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国際特許分類[H01L25/11]の内容

国際特許分類[H01L25/11]に分類される特許

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【課題】モジュール積層体を構成する各部材を精度良く位置決めできると共に、モジュール積層体の積層方向の寸法精度を高めることができる電力変換装置を提供すること。
【解決手段】電力変換装置1は、半導体モジュール2を複数個積層して構成してなる。半導体モジュール2は、半導体素子21と放熱板22と封止部23と壁部24と貫通冷媒流路とを有する。半導体モジュール2及び蓋部3は、放熱面221の法線方向に積層されて1つのモジュール積層体10を構成している。壁部24の内側には、沿面冷媒流路42が形成されている。半導体モジュール2及び蓋部3は、互いの積層方向Xの位置決めをすると共に、モジュール積層体10の積層方向Xの寸法Lを決めるガイド部材6に保持されている。半導体モジュール2の壁部24同士の間及び蓋部3と半導体モジュール2の壁部24との間には、弾性シール部材29が配設されている。 (もっと読む)


【課題】擬似ウエハーの樹脂層にレーザ等でビアホールを形成することなく、簡単な工程で微細な貫通ビアを形成してチップの実装密度を高める半導体装置を提供する。
【解決手段】複数の半導体チップ20と、複数の突起を有する金属構造体とを支持基板11上の所定の箇所に配置し、前記複数の半導体チップ及び前記金属構造体25を樹脂で覆って固化し、前記固化した樹脂の一部及び前記金属構造体の一部を除去、平坦化して、前記金属構造体の前記突起25aを貫通ビアとして露出させ、前記半導体チップ及び前記貫通ビアが埋め込まれた樹脂層を前記支持基板から剥離し、前記剥離面に所定の配線パターンを形成して擬似ウエハーを完成する。 (もっと読む)


【課題】積層型半導体装置において、半導体装置の反りを抑制し、信頼性に優れた半導体装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】半導体装置は、基板11上にフリップチップ接続された半導体素子12を有し、基板11と半導体素子12の間にはアンダーフィル樹脂13が充填されている。半導体素子の外周部には接合ランド14が設けられ、基板11全域が樹脂15により封止されている。また、樹脂15上面から接合ランド14に至る開口部16か形成されている。 (もっと読む)


【課題】発熱した半導体素子を少ない冷媒によって効率的に冷却することができる半導体モジュールの積層体を提供すること。
【解決手段】半導体モジュール2の積層体1は、半導体素子3をモールド樹脂4内に配置して形成した半導体モジュール2を複数積層してなる。モールド樹脂4には、半導体素子3を冷却する冷媒を流すための冷媒流路41が形成してある。半導体素子3には、放熱板32が対向して配置してある。放熱板32には、冷媒流路41の一部に流れる冷媒Cを吸い上げる多孔質体5が設けてある。半導体モジュール2の積層体1は、多孔質体5に吸い上げた冷媒Cを放熱板32の熱によって蒸発させて半導体素子3を冷却するよう構成してある。 (もっと読む)


【課題】半導体モジュールの積層体の組付が容易であり、長期の使用に対して合わせ面の封止状態を持続させることができる半導体モジュールの積層体を提供すること。
【解決手段】半導体モジュール2の積層体1は、半導体素子3をモールド樹脂4内に配置して形成した半導体モジュール2を複数積層してなる。モールド樹脂4は、冷媒流路41と、冷媒流路41の外周側の合わせ面42の全周に形成したシール充填溝46と、シール充填溝46に連通する充填連結口47とを有している。複数の半導体モジュール2に対する両側の積層端には、蓋体21A、21Bが積層してあると共に、一方の蓋体21Aには、シール充填溝46に連通する充填注入口24が形成してある。半導体モジュール2の積層体1は、充填注入口24から注入したシール材6を、充填連結口47を経由して複数のシール充填溝46へ連続して充填してなる。 (もっと読む)


【課題】熱膨張差によって合わせ面に剥離が生じることがなく、半導体モジュールの積層体の組付が容易であり、長期の使用に対して合わせ面の封止状態を持続させることができる半導体モジュールの積層体を提供すること。
【解決手段】半導体モジュール2の積層体1は、半導体素子3をモールド樹脂4によってモールド成形してなる半導体モジュール2を複数積層してなる。モールド樹脂4には、半導体素子3を冷却する冷媒Cを流すための冷媒流路41が形成してある。積層体1は、モールド樹脂4が互いに合わさる合わせ面42に設けた接合材61を溶着させることにより、半導体モジュール2を複数積層してなる。 (もっと読む)


【課題】歩留まりの低下を抑えつつ、高密度実装化を図ることの可能な半導体装置の
製造方法を提供する。
【解決手段】エポキシ基板16と、エポキシ基板16の表面に搭載された半導体素子1aと、半導体素子1aを封止する封止樹脂5aと、エポキシ基板16の裏面に形成された複数のバンプ3とを備えた第1の半導体装置110を準備する一方で、複数の端子2を備えた半導体素子1bと、複数の端子2を露出するように半導体素子1bを封止する封止樹脂5bとを備えた第2の半導体装置120を準備し、第1の半導体装置110及び第2の半導体装置120の各々に対する最終テストを行い、最終テストを行った後に、第1の半導体装置110の複数のバンプ3が形成された面と、第2の半導体装置120の複数の端子2が形成された面とを向かい合わせて、第2の半導体装置120を第1の半導体装置110に搭載する。 (もっと読む)


【課題】 基板上に上下に積層された第1の階層と第2の階層とにそれぞれ分配された第1の電気素子と第2の電気素子との間の良好な電気的接続を可能にするほどに広い上面を有し、かつ熱膨張に伴う損傷を生じないほどに小さな断面を有する相互配線を備えたマイクロ電子デバイスを製造する方法を提供する。
【解決手段】 この方法は、互いに異なる長さを有する少なくとも1本の第1のアームと少なくとも1本の第2のアームとを、各アームが、各アームの断面積より十分に広い上面を有する導電パッドと、基板上に定められている固着エリアとを機械的に直接に接続するように作製するステップ(102)と、この導電パッドを、第1の階層の領域内に形成し、次いで、第2の電気素子との電気的接続に先立って、導電パッドの上面が、第2の階層の領域の下端または内部の、基板に平行な面内に存在している接続位置まで変位させるステップ(106)とを含んでいる。 (もっと読む)


【課題】PoP構造の半導体パッケージの一部を構成する半導体装置であって、汎用性が高く、そのサイズが抑制された半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体装置10は、第1の配線基板20、第2の配線基板30、半導体チップ12、導電性のワイヤ14および封止体16を備える。半導体チップ12は、第1の配線基板20の、第1の外部電極パッド24が設けられた第1の面22とは反対側の第2の面23に搭載されている。第2の配線基板30は、半導体チップ12を挟んで第1の配線基板20とは反対側に配置されている。第2の配線基板30の、第1の配線基板20とは反対側に向いた第3の面32には、第2の外部電極パッド34が設けられている。導電性のワイヤ14は、第1の配線基板20と第2の配線基板30とを電気的に接続する。封止体16は、第2の配線基板30の第3の面32を露出させるように、少なくともワイヤを覆っている。 (もっと読む)


【目的】パッケージの形成面積を増大させることなく、複数の半導体パッケージを積層することが可能な半導体積層パッケージ及びその製造方法を提供することを目的とする。
【構成】下部パッケージの上面において上部パッケージの底面に設けられている実装用パッドと物理的且つ電気的に接続される連結用パッドと、下部パッケージ内の半導体ICチップのチップパッド及び上記連結用パッド間を電気的に接続する為の配線経路と、を備えたパッケージ接続基板を下部パッケージ内の半導体ICチップの上面に固着する。 (もっと読む)


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