国際特許分類[H01L21/027]の内容
電気 (1,674,590) | 基本的電気素子 (808,144) | 半導体装置,他に属さない電気的固体装置 (445,984) | 半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置 (183,847) | 半導体装置またはその部品の製造または処理 (125,986) | その後のフォトリソグラフィック工程のために半導体本体にマスクするもので,グループ21/18または21/34に分類されないもの (23,597)
国際特許分類[H01L21/027]の下位に属する分類
無機物層からなるもの
国際特許分類[H01L21/027]に分類される特許
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露光装置および露光方法
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露光装置
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露光装置
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インプリント用基板選択システム、インプリント用基板選択プログラム、インプリントシステム、インプリント用基板選択方法及びインプリント方法
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検出方法
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荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法
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反射型マスクブランクス、反射型マスク、および、それらの製造方法
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重ね合わせ計測方法
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ウェハ洗浄装置およびその方法
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リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
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