【課題】 保護膜の端部の位置制御バラツキを可能な液浸露光用塗布装置を提供する。
【解決手段】本発明の液浸露光用塗布装置２０は、基板上に第１の有機膜５、第２の有機膜６、および第３の有機膜７を塗布可能なトップノズル２３と、基板から第１の有機膜５を除去可能な第１溶剤、第２の有機膜６を除去可能な第２溶剤、および第３の有機膜７を除去可能な第３溶剤を前記基板上に供給可能なボトムノズルと、第１〜第３溶剤の基板への到達位置を制御する制御ユニット５１を有し、制御ユニット５１は、第３の有機膜７の端部が第１の有機膜５の端部と第２の有機膜６の端部の間に位置するように第１〜第３溶剤の到達位置を制御する。 （もっと読む）

【課題】 照明光学系の光路中に配置されて、光量損失を抑えつつ光軸に関して点対称性の良好な周方向偏光状態の瞳強度分布を実現することのできる偏光変換ユニット。
【解決手段】 入射光を所定の偏光状態の光に変換して射出する偏光変換部材を備えた偏光変換ユニット。偏光変換部材は、光軸と直交する平面状の第１面と、光軸を中心とする円に沿って鋸歯状の断面を有する第２面とを有する。偏光変換部材の第２面は、光軸と直交する平面に沿って光軸上の所定点から放射状に延びる複数の第１稜線と、光軸を中心として所定点を頂点とする円錐の側面に沿って所定点から放射状に延びる複数の第２稜線と、互いに隣り合う第１稜線と第２稜線との間に形成された複数の平面状の光学面とを有する。 （もっと読む）

【課題】より多くの良好なパターンを形成することができるパターン形成装置、パターン形成方法及びパターン形成用プログラムを提供する。
【解決手段】実施形態に係るパターン形成装置は、複数の小領域を含む転写領域を単位として、テンプレートに形成されたパターンを、基板上の複数の転写領域に順次転写するパターン形成装置であって、取得部と、分類部と、集計部と、転写部と、を備える。取得部は、基板に存在する欠陥部の検出情報を取得する。分類部は、取得部で取得した検出情報から、複数の転写領域を、欠陥部が存在しない第１転写領域と、欠陥部が存在する第２転写領域と、に分類する。集計部は、第２転写領域について、転写領域内での小領域の位置ごとに欠陥部の出現頻度を集計する。転写部は、集計部で集計した結果に基づき、欠陥部の出現頻度の高い位置の小領域に欠陥部が存在している第２転写領域から先にテンプレートによる転写を行う。 （もっと読む）

【課題】優れた防汚性、耐擦傷性および低反射性を有し、かつ耐候性に優れたナノ凹凸構造体を形成できるナノ凹凸構造用樹脂組成物、およびそれを用いた自動車メータカバー用透明部材とカーナビゲーション用透明部材の提供。
【解決手段】４官能(メタ)アクリレートモノマー(Ａ)を５０〜９５質量部、ポリアルキレングリコール構造の繰り返し単位の合計が４〜２５の２官能(メタ)アクリレートモノマー(Ｂ)を５〜３５質量部、前記モノマー(Ａ)、(Ｂ)と共重合可能な単官能(メタ)アクリレートモノマー(Ｃ)を１５質量部以下含む重合反応性モノマー成分１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部の活性エネルギー線重合開始剤(Ｄ)、０．０１〜３質量部の離型剤(Ｅ)、０．０１〜３質量部の滑剤(Ｆ)を含有するナノ凹凸構造用樹脂組成物、および該樹脂組成物を用いた自動車メータカバー用透明部材とカーナビゲーション用透明部材。 （もっと読む）

【課題】 真空室内のデバイスに高速かつ大量に信号を伝送するにあたり、該デバイスへの熱の流入の少なさの点で有利な技術を提供する。
【解決手段】 複数の荷電粒子線で基板に描画を行う描画装置は、減圧室に配置され、前記複数の荷電粒子線をそれぞれブランキングするブランキング偏向器と、前記減圧室より気圧の高い外部室に配置され、前記ブランキング偏向器を制御するためのデバイスと、第１基板と、を備える。前記第１基板は、前記減圧室と前記外部室とを仕切る隔壁を構成し、かつ、該隔壁となる領域に形成された貫通孔に充填された電極を含む。前記デバイスは、前記電極を介して前記ブランキング偏向器と電気的に接続されている。 （もっと読む）

【課題】真空中で被検物の温度を正確に測定する。
【解決手段】ＥＵＶ露光装置において、特に光源からウエハステージ上のウエハまでのＥＵＶ光の光路の近傍に配置されるレチクルステージ、投影光学系、ウエハステージ等の被検物ＯＢに、温度センサ１１あるいは１２が設置される。温度センサ１１，１２は、被検物ＯＢの表面上に形成された空間２１ｃ，２８ａ内にセンサ部（本体部）１０ａを配置し、その空間内に伝熱媒体２８を入れることにより設置される。温度センサ１１，１２は、真空中に置かれた被検物ＯＢの温度を、センサ部（本体部）１０ａと被検物との間の伝熱媒体２８を介して検出する。これにより、真空中で被検物の温度を正確に測定することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】型のパターン部の周辺部に付着した付着物を除去するのに有利なクリーニング方法を提供する。
【解決手段】このクリーニング方法は、凹凸パターンが形成されたパターン部７ａを有する型７に付着した付着物２２を除去するものである。特に、このクリーニング方法は、型７と、基板２０上に塗布された光硬化性樹脂２１とを押し付けるに際し、パターン部７ａの形成面におけるパターン部７ａの外周部７ｃに対応する基板２０上の位置に、光硬化性樹脂２１を塗布する工程と、型７と光硬化性樹脂２１とを押し付ける工程と、光硬化性樹脂２１を硬化させる工程と、型７と光硬化性樹脂２１とを引き離す工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】複数のマスクを露光装置から効率的に回収し又分配できる搬送装置及び露光装置を提供する。
【解決手段】それぞれパターンＰを形成した複数のマスクＭの間に間座２０を配置して、重ねて搬送するので、重ねた時に間座２０によりマスクＭのパターンＰが損傷しないように隙間をあけることができ、コンパクトな状態で搬送を行えると共に、複数のマスクＭを一度で回収でき、且つ一度で分配できるので搬送時間が大幅に短縮され、マスクＭを用いた装置の稼働率を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置内のオブジェクトを位置決めする位置決めデバイスを提供する。
【解決手段】ショートストロークユニット１２，１３の各々は、ショートストロークユニットとロングストロークユニット１５との間に少なくとも１つの作動力を独立して提供するように構成されたショートストロークアクチュエータシステム２２，２３を含む。ロングストロークユニットは、ロングストロークユニットとリソグラフィ装置の基準構造との間に少なくとも１つの作動力を提供するように構成されたロングストロークアクチュエータシステム１６を含む。 （もっと読む）

【課題】スキャナマッチング及び安定性制御の方法を提供する。
【解決手段】本発明は、ウェーハメトロロジとリソグラフィ装置特性の直接の測定が組み合わせられて、シミュレーションモデルを用いたリソグラフィ装置／プロセスの時間ドリフトの低減を達成する様々なシステム及びプロセスの実施形態を開示する。シミュレーションモデルは、サブコンポーネントを有していてもよい。例えば、サブモデルが光学条件の第１のセットを表し、別のサブモデルが光学条件の第２のセットを表していてもよい。光学条件の第１のセットは、照明条件の標準セットで、第２のセットは照明条件のカスタムセットであってもよい。サブモデル間の相互関係を用いて、ウェーハメトロロジを用いることなくカスタム照明条件下での安定性をより速く達成できる。 （もっと読む）