エンボスロールの製造方法およびエンボスロール
【課題】ブラスト処理とエッチングの組み合わせによるエンボスロールの従来の形成方法では、ロール表面にムラやシミが発生して、一様な凹凸形状を作製することが困難であった。
【解決手段】ブラスト処理とエッチングを同時に行うウェットブラスト処理を行うことにより、ウェットブラスト処理からクロムめっきまでをウェットプロセスで完了できるため、乾燥によるシミやムラがエンボスロール表面に発生させることなく所望の凹凸形状をエンボスロール表面に形成することが可能となった。
【解決手段】ブラスト処理とエッチングを同時に行うウェットブラスト処理を行うことにより、ウェットブラスト処理からクロムめっきまでをウェットプロセスで完了できるため、乾燥によるシミやムラがエンボスロール表面に発生させることなく所望の凹凸形状をエンボスロール表面に形成することが可能となった。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、画像表示装置の視認性を向上させるための防眩性フィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＣＲＴや液晶表示パネルなどの表示装置の視認性を上げるために、表示パネルの表面に反射防止膜や反射防止フィルムを設置することが一般的に行われている。
【０００３】
照明用の蛍光灯などの外部からの光が表示装置のパネル表面で全反射すると、表示されている内容が視認しにくくなる。防眩性フィルムは、一般にフィルム表面に凹凸を形成することにより全反射を起こりにくくして表示装置の視認性低下を防いでいる。
【０００４】
防眩性フィルムの表面の凹凸の形成には、基材フィルム上にフィラー入りの透明樹脂をコーティングする方法や、コーティング樹脂の表面をエンボスロールやエンボス板で加工する方法がある。
【０００５】
エンボスロールやエンボス板を用いて防眩性フィルム表面の凹凸を形成する場合には、まずエンボスロールやエンボス板の表面に凹凸を形成する必要がある。
【０００６】
このエンボスロールやエンボス板の表面に凹凸を形成する方法としては、彫刻、電鋳、サンドブラスト処理、放電加工処理、エッチング処理などが従来から知られている。しかしながら、必要面積の全域にわたって、ムラなく均一な凹凸形状を形成することは極めて難しいという問題があった。
【０００７】
また従来技術としては図４に示すように、ベースロール９上に銅めっき層１０を形成し（図４（ａ）〜（ｂ））、ブラスト処理（図４（ｃ））後にエッチング処理（図４（ｄ））を行う（例えば、特許文献１参照）ものや、ブラスト処理後にピーニング処理を行う（例えば、特許文献２参照）ものなどがあるが、製造工程が増えコストが高くつくという問題もあった。
【０００８】
【特許文献１】特開２０００−２８４１０６号公報
【特許文献２】特開２００４−９０１８７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、上記のような問題を解決するためになされたものであり、防眩性フィルムなどの光学機能を有する部材の製造に使われるエンボスロールの表面に、従来技術よりも少ない工程数でムラなく均一な凹凸形状を形成できる方法、およびエンボスロールを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するために、請求項１に記載の発明は、表面に微細な凹凸を形成したエンボスロールの製造方法において、
（ａ）エンボスロールの芯となるベースロール表面に銅めっき層を形成する工程。
（ｂ）前記銅めっき層の表面を鏡面研磨する工程。
（ｃ）前記鏡面研磨を施した銅めっき層へ、エッチング液と砥粒を含んだウェットブラスト処理を行うことによって、銅めっき層の表面に凹凸を形成する工程。
（ｄ）凹凸が形成された銅めっき層の表面にクロムめっきを施す工程。
を備えていることを特徴とするエンボスロールの製造方法としたものである。
【００１１】
また請求項２に記載の発明は、前記ウェットブラスト処理により前記銅めっき層の表面に形成される凹凸の深さが、１〜２０μｍであることを特徴とする、請求項１記載のエンボスロールの製造方法としたものである。
【００１２】
また請求項３に記載の発明は、表面に微細な凹凸を形成したエンボスロールであって、
（ａ）エンボスロールの芯となるベースロール表面に銅めっき層を形成する工程。
（ｂ）前記銅めっき層の表面を鏡面研磨する工程。
（ｃ）前記鏡面研磨を施した銅めっき層へ、エッチング液と砥粒を含んだウェットブラスト処理を行うことによって、銅めっき層の表面に凹凸を形成する工程。
（ｄ）凹凸が形成された銅めっき層の表面にクロムめっきを施す工程。
を備えているエンボスロールの製造方法で、製造されることを特徴とするエンボスロールとしたものである。
【００１３】
また請求項４に記載の発明は、前記ウェットブラスト処理により前記銅めっき層の表面に形成される凹凸の深さが、１〜２０μｍであることを特徴とする、請求項３記載のエンボスロールとしたものである。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、ウェットブラスト処理からクロムめっきまで、ウェットプロセスで工程を完了できるため、乾燥によるシミやムラがエンボスロール表面に発生することがないという利点がある。
【００１５】
また、エッチング液と砥粒を含んだウェットブラスト処理によるエッチング量を、１〜２０μｍで制御することで、防眩性フィルムの特性を制御することが可能となり、防眩性フィルムの用途別にエンボスロールの表面凹凸形状を変化させることが可能となった。
【００１６】
また本発明では、ブラスト加工とエッチング処理を同時に実施するため、工程を短くすることができ、エッチング量とブラスト量ともに同時に制御できるため、安定したエンボスロールの形成が可能になった。
【００１７】
本発明によれば、ウェットブラスト処理とエッチング処理を同時に実施してエンボスロール表面の凹凸形状を制御することで、所望の凹凸形状を形成することが可能となった。これにより、防眩性という光学特性を安定して得ることのできるエンボスロールを形成することが可能となった。
【００１８】
また、ブラスト工程とエッチング工程を同時に実施するため、工程を簡略化でき、さらにコストの低減につながった。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、図面を使って、本発明の一実施形態を説明する。
図１は、本発明のエンボスロールの形成方法を示した模式図である。
【００２０】
本発明によるエンボスロールの形成方法は、ベースロール９表面に従来通り電解銅めっき１０を４０μｍ程度行い、次いで銅表面が鏡面になるまで研磨を実施する。研磨後、銅表面に溶剤などが残らないようにエタノールなどで溶剤洗浄を十分行う。
【００２１】
洗浄後に図１（ｂ）のようにロールを回転させながら、ウェットブラストノズル１１により砥粒を含んだエッチング液を吹き付け、エッチングとブラスト加工を同時に実施するウェットブラスト処理を行う。
【００２２】
このウェットブラスト処理により銅めっき層表面に形成される凹凸形状の深さが、１〜２０μｍの範囲になるように、ウェットブラスト圧力、砥粒サイズ、エッチング液の特性などの調整を行う。
【００２３】
ウェットブラスト処理により、ブラスト加工とエッチングを同時に行うと、図３のように、ブラスト加工で金属を変形させた部分にエッチング液が積極的に入るため、通常のエッチングとは異なり、等方的ではないランダムな凹凸形状が得られるだけでなく、深度の深い加工が可能となる。
【００２４】
エッチング液は、銅を溶解するものであれば使用することができるが、装置の耐久性などに合わせて選定することが望ましい。
【００２５】
ウェットブラスト後に十分洗浄を実施し、希硫酸による酸洗浄後に電解クロムめっきを施すと、本発明のエンボスロールを形成することができる。クロムめっき層１３の厚みは、１〜８μｍ程度が適当である。クロムめっき層１３の厚みによってもエンボスロールの凹凸が変化するため、エッチング量とめっき厚とのバランスをとる必要がある。
【実施例】
【００２６】
図４を用いて、本発明の実施例を説明する。
鉄製のベースロール９上に電解銅めっきによって銅めっき１０を５０μｍ厚で形成する。（図４（ｂ）参照）
【００２７】
形成した銅めっきを＃３００、＃１０００、＃２０００の砥石で順番に研磨し、最後にバフ研磨することで銅表面を鏡面上に仕上げる。研磨後に銅表面に汚れが無いように水洗浄し、さらにエタノールによって溶剤洗浄を実施する。洗浄効果を上げるため、超音波洗浄をあわせて行うことが望ましい。
【００２８】
洗浄後、ロールを十分乾燥し、図４（ｃ）のようにエッチング液と砥粒を含んだ、ウェットブラストによってロール表面に凹凸を形成する。ウェットブラストの液には、過硫酸アンモニウム溶液（２００ｇ／リットル）を使用する。
【００２９】
ウェットブラストの砥粒には、光学特性を考えて円形のシリカを使用した。砥粒の粗さは、＃６００を用いている。
【００３０】
ウェットブラストの条件は、エア圧０．３ＭＰａ、ポンプ圧力０．３ＭＰａでエッチング液、空気、砥粒をロールに吹き付けて加工する。エッチング量は、１０μｍ程度のエッチング量を狙い、１０分間ロールを回転させながらウェットブラストを行った。
【００３１】
凹凸加工を行った後、水洗を行い、図４（ｄ）のように電解クロムめっきを４μｍの厚みで凹凸表面にめっきを行った。
【００３２】
以上の工程で、本発明の防眩性フィルム用のエンボスロールを形成することができる。
光学特性を確認したところ、従来よりもムラや欠陥が少ないエンボスロールを提供することが可能となった。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】本発明の実施形態を示す模式図である。
【図２】本発明の実施形態を示す模式図である。
【図３】本発明のウェットブラストを示す模式図である。
【図４】従来技術を示す模式図である。
【符号の説明】
【００３４】
９・・・ベースロール
１０・・・銅めっき層
１０ａ・・・ブラスト加工された銅めっき層
１０ｂ・・・エッチング加工された銅めっき層
１０ｃ・・・ウェットブラスト加工された銅層
１１・・・ウェットブラストノズル
１２・・・エッチング液と砥粒を含むウェットブラスト処理液
１３・・・クロムめっき層
１４・・・ウェットブラスト砥粒
１５・・・エッチング液＋圧縮エア
【技術分野】
【０００１】
本発明は、画像表示装置の視認性を向上させるための防眩性フィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＣＲＴや液晶表示パネルなどの表示装置の視認性を上げるために、表示パネルの表面に反射防止膜や反射防止フィルムを設置することが一般的に行われている。
【０００３】
照明用の蛍光灯などの外部からの光が表示装置のパネル表面で全反射すると、表示されている内容が視認しにくくなる。防眩性フィルムは、一般にフィルム表面に凹凸を形成することにより全反射を起こりにくくして表示装置の視認性低下を防いでいる。
【０００４】
防眩性フィルムの表面の凹凸の形成には、基材フィルム上にフィラー入りの透明樹脂をコーティングする方法や、コーティング樹脂の表面をエンボスロールやエンボス板で加工する方法がある。
【０００５】
エンボスロールやエンボス板を用いて防眩性フィルム表面の凹凸を形成する場合には、まずエンボスロールやエンボス板の表面に凹凸を形成する必要がある。
【０００６】
このエンボスロールやエンボス板の表面に凹凸を形成する方法としては、彫刻、電鋳、サンドブラスト処理、放電加工処理、エッチング処理などが従来から知られている。しかしながら、必要面積の全域にわたって、ムラなく均一な凹凸形状を形成することは極めて難しいという問題があった。
【０００７】
また従来技術としては図４に示すように、ベースロール９上に銅めっき層１０を形成し（図４（ａ）〜（ｂ））、ブラスト処理（図４（ｃ））後にエッチング処理（図４（ｄ））を行う（例えば、特許文献１参照）ものや、ブラスト処理後にピーニング処理を行う（例えば、特許文献２参照）ものなどがあるが、製造工程が増えコストが高くつくという問題もあった。
【０００８】
【特許文献１】特開２０００−２８４１０６号公報
【特許文献２】特開２００４−９０１８７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、上記のような問題を解決するためになされたものであり、防眩性フィルムなどの光学機能を有する部材の製造に使われるエンボスロールの表面に、従来技術よりも少ない工程数でムラなく均一な凹凸形状を形成できる方法、およびエンボスロールを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するために、請求項１に記載の発明は、表面に微細な凹凸を形成したエンボスロールの製造方法において、
（ａ）エンボスロールの芯となるベースロール表面に銅めっき層を形成する工程。
（ｂ）前記銅めっき層の表面を鏡面研磨する工程。
（ｃ）前記鏡面研磨を施した銅めっき層へ、エッチング液と砥粒を含んだウェットブラスト処理を行うことによって、銅めっき層の表面に凹凸を形成する工程。
（ｄ）凹凸が形成された銅めっき層の表面にクロムめっきを施す工程。
を備えていることを特徴とするエンボスロールの製造方法としたものである。
【００１１】
また請求項２に記載の発明は、前記ウェットブラスト処理により前記銅めっき層の表面に形成される凹凸の深さが、１〜２０μｍであることを特徴とする、請求項１記載のエンボスロールの製造方法としたものである。
【００１２】
また請求項３に記載の発明は、表面に微細な凹凸を形成したエンボスロールであって、
（ａ）エンボスロールの芯となるベースロール表面に銅めっき層を形成する工程。
（ｂ）前記銅めっき層の表面を鏡面研磨する工程。
（ｃ）前記鏡面研磨を施した銅めっき層へ、エッチング液と砥粒を含んだウェットブラスト処理を行うことによって、銅めっき層の表面に凹凸を形成する工程。
（ｄ）凹凸が形成された銅めっき層の表面にクロムめっきを施す工程。
を備えているエンボスロールの製造方法で、製造されることを特徴とするエンボスロールとしたものである。
【００１３】
また請求項４に記載の発明は、前記ウェットブラスト処理により前記銅めっき層の表面に形成される凹凸の深さが、１〜２０μｍであることを特徴とする、請求項３記載のエンボスロールとしたものである。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、ウェットブラスト処理からクロムめっきまで、ウェットプロセスで工程を完了できるため、乾燥によるシミやムラがエンボスロール表面に発生することがないという利点がある。
【００１５】
また、エッチング液と砥粒を含んだウェットブラスト処理によるエッチング量を、１〜２０μｍで制御することで、防眩性フィルムの特性を制御することが可能となり、防眩性フィルムの用途別にエンボスロールの表面凹凸形状を変化させることが可能となった。
【００１６】
また本発明では、ブラスト加工とエッチング処理を同時に実施するため、工程を短くすることができ、エッチング量とブラスト量ともに同時に制御できるため、安定したエンボスロールの形成が可能になった。
【００１７】
本発明によれば、ウェットブラスト処理とエッチング処理を同時に実施してエンボスロール表面の凹凸形状を制御することで、所望の凹凸形状を形成することが可能となった。これにより、防眩性という光学特性を安定して得ることのできるエンボスロールを形成することが可能となった。
【００１８】
また、ブラスト工程とエッチング工程を同時に実施するため、工程を簡略化でき、さらにコストの低減につながった。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、図面を使って、本発明の一実施形態を説明する。
図１は、本発明のエンボスロールの形成方法を示した模式図である。
【００２０】
本発明によるエンボスロールの形成方法は、ベースロール９表面に従来通り電解銅めっき１０を４０μｍ程度行い、次いで銅表面が鏡面になるまで研磨を実施する。研磨後、銅表面に溶剤などが残らないようにエタノールなどで溶剤洗浄を十分行う。
【００２１】
洗浄後に図１（ｂ）のようにロールを回転させながら、ウェットブラストノズル１１により砥粒を含んだエッチング液を吹き付け、エッチングとブラスト加工を同時に実施するウェットブラスト処理を行う。
【００２２】
このウェットブラスト処理により銅めっき層表面に形成される凹凸形状の深さが、１〜２０μｍの範囲になるように、ウェットブラスト圧力、砥粒サイズ、エッチング液の特性などの調整を行う。
【００２３】
ウェットブラスト処理により、ブラスト加工とエッチングを同時に行うと、図３のように、ブラスト加工で金属を変形させた部分にエッチング液が積極的に入るため、通常のエッチングとは異なり、等方的ではないランダムな凹凸形状が得られるだけでなく、深度の深い加工が可能となる。
【００２４】
エッチング液は、銅を溶解するものであれば使用することができるが、装置の耐久性などに合わせて選定することが望ましい。
【００２５】
ウェットブラスト後に十分洗浄を実施し、希硫酸による酸洗浄後に電解クロムめっきを施すと、本発明のエンボスロールを形成することができる。クロムめっき層１３の厚みは、１〜８μｍ程度が適当である。クロムめっき層１３の厚みによってもエンボスロールの凹凸が変化するため、エッチング量とめっき厚とのバランスをとる必要がある。
【実施例】
【００２６】
図４を用いて、本発明の実施例を説明する。
鉄製のベースロール９上に電解銅めっきによって銅めっき１０を５０μｍ厚で形成する。（図４（ｂ）参照）
【００２７】
形成した銅めっきを＃３００、＃１０００、＃２０００の砥石で順番に研磨し、最後にバフ研磨することで銅表面を鏡面上に仕上げる。研磨後に銅表面に汚れが無いように水洗浄し、さらにエタノールによって溶剤洗浄を実施する。洗浄効果を上げるため、超音波洗浄をあわせて行うことが望ましい。
【００２８】
洗浄後、ロールを十分乾燥し、図４（ｃ）のようにエッチング液と砥粒を含んだ、ウェットブラストによってロール表面に凹凸を形成する。ウェットブラストの液には、過硫酸アンモニウム溶液（２００ｇ／リットル）を使用する。
【００２９】
ウェットブラストの砥粒には、光学特性を考えて円形のシリカを使用した。砥粒の粗さは、＃６００を用いている。
【００３０】
ウェットブラストの条件は、エア圧０．３ＭＰａ、ポンプ圧力０．３ＭＰａでエッチング液、空気、砥粒をロールに吹き付けて加工する。エッチング量は、１０μｍ程度のエッチング量を狙い、１０分間ロールを回転させながらウェットブラストを行った。
【００３１】
凹凸加工を行った後、水洗を行い、図４（ｄ）のように電解クロムめっきを４μｍの厚みで凹凸表面にめっきを行った。
【００３２】
以上の工程で、本発明の防眩性フィルム用のエンボスロールを形成することができる。
光学特性を確認したところ、従来よりもムラや欠陥が少ないエンボスロールを提供することが可能となった。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】本発明の実施形態を示す模式図である。
【図２】本発明の実施形態を示す模式図である。
【図３】本発明のウェットブラストを示す模式図である。
【図４】従来技術を示す模式図である。
【符号の説明】
【００３４】
９・・・ベースロール
１０・・・銅めっき層
１０ａ・・・ブラスト加工された銅めっき層
１０ｂ・・・エッチング加工された銅めっき層
１０ｃ・・・ウェットブラスト加工された銅層
１１・・・ウェットブラストノズル
１２・・・エッチング液と砥粒を含むウェットブラスト処理液
１３・・・クロムめっき層
１４・・・ウェットブラスト砥粒
１５・・・エッチング液＋圧縮エア
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面に微細な凹凸を形成したエンボスロールの製造方法において、
（ａ）エンボスロールの芯となるベースロール表面に銅めっき層を形成する工程。
（ｂ）前記銅めっき層の表面を鏡面研磨する工程。
（ｃ）前記鏡面研磨を施した銅めっき層へ、エッチング液と砥粒を含んだウェットブラスト処理を行うことによって、銅めっき層の表面に凹凸を形成する工程。
（ｄ）凹凸が形成された銅めっき層の表面にクロムめっきを施す工程。
を備えていることを特徴とするエンボスロールの製造方法。
【請求項２】
前記ウェットブラスト処理により前記銅めっき層の表面に形成される凹凸の深さが、１〜２０μｍであることを特徴とする、請求項１記載のエンボスロールの製造方法。
【請求項３】
表面に微細な凹凸を形成したエンボスロールであって、
（ａ）エンボスロールの芯となるベースロール表面に銅めっき層を形成する工程。
（ｂ）前記銅めっき層の表面を鏡面研磨する工程。
（ｃ）前記鏡面研磨を施した銅めっき層へ、エッチング液と砥粒を含んだウェットブラスト処理を行うことによって、銅めっき層の表面に凹凸を形成する工程。
（ｄ）凹凸が形成された銅めっき層の表面にクロムめっきを施す工程。
を備えているエンボスロールの製造方法により製造されることを特徴とするエンボスロール。
【請求項４】
前記ウェットブラスト処理により前記銅めっき層の表面に形成される凹凸の深さが、１〜２０μｍであることを特徴とする、請求項３記載のエンボスロール。
【請求項１】
表面に微細な凹凸を形成したエンボスロールの製造方法において、
（ａ）エンボスロールの芯となるベースロール表面に銅めっき層を形成する工程。
（ｂ）前記銅めっき層の表面を鏡面研磨する工程。
（ｃ）前記鏡面研磨を施した銅めっき層へ、エッチング液と砥粒を含んだウェットブラスト処理を行うことによって、銅めっき層の表面に凹凸を形成する工程。
（ｄ）凹凸が形成された銅めっき層の表面にクロムめっきを施す工程。
を備えていることを特徴とするエンボスロールの製造方法。
【請求項２】
前記ウェットブラスト処理により前記銅めっき層の表面に形成される凹凸の深さが、１〜２０μｍであることを特徴とする、請求項１記載のエンボスロールの製造方法。
【請求項３】
表面に微細な凹凸を形成したエンボスロールであって、
（ａ）エンボスロールの芯となるベースロール表面に銅めっき層を形成する工程。
（ｂ）前記銅めっき層の表面を鏡面研磨する工程。
（ｃ）前記鏡面研磨を施した銅めっき層へ、エッチング液と砥粒を含んだウェットブラスト処理を行うことによって、銅めっき層の表面に凹凸を形成する工程。
（ｄ）凹凸が形成された銅めっき層の表面にクロムめっきを施す工程。
を備えているエンボスロールの製造方法により製造されることを特徴とするエンボスロール。
【請求項４】
前記ウェットブラスト処理により前記銅めっき層の表面に形成される凹凸の深さが、１〜２０μｍであることを特徴とする、請求項３記載のエンボスロール。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図２】
【図３】
【図４】
【公開番号】特開２００８−２２１５６２（Ｐ２００８−２２１５６２Ａ）
【公開日】平成２０年９月２５日（２００８．９．２５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−６１５６６（Ｐ２００７−６１５６６）
【出願日】平成１９年３月１２日（２００７．３．１２）
【出願人】（０００００３１９３）凸版印刷株式会社 (10,630)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年９月２５日（２００８．９．２５）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年３月１２日（２００７．３．１２）
【出願人】（０００００３１９３）凸版印刷株式会社 (10,630)
【Ｆターム（参考）】
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