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国際特許分類[H05H15/00]の内容

電気 (1,674,590) | 他に分類されない電気技術 (122,472) | プラズマ技術 (5,423) | 荷電粒子の他に分類されない加速方法または装置 (23)

国際特許分類[H05H15/00]に分類される特許

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【解決手段】 レーザー加速イオンビームを設計する方法を開示している。当該方法は、重イオン層と、電場と、最大の軽い陽イオンエネルギーを有した高エネルギーの軽い陽イオンとを含むシステムをモデル化する工程と、前記重イオン層と、前記電場と、前記最大の軽い陽イオンエネルギーとの物理パラメータを、前記モデルを使って相関する工程と、前記高エネルギーの軽い陽イオンのエネルギー分布を最適化するため、前記重イオン層の前記パラメータを変化させる工程とを含む。一方法は、2次元PIC(particle in cell)シミュレーションおよび1次元解析モデルを使って、高出力レーザーパルスと2層構造の標的との相互作用から軽い陽イオン(例えば陽子)の加速を解析する工程を含む。加速された軽い陽イオン(陽子など)が獲得する最大エネルギーは、このモデルにおいて、前記重イオン層の物理特性―電子とイオンとの質量比およびイオンの実効荷電状態―に依存する。電子種および重イオン種の双方についての流体力学方程式の解と、陽子についてのテスト粒子近似値とが、適用される。前記重イオンの運動が長手方向の電場分布を修正し、軽い陽イオンに対する加速条件を変化させることがわかった。 (もっと読む)


高エネルギー粒子パルスの発生装置が提供される。この装置は、1018W/cm2より大きく、好ましくは1020W/cm2(ワット/平方センチメートル)より大きなピーク強度に集束されることができる、パルス幅が100fs(フェムト秒)より短いレーザーパルスを発生させるレーザーシステムと、前記少なくとも1パルスのレーザーパルスに付随する時間的強度プロファイルを、レーザーコントラストが105以上、好ましくは107以上、特に1010に高まるように整形する装置と、少なくとも1パルスの前記レーザーパルスが照射されると、高エネルギー粒子パルス、特に電子または陽子パルス、を放出することができるターゲットとを備える。この装置を用いた対応する方法も記載される。
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荷電粒子ビームシステムは、楕円形断面を有する非線対称ビーム8を生成する、非線対称ダイオード2を含む。集束用エレメントは磁場を用いて非線対称ビーム8を集束および移送し、非線対称ビーム8は集束用エレメントのチャネルにほぼマッチングしている。
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