【課題】液晶ディスプレイ用ガラス基板等の被研磨物について初期から加工数を重ねていっても研磨後の被研磨物の品質に影響を与える表面形状を変化させることなく、これにより一定の研磨品質を維持することができ、さらに、被研磨物の品質に影響のある保持面の表面平坦性が向上し、大型で極薄の被研磨物であっても研磨中にはこれを堅固に保持することができ、かつ、研磨後は安全かつ容易に剥がすこともできる片面研磨用保持材の製造方法を提供する。
【解決手段】発泡層と緻密な発泡による表面部分を有する樹脂シートを湿式成膜法により製造する工程と、表面に凸部を有する加熱可能なディンプルロールに樹脂シートを供給して樹脂シートの緻密な発泡による表面部分を圧接させることにより、樹脂シートを構成する材料の流動開始温度以上で熱成形加工する工程とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】光学部材の凹凸形状をより簡易に決定するための光学部材の製造方法を提供すること。
【解決手段】転写型５３の形状を異なる転写率（ｈ３／ｈ１）で転写することにより、互いに異なる凹凸形状を有する複数の光学部材試作品３０を成形するステップと、複数の光学部材試作品３０それぞれの光学特性を評価するステップと、光学特性に基づいて光学部材の凹凸形状を決定するステップと、光学部材試作品３０を成形する際に使用される転写型５３の形状を、決定された凹凸形状に対応する転写率で転写することにより、光学部材を成形するステップと、を含む、光学部材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】光学シートを形成するロール金型を製造するに際し、溝の切削開始部と溝の切削終了部とで、溝形状が変化してしまうことを抑制できるロール金型の製造方法を提供する。
【解決手段】凹凸形状を有する光学シート１０の凹凸部分を成型するための環状突起２２と溝２３とを交互に有するロール金型２０を製造する方法であって、表面に被加工層が形成されたロール基体２１を回転させ、切削工具３０により光学シートの凸部１３に対応する溝を被加工層に形成する切削工程を含み、該切削工程は、溝が完成後の開口部形状を有するように溝の開口部側の一部を切削する第１切削工程と、該第１切削工程によって開口部側の一部が切削された溝であって、該溝の両側の溝に対しても第１切削工程が行われているについて、目的の深さまで切削する、第２切削工程とを含んでいることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、ベース膜厚のバラツキを低減できるスタンパ又はインプリント装置、精度のよい微細パターンを有する処理製品、精度のよい微細パターンを形成できる処理製品製造装置又は処理製品製造方法を提供することにある。
【解決手段】
本発明は、スタンパ又は前記スタンパを用いてインプリントするインプリント装置、前記インプリントによって処理製品を製造する処理製品製造装置又は処理製品製造方法、及び製造された処理製品において、前記スタンパは前記処理製品基材から形成される処理製品の機能を果たすのに必要のないダミーパターンを有する。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、ベース膜厚のバラツキを低減できるスタンパ又はインプリント装置、精度のよい微細パターンを形成できる処理製品製造装置又は処理製品製造方法を提供することにある。
【解決手段】
本発明は、スタンパ又は前記スタンパを用いてインプリントするインプリント装置又は前記インプリントによって処理製品を製造する処理製品製造装置又は処理製品製造方法において、前記スタンパは前記処理製品として機能を果たす正規パターンが必要とする深さ以上のダミー部分の深さを備えるダミーパターンを有する。 （もっと読む）

【課題】転写用の凹凸面の面積が大きい場合であっても、つなぎ目を設けることなくナノインプリント用モールドを容易に製造可能な方法を提供すること。
【解決手段】本発明に係るナノインプリント用モールドの製造方法は、液晶物質を含有する膜を形成する工程と、液晶物質をらせん構造が形成されるように配向させ、該液晶物質の配向を固定することにより、上記膜の表面にレリーフ構造を形成させて、凹凸面を有する膜を得る工程と、膜の凹凸面上に金属成形品を形成して、レリーフ構造からの転写により形成された凹凸面を有する金属成形品をナノインプリント用モールドとして得る工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】微細構造形成用型および光学素子の製造方法において、被加工体の表面形状が変化しても、被加工体の表面に反射防止構造を容易かつ迅速に形成することができるようにする。
【解決手段】曲率を有する凹レンズ面１ａを備えるレンズ本体１の凹レンズ面１ａに凹凸形状の反射防止部を形成する微細構造形成用型５であって、反射防止部を転写する成形面部５ａと、成形面部５ａを湾曲可能に支持する基体部５と、基体部５を変形することにより成形面部５ａを湾曲させる空洞部６、環状空洞部７、および流体供給部８と、を備える表面加工装置１０を用いて、反射防止部を形成する。 （もっと読む）

【課題】射出成形により微細構造パターンが表面に転写された成形品であって、微細凹凸の転写性に優れ、また寸法精度に優れた精密成形体を提供する。
【解決手段】下記（ｉ）〜（ｉｖ）を満たすプロピレン系樹脂を溶融して押出し、押出された樹脂を、表面に微細凹凸構造パターンを有する連続冷却装置を用いて固化させることにより微細凹凸構造パターンが表面に転写された成形体であって、前記微細凹凸構造パターンは、幅が０．０１〜１００μｍの範囲にあり、高さ又は深さが０．１〜５００μｍの範囲にある凸部及び／又は凹部から構成されていることを特徴とするプロピレン系樹脂成形体。
（ｉ）プロピレンと０．８〜１０重量％のエチレンとの共重合体である。
（ｉｉ）示差走査熱量測定（ＤＳＣ）による結晶化開始温度が１１１℃以下。
（ｉｉｉ）ＭＦＲが０．１〜３０ｇ／１０分。
（ｉｖ）曲げ弾性率が１１００ＭＰａ以下。 （もっと読む）

【課題】絶縁性基板の生産性を向上させることが可能な絶縁性基板の製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁性基板の製造方法は、凹状パターン２１ａを有する絶縁性基板２１の製造方法であり、相互に接近又は離反可能なステージ４１,４３と、ステージ４１に取り付けられ、凸状パターン４２１を有するインプリントモールド４２と、ステージ４３に取り付けられたガイドピン４３１と、を準備する工程と、絶縁性基板２１に形成された貫通孔２１ｂにガイドピン４３１を挿入する工程と、ステージ４１,４３を相互に接近させて、インプリントモールド４２に形成されたガイド穴４２２に、ガイドピン４３１を挿入する工程と、インプリントモールド４２とステージ４３との間に絶縁性基板２１を挟み込んで、絶縁性基板２１に凹状パターン２１ａを形成すると共に、ガイドピン４３１の先端をガイド穴４２２の底面に当接させる工程と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】パスローラにおいてスリップしてポリマーフィルムにスリキズが発生してしまうのを防止することができるナーリングがフィルム幅両端に形成されたポリマーフィルムを提供する。
【解決手段】ナーリング４１がフィルム幅両端に形成されたポリマーフィルム１１であって、ナーリング４１には凸部４２が形成されており、該凸部の先端曲率半径が１μｍ以上３μｍ以下であるようにする。 （もっと読む）

【課題】貫通孔を高精度に形成することが可能なインプリントモールドを提供する。
【解決手段】インプリントモールド１０は、例えば、シリコン（Ｓｉ）から構成される熱インプリント用の金型である。支持部１１と、支持部１１から突出し、バイアホールに対応する突起部１２と、突起部１２の先端面１４１に形成された親油性膜１６と、この先端面１４１を除く全ての表面に離型膜１７を備えている。この親油性膜１６は、例えば、ヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ，C6H19NSi2）、又はオクタデシルトリクロロシラン（ＯＴＳ，SiCl3C18H37）等から構成されている。一方、離型膜１７としては、例えば、フッ素系単分子膜等を例示することができる。 （もっと読む）

【課題】微小な凹凸部を有する成形品の成形方法であって、多数個の成形品を安価で安全に成形する。
【解決手段】微小な凹凸部を有する成形品の成形方法であって、（ｉ）樹脂を２００℃以上３５０℃以下の温度範囲まで加熱し溶融する工程、（ｉｉ）溶融樹脂を、１００℃以上２５０℃以下に保たれた下金型の上に塗布する工程、（ｉｉｉ）塗布した溶融樹脂を上金型と下金型との間に挟持し、０．１ＭＰａ以上３０ＭＰａ以下で加圧し、５秒〜２００秒間保持して成形する工程、および（ｉｖ）４０℃以上２００℃以下の温度範囲まで降温して金型より成形品を取り出す工程を含み、上金型と下金型のどちらか一方の金型は任意の形状を多数個成形するための金型であって、該多数個成形するための金型は、それぞれ独立した多数個のスタンパーを組み合わせたものであり、各スタンパー間の隙間の最大値が０．１μｍ以上５０μｍ以下であることを特徴とする成形品の成形方法。 （もっと読む）

【課題】シリコーン系樹脂を使用しなくても成形精度に優れ、硬度が高く、良好な外観を有する成形体を製造する際に好適に使用することができる成形材料、前記成形材料から形成された樹脂フィルム、ならびに原料として前記成形材料が用いられた成形体およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】成形体を製造する際に原料として用いられる成形材料であって、（メタ）アクリル系樹脂エマルション、多官能（メタ）アクリル酸エステルおよび重合開始剤を含有することを特徴とする成形材料、前記成形材料から形成された樹脂フィルム、ならびに基材上に成形材料層が形成されてなる成形体であって、前記成形材料層が前記成形材料から形成された成形体およびその製造方法。 （もっと読む）

【課題】 有機ＥＬ用の回折基板のような光学部品をナノインプリントで製造するのに好適な転写ヘッドを提供する。
【解決手段】 転写ヘッド１０は、光硬化性樹脂を硬化させるための光を照射する光源１２と、光透過性の基部１４と、基部１４の光出射面に取り付けられ、遮光部１６ｃにより区画された開口１６ｂを有するマスク板１６と、微細パターンＭＰを有し、前記開口１６ｂを透過した光を透過するモールド１８とを備える。マスク板１６の開口１６ｂが微細パターンＭＰよりも小さい。 （もっと読む）

【課題】簡単にかつ短時間に残留物を押圧ロールから除去できる洗浄方法を提供すること。
【解決手段】押圧することで樹脂シート３０を成形するための押圧ロール１４Ｃの洗浄方法であって、押圧ロール１４Ｃの表面に、ドライアイス４２、又は、気体状態、液体状態若しくは固体状態の水を衝突させる工程を有する、洗浄方法を提供する。押圧ロール１４Ｃの表面にドライアイス４２等を衝突させることで、残留物５０へ物理的衝撃が加わる。この衝撃によって、残留物５０が押圧ロール１４Ｃの表面から剥離するため、短時間で簡単に押圧ロール１４Ｃの洗浄ができる。 （もっと読む）

【課題】モールドにおける剥離層の形成やモールド表面のメンテナンスが不要であるインプリント用モールド及びその製造方法並びに樹脂成形品またはガラス成形品の製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】表面に凹部２と凸部３とを有するインプリント用モールド１であって、凸部３または凹部２の側面５には凸部３の頂面４側から凹部２の底面６側へ向けて溝７が設けられているインプリント用モールド１とする。また、インプリント用モールド１の製造方法については、乾式エッチング方法、湿式エッチング方法、乾式エッチング方法と湿式エッチング方法とを併用する混合エッチング方法のいずれか一の方法によりインプリント用モールド１母材をエッチングする第１の工程と、第１の工程の後にガスクラスターイオンビームをインプリント用モールド１母材へ照射する第２の工程と、を含むインプリント用モールド１の製造方法とする。 （もっと読む）

【課題】靱性に優れると共に、耐傷性の高い樹脂硬化物を提供すること。
【解決手段】本発明の樹脂硬化物（１）は、表面に微細凹凸構造（１０）が成型された樹脂硬化物（１）であって、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート及びウレタンジ（メタ）アクリレートの硬化物を含み、表面弾性率が０．０１ＧＰａ以上２ＧＰａ以下、且つ、表面硬度が０．０１ＧＰａ以上０．２ＧＰａ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】柔軟性に優れ、曲げても小皺や折れが生じ難いポリスチレン系樹脂発泡シート製の周側枠材の提供。
【解決手段】容器の底板形状に沿わせて折曲形成できる長矩形をなすポリスチレン系樹脂発泡シート製の容器用周側枠材であって、表裏いずれか一方又は両方の面に、長手方向と直交する幅方向に沿って、多数のエンボス溝が設けられたことを特徴とする容器用周側枠材。 （もっと読む）

【課題】表面に付着した指紋等の汚れが目立ちにくく、かつ、付着した指紋が布等による乾拭きで拭き取りやすい基材であり、拭き取り部分に再度指紋成分が付着した場合であっても、該指紋成分が目立ちにくい基材、すなわち、優れた耐指紋汚染性を有する基材を提供する。
【解決手段】光透過性、光反射性、または光沢性を有する基材１の平滑な面２の指が接触する箇所に、該平滑な面２に付着した指紋成分を毛細管力で集める凹型の穴３を有し、該穴３の正面視での投影面積の二乗根の寸法が１０〜３００μｍであり、該穴３の平均深さが０．２〜５０μｍであり、該穴３の分布頻度が面積比で１０〜８５％であることを特徴とする、耐指紋汚染性基材１。 （もっと読む）