【課題】露光装置に液浸法を適用した場合において、基板を効率良く良好に露光できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置ＥＸは、露光ビームＥＬを射出する第１光学部材８と、第１光学部材の光射出側で移動可能な第１移動体１と、第１移動体１に設けられ、位置計測用の計測ビームが照射される斜面１Ｓｚを有する計測部材１Ｒｚと、第１移動体１に設けられ、計測部材１Ｒｚよりも外側に張り出す端面８Ｅを有し、計測ビームを透過可能な透過領域を有する透過部材８１とを備える。露光装置に液浸法を適用した場合において、基板を効率良く良好に露光できる。 （もっと読む）

【課題】基板のエッジ領域を液浸露光する場合に良好に液浸領域を形成した状態で露光できる基板ステージを提供する。
【解決手段】基板ステージは、被露光対象としての基板を保持して移動可能である。基板ステージは、第１周壁と、第１周壁の内側に形成された第２周壁と、第２周壁の内側に形成された支持部とを備え、第２周壁に囲まれた空間を負圧にすることによって、支持部に基板を保持する。 （もっと読む）

【課題】低インパクトでの現像を可能にすると共に、現像時間の短縮及び現像精度の向上が図れ、かつ、回路パターン部に残渣するスカムの除去効果の向上が図れるようにした超音波現像処理方法及びその装置を提供する。
【解決手段】露光処理された基板Ｇの回路パターンＰ表面に現像液を接触例えば液盛りさせて、現像処理を行う現像処理において、現像液が接触した状態にある基板の回路パターンの近傍の該基板側面に発振面７ｂが当接される超音波振動子７Ｂと、該超音波振動子の高周波駆動電源３１とを具備する。基板表面に現像液を液盛りした後、基板の回路パターンの近傍の該基板側面に超音波振動子の発振面を当接した状態で、超音波振動子より発生する超音波振動が回路パターン上の現像液に伝播しながら現像処理を行う。 （もっと読む）

【課題】最終要素への液滴及び／又はガスと液体との最終要素の界面の影響を低減し、又はそのような液滴の形成を実質的に回避するシステムを提供する。
【解決手段】投影システムと、該投影システム、液体閉じ込め構造、並びに基板及び／又は基板テーブルによって画定された液浸空間に少なくとも部分的に液浸液を閉じ込める液体閉じ込め構造とを含むリソグラフィ装置が開示される。リソグラフィ装置内で、例えば、投影システムの最終要素上の液滴の影響を低減させる、又はそのような液滴の形成を実質的に回避する手段が講じられる。 （もっと読む）

【課題】プラズマからのＥＵＶ光を供給する超紫外線（ＥＵＶ）光発生器を提供する。
【解決手段】第１の態様では、複数の個別の基体を準備する段／段階と、各基体をそれぞれの多層コーティングで被覆する段／段階と、各基体が共通焦点に向けられた配置に被覆基体を固定する段／段階と、その後、多層コーティングの少なくとも１つを研磨する段／段階とを含むことができるＥＵＶ光源ミラーを製作する方法を開示する。別の態様では、基体と、Ｓｉ、Ｃ、Ｓｉ₃Ｎ₄、Ｂ₄Ｃ、ＳｉＣ、及びＣｒから成る材料の群から選択され、その層材料が高エネルギ堆積条件を用いて堆積された平滑化層と、多層誘電体コーティングとを含むことができるＥＵＶ光と共に使用するための光学器械を開示する。別の態様では、ＥＵＶミラーのための耐食多層コーティングは、Ｓｉと窒素及び第５周期遷移金属を有する複合材料との交互する層を含むことができる。 （もっと読む）

【課題】温度変化による露光不良の発生を抑制でき、稼動率の低下を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、液体を介して露光光で基板を露光する。露光装置は、露光光が射出される光学部材と、光学部材と物体との間の光路が液体で満たされるように液体を供給する液体供給口と、液体供給口から供給された液体を回収する第１液体回収口と、光学部材が配置される空間の温度を制御するチャンバ装置と、チャンバ装置によって制御される空間の温度よりも高い温度の気体を供給する気体供給口とを備える。露光装置は、液体供給口から液体を供給する液体供給動作を停止しているときに、液体回収口から液体を回収する液体回収動作の少なくとも一部と並行して、あるいは液体回収動作の終了後に、気体供給口から前記気体を供給する気体供給動作を行う。 （もっと読む）

【課題】安価に実施可能であり、段差基板上でのパターン形成性に優れたパターン形成方法、及び該方法に使用するための感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の提供。
【解決手段】（ア）側鎖にラクトン環構造を有する特定のアクリル酸エステル繰り返し単位（ａ）、ならびに下記一般式（III）、（IV）及び（V）の少なくとも１つで表される少なくとも１種の繰り返し単位（ｂ）を有する樹脂（Ｐ）と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物（Ｂ）とを含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成する工程と、（イ）前記膜をＫｒＦエキシマレーザーにて露光する工程と、（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて前記膜を現像し、ネガ型のパターンを形成する工程とを含むパターン形成方法。
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【課題】露光光学系でマスクの直前に設置されている平面鏡を制御して、露光面上の中心光線角度・照度分布を所定の範囲内に設定し、高精度なパターンの露光を可能にする。
【解決手段】露光装置の露光手段に、光源から発射された露光光を多数の点光源に変換する光インテグレータ１６１と、光インテグレータを透過した露光光を平行光に変換するコリメートミラー１１８と、コリメートミラーで平行光に変換された露光光を平面鏡で反射してマスクに照射するミラーユニット１２０とを備え、ミラーユニットは、平面鏡の露光光を反射する面と反対側の面を押すアクチュエータ１２２を２次元状に配列して装備し、制御手段は、ステージ手段１３０に載置された基板の表面に相当する位置に照射した露光光から得られる光インテグレータの点光源に関する情報を用いて算出されたミラーユニットの個々のアクチュエータの駆動量に基づいてこのアクチュエータを制御するようにした。 （もっと読む）

【課題】製品に実装されるサイズの基板を露光する際に、アライメントを精度良く行うことができる露光装置、露光方法、並びに露光ユニットを提供する。
【解決手段】近接露光装置３〜５は、パターンＰ２〜Ｐ４を有するマスクＭ２〜Ｍ４を保持するマスクステージ１０と、基板Ｗ１〜Ｗ３を保持する基板ステージ１１と、マスクＭ２〜Ｍ４のパターンＰ２〜Ｐ４を介して基板Ｗ１〜Ｗ３に露光光を照射する光学系と、基板Ｗ１〜Ｗ３とマスクＭ２〜Ｍ４の一部を検出するレーザと、を備える。マスクＭ２〜Ｍ４と基板Ｗ１〜Ｗ３のアライメントは、レーザによって検出される、一層目の近接露光装置２によって基板Ｗ１に露光転写されたブラックマトリクスパターンＷＰ１のコーナー部ｃと、基板Ｗ１〜Ｗ３のブラックマトリクスパターンＷＰ１の外側に位置するマスクＭ２〜Ｍ４のアライメントマークＡ１〜Ａ３とが互いにオフセットした位置となるようにして実行される。 （もっと読む）

【課題】 高解像性で良好な形状の孤立ラインパターンを形成することができ、且つ、ラフネス特性を含む他のレジスト性能にも優れる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いた感活性光線性又は感放射線性膜、及びパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 少なくとも１つのフェノール性水酸基と、フェノール性水酸基の水素原子が下記一般式（１）で表される基によって置換されている基を少なくとも１つ含む化合物（Ｐ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。（式中の各符号は、特許請求の範囲及び明細書に記載の意味を表す。）
【化１】
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