変成形ビーム方式の電子ビーム描画装置において、成形偏向器の成形偏向感度及び成形偏向方向を調整する際に、成形偏向器１１で第１成形アパーチャ１０の像が第２成形アパーチャ１２で遮られないように任意の複数位置に偏向し、各々のビーム偏向位置で電子ビームの試料面上の位置をマークスキャン法により測定し、各々の測定結果から成形偏向器１１の感度及び方向の誤差を算出し、算出された誤差に基づいて成形偏向感度係数及び成形偏向方向係数を補正する。 （もっと読む）

【目的】走査型干渉電子顕微鏡において、電子線干渉縞の検出効率を上げ、磁性体試料の微小領域の磁気情報を高Ｓ／Ｎ比の走査像として観察できる走査型干渉電子顕微鏡を実現する。
【構成】電子銃１と偏向コイル４との間にバイプリズム３を設けて試料７を走査する収束電子線２を２点に分割することにより、試料７を透過し再び重なり合った電子線には干渉縞１４が生じる。この干渉縞１４を、たとえば多重極レンズで構成された電子光学整形器１０により、干渉縞１４の平行方向に縮小、あるいはその垂直方向に拡大して、電子線の干渉縞１４部分を効率良く干渉縞位置変化検出器内に入射させる。 （もっと読む）