説明

国際特許分類[H01L51/30]の内容

国際特許分類[H01L51/30]に分類される特許

1 - 10 / 1,883


【課題】CNTを含有する半導体層を有する電界効果型トランジスタにおいて、高移動度・高オンオフ比を達成し、且つターンオン電圧・ヒステリシスを低減すること。
【解決手段】表面の少なくとも一部に共役系重合体が付着したカーボンナノチューブを含有する半導体層、ポリマーおよび無機酸化物微粒子を含有するゲート絶縁層、ゲート電極、ソース電極およびドレイン電極を有する電界効果型トランジスタ。 (もっと読む)


【課題】 導電性材料、有機EL材料、高屈折率材料などとして利用し得る含硫黄π−共役系化合物及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、式(1)


(式中、R及びRは同一又は異なって水素原子又は低級アルキル基を示し、nは1〜100の整数を示し、Qはベンゼン環又はチオフェン環を示し、当該ベンゼン環又はチオフェン環は1又は2の低級アルキル基で置換されていてもよい)
で表される含硫黄π−共役系化合物及びその製造方法である。 (もっと読む)


【課題】メモリ素子の状態が良好なクロスポイント構造の分子メモリ装置の製造方法を提供する。
【解決手段】実施形態に係る分子メモリ装置の製造方法は、第1方向に延びる複数本の第1配線を含む配線層を形成する工程と、前記配線層上に犠牲膜を形成する工程と、前記犠牲膜上に第2方向に延びる複数本の第1絶縁部材を形成する工程と、前記第1絶縁部材の側面上に前記第1配線とは異なる導電材料からなる第2配線を形成すると共に、前記犠牲膜における隣り合う前記第1絶縁部材間であって前記第2配線間の直下域に相当する部分を除去する工程と、隣り合う前記第1絶縁部材間であって前記第2配線間に複数本の第2絶縁部材を前記配線層に接するように形成する工程と、前記犠牲膜を除去することによりギャップを形成する工程と、前記ギャップ内に、前記第1配線及び前記第2配線のうちの一方に結合し他方には結合しない分子材料を形成する工程と、を備える。 (もっと読む)


【課題】良好な歩留りで製造可能なトランジスタ、表示装置および電子機器を提供する
【解決手段】ゲート電極と、絶縁層を間にして前記ゲート電極に対向する半導体層と、
前記半導体層に電気的に接続された一対のソース・ドレイン電極と、前記一対のソース・ドレイン電極それぞれと前記半導体層との間のキャリア移動経路に設けられ、その端面が前記ソース・ドレイン電極に覆われたコンタクト層と、を備えたトランジスタ。 (もっと読む)


【課題】メモリ保持特性に優れた有機分子メモリを提供する。
【解決手段】実施の形態の有機分子メモリは、第1の導電層と、第2の導電層と、第1の導電層と第2の導電層との間に設けられ、分子軸に沿ってπ電子系が拡がっている分子骨格を持つ分子系において、(I)分子の最高被占軌道(HOMO)と最低空軌道(LUMO)のうちいずれか一方が分子軸にそって非局在化し、他方が分子軸に対して局在化している、(II)分子の最高被占軌道(HOMO)エネルギー準位が−5.75eV以上の値を持つ、を同時に満たす分子群より選ばれる有機分子を含む有機分子層と、を備える。 (もっと読む)


【課題】長波長の光の吸光度が大きい化合物の提供。
【解決手段】式(1)で表される構成単位と式(2)で表される構成単位とを含む化合物。


(1)(2)〔式中、X、X及びXは、硫黄原子、酸素原子を表す。R、Rは、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基、アリールアルキルチオ基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、酸イミド基、置換アミノ基、置換シリル基、置換シリルオキシ基、置換シリルチオ基、置換シリルアミノ基、複素環基、複素環オキシ基、複素環チオ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基又はカルボキシル基を表す。〕 (もっと読む)


【課題】スティッキングが生じにくい半導体素子及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】一方の面1aに触媒層3が形成された基板1において、前記一方とは反対側から前記触媒層3の裏面3aに至る開口部1cを形成する工程と、前記開口部1cにおいて、前記触媒層3の裏面3aにグラフェン5を形成する工程と、前記触媒層3の少なくとも一部を除去する工程と、を有することを特徴とする半導体素子の製造方法。開口部1cの形成後、グラフェン5の形成前に、熱処理を行うことができる。グラフェン5を形成する前に、触媒層3の表面に保護層を形成することができる。 (もっと読む)


【課題】キャリア移動度と安定性が高く、有機半導体材料として好適な新規化合物を提供する。
【解決手段】
下記一般式(E)で表される化合物。
【化1】


(但し、R1'は、炭素数1〜3のフッ素置換アルキル基である。)

当該化合物はキャリア移動度と安定性が高く、容易な製造プロセスで成膜が可能であるため、有機半導体材料として好適である。特に有機薄膜トランジスタ用の有機半導体層として好適に使用することができる。 (もっと読む)


【課題】イオン化ポテンシャルが深く、開放端電圧(Voc)が大きい高分子化合物を提供する。
【解決手段】式(1)で表される繰り返し単位を有する単独重合体及び共重合体高分子化合物。


(1)〔式(1)中Ar、Arは、置換基を有してもよい炭素数6〜60のアリール基をあらわす。Ar、Arは、同一であっても、相異なっていてもよい。Xは炭素原子、珪素原子、またはゲルマニウム原子を表す。〕 (もっと読む)


【課題】長波長の光の吸光度が大きい高分子化合物を提供する。
【解決手段】式(A)で表される繰り返し単位と式(B)で表される繰り返し単位とを含
む高分子化合物を提供する。


〔式(A)及び式(B)中、Rは、同一又は相異なり、水素原子、フッ素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、ヘテロアリール基、式(2a)で表される基、又は(2b)で表される基を表す。これらの基に含まれる水素原子はフッ素原子で置換されていてもよい。Ar、Ar、Arは、置換基を有してもよい炭素数6〜60の4価の芳香族炭化水素基又は置換基を有してもよい炭素数4〜60の4価の複素環基を示す。〕 (もっと読む)


1 - 10 / 1,883