【課題】 アライメントマークの形成方法及び半導体ウェーハに関し、デバイスパターンと同時に形成したアライメントマークを精度良く検出する。
【解決手段】 半導体ウェーハのアライメントマーク形成領域に凹部を形成し、前記凹部を絶縁膜で埋め込み、前記絶縁膜に前記半導体ウェーハのデバイス領域に形成するデバイスパターンと同時に、エッチングにより前記デバイスパターンの段差量より大きな段差量のアライメントマークを形成する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ウエハの反りを抑制しつつウエハを所定位置に位置決めできる位置決め装置と位置決め方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明に係る位置決め装置は、ウエハを載置するステージと、該ウエハを該ステージに吸着させる吸着手段と、該ステージ上の所定位置に該ウエハを位置決めする、該ステージに取り付けられた位置決めピンと、該ウエハのノッチに当たる形状で、該ウエハを該位置決めピンに押し付ける方向に移動可能に形成されたノッチピンと、該位置決めピンを、該ウエハから離れる方向に退避させる退避手段と、を備える。 （もっと読む）

【課題】加工対象である基材表面に残膜の薄い微細マスクパターンを精度よく、かつ、容易に形成することができる微細マスク形成用積層体を提供すること。
【解決手段】基材（１０）の一主面上に設けられ、表面に凹凸構造を有する樹脂層（１１）と、樹脂層（１１）を覆うように設けられたマスク層（１２）と、を具備し、厚み方向に沿った断面視における凹凸構造の凸部の頂部位置（Ｓ）と、マスク層（１２）の露出する表面位置（Ｓｒｌ）との距離（ｌｒｌ）が、０＜ｌｒｌ≦０．１ｈ（ただし、位置（Ｓ）と凹部底部位置との距離で表される、凹凸構造の高さ（深さ）をｈとする。）を満たす構成とする。 （もっと読む）

【課題】ロールモールドを作製するロールモールド製作装置に関し、ロールモールド表面に回転方向に連続あるいは断続したパターンを作製する。
【解決手段】レジストを表面に塗布した円筒あるいは円柱状の回転体であるロールモールドを、ロールモールドの回転対称軸の周りに回転可能に保持するロールステージと、電子ビームが透過する１つあるいは複数の開口パターンを有するマスクと、マスクをロールモールドの表面に近接して配置して保持するマスクステージと、電子ビームを発生してマスクを通してロールモールドに照射する電子源と、ロールモールドを一定速度で連続回転させながら電子源から電子ビームをマスクに照射し、マスクを透過した電子ビームをロールモールドのレジストを塗布した円筒あるいは円柱状の表面に照射してロールモールド表面に回転方向に連続あるいは断続したパターンを作製する手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】リニアモータの温度を管理して、基板の膨張、収縮に起因する露光精度への影響を抑制することができる近接露光装置を提供する。
【解決手段】基板Ｗを保持するワークステージ２をステップ駆動するワーク駆動部は、第１固定子、及び第１固定子に対向配置された第１可動子を備える第１リニアモータ３０と、第２固定子、及び第２固定子に対向配置された第２可動子を備える第２リニアモータ４０とで構成される。第１及び第２可動子に沿って配設された冷媒循環路と、冷媒を循環供給する第１及び第２可動子側冷媒供給装置と、冷媒循環路の入口付近及び出口付近に配設されて、冷媒の温度を検出する温度センサとを備え、温度センサによって検出された冷媒の温度に基づいて、リニアモータ３０、４０から基板Ｗに伝達される熱量が一定となるように温度管理される。 （もっと読む）

【課題】モデルベースによる複数のリソグラフィシステムの調整および性能の最適化を行うシステムおよび方法を提供する。
【解決手段】ターゲットスキャナのモデルは、一組の調整可能パラメータを基準にしてターゲットスキャナの感度を画定して維持される。差分モデルは基準に対するターゲットスキャナの偏差を表す。ターゲットスキャナは、基準スキャナおよび差分モデルの設定に基づいて調整され得る。関連スキャナのファミリーの性能は、基準スキャナの性能に対して特徴付けられ得る。差分モデルは、結像挙動における差をシミュレートするために使用されてよいパラメトリックオフセットおよび他の差などの情報を含み得る。 （もっと読む）

【課題】液体を良好に回収することができる液体回収部材、露光装置、露光方法、デバイス製造方法に関する。
【解決手段】基板上に露光光を照射することによって基板を露光する露光装置において、液体を回収するための回収部材２５を備え、回収部材２５は、第１の液体回収能力を有する第１部分２５Ａと、第１部分と異なる位置に配置され、第１液体回収能力と異なる第２の液体回収能力を有する第２部分２５Ｂとを含む。 （もっと読む）

【課題】望ましくない放出物（例えば、粒子、赤外線、および可視光線）を最低限に抑えたプラズマ光源を実現する。
【解決手段】光源１００は、プラズマ放電領域１１２を有し、イオン性媒体を含む室１０４、プラズマ放電領域１１２の一部を囲む磁気コア１０８、エネルギーの少なくとも１つのパルスを磁気コア１０８に供給し、プラズマ放電領域内に形成されるプラズマに電力を送るためのパルス電力システム１３６を備える。プラズマは、局所的高輝度ゾーン１４４を有する。 （もっと読む）

【課題】スタンパの外周面に形成した転写パターンを、継ぎ目のない状態でもってプレート、シートに転写することができ、かつ支持ロールに対して着脱交換可能なロール状スタンパ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】外周面に転写パターンを備えた円筒形状のスタンパ内に支持ロールを嵌入して備えたロール状スタンパであって、前記スタンパ３の熱膨張係数よりも前記支持ロール５の熱膨張係数の方が小さく、かつ前記スタンパ３と前記支持ロール５との嵌め合いは、常温において相対的に挿脱可能な嵌め合いであり、前記支持ロール５内に加熱手段１１を備えており、前記スタンパ３はＮｉ又はＮｉ合金であり、前記支持ロール５はＡｌ又はＡｌ合金である。 （もっと読む）

【課題】半導体微細加工の設計寸法がますます微細化していくことに従い、より優れたラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）を有するレジストパターンの製造が求められている。
【解決手段】分子内に、３級硫黄原子及びカルボキシレート基をそれぞれ１つずつ有する塩、該塩を含有するレジスト組成物、並びに該レジスト組成物を用いるレジストパターンの製造方法。該塩としては、式（Ｉ）で表される塩が好ましい。


［式（Ｉ）中、Ａ^１及びＡ^２は、それぞれ独立に炭素数１〜１８の１価の有機基であり、Ａ^３は炭素数１〜１８の２価の有機基である。Ａ^１及びＡ^２が互いに結合して、これらが結合している硫黄原子とともに複素環を形成していてもよく、Ａ^１及びＡ^３が互いに結合して、これらが結合している硫黄原子とともに複素環を形成していてもよい。］ （もっと読む）