【課題】汚染に起因する性能の劣化を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、露光光の光路を第１液体で満たすように第１液体で液浸部を形成可能な第１部材と、第１部材から離れた位置で第２液体で液浸部を形成可能な第２部材と、所定部材と第２部材との間の第２液体に振動を与える振動発生装置とを備え、第２液体を用いて所定部材をクリーニングする。 （もっと読む）

【課題】転写成形された微細構造を損傷させることなく迅速にスタンパから剥離することができる微細構造体の剥離方法及び剥離装置を提供する。
【解決手段】微細構造が転写成形されスタンパ1に付着した微細構造体2をそのスタンパ1から剥離するにさいして、微細構造体2の隅部2aからその微細構造体2とスタンパ1との間に冷却用の気体が入り込む方向に気体を噴出させ、その微細構造体2が中心部分を残してスタンパ1から剥離されつつあるときに、微細構造体1の上面から吸引力を作用させてその微細構造体2をスタンパ1から完全に剥離させる。 （もっと読む）

【課題】ｉ線に高い光感応性を有する新たなスルホニウム塩及びｉ線に高い光感応性を有し，かつエポキシ化合物等のカチオン重合性化合物への相溶性が高く，その配合物において貯蔵安定性の優れた，スルホニウム塩を含んでなる新たな光酸発生剤等を提供する。
【解決手段】式（１）で示されるスルホニウム塩及び該スルホニウム塩を含有することを特徴とする光酸発生剤等である。


〔式（１）中、Ｒａ、ＲｂおよびＲｃビフェニルチオ等を、Ｒ^１〜Ｒ^３は、アルキル基、、アルコキシ基等を、ｍ^１〜ｍ^３は０〜５の整数を、ｎ^１〜ｎ^３はそれぞれ０または１であり、ｎ^１〜ｎ^３の合計数は２または３である。Ｘ⁻は一価の多原子アニオンを表す。〕 （もっと読む）

【課題】リソグラフィおよび現像性能に悪影響を及ぼさず、膜表面および頂部表面付近の領域に分布した、濃縮されたクエンチャー材料が存在するフォトレジスト組成物。
【解決手段】式（Ｉａ）、式（Ｉｂ）または式（Ｉａ）および（Ｉｂ）の組み合わせを含む窒素含有モノマーと、特定の酸脱保護性モノマーとを含むモノマーの重合生成物を含むポリマー。（Ｉａ）：Ｒ^ａ−Ｃ（＝ＣＨ_２）−ＣＯ−（−Ｏ−Ｌ^１−）_ａ−ＮＲ^ｂ_２、（Ｉｂ）：Ｒ^ａ−Ｃ（＝ＣＨ_２）−ＣＯ−Ｏ−ＬＮ−Ｘ。（式中ａは０または１であり、Ｌ^１は直鎖もしくは分岐Ｃ_１−１０アルキレン基、または単環式、多環式、もしくは縮合多環式Ｃ_３−２０（ヘテロ）シクロアルキル等であり、各Ｒ^ｂは別々に分かれているか、または少なくとも一つのＲ^ｂは隣のＲ^ｂに結合されており；ＬＮは縮合多環式Ｃ_３−２０ヘテロシクロアルキレン基等であり、ＸはＨ、Ｃ_１−１０アルキル等である。） （もっと読む）

【課題】露光光源として電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、高解像性であり、且つ、ラフネス特性及びパターン形状が良好な感放射線性樹脂組成物の提供。
【解決手段】活性光線又は放射線の照射により分解して酸アニオンを発生するイオン性構造部位を備えた繰り返し単位（Ａ）と、プロトンアクセプター基を有する繰り返し単位（Ｂ）と、酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する基を有する繰り返し単位（Ｃ）を含み、且つ、繰返し単位（Ａ）として、下記一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で表される少なくとも１つの繰返し単位を有する樹脂（Ｐ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
（もっと読む）

【課題】パターンの線幅の経時安定性に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、この組成物を用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、（Ａ）酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂と、（Ｂ）下記一般式（１−１）により表される化合物とを含有している。
【化１】
（もっと読む）

【課題】高感度、良好なラフネス特性、良好なパターン形状、及び現像欠陥の低減を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いた感活性光線性又は感放射線性膜、及び、パターン形成方法を提供すること。
【解決手段】フッ素原子を含有する繰り返し単位を含む樹脂（Ａａ）と、酸の作用によりアルカリ溶解性が変化する樹脂であって、活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生する構造部位を備えた繰り返し単位（Ｂ）を含む樹脂（Ａｂ）を含有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を改善し、パターン倒れを抑制できる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法、並びに電子デバイスの製造方法及び電子デバイスの提供。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（Ｉ−１）〜（Ｉ−３）のいずれかで表される構造を有する繰り返し単位と、ラクトン構造、サルトン構造及びシアノ基からなる群より選択される少なくとも１種を含有する繰り返し単位とを有する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
（もっと読む）

【課題】半導体装置に適用して例えば２５０℃以下のような低温で硬化させた場合にも高い信頼性を与え、ポリイミド樹脂又はポリベンゾオキサゾール樹脂の代替材料となり得るフェノール樹脂組成物の提供。
【解決手段】特定構造のフェノール樹脂（Ａ）、及び感光剤（Ｂ）を含む感光性フェノール樹脂組成物であって、該フェノール樹脂（Ａ）において、ポリスチレン換算での分子量が７００以下である低分子量成分の含有率が１０質量％以下である、フェノール樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】高い耐熱性を有し、高精細なレリーフパターンを基材上に形成するのに使用することができ、かつ形成される有機膜の光学特性や電気特性のカスタマイズ性に優れる感光性組成物、それからなる有機膜、及びこの有機膜を有する電子部品を提供する。
【解決手段】アルカリ可溶性無機微粒子（Ａ）、重合性二重結合を有する化合物（Ｂ）、及び光重合開始剤（Ｃ）を含有する感光性組成物を用い、その塗膜の光照射による硬化によって、また必要に応じてさらに現像や焼成を行うことによって有機膜を形成し、電子部品における各種の膜に用いる。 （もっと読む）