カソード防食を含む極低温タンク試験方法
使用前に極低温金属タンクを試験するための方法。タンク（１）が水で満たされ、必要な場合には、適当な測定が行われる。金属極低温タンク（１）に海水を満たし、ほぼ露出した鋼鉄からできているタンク（１）の底部と側部の金属壁部（２，３）に、アノードが海水に浸漬した場合に、タンク（１）内に配置されているアノードに電流を注入することにより一時的なカソード防食を行う。
都合のよいことに、第１のアノード・アレイ（５１）は、支持手段（５２）によりタンクの底部のすぐそばに設置されている。支持手段（５２）と第１のアノード（５１）は取り外すことができることが好ましい。第１のアノード（５１）は、タンクの底部の表面の中心を中心とする同心円（Ｃ１）の周囲に配置することが好ましい。円（Ｃ１）の直径は、タンクの底部（２）の４０％乃至７５％であることが好ましい。
都合のよいことに、第１のアノード・アレイ（５１）は、支持手段（５２）によりタンクの底部のすぐそばに設置されている。支持手段（５２）と第１のアノード（５１）は取り外すことができることが好ましい。第１のアノード（５１）は、タンクの底部の表面の中心を中心とする同心円（Ｃ１）の周囲に配置することが好ましい。円（Ｃ１）の直径は、タンクの底部（２）の４０％乃至７５％であることが好ましい。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液化ガス用の極低温貯蔵タンクに関する。
より詳細には、本発明は使用する前の極低温タンクの漏洩および機械的強度の試験方法に関する。さらにより詳細には、本発明は金属極低温タンクにカソード防食を行う方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液化ガス用の極低温タンクは、通常、淡水を満たすことにより、使用前に強度および漏洩についての試験が行われる。好適には、存在するかもしれないすべての漏洩をより明確に示すために、タンク内の圧力が常圧以上になるようにタンクを満たすことが好ましい。
【０００３】
同時に、この方法で水を満たすと、最も高いレベルの応力が作用するタンクの部分、すなわち、タンクの底の部分の機械的な強度も試験することができる。この場合、液化ガスの比重（−１７０℃での液体メタンの比重ｄ＝０．４８）より大きい水の比重により、動作中、液化ガスで満たした場合の動作中のタンク内の最大圧力の２倍の圧力を加えることができるからである。さらに、陸上に設置されたタンクの場合には、この試験により、同時にタンクが位置する基礎の機械的強度も試験することができる。このタンクには、次に、通常の動作中に受ける負荷の２倍の負荷がかかるからである。
【０００４】
極低温タンクは、特殊鋼で作られる。より詳細に説明すると、ＡＳＴＭ規格Ａ−３５３またはＡ−３５３−Ｔｙｐｅ１に対応し、また、下記の化学的組成に対応する「９％ニッケル鋼」と呼ばれる鋼鉄から作られる。
【０００５】
・炭素（最大）： ０．１３％
・マンガン（最大）： ０．９０％
・リン（最大）： ０．０３５％
・硫黄（最大）： ０．０３５％
・シリコン（最大）： ０．１５乃至０．４０％
・ニッケル（最大）： ８．５０乃至９．５０％
・残り：鉄
このタイプの鋼鉄が、極低温タンク内で使用される。何故なら、このタイプの鋼鉄は、極低温用途に有利な特性を有し、特に、極低温において優れた機械的強度と優れた粘り強さを有するからである。しかし、このタイプの鋼鉄は、水が存在すると腐食に非常に弱く、特に、水のｐＨが完全に中性でない場合には非常に弱い。この理由として、通常使用される水は海水であることが挙げられる。
【０００６】
結果として起こる腐食現象は、一般に、局部的なもので、遷移部分、すなわち、溶接部または原料の鋳造、および上記金属タンクの上記壁部を形成しているシートまたはバーの圧延中に発生する恐れがある材料の欠陥部分で激しくなる。それ故、この注水試験を行って、極低温ガスを収容するための全金属タンクの絶対的な統合性を保証することはきわめて重要なことである。
【０００７】
極低温タンクに水を満たして機械的強度試験および漏洩試験を行うためには、通常、腐食を抑えるために、タンクに不動態化化学添加剤を含む淡水が満たされる。好適には、金属を露出状態に維持することが好ましい。何故なら、単に淡水注入試験のためだけに錆止めペイントを塗布すると、非常にコストが高くなって実際にこの試験を行うことができないからである。
【０００８】
タンクに水を満たした場合、外側からタンクの壁部、特に、その垂直な側壁部、および垂直な側壁部がタンクの底部に接する場所を観察することにより漏洩試験を行うことができる。また、この方法でタンクに水を満たすと、通常液化ガスを満たした場合に耐えなければならない負荷のほぼ２倍に対応する負荷がかかった場合の構造体の全体的または局部的安定度を測定することにより、タンクが位置する土台の強度を試験することができる。最後に、この注水試験により、溶接によるひずみ、特に垂直壁部がタンクの底壁部に接する部分内に位置する溶接部に対するひずみを解放することができる。このようなひずみは、タンクの底部に加わる水圧による加圧だけで発生するもので、その圧力は、タンクの高さが５０メートル（ｍ）の場合には約５バールになり、タンクから水を排出した場合のひずみの緩和がそれに続く。
【０００９】
タンクに水を満たした状態で、機械的強度試験および漏洩試験を行うには長い時間がかかるが、それは本質的には、上記タンクに水を満たすのに必要な時間および種々の測定および確認を行うために必要な時間によるものである。すなわち、実際には、８週間以上もの時間が必要になる。このような長い時間は、特に影響を受けやすい鋼鉄を使用している場合には、腐食の問題を引き起こす可能性が高い。
【００１０】
さらに、淡水の使用は、現に経済上および環境上重大な問題を引き起こしている。理由としては、淡水の利用度が一般的に低い点が挙げられる。ところが、使用する極低温タンクの容積に対応する淡水の量は、１５０，０００立法メートル（ｍ３）に達する場合があり、２５０，０００ｍ３に達する場合すらある。さらに、このような大量の水のコストは、完成したタンクの全コストの非常に有意な部分を占める。最後に、水の主供給源への有意な影響を避けるために、淡水を１時間当たりある限られた量しか取水できない。その結果、注水時間が長くなり、そのため腐食の危険が増大し、言うまでもないことだが、タンクを使用できるようにするために余分な時間が必要になる。この点に関して、塩素を含んでいる場合には、腐食防止剤を添加しなければならなくなる場合もでてくるし、浸食性が高いｐＨを調整するために不動態化剤を添加しなければならない事態になる場合もでてくることを付け加えておかなければならない。このような状況下では、添加剤による追加コストの他に、環境規制により、試験が終わってタンクを空にする場合に、水を周囲の自然環境に放出することができる方法が制限され、特に、上記周囲の自然環境への水の放出は、このような環境がその水を吸収できる速度で行わなければならない。これが試験の終わりにタンクをゆっくりと空にしなければならない理由であり、これによりさらに、タンクを使用できるようになるまでの時間が長くなる理由である。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
それ故、本発明の第１の目的は、使用を開始する前に、極低温金属タンクの機械的強度試験および漏洩試験を行うための新しい方法を提供することである。この方法は、上記欠点を持っていないし、特に上記金属タンクの腐食を防止するのによりコストが安く、より効果的な方法である。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の本来の特徴によれば、極低温金属タンクを試験するための本発明の方法は、海水を使用して行われる。
液化ガス貯蔵端末は、通常、港湾エリアに位置しているので、海水を直接使用すれば海水はただであるという利点がある。さらに、１時間当たり大量の必要な量の海水を抽出するための取水点を非常に簡単に造成することができ、一方、供給ネットワークまたは河川から直接淡水を取水する場合には、許容できない程度に環境またはネットワークに悪影響を与えないようにするためには、一般に取水量がかなり制限される。海水を使用する場合
には、注水を１０乃至２０倍も大量に行うことができ、それにより、タンクに水を注水する時間をそれに対応して短縮することができ、従ってタンク使用開始前の時間を短縮することができる。何故なら、それに応じて試験時間を短縮することができるからである。
【００１３】
海水が存在する場合には、直ちに激しい腐食が起こり、特に、鋼鉄プレート間で行われた溶接、さらに、すでに説明したように、タンクの底部内のモールドにより熱的な影響を受けたタンクのゾーンに集中的に起こる。しかし、本発明を使用すれば、淡水の代わりに海水を有利に使用することにより極低温タンクを試験することができ、それと同時に一方では、海水の高い腐食効果にもかかわらず、タンクの底部および垂直な側壁部の両方上でタンクのすべての金属壁部の統合性を保証することができる。
【００１４】
それ故、本発明のもう１つの目的は、使用前の注水試験が行われている間に、極低温金属タンクに対して、また好適には、すなわち、金属を露出した状態に維持しながら、保護ペイントを全然使用しないでこの目的を達成するために、高度の腐食防止保護を行う方法を提供することである。
【００１５】
米国特許第３，８５５，１０２号に、複数のアノードに電流を供給しながら、水を内蔵する上記タンクの内側に直列に接続され、垂直に吊下されている複数のアノードを使用して、淡水を含む金属タンク内の腐食に対して長期間カソード防食を行うための原理が開示されている。
【００１６】
このようなカソード防食を行えば、腐食に対して保護を行うことができるが、この保護は金属壁部と水との接触によるものであり、この保護はペイント・タイプの腐食防止コーティングによる保護の追加的な保護である。カソード防食の原理は、酸化力を有する周囲の水性媒体を電子により飽和し、それにより金属のすべての分解を避けるために、保護対象の金属の自然の電気化学ポテンシャル（Ｅ）を人工的に低減するという原理である。電子による上記の飽和は、所与のｐＨを有する電解質からなる上記水性媒体内に浸漬した金属アノードにより、また上記アノードに直流（ＤＣ）を注入することにより行われる。
【００１７】
通常、関連金属が、ｐＨおよび電解質のタイプの関数として腐食への免疫性を有する電気化学ポテンシャル、すなわち、その電気化学ポテンシャル以下では金属がカソード防食される、すなわち、金属が正しく分極される電気化学ポテンシャルを示す、いわゆるＰｏｕｒｂａｉｘ図が考慮の対象になる。
【００１８】
この分極は、瞬間的には起こらないが、それに対して上記アノードが作用する全表面上で必要な値に達する前に、アノードの周囲でゆっくりと進行的に行われる。通常実施されるカソード防食システムにおいては、一般に分極が完全に効果を発揮する前に、金属面が保護されるには数週間から数カ月かかる。通常実施されるカソード防食システムの場合には、電気の消費量を妥当な値に制限することが望ましい。何故なら、構造体の全耐用期間中、この電流を永久に流し続けなければならないからである。
【００１９】
実際には、カソード防食は、効果的な保護を行う腐食防止コーティングの追加措置として行われる。このカソード防食は、アノードと、１平方メートル当たり約５０ミリアンペアの電流密度を発生することができる電流供給源からなる装置を供給することにより行われる。この電流密度は、腐食防止コーティングが破損した任意のゾーン内で長時間有効なカソード防食を行うのに充分な電流密度である。このゾーンは、一般に、水と接触している全ペイント塗布エリアの１０乃至２０％にあたると推定される。
【００２０】
米国特許第４，９３６，９６９号に、淡水のタンク内の半分の高さのところに、ケーブルで吊り下げた状態に維持するケーブル保護システムが開示されている。このケーブルは
、指定電流を連続的に供給するためのアノードとして機能する。上記ケーブルは、ラインによりフロートから吊り下げられている。ケーブルの形をしているこのアノード・デバイスの電流注入容量は小さいが、長期間にわたってこのような淡水タンクの保護を行うのには十分である。対照的に、初期分極プロセスは非常に遅く、非常に腐食に弱い裸の鋼鉄からできている極低温タンクに対して行われる注水試験の際のすべての腐食の発生を防止するのに適している有効なカソード防食を行うことはできない。
【００２１】
鋼鉄する電流は、保護対象の面積に比例し、本発明は、一般に、注入電流を、通常の非合金鋼に対しては８０ｍＡ／ｍ２に制限する。この注入電流は、長時間有効なカソード防食を行うには十分であり、また、電気の消費量を妥当な値に制限する働きもする。何故なら、この電流を構造体の耐用期間中永久に維持しなければならないからである。
【００２２】
より正確に説明すると、本発明は、使用前に極低温金属タンクを試験するための方法を提供する。この方法の場合には、上記タンクは水で満たされる。この方法の特徴は、下記の工程を行うことである。下記の工程とは、
・ 上記金属極低温タンクに海水を満たす工程と、
・ 上記タンク内にアノードを配置し、アノードが海水に浸漬した場合に、アノードに電流を注入することにより、本質的には露出した鋼鉄からできている上記タンク内の金属の底部と側壁部に一時的なカソード防食を行う工程である。
【００２３】
タンクに海水を満たしている間に、タンクの大きな壁部エリアは最初急速に海水で濡れる。すなわち、タンクの底壁部は海水で濡れ、底壁部の周辺部は、また、最ももろいゾーンの１つになる。本発明の場合には、すべての腐食が起こるのを防止する目的で、注水が始まった後でできるだけ迅速に腐食防止保護を効果的に行うために、支持手段を使用してタンクの底部のすぐ近くに第１のアノード・アレイが設置される。この場合、好適には、上記支持手段および上記第１のアノードは取り外すことができることが好ましい。
【００２４】
タンクの底部の近くにアノードを設置することにより上記アノードを浸漬することができ、それによりできるだけ速く腐食防止を行うことができる。それ故、上記支持手段は、上記第１のアノードをタンクの底部の近くに保持できるものでなければならないし、一方では、上記アノードと上記底部との間のすべての電気的接触を防止するために、アノードを底部から充分離れた状態に維持できるものでなければならない。
【００２５】
本明細書で使用する「取り外すことができる」という用語は、試験が終了した後で、上記第１のアノードと上記支持手段とを上記タンクから取り出すことができることを意味する。
【００２６】
より詳細に説明すると、タンクの底部近くの上記第１のアノードは、タンクの底部から５０センチ（ｃｍ）未満の距離、好適には、２．５ｃｍ乃至２０ｃｍの距離、より好適には、５ｃｍ乃至１０ｃｍの距離だけ底部から上に位置していることが好ましい。この最適の距離は、上記アノードとタンクの金属底部の電気的接触を防止するばかりでなく、アノードがあまりに接近しすぎた場合に起こる恐れがある、すべての電解質の短絡を防止する働きをする。それ故、アノードがタンクの底部の接近しているために、電解質の短絡のすべての危険を防止する一方で最大の効率が維持される。
【００２７】
本発明の場合には、タンクの底部に対して最適なカソード防食を行うために、上記第１のアノードは、タンクの底面の中心を中心とする同心円の周囲に配置されるが、好適には、タンクの底面の直径の４０乃至７５％の範囲内の直径を有することが好ましい。
【００２８】
タンクの底部上に位置する上記第１のアノードのこの円形の配置は、アノード間、また
はそうでない場合には、実際に放出する電流密度に悪影響を及ぼす恐れがある１つのアノードの異なる部分間の干渉を避けるために最適な配置を表す。
【００２９】
上記アノードは、タンクの底部の直径が大きい場合には、複数の同心円を形成するように配置することもできる。しかし、実際には、７５ｍ乃至９０ｍまでの直径を有するタンクの場合で、アノードが５０アンペア（Ａ）の容量を有する場合には、タンクの直径の４０％乃至７５％の範囲内の直径の１つの円を含む配置で十分である。
【００３０】
上記第１のアノードは下記のものにより構成することができる。
・「ワイヤ・アノード」とも呼ばれる１つまたはそれ以上の柔軟な金属ケーブル・アノード。好適には、上記アノードは円を形成しているか、または上記のいくつかの第１のアノードは、円の一部を形成していて、同じ円の周囲に配置されていることが好ましい、および／または
・不連続な状態で並べて配置されていて、そうしたい場合には、導電性ケーブルで相互に接続している複数の硬質のアノード。
【００３１】
しかし、もっと大きな電流密度を供給するためには、好適には、それぞれが、特に、円筒形、長方形またはディスクの形のブロックの形をしている複数の硬質なアノードの形に上記第１のアノードを配置することが好ましい。
【００３２】
より詳細に説明すると、上記第１のアノードは、１つまたはそれ以上の第１のストリングを形成するために、１つ以上のケーブルにより相互に接続されている。上記第１のストリングは、タンクの上記底部の上に近接してほぼ水平に配置されている。
【００３３】
本明細書においては、「アノードのストリング」という用語は、上記硬質のアノードが、それに沿って上記第１のアノードが、好適には一定の間隔で配置されている導電性ワイヤからなるケーブルにより相互に接続されていることを意味する。上記ワイヤは、２つの連続しているアノード間で電気的に絶縁されていて、ワイヤと上記アノード間は電気的に接触している。
【００３４】
上記第１のアノードは、特に任意の１つのストリング内では相互にできるだけ接近して配置されているが、これらアノードは、その効果、すなわち、これらアノードが供給する電流密度に悪影響を与える虞があるような電気的干渉を回避するために十分な間隔をおいて配置されている。
【００３５】
ある実施形態の場合には、上記支持手段は、電気的絶縁材料より形成された素子からなり、タンクの底部上に位置している。また、上記素子は、適宜に第１のストリングに沿って、第１の各アノードの対向端部に位置される。
【００３６】
さらにより詳細に説明すると、上記支持手段は、タンクの底部上に垂直に立っているディスクからなる。上記ディスクは、その中心を通る上記第１のストリングの上記第１のアノードの２つの連続しているアノードを相互に接続されいる絶縁ケーブルの一部を有する。ディスクの直径は、上記垂直方向の上記第１のアノードの直径より大きくする等、適宜に変更可能である。
【００３７】
タンクの底部が海水で濡れた後で、タンクの垂直な側壁部をさらにカソード防食するためには、その底部に近いタンクの水平方向の配置内に上記第１のアノードを設置し、また好適には取り外すことができるように、その頂部からタンクの内側の垂直に吊り下げられている第２のアノードを設置すると有利である。この場合、好適には、上記第２のアノードは、また、垂直に吊り下げられている第２のストリングの形に相互に接続していること
が好ましい。また、上記第２のストリングは、好適には、内接するように相互に間隔を置いて配置することが好ましい。また、好適には、上記タンクと同じ軸を有する円筒形に配置することが好ましい。
【００３８】
有利な実施形態の場合には、垂直に吊り下げられている第２のストリングの底端部に配置されている第２のアノードの端部アノードは、第１のアノードの上記円で囲まれている円形面の面積Ｓ１が、タンクの底部の残りの面積Ｓ２に、タンクの底部の側壁部の高さＨのところの底部の部分の面積Ｓ３を加えたものにほぼ等しくなるように、底部から高さＨのところに位置している。面積Ｓ２は、面積Ｓ１の外側に位置するタンクの底部の残りの面積であり、Ｓ１＝Ｓ２＋Ｓ３である。
【００３９】
上記第１のアノードが、ある電流容量を有し、これら第１のアノードが、腐食が発生するのを防止するために適当な電気化学ポテンシャルを達成することができるような電流密度を発生することができるだけの数および配置で設置されていること、そしてこれは、腐食が発生するのに必要な時間より短い時間内に、特に１時間より短い時間内に、好適には２０分より短い時間内、好適には、実際には瞬間的に行われ、タンクの底部の表面（Ｓ１＋Ｓ２）のすべての点でこれが発生すること、そのほうがよい場合には、タンクの垂直な側壁部の高さＨのところの底部表面（Ｓ３）上のすべての点で起こることを理解することができるだろう。タンクの底部近くに位置する第１のアノードのこの配置により、浸漬した側壁部を保護するために垂直に吊り下げられている第２のアノードが腐食防止を行う前に、タンクの低い部分（すなわち、Ｓ１＋Ｓ２＋Ｓ３）に対して完全なカソード防食を行うことができる。
【００４０】
海水の存在下で９％ニッケル鋼に対して本発明により行った測定は、腐食に対して免疫性を与えるためには、Ａｇ／ＡｇＣｌタイプの基準電極に対して、−９５０ミリボルト（ｍＶ）の保護電気化学ポテンシャルで十分であることを示した。
【００４１】
より詳細に説明すると、上記タンクの金属は９％ニッケル鋼であり、鋼の保護電気化学ポテンシャルは−９５０ｍＶであり、第１のアノードは、２００ｍＡ／ｍ２乃至４００ｍＡ／ｍ２の電流密度が達成できるように、タンクの底部近くに位置している。それ故、この電流密度は、水を含む従来の金属タンクに対するカソード防食の分野で通常実施される電流密度の数値の４乃至８倍である。この場合、構造体の全耐用期間中分極を維持しなければならない。
【００４２】
タンクの底部上で円形の幾何学的形状の周囲に、端部同士が向き合うように配置されているアノードのストリングにより、電流を約２００ｍＡ／ｍ２乃至４００ｍＡ／ｍ２の密度で注入することができる。
【００４３】
本発明の場合には、高容量アノード、特に５０Ａの非常に大きな注入電流を収容することができ、２００ｍＡ／ｍ２乃至４００ｍＡ／ｍ２の電流密度を供給することができるアノードを使用することにより、また、タンクの金属底部および壁部に近いアノード間に、２５ミリメートル（ｍｍ）乃至５００ｍｍの範囲内の狭い間隔で関連する非常に高い密度でアノードを配置することにより、−９５０ｍＶの腐食免疫性電気化学ポテンシャルを達成し、上記アノードが海水内に浸漬された後で、アノードが腐食保護を開始するやいなや、非常に迅速にまたは実際には瞬間的に、９％ニッケル鋼でできているタンクの全底部上で分極プロセスを作動することができる。
【００４４】
それ故、本発明を使用すれば、タンクの底部および垂直な側壁部の両方の全閉じ込めエンベロープの統合性を保証しながら、従来使用されてきた淡水の代わりに、海水を有利に使用して注水試験を行うことができる。
【００４５】
本発明の他の有利な特性によれば、タンクの底部のすぐ近くに位置する上記第１のアノードが完全に浸漬されるまで、最初上記タンクは淡水で満たされる。その後で、上記第１のアノードに電流が注入され、上記タンクへの注水が引き続き行われるが、こんどは海水が使用される。
【００４６】
タンクの底部に近い位置に上記第１のアノードが位置しているので、淡水による最初の注水は少量の淡水で行われ、上記第１のアノードが腐食保護動作に入る前に、腐食のすべての危険をさらに低減することができ、タンクの底部に対して有効なカソード防食を行うことができる。
【００４７】
都合のよいことに、本発明の他の特性によれば、上記壁部の電気化学ポテンシャルを測定するために、また複数の発電機またはその位置により、種々のアノードに関連して行われた上記測定の関数として、種々のアノード内に注入される電流の量を規制することができるように、上記第１および第２のアノードに別々に電流を供給することができるコントローラを制御するために、上記タンクの底部および壁部上に種々のデバイスが設置される。
【００４８】
本発明は、また、本発明の試験方法で使用するのに適している鋼鉄の露出金属壁部を有する極低温タンクを提供する。上記タンクの特徴は、このタンクが、好適には、上記タンク内に取り外すことができるように配置することが好ましい、すでに定義したアノードを含む一時的なカソード防食システムを含むことと、上記タンクが、また、好適には、複数の発電機またはすでに説明したように、上記アノードに異なる量の電流を供給するのに適しているコントローラを制御するために、上記壁部の電気化学ポテンシャルを測定することができる種々のデバイスを含むことである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４９】
本発明の他の特徴および利点については、添付の図面を参照しながら種々の実施形態の下記の詳細な説明で記述する。
図１は、貯蔵対象の極低温液体を収容するための底部１、および円形円筒状の側壁部３を備える大容量の円形円筒状の金属タンク１である。
【００５０】
図２は、それに極低温特性を与える円筒状の金属タンク１用の絶縁システムである。この絶縁システムは、鉄筋コンクリート３２のウエブからなる硬質管状構造体により囲まれている熱絶縁材料３１自身の層からなる。タンク１は、その頂部上に金属フレーム４１により支持されているドーム状のカバー４を有する。
【００５１】
例を挙げて説明すると、円筒状の金属タンクは、内径７５ｍ、高さ５０ｍを有する空間を含み、１６５０００ｍ３の容積を有する。タンクの内壁を形成していて、カソード電流により保護しなければならない金属の総面積は約１６０００ｍ２である。
【００５２】
タンクはすでに説明したように、９％ニッケル鋼で作ると有利であり、その壁部は、底部２のところの壁部の厚さを１９ｍｍにし、垂直な側壁部の底端部のところの厚さを２８．８ｍｍにすると有利である。この場合、垂直な側壁部のこの厚さは、上記タンクの垂直な側壁部３の頂部の最小の厚さが１０ｍｍになるように、タンクの頂部の方向にほぼ同じ傾きでテーパ状になっている。
【００５３】
図２は、大きな剛性を与え、絶縁システムを含む１３０ｃｍの厚さを有する基礎いかだ（ｒａｆｔ）２１である。
タンク１の金属側壁部３を取り巻く熱絶縁材料の層３１は、例えば、パーライト（ｐｅ
ａｒｌｉｔｅ）からできていて、１００ｃｍの厚さを有する。鉄筋コンクリートの外部ウエブ３２は８０ｃｍの厚さを有する。
【００５４】
図１、図５、図９および図１０は、円形に配置されているタンクの底部２の近くに水平に位置する上記第１のアノード用の種々の装置を示す。
図１の場合には、上記第１のアノード５１は、円筒状のＣ１内に位置する１つの「第１の」ストリング５を形成する。図９の場合には、上記第１のアノードは、それぞれがほぼ半円の形をしている２つの「第１の」ストリング５を形成する。この場合、上記２つの第１のストリングは、一緒に円Ｃ１を形成する。図５の場合には、上記第１のアノードは、複数のストリング、すなわち、水平に延びる８つの「第１の」ストリング５を備える。上記第１の各ストリング５は、３つのアノード５１を備える。上記第１のストリングは、円の一部を形成し、これらストリングは、共通の円の周囲に等間隔になるように配置されている。図５の実施形態は、複数の上記第１のストリングを含むことが好ましい。何故なら、上記第１のストリングは、電流レベルを関連ゾーン内の要件に整合させるために、それぞれの異なる電流の供給を受けることができるからである。非常に大型のタンクの場合には、および特に７５ｍを超える直径のタンクの場合には、第１の円Ｃ１の周囲に配置されている上記第１のストリング５は、タンクの底部の表面上の中心ゾーンに追加のカソード防食を行うように、もっと小さな直径の円Ｃ２の周囲に配置されているもっと小さな電流容量の細長い柔軟なアノードと関連を有することができる。それ故、図１０の場合には、上記第１の柔軟なアノードの中の２つは、同心円Ｃ２の周囲を延びる湾曲したケーブルの形でタンクの底部の中心ゾーン内に位置する。この場合、上記の細長い各第１のアノードは、その周囲のほぼ半分を占める。それ故、もっと小さな直径の円Ｃ２内に位置する第２の一連の第１のアノードは、タンクの底部２の中心部分に追加のカソード防食を行う。
【００５５】
また、図１および図２は、タンクのドーム４の構造体４１から垂直に吊り下がっているアノード６の第２のストリングを示す。
図１は、垂直に延びる、すなわち、水平面の一部内の円内を延びるアノード６の種々の第２のストリングの好適な配置を示す。
【００５６】
図１および図１０は、図に示すための便宜上、底部アノードが床上Ｈの高さに位置している場合の、それぞれが等間隔で配置されている複数のアノード６１を備える６つの上記の垂直な第２のストリング６を示す。
【００５７】
図３および図４の場合には、アノード５および６のストリングは、それぞれ、アノード５１および６１の相互に接続しているか、またはこれらアノードを通る、好適には、銅でできていることが好ましい導電性ケーブル７からなる。アノードは、好適には、機械的に正しい位置に保持されている上記ケーブル７の周囲に固定されていることが好ましい。上記アノード５１，６１は、種々の貴金属でカバーされているタングステンのような貴金属からできている。上記アノード５１，６１は、好適には、導電性ケーブル７に沿って等間隔で設置されていることが好ましい。ケーブル７は、所与のストリング５６内の２つのアノード５１，６１の間に絶縁材料７１を有する。しかし、導電性ケーブル７は、当然上記アノード５１，６１に電気的に接続していて、２つの連続しているアノード５１および６１間を延びるケーブルのこれらの部分だけが絶縁される。
【００５８】
上記各ストリングにおいては、使用しているアノード５１，６１は、大容量のものである。すなわち、これらアノードは５０Ａの容量を有し、その形は円筒形または卵形であり、それぞれ、その長さは約１ｍであり、外径は約２２ｍｍであり、干渉を避け、最大の電流密度を得るために、上記ストリングに沿って３乃至５ｍ間隔で位置している。
【００５９】
上記の垂直な第２のストリング６においては、図面に示す都合上、５つのアノード６１
だけが図示されている。５０ｍの高さを有するタンクの場合には、もっと多くの上記アノードが必要なことを理解することができるだろう。
【００６０】
水平ストリング５は、例えば、絶縁材料からできているディスクからなり、アノード５１の直径よりも大きい直径を有する支持素子５２によりタンクの底部２のすぐ近くに保持されている。上記ディスクは、各アノード５１の各端部のところのケーブル７の周囲に位置している。これらの絶縁ディスク５２は垂直に配置されていて、その縁部を通して、２５ｍｍの直径を有するアノード用の２２５ｍｍの外径を有するタンクの底部２上に位置していて、それにより、確実にアノード５１がタンクの底部２から１００ｍｍのほぼ一定の間隔を有するようにし、そのため、アノード５１と底部２との間の電気的接触を防止すると同時に、電解質の短絡も防止する働きをする。
【００６１】
７５ｍの直径を有するタンクの場合には、上記第１のアノードを半径Ｒ１＝２７ｍの円の周囲に複数のストリングとして配置すると有利である。
タンクの底部上に位置する上記第１のアノード５１を円内に配置すると、供給電流密度に悪影響を持つ恐れがある、アノード間の干渉を避けるための最適な配置になる。第１のアノード５１を上記特性（アノードの長さ１ｍ、容量５０Ａ、相互に３ｍ乃至５ｍ離れている）を有する円内に位置させると、アノード内に５０Ａの電流を注入することにより、２５０ｍＡ／ｍ２乃至２７５ｍＡ／ｍ２の初期電流密度を得ることができ、それ故、数十分以内、または数分以内に、上記アノードから数十メートルの半径内に位置するタンクの表面のところにある電位を得ることができる。
【００６２】
図１の場合には、アノード６の垂直なストリングは、アノード５の上記水平ストリングと同じ直径を有する円の周囲に位置しているが、それはアノードを設置したり取り出したりする実際の都合上このような配置になっているだけである。しかし、機能上の観点から、タンクの側壁部の表面に対して垂直な第２のアノード６１を配置する距離は、上記側壁部からの第１のアノードの距離と異なる距離であってもよい。タンクの側壁部の表面にあまりに接近して垂直なアノード６１を設置するのは、必ずしも有利ではない。何故なら、そのような配置にすると、もっと多くのアノードを使用しなければならなくなるからである。
【００６３】
図１、図５および図９に示す円Ｃ１内に配置されたアノード５の水平ストリングの配置の別の好適な実施形態の場合には、上記円Ｃ１は、水平ストリング５が形成する円の外側のタンクの底部上の表面の残りの部分が形成する表面積Ｓ２に、アノードの垂直なストリングの底部端部の高さに対応する、高さＨのところの垂直な側壁部３の底部に対応する表面積Ｓ３を加えたものにほぼ等しい内表面積Ｓ１を形成するように（Ｓ１＝Ｓ２＋Ｓ３）、２５ｍ乃至３０ｍの半径Ｒ１を有する。それ故、２５ｍ乃至３０ｍの範囲内の半径Ｒ１の場合には、Ｈは１ｍ乃至４ｍの範囲内にある。
【００６４】
タンクに注水している際に、海水がアノード６の垂直な第２のストリングの底端部のところの末端のアノード６１に達した場合で、このアノードとまだ接触してない場合には、底部と海水で濡れた垂直な壁部の一部からなる、タンクの底部にカソード防食を行うのは、底部上に位置するアノード５の水平な第１のストリング内の第１のアノード５１だけである。それ故、アノード６の垂直なストリングの上記アノード６１が腐食保護動作をスタートするまで、底部上に位置するアノード５の上記水平なストリングは、タンクの底部の表面積Ｓ１＋Ｓ２に、底部吊り下げアノード６１の下に位置する側壁部の底部の表面積Ｓ３を加えたものからなる保護対象のタンクの表面のほぼ重心に位置し、できるだけ速く分極の必要なレベルに上げるために供給される非常に大きな電流が、タンクの中心から底部の周辺および高さＨまでの側壁部に均等で最適な状態で分配される。
【００６５】
図７Ａ乃至図７Ｄのアノードに対する位置の関数として、電流密度（ｍＡ／ｍ２）がどのように変化するのかを示す図７Ａ乃至図７Ｄおよび図８Ａ乃至図８Ｂを参照しながら、分極プロセスについて説明する。図７Ａは、アノードに電流の注入をスタートした時の電流密度を示し、図７Ｂ、図７Ｃおよび図７Ｄは、その後の例の図である。図８Ａおよび図８Ｂは、それぞれ、時間の関数として、処理対象のタンクの表面の所与の点で測定した電気化学ポテンシャルＥおよび電流密度（Ｉ／ｍ２）である。
【００６６】
図８Ａおよび図８Ｂは、時間ｔｐのところまで、電気化学ポテンシャルＥおよび電流密度が同時に上昇することを示す。時間ｔｐにおいて、電気化学ポテンシャルＥは、この場合には、−０．９５Ｖである腐食免疫値に達する。この値は、使用する９％ニッケル鋼の分極に特有なものであり、この時間ｔｐのところで、ほぼ同時に電流密度のピークは、２５０ｍＡ／ｍ２乃至２７５ｍＡ／ｍ２に達する。図７Ａ乃至図７Ｄを見れば、アノードに対して電流の供給がスタートするとすぐに、アノードの近いゾーン内の電流密度が非常に高くなり、ここから離れるにつれて減少することが分かる。供給電流は、自然に２５０ｍＡ／ｍ２乃至２７５ｍＡ／ｍ２の範囲内にある最大値に制限される。何故なら、このような鋼の保護電位（−９５０ｍＶ）に迅速に到達するには、このレベルで十分であるからである。
【００６７】
電気化学プロセスは、ミネラル塩を含む海水内で行われ、カルシウムおよびマグネシウムをベースとするスケールの沈殿物が観察される。それ故、このスケールは、アノードに近いゾーン内の図８Ａおよび図８Ｂのｔ＝０とｔ＝ｔｐの間に沈殿し、その後で、電流密度は減少し、５０ｍＡ／ｍ２乃至１００ｍＡ／ｍ２の範囲内で安定し、一方、電圧Ｅは、もはや有意に変化しないで、約−１Ｖのところに留まる。スケール沈殿物は、分極面上のｐＨの増大によるもので、この沈殿物は、関連エリア上で、電流密度を約５０ｍＡ／ｍ２乃至約１００ｍＡ／ｍ２の範囲内に位置する値まで減少させる効果を有する天然の絶縁バリヤを生成する。これは電位Ｅを、９％ニッケル鋼に対して−０．９５Ｖよりもっと負の方向の値に維持するのに十分である。これにより、すべての腐食プロセスが防止される。
【００６８】
それ故、アノードをできるだけタンクの底部に近づけることにより、また供給電流レベルを増大することにより、保護層が形成されるこのプロセスが有意に加速されることが理解できるだろう。
【００６９】
実際には、アノード５１を底部から数センチメートルのところに設置することにより、海水の注水速度が１時間当たり１０００立法メートル（ｍ３／ｈ）を超える場合には、アノードは数分間海水内に浸漬し、その結果、アノードが海水内に浸漬すると、アノードは瞬間的に腐食保護活動に入り、数分以内に効果的な保護がスタートする。さらに、大容量アノード内の供給電流レベルが十分に高い場合（５０Ａ容量）で、すでに説明したようにアノードの数が十分であり、適当に配置されている場合には、約１０メートルの遠い距離のところで、迅速に（数分以内に）カソード防食を行うことができる。それ故、数十分以内に、タンクの底部の全表面が完全に保護され、その結果、すべての腐食の開始を防止することができる。
【００７０】
好適な実施形態の場合には、タンクに水を注水することによるタンクの漏水および機械的強度を確認するための試験は、通常、淡水の深さが５ｃｍ乃至１０ｃｍになり、妥当な量の淡水が注水されて、底部のアノード５１が完全に浸漬されるまで、１０００ｍ３／ｈの流量でタンクに淡水を注水することによりスタートする。その後で、上記アノードに電流が供給され、非常に速い流速で海水が引き続き注水される。
【００７１】
「淡水」は、浸食性があまり強くない場合には、その地方の給水源または川水、または工業用水からとることができる。
海水が淡水と混合し、電流がアノード内に注入されると、アノードが分散配置されていて、またタンクの底部上に位置するすべてのアノードを通して非常に大量の電流が同時に注入されるために、タンクの底部の金属表面は数分以内にカソード防食構成内で分極を起こす。
【００７２】
アノード５および６の上記ストリングは、１つまたはそれ以上の定電流源９に接続していて、デバイス９１は、好適には、その頂部を通してタンク１から延びているケーブル８を通して注入される電流を監視し、制御することが好ましい。複数のストリング５、６は、アレイの形に相互に接続することができ、１つの定電流源９と関連づけることができる。しかし、好適には、アノード５の水平の第１のストリング、およびアノード６の上記の垂直な第２のストリングは、いくつかの発電機９またはいくつかのコントローラ９ａ乃至９ｃに接続していることが好ましく、また好適には、上記各アノード・ストリング６は、いくつかの発電機９またはコントローラ９ａ乃至９ｃに関連する１つの発電機９に接続していることが好ましく、それにより、保護されている底壁部２のゾーンおよび側壁部３のゾーンの関数として、カソード防食を最適にするために、（以下に説明するように）電流の注入を上記各ストリング５，６内で別々に制御することができる。上記ゾーンの中の特定のゾーン内に欠陥が生じた場合に、このような個別の制御が必要になる場合があり、タンクが多角形の基礎の上に載っている四角柱である場合には、必ず必要になる。何故なら、このようなタンクは、比較的もろく、タンクの残りの部分よりももっと高いレベルのカソード防食を必要とするコーナーを持っているからである。
【００７３】
図２の場合には、タンクのドーム４の上部構造体４１から吊り下がっているアノード６のいくつかの垂直なストリング、およびタンクの底部上に位置するいくつかの水平なストリング５は、ケーブル８により、１つの定電流源９に電気的に接続している。この場合、何本かのケーブル８がブラケット２０から吊り下がっている。このようなブラケット２０は、図９の好適で有利な実施形態上に設置することもできる。
【００７４】
図９の場合には、タンク１の壁部の電気化学ポテンシャルＥは、タンクの底部２上に３つのセンサ１０ａ、１０ｂおよび１０ｃを設置し、垂直な壁部の発電機のラインに沿って３つの追加のセンサ１０ｄ、１０ｅおよび１０ｆを設置することにより監視することができる。例えば、Ａｇ／ＡｇＣｌ基準セル・タイプのこれらのセンサ１０ａ乃至１０ｆは、監視および制御ユニット１１に接続していて、電気化学ポテンシャルの値が、パーソナルコンピュータ・タイプのコンピュータ１２により試験中継続的に記録される。例えば、２４ＶＤＣのような低電圧の分極電流が、主電源に接続していて、また中央監視／制御ユニット１１の制御下で、サイリスタにより、３つの電子コントローラ９ａ，９ｂ，９ｃに接続しているトランスおよび整流器９により供給される。コントローラ９ａは、上記の垂直な第２のストリング６すべてに接続していて、コントローラ９ｂおよび９ｃは、それぞれ、アノード５の上記第１のストリングの２つの異なるストリング、または半円形に配置されていて、タンクの底部上に位置しているが、図１０のところで説明するように、そこから絶縁している上記の連続している第１のアノード５１の２つのアノードに接続している。
【００７５】
底部上に配置されているセンサ１０ａ乃至１０ｃは、下記のように有利に配置されている。
・センサ１０ａは、図７Ａに示す分極波および図７Ｂ方向へのその変位を監視するために円形アノードの近くに位置する。
【００７６】
・センサ１０ｂは、水が深くなると、分極電流がどのように変化するのかを監視するために、円筒状の側壁部のコーナーの近くに位置する。
・最後のセンサ１０ｃは、図７Ｃおよび図７Ｄに示すように、タンクの底部全体上の分
極状態を監視するために、タンクの中心の方向に有利に位置する。
【００７７】
センサ１０ｄ、１０ｅおよび１０ｆは、水の深さが上記タンクの頂部まで上昇する間の分極を監視するために、垂直な壁部３の発電機ラインに沿って有利に設置されている。
図面を見やすくするために、図では、センサに接続しているケーブルは、監視／制御システム１１に直接接続しているが、実際には、これらのケーブルは、電力ケーブル８の経路に類似している経路を通る。すなわち、これらのケーブルは、タンク内を上昇し、上記監視／制御システム１１に戻る前に、ブラケット２０を通してドーム・レベルのところでタンクから離れる。
【００７８】
電気化学ポテンシャルは、例えば、−０．９５Ｖよりもっと負の範囲のような、最小（絶対）値より上の範囲に維持しなければならないし、また、例えば、−１．２Ｖを超えないように維持しなければならない。それ故、上記電気化学ポテンシャルが上記−０．９５Ｖの最小（絶対）値に近づくやいなや、監視／制御システム１１は、対応するコントローラ９ａ、９ｂおよび９ｃにより供給電流を有意に増大する。同様に、電気化学ポテンシャルが−１．２Ｖに近づくと、上記監視／制御システムは、供給される対応する電流量を有意に低減することにより動作する。
【００７９】
図１０に示すように、アノードが連続していなくて、円筒、楕円または多角形の形をしていようが、アノードが連続していて、電流供給容量の点で高性能なケーブルの形（「ワイヤ」アノード）をしていようが、底部上に複数の円または任意の他の幾何学的配置としてアノードが配置されていも、それは本発明の精神内に含まれる。このようなすべての配置において、上記アノードは直接の短絡および電気化学的短絡を防止するために、絶縁デバイスにより表面からある間隔を置いて保持される。
【００８０】
図１１および図１２は、第１のアノード５１の修正した実施形態を示す。これらの実施形態の場合には、第１のアノード５１は、垂直な第２のストリング６を終端させるように位置している第１のアノードからなる。第１のアノード５１は、支持手段５２によりタンクの底部２上に位置していて、そのすぐ上に位置する上記最も近い第２のアノード６１は、１乃至４ｍの範囲内の高さＨのところに位置する。
【００８１】
図１１および図１２の場合には、第１のアノード５１は、水平に配置されている。すなわち、その主要な部分が水平方向に配置されている。しかし、垂直な側壁部を保護するための第２のアノード６１の場合には、アノードは垂直に配置されている。すなわち、その主要な部分が垂直方向に延びている。図１１の場合には、第１のアノードは、長方形の形をしていて、アノードの各端部に固定されている垂直に配置された絶縁ディスクより構成されている支持手段５２により保持されている。図１２の場合には、第１のアノード５１は、上記第１のアノード５１を構成している上記ディスクの下に配置されたスタッドまたは脚部５２からなる支持手段により支持されている水平ディスクである。
【００８２】
タンクを建造した後で、それに海水を注水する前に、第１のアノードはタンクの底部上に設置され、機械的に固定するかまたは一時的な接着剤により、タンクに注水している間に組立体が決して変形または移動しないようにするために、重りで安定させることにより正しい位置に保持される。上記注水は、かなりの流量（１０００ｍ３／ｈ乃至１５００ｍ３／ｈ）で行われるので、大量の渦巻きが発生する。
【００８３】
垂直な第２のストリングは、ドームのフレームワーク４１から吊り下げられていて、電流を供給するための何本かのケーブル、および電気化学ポテンシャル測定セルから延びる種々の測定ケーブルは、電力ユニットおよび監視／制御ユニットに達する前に、ドーム４のレベルのところでタンクから離れる。
【００８４】
タンクの垂直な側壁部および底壁部と側壁部の間の接続部に対して漏水試験が行われ、この場合、上記壁部は、外部から特に絶縁用のゾーンおよびそのサイズのためにアクセスすることができるゾーンから観察される。
【００８５】
試験の終わりに、タンクから水が抜き取られ、次に、第１および第２のアノードのように測定セルが抜き取られる。
次に、すべての塩分を除去するために、タンクの壁部の全表面が加圧淡水噴射により洗い流され、その後で放置して水を蒸発させる。
【図面の簡単な説明】
【００８６】
【図１】定電流源が電流をアノードのアレイに供給する、本発明のタンクの簡単な分解斜視図。
【図２】発電機とアノードのストリング間の接合部のある特定の実施形態の詳細を示す、本発明のタンクの軸に沿った二分割部分の側面図。
【図３】垂直に吊りさげられたアノードのストリングの一部を示す側面図。
【図４】タンクの底部上に位置するアノードのストリングの一部を示す側面図。
【図５】円形幾何学的形状内のタンクの底部上に設置するための、アノードのいくつかのストリングの分散方法を示す平面図。
【図６】底部上に位置するアノードと同一平面上のタンクの底部の表面のゾーンを示す斜視図。
【図７Ａ】（ｍＡ／ｍ２単位で）分極電流密度が縦座標上に表示され、アノードからの距離が横座標上に表示されている黒丸でアノードを表しているグラフ。
【図７Ｂ】（ｍＡ／ｍ２単位で）分極電流密度が縦座標上に表示され、アノードからの距離が横座標上に表示されている黒丸でアノードを表しているグラフ。
【図７Ｃ】（ｍＡ／ｍ２単位で）分極電流密度が縦座標上に表示され、アノードからの距離が横座標上に表示されている黒丸でアノードを表しているグラフ。
【図７Ｄ】（ｍＡ／ｍ２単位で）分極電流密度が縦座標上に表示され、アノードからの距離が横座標上に表示されている黒丸でアノードを表しているグラフ。
【図８Ａ】保護対象の金属側壁または底部上の任意の点Ｍのところでの、電気化学ポテンシャルＥ（図８Ａ）および電流密度（Ｉ／ｍ２）の変化を示すグラフ。
【図８Ｂ】上記図８Ａと同じく電気化学ポテンシャルＥおよび電流密度（Ｉ／ｍ２）の変化を示すグラフ。
【図９】分極電流の供給を規制するための制御システムを示す簡略図。
【図１０】図５に示すように、その底部上に設置されたアノードのストリングを有し、絶縁ディスク（図示せず）により、底部上のある距離に保持された２つの隣接する半円からなる円形アノードを有する円形タンクの平面図。
【図１１】アノードの垂直なストリングを示す側面図。
【図１２】アノードの垂直なストリングを示す側面図。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液化ガス用の極低温貯蔵タンクに関する。
より詳細には、本発明は使用する前の極低温タンクの漏洩および機械的強度の試験方法に関する。さらにより詳細には、本発明は金属極低温タンクにカソード防食を行う方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液化ガス用の極低温タンクは、通常、淡水を満たすことにより、使用前に強度および漏洩についての試験が行われる。好適には、存在するかもしれないすべての漏洩をより明確に示すために、タンク内の圧力が常圧以上になるようにタンクを満たすことが好ましい。
【０００３】
同時に、この方法で水を満たすと、最も高いレベルの応力が作用するタンクの部分、すなわち、タンクの底の部分の機械的な強度も試験することができる。この場合、液化ガスの比重（−１７０℃での液体メタンの比重ｄ＝０．４８）より大きい水の比重により、動作中、液化ガスで満たした場合の動作中のタンク内の最大圧力の２倍の圧力を加えることができるからである。さらに、陸上に設置されたタンクの場合には、この試験により、同時にタンクが位置する基礎の機械的強度も試験することができる。このタンクには、次に、通常の動作中に受ける負荷の２倍の負荷がかかるからである。
【０００４】
極低温タンクは、特殊鋼で作られる。より詳細に説明すると、ＡＳＴＭ規格Ａ−３５３またはＡ−３５３−Ｔｙｐｅ１に対応し、また、下記の化学的組成に対応する「９％ニッケル鋼」と呼ばれる鋼鉄から作られる。
【０００５】
・炭素（最大）： ０．１３％
・マンガン（最大）： ０．９０％
・リン（最大）： ０．０３５％
・硫黄（最大）： ０．０３５％
・シリコン（最大）： ０．１５乃至０．４０％
・ニッケル（最大）： ８．５０乃至９．５０％
・残り：鉄
このタイプの鋼鉄が、極低温タンク内で使用される。何故なら、このタイプの鋼鉄は、極低温用途に有利な特性を有し、特に、極低温において優れた機械的強度と優れた粘り強さを有するからである。しかし、このタイプの鋼鉄は、水が存在すると腐食に非常に弱く、特に、水のｐＨが完全に中性でない場合には非常に弱い。この理由として、通常使用される水は海水であることが挙げられる。
【０００６】
結果として起こる腐食現象は、一般に、局部的なもので、遷移部分、すなわち、溶接部または原料の鋳造、および上記金属タンクの上記壁部を形成しているシートまたはバーの圧延中に発生する恐れがある材料の欠陥部分で激しくなる。それ故、この注水試験を行って、極低温ガスを収容するための全金属タンクの絶対的な統合性を保証することはきわめて重要なことである。
【０００７】
極低温タンクに水を満たして機械的強度試験および漏洩試験を行うためには、通常、腐食を抑えるために、タンクに不動態化化学添加剤を含む淡水が満たされる。好適には、金属を露出状態に維持することが好ましい。何故なら、単に淡水注入試験のためだけに錆止めペイントを塗布すると、非常にコストが高くなって実際にこの試験を行うことができないからである。
【０００８】
タンクに水を満たした場合、外側からタンクの壁部、特に、その垂直な側壁部、および垂直な側壁部がタンクの底部に接する場所を観察することにより漏洩試験を行うことができる。また、この方法でタンクに水を満たすと、通常液化ガスを満たした場合に耐えなければならない負荷のほぼ２倍に対応する負荷がかかった場合の構造体の全体的または局部的安定度を測定することにより、タンクが位置する土台の強度を試験することができる。最後に、この注水試験により、溶接によるひずみ、特に垂直壁部がタンクの底壁部に接する部分内に位置する溶接部に対するひずみを解放することができる。このようなひずみは、タンクの底部に加わる水圧による加圧だけで発生するもので、その圧力は、タンクの高さが５０メートル（ｍ）の場合には約５バールになり、タンクから水を排出した場合のひずみの緩和がそれに続く。
【０００９】
タンクに水を満たした状態で、機械的強度試験および漏洩試験を行うには長い時間がかかるが、それは本質的には、上記タンクに水を満たすのに必要な時間および種々の測定および確認を行うために必要な時間によるものである。すなわち、実際には、８週間以上もの時間が必要になる。このような長い時間は、特に影響を受けやすい鋼鉄を使用している場合には、腐食の問題を引き起こす可能性が高い。
【００１０】
さらに、淡水の使用は、現に経済上および環境上重大な問題を引き起こしている。理由としては、淡水の利用度が一般的に低い点が挙げられる。ところが、使用する極低温タンクの容積に対応する淡水の量は、１５０，０００立法メートル（ｍ３）に達する場合があり、２５０，０００ｍ３に達する場合すらある。さらに、このような大量の水のコストは、完成したタンクの全コストの非常に有意な部分を占める。最後に、水の主供給源への有意な影響を避けるために、淡水を１時間当たりある限られた量しか取水できない。その結果、注水時間が長くなり、そのため腐食の危険が増大し、言うまでもないことだが、タンクを使用できるようにするために余分な時間が必要になる。この点に関して、塩素を含んでいる場合には、腐食防止剤を添加しなければならなくなる場合もでてくるし、浸食性が高いｐＨを調整するために不動態化剤を添加しなければならない事態になる場合もでてくることを付け加えておかなければならない。このような状況下では、添加剤による追加コストの他に、環境規制により、試験が終わってタンクを空にする場合に、水を周囲の自然環境に放出することができる方法が制限され、特に、上記周囲の自然環境への水の放出は、このような環境がその水を吸収できる速度で行わなければならない。これが試験の終わりにタンクをゆっくりと空にしなければならない理由であり、これによりさらに、タンクを使用できるようになるまでの時間が長くなる理由である。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
それ故、本発明の第１の目的は、使用を開始する前に、極低温金属タンクの機械的強度試験および漏洩試験を行うための新しい方法を提供することである。この方法は、上記欠点を持っていないし、特に上記金属タンクの腐食を防止するのによりコストが安く、より効果的な方法である。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の本来の特徴によれば、極低温金属タンクを試験するための本発明の方法は、海水を使用して行われる。
液化ガス貯蔵端末は、通常、港湾エリアに位置しているので、海水を直接使用すれば海水はただであるという利点がある。さらに、１時間当たり大量の必要な量の海水を抽出するための取水点を非常に簡単に造成することができ、一方、供給ネットワークまたは河川から直接淡水を取水する場合には、許容できない程度に環境またはネットワークに悪影響を与えないようにするためには、一般に取水量がかなり制限される。海水を使用する場合
には、注水を１０乃至２０倍も大量に行うことができ、それにより、タンクに水を注水する時間をそれに対応して短縮することができ、従ってタンク使用開始前の時間を短縮することができる。何故なら、それに応じて試験時間を短縮することができるからである。
【００１３】
海水が存在する場合には、直ちに激しい腐食が起こり、特に、鋼鉄プレート間で行われた溶接、さらに、すでに説明したように、タンクの底部内のモールドにより熱的な影響を受けたタンクのゾーンに集中的に起こる。しかし、本発明を使用すれば、淡水の代わりに海水を有利に使用することにより極低温タンクを試験することができ、それと同時に一方では、海水の高い腐食効果にもかかわらず、タンクの底部および垂直な側壁部の両方上でタンクのすべての金属壁部の統合性を保証することができる。
【００１４】
それ故、本発明のもう１つの目的は、使用前の注水試験が行われている間に、極低温金属タンクに対して、また好適には、すなわち、金属を露出した状態に維持しながら、保護ペイントを全然使用しないでこの目的を達成するために、高度の腐食防止保護を行う方法を提供することである。
【００１５】
米国特許第３，８５５，１０２号に、複数のアノードに電流を供給しながら、水を内蔵する上記タンクの内側に直列に接続され、垂直に吊下されている複数のアノードを使用して、淡水を含む金属タンク内の腐食に対して長期間カソード防食を行うための原理が開示されている。
【００１６】
このようなカソード防食を行えば、腐食に対して保護を行うことができるが、この保護は金属壁部と水との接触によるものであり、この保護はペイント・タイプの腐食防止コーティングによる保護の追加的な保護である。カソード防食の原理は、酸化力を有する周囲の水性媒体を電子により飽和し、それにより金属のすべての分解を避けるために、保護対象の金属の自然の電気化学ポテンシャル（Ｅ）を人工的に低減するという原理である。電子による上記の飽和は、所与のｐＨを有する電解質からなる上記水性媒体内に浸漬した金属アノードにより、また上記アノードに直流（ＤＣ）を注入することにより行われる。
【００１７】
通常、関連金属が、ｐＨおよび電解質のタイプの関数として腐食への免疫性を有する電気化学ポテンシャル、すなわち、その電気化学ポテンシャル以下では金属がカソード防食される、すなわち、金属が正しく分極される電気化学ポテンシャルを示す、いわゆるＰｏｕｒｂａｉｘ図が考慮の対象になる。
【００１８】
この分極は、瞬間的には起こらないが、それに対して上記アノードが作用する全表面上で必要な値に達する前に、アノードの周囲でゆっくりと進行的に行われる。通常実施されるカソード防食システムにおいては、一般に分極が完全に効果を発揮する前に、金属面が保護されるには数週間から数カ月かかる。通常実施されるカソード防食システムの場合には、電気の消費量を妥当な値に制限することが望ましい。何故なら、構造体の全耐用期間中、この電流を永久に流し続けなければならないからである。
【００１９】
実際には、カソード防食は、効果的な保護を行う腐食防止コーティングの追加措置として行われる。このカソード防食は、アノードと、１平方メートル当たり約５０ミリアンペアの電流密度を発生することができる電流供給源からなる装置を供給することにより行われる。この電流密度は、腐食防止コーティングが破損した任意のゾーン内で長時間有効なカソード防食を行うのに充分な電流密度である。このゾーンは、一般に、水と接触している全ペイント塗布エリアの１０乃至２０％にあたると推定される。
【００２０】
米国特許第４，９３６，９６９号に、淡水のタンク内の半分の高さのところに、ケーブルで吊り下げた状態に維持するケーブル保護システムが開示されている。このケーブルは
、指定電流を連続的に供給するためのアノードとして機能する。上記ケーブルは、ラインによりフロートから吊り下げられている。ケーブルの形をしているこのアノード・デバイスの電流注入容量は小さいが、長期間にわたってこのような淡水タンクの保護を行うのには十分である。対照的に、初期分極プロセスは非常に遅く、非常に腐食に弱い裸の鋼鉄からできている極低温タンクに対して行われる注水試験の際のすべての腐食の発生を防止するのに適している有効なカソード防食を行うことはできない。
【００２１】
鋼鉄する電流は、保護対象の面積に比例し、本発明は、一般に、注入電流を、通常の非合金鋼に対しては８０ｍＡ／ｍ２に制限する。この注入電流は、長時間有効なカソード防食を行うには十分であり、また、電気の消費量を妥当な値に制限する働きもする。何故なら、この電流を構造体の耐用期間中永久に維持しなければならないからである。
【００２２】
より正確に説明すると、本発明は、使用前に極低温金属タンクを試験するための方法を提供する。この方法の場合には、上記タンクは水で満たされる。この方法の特徴は、下記の工程を行うことである。下記の工程とは、
・ 上記金属極低温タンクに海水を満たす工程と、
・ 上記タンク内にアノードを配置し、アノードが海水に浸漬した場合に、アノードに電流を注入することにより、本質的には露出した鋼鉄からできている上記タンク内の金属の底部と側壁部に一時的なカソード防食を行う工程である。
【００２３】
タンクに海水を満たしている間に、タンクの大きな壁部エリアは最初急速に海水で濡れる。すなわち、タンクの底壁部は海水で濡れ、底壁部の周辺部は、また、最ももろいゾーンの１つになる。本発明の場合には、すべての腐食が起こるのを防止する目的で、注水が始まった後でできるだけ迅速に腐食防止保護を効果的に行うために、支持手段を使用してタンクの底部のすぐ近くに第１のアノード・アレイが設置される。この場合、好適には、上記支持手段および上記第１のアノードは取り外すことができることが好ましい。
【００２４】
タンクの底部の近くにアノードを設置することにより上記アノードを浸漬することができ、それによりできるだけ速く腐食防止を行うことができる。それ故、上記支持手段は、上記第１のアノードをタンクの底部の近くに保持できるものでなければならないし、一方では、上記アノードと上記底部との間のすべての電気的接触を防止するために、アノードを底部から充分離れた状態に維持できるものでなければならない。
【００２５】
本明細書で使用する「取り外すことができる」という用語は、試験が終了した後で、上記第１のアノードと上記支持手段とを上記タンクから取り出すことができることを意味する。
【００２６】
より詳細に説明すると、タンクの底部近くの上記第１のアノードは、タンクの底部から５０センチ（ｃｍ）未満の距離、好適には、２．５ｃｍ乃至２０ｃｍの距離、より好適には、５ｃｍ乃至１０ｃｍの距離だけ底部から上に位置していることが好ましい。この最適の距離は、上記アノードとタンクの金属底部の電気的接触を防止するばかりでなく、アノードがあまりに接近しすぎた場合に起こる恐れがある、すべての電解質の短絡を防止する働きをする。それ故、アノードがタンクの底部の接近しているために、電解質の短絡のすべての危険を防止する一方で最大の効率が維持される。
【００２７】
本発明の場合には、タンクの底部に対して最適なカソード防食を行うために、上記第１のアノードは、タンクの底面の中心を中心とする同心円の周囲に配置されるが、好適には、タンクの底面の直径の４０乃至７５％の範囲内の直径を有することが好ましい。
【００２８】
タンクの底部上に位置する上記第１のアノードのこの円形の配置は、アノード間、また
はそうでない場合には、実際に放出する電流密度に悪影響を及ぼす恐れがある１つのアノードの異なる部分間の干渉を避けるために最適な配置を表す。
【００２９】
上記アノードは、タンクの底部の直径が大きい場合には、複数の同心円を形成するように配置することもできる。しかし、実際には、７５ｍ乃至９０ｍまでの直径を有するタンクの場合で、アノードが５０アンペア（Ａ）の容量を有する場合には、タンクの直径の４０％乃至７５％の範囲内の直径の１つの円を含む配置で十分である。
【００３０】
上記第１のアノードは下記のものにより構成することができる。
・「ワイヤ・アノード」とも呼ばれる１つまたはそれ以上の柔軟な金属ケーブル・アノード。好適には、上記アノードは円を形成しているか、または上記のいくつかの第１のアノードは、円の一部を形成していて、同じ円の周囲に配置されていることが好ましい、および／または
・不連続な状態で並べて配置されていて、そうしたい場合には、導電性ケーブルで相互に接続している複数の硬質のアノード。
【００３１】
しかし、もっと大きな電流密度を供給するためには、好適には、それぞれが、特に、円筒形、長方形またはディスクの形のブロックの形をしている複数の硬質なアノードの形に上記第１のアノードを配置することが好ましい。
【００３２】
より詳細に説明すると、上記第１のアノードは、１つまたはそれ以上の第１のストリングを形成するために、１つ以上のケーブルにより相互に接続されている。上記第１のストリングは、タンクの上記底部の上に近接してほぼ水平に配置されている。
【００３３】
本明細書においては、「アノードのストリング」という用語は、上記硬質のアノードが、それに沿って上記第１のアノードが、好適には一定の間隔で配置されている導電性ワイヤからなるケーブルにより相互に接続されていることを意味する。上記ワイヤは、２つの連続しているアノード間で電気的に絶縁されていて、ワイヤと上記アノード間は電気的に接触している。
【００３４】
上記第１のアノードは、特に任意の１つのストリング内では相互にできるだけ接近して配置されているが、これらアノードは、その効果、すなわち、これらアノードが供給する電流密度に悪影響を与える虞があるような電気的干渉を回避するために十分な間隔をおいて配置されている。
【００３５】
ある実施形態の場合には、上記支持手段は、電気的絶縁材料より形成された素子からなり、タンクの底部上に位置している。また、上記素子は、適宜に第１のストリングに沿って、第１の各アノードの対向端部に位置される。
【００３６】
さらにより詳細に説明すると、上記支持手段は、タンクの底部上に垂直に立っているディスクからなる。上記ディスクは、その中心を通る上記第１のストリングの上記第１のアノードの２つの連続しているアノードを相互に接続されいる絶縁ケーブルの一部を有する。ディスクの直径は、上記垂直方向の上記第１のアノードの直径より大きくする等、適宜に変更可能である。
【００３７】
タンクの底部が海水で濡れた後で、タンクの垂直な側壁部をさらにカソード防食するためには、その底部に近いタンクの水平方向の配置内に上記第１のアノードを設置し、また好適には取り外すことができるように、その頂部からタンクの内側の垂直に吊り下げられている第２のアノードを設置すると有利である。この場合、好適には、上記第２のアノードは、また、垂直に吊り下げられている第２のストリングの形に相互に接続していること
が好ましい。また、上記第２のストリングは、好適には、内接するように相互に間隔を置いて配置することが好ましい。また、好適には、上記タンクと同じ軸を有する円筒形に配置することが好ましい。
【００３８】
有利な実施形態の場合には、垂直に吊り下げられている第２のストリングの底端部に配置されている第２のアノードの端部アノードは、第１のアノードの上記円で囲まれている円形面の面積Ｓ１が、タンクの底部の残りの面積Ｓ２に、タンクの底部の側壁部の高さＨのところの底部の部分の面積Ｓ３を加えたものにほぼ等しくなるように、底部から高さＨのところに位置している。面積Ｓ２は、面積Ｓ１の外側に位置するタンクの底部の残りの面積であり、Ｓ１＝Ｓ２＋Ｓ３である。
【００３９】
上記第１のアノードが、ある電流容量を有し、これら第１のアノードが、腐食が発生するのを防止するために適当な電気化学ポテンシャルを達成することができるような電流密度を発生することができるだけの数および配置で設置されていること、そしてこれは、腐食が発生するのに必要な時間より短い時間内に、特に１時間より短い時間内に、好適には２０分より短い時間内、好適には、実際には瞬間的に行われ、タンクの底部の表面（Ｓ１＋Ｓ２）のすべての点でこれが発生すること、そのほうがよい場合には、タンクの垂直な側壁部の高さＨのところの底部表面（Ｓ３）上のすべての点で起こることを理解することができるだろう。タンクの底部近くに位置する第１のアノードのこの配置により、浸漬した側壁部を保護するために垂直に吊り下げられている第２のアノードが腐食防止を行う前に、タンクの低い部分（すなわち、Ｓ１＋Ｓ２＋Ｓ３）に対して完全なカソード防食を行うことができる。
【００４０】
海水の存在下で９％ニッケル鋼に対して本発明により行った測定は、腐食に対して免疫性を与えるためには、Ａｇ／ＡｇＣｌタイプの基準電極に対して、−９５０ミリボルト（ｍＶ）の保護電気化学ポテンシャルで十分であることを示した。
【００４１】
より詳細に説明すると、上記タンクの金属は９％ニッケル鋼であり、鋼の保護電気化学ポテンシャルは−９５０ｍＶであり、第１のアノードは、２００ｍＡ／ｍ２乃至４００ｍＡ／ｍ２の電流密度が達成できるように、タンクの底部近くに位置している。それ故、この電流密度は、水を含む従来の金属タンクに対するカソード防食の分野で通常実施される電流密度の数値の４乃至８倍である。この場合、構造体の全耐用期間中分極を維持しなければならない。
【００４２】
タンクの底部上で円形の幾何学的形状の周囲に、端部同士が向き合うように配置されているアノードのストリングにより、電流を約２００ｍＡ／ｍ２乃至４００ｍＡ／ｍ２の密度で注入することができる。
【００４３】
本発明の場合には、高容量アノード、特に５０Ａの非常に大きな注入電流を収容することができ、２００ｍＡ／ｍ２乃至４００ｍＡ／ｍ２の電流密度を供給することができるアノードを使用することにより、また、タンクの金属底部および壁部に近いアノード間に、２５ミリメートル（ｍｍ）乃至５００ｍｍの範囲内の狭い間隔で関連する非常に高い密度でアノードを配置することにより、−９５０ｍＶの腐食免疫性電気化学ポテンシャルを達成し、上記アノードが海水内に浸漬された後で、アノードが腐食保護を開始するやいなや、非常に迅速にまたは実際には瞬間的に、９％ニッケル鋼でできているタンクの全底部上で分極プロセスを作動することができる。
【００４４】
それ故、本発明を使用すれば、タンクの底部および垂直な側壁部の両方の全閉じ込めエンベロープの統合性を保証しながら、従来使用されてきた淡水の代わりに、海水を有利に使用して注水試験を行うことができる。
【００４５】
本発明の他の有利な特性によれば、タンクの底部のすぐ近くに位置する上記第１のアノードが完全に浸漬されるまで、最初上記タンクは淡水で満たされる。その後で、上記第１のアノードに電流が注入され、上記タンクへの注水が引き続き行われるが、こんどは海水が使用される。
【００４６】
タンクの底部に近い位置に上記第１のアノードが位置しているので、淡水による最初の注水は少量の淡水で行われ、上記第１のアノードが腐食保護動作に入る前に、腐食のすべての危険をさらに低減することができ、タンクの底部に対して有効なカソード防食を行うことができる。
【００４７】
都合のよいことに、本発明の他の特性によれば、上記壁部の電気化学ポテンシャルを測定するために、また複数の発電機またはその位置により、種々のアノードに関連して行われた上記測定の関数として、種々のアノード内に注入される電流の量を規制することができるように、上記第１および第２のアノードに別々に電流を供給することができるコントローラを制御するために、上記タンクの底部および壁部上に種々のデバイスが設置される。
【００４８】
本発明は、また、本発明の試験方法で使用するのに適している鋼鉄の露出金属壁部を有する極低温タンクを提供する。上記タンクの特徴は、このタンクが、好適には、上記タンク内に取り外すことができるように配置することが好ましい、すでに定義したアノードを含む一時的なカソード防食システムを含むことと、上記タンクが、また、好適には、複数の発電機またはすでに説明したように、上記アノードに異なる量の電流を供給するのに適しているコントローラを制御するために、上記壁部の電気化学ポテンシャルを測定することができる種々のデバイスを含むことである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４９】
本発明の他の特徴および利点については、添付の図面を参照しながら種々の実施形態の下記の詳細な説明で記述する。
図１は、貯蔵対象の極低温液体を収容するための底部１、および円形円筒状の側壁部３を備える大容量の円形円筒状の金属タンク１である。
【００５０】
図２は、それに極低温特性を与える円筒状の金属タンク１用の絶縁システムである。この絶縁システムは、鉄筋コンクリート３２のウエブからなる硬質管状構造体により囲まれている熱絶縁材料３１自身の層からなる。タンク１は、その頂部上に金属フレーム４１により支持されているドーム状のカバー４を有する。
【００５１】
例を挙げて説明すると、円筒状の金属タンクは、内径７５ｍ、高さ５０ｍを有する空間を含み、１６５０００ｍ３の容積を有する。タンクの内壁を形成していて、カソード電流により保護しなければならない金属の総面積は約１６０００ｍ２である。
【００５２】
タンクはすでに説明したように、９％ニッケル鋼で作ると有利であり、その壁部は、底部２のところの壁部の厚さを１９ｍｍにし、垂直な側壁部の底端部のところの厚さを２８．８ｍｍにすると有利である。この場合、垂直な側壁部のこの厚さは、上記タンクの垂直な側壁部３の頂部の最小の厚さが１０ｍｍになるように、タンクの頂部の方向にほぼ同じ傾きでテーパ状になっている。
【００５３】
図２は、大きな剛性を与え、絶縁システムを含む１３０ｃｍの厚さを有する基礎いかだ（ｒａｆｔ）２１である。
タンク１の金属側壁部３を取り巻く熱絶縁材料の層３１は、例えば、パーライト（ｐｅ
ａｒｌｉｔｅ）からできていて、１００ｃｍの厚さを有する。鉄筋コンクリートの外部ウエブ３２は８０ｃｍの厚さを有する。
【００５４】
図１、図５、図９および図１０は、円形に配置されているタンクの底部２の近くに水平に位置する上記第１のアノード用の種々の装置を示す。
図１の場合には、上記第１のアノード５１は、円筒状のＣ１内に位置する１つの「第１の」ストリング５を形成する。図９の場合には、上記第１のアノードは、それぞれがほぼ半円の形をしている２つの「第１の」ストリング５を形成する。この場合、上記２つの第１のストリングは、一緒に円Ｃ１を形成する。図５の場合には、上記第１のアノードは、複数のストリング、すなわち、水平に延びる８つの「第１の」ストリング５を備える。上記第１の各ストリング５は、３つのアノード５１を備える。上記第１のストリングは、円の一部を形成し、これらストリングは、共通の円の周囲に等間隔になるように配置されている。図５の実施形態は、複数の上記第１のストリングを含むことが好ましい。何故なら、上記第１のストリングは、電流レベルを関連ゾーン内の要件に整合させるために、それぞれの異なる電流の供給を受けることができるからである。非常に大型のタンクの場合には、および特に７５ｍを超える直径のタンクの場合には、第１の円Ｃ１の周囲に配置されている上記第１のストリング５は、タンクの底部の表面上の中心ゾーンに追加のカソード防食を行うように、もっと小さな直径の円Ｃ２の周囲に配置されているもっと小さな電流容量の細長い柔軟なアノードと関連を有することができる。それ故、図１０の場合には、上記第１の柔軟なアノードの中の２つは、同心円Ｃ２の周囲を延びる湾曲したケーブルの形でタンクの底部の中心ゾーン内に位置する。この場合、上記の細長い各第１のアノードは、その周囲のほぼ半分を占める。それ故、もっと小さな直径の円Ｃ２内に位置する第２の一連の第１のアノードは、タンクの底部２の中心部分に追加のカソード防食を行う。
【００５５】
また、図１および図２は、タンクのドーム４の構造体４１から垂直に吊り下がっているアノード６の第２のストリングを示す。
図１は、垂直に延びる、すなわち、水平面の一部内の円内を延びるアノード６の種々の第２のストリングの好適な配置を示す。
【００５６】
図１および図１０は、図に示すための便宜上、底部アノードが床上Ｈの高さに位置している場合の、それぞれが等間隔で配置されている複数のアノード６１を備える６つの上記の垂直な第２のストリング６を示す。
【００５７】
図３および図４の場合には、アノード５および６のストリングは、それぞれ、アノード５１および６１の相互に接続しているか、またはこれらアノードを通る、好適には、銅でできていることが好ましい導電性ケーブル７からなる。アノードは、好適には、機械的に正しい位置に保持されている上記ケーブル７の周囲に固定されていることが好ましい。上記アノード５１，６１は、種々の貴金属でカバーされているタングステンのような貴金属からできている。上記アノード５１，６１は、好適には、導電性ケーブル７に沿って等間隔で設置されていることが好ましい。ケーブル７は、所与のストリング５６内の２つのアノード５１，６１の間に絶縁材料７１を有する。しかし、導電性ケーブル７は、当然上記アノード５１，６１に電気的に接続していて、２つの連続しているアノード５１および６１間を延びるケーブルのこれらの部分だけが絶縁される。
【００５８】
上記各ストリングにおいては、使用しているアノード５１，６１は、大容量のものである。すなわち、これらアノードは５０Ａの容量を有し、その形は円筒形または卵形であり、それぞれ、その長さは約１ｍであり、外径は約２２ｍｍであり、干渉を避け、最大の電流密度を得るために、上記ストリングに沿って３乃至５ｍ間隔で位置している。
【００５９】
上記の垂直な第２のストリング６においては、図面に示す都合上、５つのアノード６１
だけが図示されている。５０ｍの高さを有するタンクの場合には、もっと多くの上記アノードが必要なことを理解することができるだろう。
【００６０】
水平ストリング５は、例えば、絶縁材料からできているディスクからなり、アノード５１の直径よりも大きい直径を有する支持素子５２によりタンクの底部２のすぐ近くに保持されている。上記ディスクは、各アノード５１の各端部のところのケーブル７の周囲に位置している。これらの絶縁ディスク５２は垂直に配置されていて、その縁部を通して、２５ｍｍの直径を有するアノード用の２２５ｍｍの外径を有するタンクの底部２上に位置していて、それにより、確実にアノード５１がタンクの底部２から１００ｍｍのほぼ一定の間隔を有するようにし、そのため、アノード５１と底部２との間の電気的接触を防止すると同時に、電解質の短絡も防止する働きをする。
【００６１】
７５ｍの直径を有するタンクの場合には、上記第１のアノードを半径Ｒ１＝２７ｍの円の周囲に複数のストリングとして配置すると有利である。
タンクの底部上に位置する上記第１のアノード５１を円内に配置すると、供給電流密度に悪影響を持つ恐れがある、アノード間の干渉を避けるための最適な配置になる。第１のアノード５１を上記特性（アノードの長さ１ｍ、容量５０Ａ、相互に３ｍ乃至５ｍ離れている）を有する円内に位置させると、アノード内に５０Ａの電流を注入することにより、２５０ｍＡ／ｍ２乃至２７５ｍＡ／ｍ２の初期電流密度を得ることができ、それ故、数十分以内、または数分以内に、上記アノードから数十メートルの半径内に位置するタンクの表面のところにある電位を得ることができる。
【００６２】
図１の場合には、アノード６の垂直なストリングは、アノード５の上記水平ストリングと同じ直径を有する円の周囲に位置しているが、それはアノードを設置したり取り出したりする実際の都合上このような配置になっているだけである。しかし、機能上の観点から、タンクの側壁部の表面に対して垂直な第２のアノード６１を配置する距離は、上記側壁部からの第１のアノードの距離と異なる距離であってもよい。タンクの側壁部の表面にあまりに接近して垂直なアノード６１を設置するのは、必ずしも有利ではない。何故なら、そのような配置にすると、もっと多くのアノードを使用しなければならなくなるからである。
【００６３】
図１、図５および図９に示す円Ｃ１内に配置されたアノード５の水平ストリングの配置の別の好適な実施形態の場合には、上記円Ｃ１は、水平ストリング５が形成する円の外側のタンクの底部上の表面の残りの部分が形成する表面積Ｓ２に、アノードの垂直なストリングの底部端部の高さに対応する、高さＨのところの垂直な側壁部３の底部に対応する表面積Ｓ３を加えたものにほぼ等しい内表面積Ｓ１を形成するように（Ｓ１＝Ｓ２＋Ｓ３）、２５ｍ乃至３０ｍの半径Ｒ１を有する。それ故、２５ｍ乃至３０ｍの範囲内の半径Ｒ１の場合には、Ｈは１ｍ乃至４ｍの範囲内にある。
【００６４】
タンクに注水している際に、海水がアノード６の垂直な第２のストリングの底端部のところの末端のアノード６１に達した場合で、このアノードとまだ接触してない場合には、底部と海水で濡れた垂直な壁部の一部からなる、タンクの底部にカソード防食を行うのは、底部上に位置するアノード５の水平な第１のストリング内の第１のアノード５１だけである。それ故、アノード６の垂直なストリングの上記アノード６１が腐食保護動作をスタートするまで、底部上に位置するアノード５の上記水平なストリングは、タンクの底部の表面積Ｓ１＋Ｓ２に、底部吊り下げアノード６１の下に位置する側壁部の底部の表面積Ｓ３を加えたものからなる保護対象のタンクの表面のほぼ重心に位置し、できるだけ速く分極の必要なレベルに上げるために供給される非常に大きな電流が、タンクの中心から底部の周辺および高さＨまでの側壁部に均等で最適な状態で分配される。
【００６５】
図７Ａ乃至図７Ｄのアノードに対する位置の関数として、電流密度（ｍＡ／ｍ２）がどのように変化するのかを示す図７Ａ乃至図７Ｄおよび図８Ａ乃至図８Ｂを参照しながら、分極プロセスについて説明する。図７Ａは、アノードに電流の注入をスタートした時の電流密度を示し、図７Ｂ、図７Ｃおよび図７Ｄは、その後の例の図である。図８Ａおよび図８Ｂは、それぞれ、時間の関数として、処理対象のタンクの表面の所与の点で測定した電気化学ポテンシャルＥおよび電流密度（Ｉ／ｍ２）である。
【００６６】
図８Ａおよび図８Ｂは、時間ｔｐのところまで、電気化学ポテンシャルＥおよび電流密度が同時に上昇することを示す。時間ｔｐにおいて、電気化学ポテンシャルＥは、この場合には、−０．９５Ｖである腐食免疫値に達する。この値は、使用する９％ニッケル鋼の分極に特有なものであり、この時間ｔｐのところで、ほぼ同時に電流密度のピークは、２５０ｍＡ／ｍ２乃至２７５ｍＡ／ｍ２に達する。図７Ａ乃至図７Ｄを見れば、アノードに対して電流の供給がスタートするとすぐに、アノードの近いゾーン内の電流密度が非常に高くなり、ここから離れるにつれて減少することが分かる。供給電流は、自然に２５０ｍＡ／ｍ２乃至２７５ｍＡ／ｍ２の範囲内にある最大値に制限される。何故なら、このような鋼の保護電位（−９５０ｍＶ）に迅速に到達するには、このレベルで十分であるからである。
【００６７】
電気化学プロセスは、ミネラル塩を含む海水内で行われ、カルシウムおよびマグネシウムをベースとするスケールの沈殿物が観察される。それ故、このスケールは、アノードに近いゾーン内の図８Ａおよび図８Ｂのｔ＝０とｔ＝ｔｐの間に沈殿し、その後で、電流密度は減少し、５０ｍＡ／ｍ２乃至１００ｍＡ／ｍ２の範囲内で安定し、一方、電圧Ｅは、もはや有意に変化しないで、約−１Ｖのところに留まる。スケール沈殿物は、分極面上のｐＨの増大によるもので、この沈殿物は、関連エリア上で、電流密度を約５０ｍＡ／ｍ２乃至約１００ｍＡ／ｍ２の範囲内に位置する値まで減少させる効果を有する天然の絶縁バリヤを生成する。これは電位Ｅを、９％ニッケル鋼に対して−０．９５Ｖよりもっと負の方向の値に維持するのに十分である。これにより、すべての腐食プロセスが防止される。
【００６８】
それ故、アノードをできるだけタンクの底部に近づけることにより、また供給電流レベルを増大することにより、保護層が形成されるこのプロセスが有意に加速されることが理解できるだろう。
【００６９】
実際には、アノード５１を底部から数センチメートルのところに設置することにより、海水の注水速度が１時間当たり１０００立法メートル（ｍ３／ｈ）を超える場合には、アノードは数分間海水内に浸漬し、その結果、アノードが海水内に浸漬すると、アノードは瞬間的に腐食保護活動に入り、数分以内に効果的な保護がスタートする。さらに、大容量アノード内の供給電流レベルが十分に高い場合（５０Ａ容量）で、すでに説明したようにアノードの数が十分であり、適当に配置されている場合には、約１０メートルの遠い距離のところで、迅速に（数分以内に）カソード防食を行うことができる。それ故、数十分以内に、タンクの底部の全表面が完全に保護され、その結果、すべての腐食の開始を防止することができる。
【００７０】
好適な実施形態の場合には、タンクに水を注水することによるタンクの漏水および機械的強度を確認するための試験は、通常、淡水の深さが５ｃｍ乃至１０ｃｍになり、妥当な量の淡水が注水されて、底部のアノード５１が完全に浸漬されるまで、１０００ｍ３／ｈの流量でタンクに淡水を注水することによりスタートする。その後で、上記アノードに電流が供給され、非常に速い流速で海水が引き続き注水される。
【００７１】
「淡水」は、浸食性があまり強くない場合には、その地方の給水源または川水、または工業用水からとることができる。
海水が淡水と混合し、電流がアノード内に注入されると、アノードが分散配置されていて、またタンクの底部上に位置するすべてのアノードを通して非常に大量の電流が同時に注入されるために、タンクの底部の金属表面は数分以内にカソード防食構成内で分極を起こす。
【００７２】
アノード５および６の上記ストリングは、１つまたはそれ以上の定電流源９に接続していて、デバイス９１は、好適には、その頂部を通してタンク１から延びているケーブル８を通して注入される電流を監視し、制御することが好ましい。複数のストリング５、６は、アレイの形に相互に接続することができ、１つの定電流源９と関連づけることができる。しかし、好適には、アノード５の水平の第１のストリング、およびアノード６の上記の垂直な第２のストリングは、いくつかの発電機９またはいくつかのコントローラ９ａ乃至９ｃに接続していることが好ましく、また好適には、上記各アノード・ストリング６は、いくつかの発電機９またはコントローラ９ａ乃至９ｃに関連する１つの発電機９に接続していることが好ましく、それにより、保護されている底壁部２のゾーンおよび側壁部３のゾーンの関数として、カソード防食を最適にするために、（以下に説明するように）電流の注入を上記各ストリング５，６内で別々に制御することができる。上記ゾーンの中の特定のゾーン内に欠陥が生じた場合に、このような個別の制御が必要になる場合があり、タンクが多角形の基礎の上に載っている四角柱である場合には、必ず必要になる。何故なら、このようなタンクは、比較的もろく、タンクの残りの部分よりももっと高いレベルのカソード防食を必要とするコーナーを持っているからである。
【００７３】
図２の場合には、タンクのドーム４の上部構造体４１から吊り下がっているアノード６のいくつかの垂直なストリング、およびタンクの底部上に位置するいくつかの水平なストリング５は、ケーブル８により、１つの定電流源９に電気的に接続している。この場合、何本かのケーブル８がブラケット２０から吊り下がっている。このようなブラケット２０は、図９の好適で有利な実施形態上に設置することもできる。
【００７４】
図９の場合には、タンク１の壁部の電気化学ポテンシャルＥは、タンクの底部２上に３つのセンサ１０ａ、１０ｂおよび１０ｃを設置し、垂直な壁部の発電機のラインに沿って３つの追加のセンサ１０ｄ、１０ｅおよび１０ｆを設置することにより監視することができる。例えば、Ａｇ／ＡｇＣｌ基準セル・タイプのこれらのセンサ１０ａ乃至１０ｆは、監視および制御ユニット１１に接続していて、電気化学ポテンシャルの値が、パーソナルコンピュータ・タイプのコンピュータ１２により試験中継続的に記録される。例えば、２４ＶＤＣのような低電圧の分極電流が、主電源に接続していて、また中央監視／制御ユニット１１の制御下で、サイリスタにより、３つの電子コントローラ９ａ，９ｂ，９ｃに接続しているトランスおよび整流器９により供給される。コントローラ９ａは、上記の垂直な第２のストリング６すべてに接続していて、コントローラ９ｂおよび９ｃは、それぞれ、アノード５の上記第１のストリングの２つの異なるストリング、または半円形に配置されていて、タンクの底部上に位置しているが、図１０のところで説明するように、そこから絶縁している上記の連続している第１のアノード５１の２つのアノードに接続している。
【００７５】
底部上に配置されているセンサ１０ａ乃至１０ｃは、下記のように有利に配置されている。
・センサ１０ａは、図７Ａに示す分極波および図７Ｂ方向へのその変位を監視するために円形アノードの近くに位置する。
【００７６】
・センサ１０ｂは、水が深くなると、分極電流がどのように変化するのかを監視するために、円筒状の側壁部のコーナーの近くに位置する。
・最後のセンサ１０ｃは、図７Ｃおよび図７Ｄに示すように、タンクの底部全体上の分
極状態を監視するために、タンクの中心の方向に有利に位置する。
【００７７】
センサ１０ｄ、１０ｅおよび１０ｆは、水の深さが上記タンクの頂部まで上昇する間の分極を監視するために、垂直な壁部３の発電機ラインに沿って有利に設置されている。
図面を見やすくするために、図では、センサに接続しているケーブルは、監視／制御システム１１に直接接続しているが、実際には、これらのケーブルは、電力ケーブル８の経路に類似している経路を通る。すなわち、これらのケーブルは、タンク内を上昇し、上記監視／制御システム１１に戻る前に、ブラケット２０を通してドーム・レベルのところでタンクから離れる。
【００７８】
電気化学ポテンシャルは、例えば、−０．９５Ｖよりもっと負の範囲のような、最小（絶対）値より上の範囲に維持しなければならないし、また、例えば、−１．２Ｖを超えないように維持しなければならない。それ故、上記電気化学ポテンシャルが上記−０．９５Ｖの最小（絶対）値に近づくやいなや、監視／制御システム１１は、対応するコントローラ９ａ、９ｂおよび９ｃにより供給電流を有意に増大する。同様に、電気化学ポテンシャルが−１．２Ｖに近づくと、上記監視／制御システムは、供給される対応する電流量を有意に低減することにより動作する。
【００７９】
図１０に示すように、アノードが連続していなくて、円筒、楕円または多角形の形をしていようが、アノードが連続していて、電流供給容量の点で高性能なケーブルの形（「ワイヤ」アノード）をしていようが、底部上に複数の円または任意の他の幾何学的配置としてアノードが配置されていも、それは本発明の精神内に含まれる。このようなすべての配置において、上記アノードは直接の短絡および電気化学的短絡を防止するために、絶縁デバイスにより表面からある間隔を置いて保持される。
【００８０】
図１１および図１２は、第１のアノード５１の修正した実施形態を示す。これらの実施形態の場合には、第１のアノード５１は、垂直な第２のストリング６を終端させるように位置している第１のアノードからなる。第１のアノード５１は、支持手段５２によりタンクの底部２上に位置していて、そのすぐ上に位置する上記最も近い第２のアノード６１は、１乃至４ｍの範囲内の高さＨのところに位置する。
【００８１】
図１１および図１２の場合には、第１のアノード５１は、水平に配置されている。すなわち、その主要な部分が水平方向に配置されている。しかし、垂直な側壁部を保護するための第２のアノード６１の場合には、アノードは垂直に配置されている。すなわち、その主要な部分が垂直方向に延びている。図１１の場合には、第１のアノードは、長方形の形をしていて、アノードの各端部に固定されている垂直に配置された絶縁ディスクより構成されている支持手段５２により保持されている。図１２の場合には、第１のアノード５１は、上記第１のアノード５１を構成している上記ディスクの下に配置されたスタッドまたは脚部５２からなる支持手段により支持されている水平ディスクである。
【００８２】
タンクを建造した後で、それに海水を注水する前に、第１のアノードはタンクの底部上に設置され、機械的に固定するかまたは一時的な接着剤により、タンクに注水している間に組立体が決して変形または移動しないようにするために、重りで安定させることにより正しい位置に保持される。上記注水は、かなりの流量（１０００ｍ３／ｈ乃至１５００ｍ３／ｈ）で行われるので、大量の渦巻きが発生する。
【００８３】
垂直な第２のストリングは、ドームのフレームワーク４１から吊り下げられていて、電流を供給するための何本かのケーブル、および電気化学ポテンシャル測定セルから延びる種々の測定ケーブルは、電力ユニットおよび監視／制御ユニットに達する前に、ドーム４のレベルのところでタンクから離れる。
【００８４】
タンクの垂直な側壁部および底壁部と側壁部の間の接続部に対して漏水試験が行われ、この場合、上記壁部は、外部から特に絶縁用のゾーンおよびそのサイズのためにアクセスすることができるゾーンから観察される。
【００８５】
試験の終わりに、タンクから水が抜き取られ、次に、第１および第２のアノードのように測定セルが抜き取られる。
次に、すべての塩分を除去するために、タンクの壁部の全表面が加圧淡水噴射により洗い流され、その後で放置して水を蒸発させる。
【図面の簡単な説明】
【００８６】
【図１】定電流源が電流をアノードのアレイに供給する、本発明のタンクの簡単な分解斜視図。
【図２】発電機とアノードのストリング間の接合部のある特定の実施形態の詳細を示す、本発明のタンクの軸に沿った二分割部分の側面図。
【図３】垂直に吊りさげられたアノードのストリングの一部を示す側面図。
【図４】タンクの底部上に位置するアノードのストリングの一部を示す側面図。
【図５】円形幾何学的形状内のタンクの底部上に設置するための、アノードのいくつかのストリングの分散方法を示す平面図。
【図６】底部上に位置するアノードと同一平面上のタンクの底部の表面のゾーンを示す斜視図。
【図７Ａ】（ｍＡ／ｍ２単位で）分極電流密度が縦座標上に表示され、アノードからの距離が横座標上に表示されている黒丸でアノードを表しているグラフ。
【図７Ｂ】（ｍＡ／ｍ２単位で）分極電流密度が縦座標上に表示され、アノードからの距離が横座標上に表示されている黒丸でアノードを表しているグラフ。
【図７Ｃ】（ｍＡ／ｍ２単位で）分極電流密度が縦座標上に表示され、アノードからの距離が横座標上に表示されている黒丸でアノードを表しているグラフ。
【図７Ｄ】（ｍＡ／ｍ２単位で）分極電流密度が縦座標上に表示され、アノードからの距離が横座標上に表示されている黒丸でアノードを表しているグラフ。
【図８Ａ】保護対象の金属側壁または底部上の任意の点Ｍのところでの、電気化学ポテンシャルＥ（図８Ａ）および電流密度（Ｉ／ｍ２）の変化を示すグラフ。
【図８Ｂ】上記図８Ａと同じく電気化学ポテンシャルＥおよび電流密度（Ｉ／ｍ２）の変化を示すグラフ。
【図９】分極電流の供給を規制するための制御システムを示す簡略図。
【図１０】図５に示すように、その底部上に設置されたアノードのストリングを有し、絶縁ディスク（図示せず）により、底部上のある距離に保持された２つの隣接する半円からなる円形アノードを有する円形タンクの平面図。
【図１１】アノードの垂直なストリングを示す側面図。
【図１２】アノードの垂直なストリングを示す側面図。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
使用前に極低温金属タンクを試験するための方法であって、前記タンク（１）が水で満たされ、必要な場合には、適当な測定が行われ、下記の工程、すなわち、
・前記金属極低温タンク（１）に海水を満たす工程と、
・前記タンク（１）内にアノードを配置し、前記アノードが海水に浸漬した場合に、前記アノードに電流を注入することにより、ほぼ露出した鋼鉄から形成されるタンク（１）の金属の底部と側壁部（２，３）に一時的なカソード防食を行う工程と
からなることを特徴とする方法。
【請求項２】
第１のアノード・アレイ（５１）が、支持手段（５２）により前記タンクの底部のすぐ近くに配置されていて、好適には、前記支持手段（５２）と前記第１のアノード（５１）が取り外すことができることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記タンクの底部（２）に近い前記第１のアノード（５１）が、５０ｃｍ未満、好適には、２．５ｃｍ乃至２０ｃｍ、より好適には、５ｃｍ乃至１０ｃｍの範囲で前記タンクの底部から上に位置していることを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記第１のアノード（５１）が、前記タンクの底面の中心を中心とする同心円（Ｃ１）に沿って配置されていて、好適には、前記円（Ｃ１）の直径が、前記タンクの底面の直径の４０％乃至７５％であることを特徴とする請求項１または２に記載の方法。
【請求項５】
前記第１のアノード（５１）が、１つ以上の第１のストリング（５）を構成する１つ以上のケーブルにより相互に接続していて、前記第１のストリングが、前記タンクの底部（２）上の付近にほぼ水平に配置されていることを特徴とする請求項２乃至４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記支持手段（５２）が、前記タンクの底部（２）上に位置する電気絶縁材料の素子からなり、そのほうがよい場合、前記第１のストリング（５）に沿って前記各第１のアノード（５１）の対向端部に配置されていることを特徴とする請求項２乃至５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
前記支持手段（５２）が、前記タンクの底部（２）上に垂直に位置するディスクからなり、前記ディスクの直径が、前記垂直方向の前記第１のアノード（５１）の直径より大きく、そのほうがよい場合には、前記ディスクの中心が、前記第１のストリングの前記第１のアノード（５１）の相互に接続している２つの連続しているアノードを貫通する絶縁ケーブルの一部を有することを特徴とする請求項５または６に記載の方法。
【請求項８】
前記タンク内に、前記タンクの底部（２）の近くに水平に配置されている前記第１のアノード（５１）と、好適には取り外すことができるように、その頂部（４）から前記タンクの内部に垂直に垂れ下がっている前記第２のアノード（６１）が位置していて、好適には、前記第２のアノードも垂直に垂れ下がっている第２のストリング（６）の形に相互に接続していて、好適には、前記第２のストリング（６）も内接するような方法で、また好適には、前記タンク（１）と同じ軸を有する円筒状に一定の間隔で相互に分離していることを特徴とする請求項１乃至７のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
前記垂直に垂れ下がっている第２のストリング（６）の底部端部のところに配置されている前記第２のアノード（６１）の最後のアノードが、前記第１のアノード（５１）が形成する円形表面の面積（Ｓ１）が、前記タンクの前記底部（２）の残りの面の面積（Ｓ２）に、前記タンクの垂直な側壁部（３）の高さＨのところの底部の面積（Ｓ３）を加えたも
のにほぼ等しくなるように、前記底部（２）から高さＨのところに位置することを特徴とする請求項１乃至８のいずれかに記載の方法。
【請求項１０】
前記タンクの前記金属が９％ニッケル鋼であり、該ニッケル鋼の電気化学ポテンシャルが−９５０ｍＶであり、前記第１のアノード（５１）が電流密度を２００ｍＡ／ｍ２乃至４００ｍＡ／ｍ２にすることができるように、前記タンクの底部（２）の近くに位置することを特徴とする請求項２乃至９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
その位置により、種々のアノード（５１，６１）に関連して行った前記測定値の関数として、前記種々のアノードに注入される電流量を規制できるように、前記壁部の前記電気化学ポテンシャルを測定し、前記第１および第２のアノード（５１，６１）に電流を供給する複数の発電機（９）を制御するために、前記タンク（１）の壁部（２，３）に対してデバイス（１０，１１）が設置されていることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれかに記載の方法。
【請求項１２】
前記タンクの底部（２）のすぐ近くに位置する前記第１のアノード（５１）がほぼ完全に浸漬するまで、最初に前記タンクに淡水を注水し、その後で、前記第１のアノード（５１）に電流が注入され、前記タンクに引き続き海水が注水される請求項１乃至１１のいずれかに記載の方法。
【請求項１３】
請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の方法で使用するのに適している鋼鉄の露出金属壁部を有する極低温タンク（１）であって、前記タンクが、好適には請求項１乃至１２のいずれか１項に定義するように、前記タンク（１）内に取り外すことができるように配置されているアノード（５１，６１）を備える一時的なカソード防食システムを含み、好適には請求項２乃至１０のいずれか１項に定義するように、支持手段（５２）含むことと、また、タンクが、好適には、請求項１１に定義するように、複数の発電機（９）を制御するために、前記壁部（２，３）の前記電気化学ポテンシャルを測定することができるデバイス（１０乃至１１）を含むことを特徴とするタンク。
【請求項１４】
前記タンクの底部の直径が５０ｍ以上であることを特徴とする請求項１３に記載のタンク。
【請求項１】
使用前に極低温金属タンクを試験するための方法であって、前記タンク（１）が水で満たされ、必要な場合には、適当な測定が行われ、下記の工程、すなわち、
・前記金属極低温タンク（１）に海水を満たす工程と、
・前記タンク（１）内にアノードを配置し、前記アノードが海水に浸漬した場合に、前記アノードに電流を注入することにより、ほぼ露出した鋼鉄から形成されるタンク（１）の金属の底部と側壁部（２，３）に一時的なカソード防食を行う工程と
からなることを特徴とする方法。
【請求項２】
第１のアノード・アレイ（５１）が、支持手段（５２）により前記タンクの底部のすぐ近くに配置されていて、好適には、前記支持手段（５２）と前記第１のアノード（５１）が取り外すことができることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記タンクの底部（２）に近い前記第１のアノード（５１）が、５０ｃｍ未満、好適には、２．５ｃｍ乃至２０ｃｍ、より好適には、５ｃｍ乃至１０ｃｍの範囲で前記タンクの底部から上に位置していることを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記第１のアノード（５１）が、前記タンクの底面の中心を中心とする同心円（Ｃ１）に沿って配置されていて、好適には、前記円（Ｃ１）の直径が、前記タンクの底面の直径の４０％乃至７５％であることを特徴とする請求項１または２に記載の方法。
【請求項５】
前記第１のアノード（５１）が、１つ以上の第１のストリング（５）を構成する１つ以上のケーブルにより相互に接続していて、前記第１のストリングが、前記タンクの底部（２）上の付近にほぼ水平に配置されていることを特徴とする請求項２乃至４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記支持手段（５２）が、前記タンクの底部（２）上に位置する電気絶縁材料の素子からなり、そのほうがよい場合、前記第１のストリング（５）に沿って前記各第１のアノード（５１）の対向端部に配置されていることを特徴とする請求項２乃至５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
前記支持手段（５２）が、前記タンクの底部（２）上に垂直に位置するディスクからなり、前記ディスクの直径が、前記垂直方向の前記第１のアノード（５１）の直径より大きく、そのほうがよい場合には、前記ディスクの中心が、前記第１のストリングの前記第１のアノード（５１）の相互に接続している２つの連続しているアノードを貫通する絶縁ケーブルの一部を有することを特徴とする請求項５または６に記載の方法。
【請求項８】
前記タンク内に、前記タンクの底部（２）の近くに水平に配置されている前記第１のアノード（５１）と、好適には取り外すことができるように、その頂部（４）から前記タンクの内部に垂直に垂れ下がっている前記第２のアノード（６１）が位置していて、好適には、前記第２のアノードも垂直に垂れ下がっている第２のストリング（６）の形に相互に接続していて、好適には、前記第２のストリング（６）も内接するような方法で、また好適には、前記タンク（１）と同じ軸を有する円筒状に一定の間隔で相互に分離していることを特徴とする請求項１乃至７のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
前記垂直に垂れ下がっている第２のストリング（６）の底部端部のところに配置されている前記第２のアノード（６１）の最後のアノードが、前記第１のアノード（５１）が形成する円形表面の面積（Ｓ１）が、前記タンクの前記底部（２）の残りの面の面積（Ｓ２）に、前記タンクの垂直な側壁部（３）の高さＨのところの底部の面積（Ｓ３）を加えたも
のにほぼ等しくなるように、前記底部（２）から高さＨのところに位置することを特徴とする請求項１乃至８のいずれかに記載の方法。
【請求項１０】
前記タンクの前記金属が９％ニッケル鋼であり、該ニッケル鋼の電気化学ポテンシャルが−９５０ｍＶであり、前記第１のアノード（５１）が電流密度を２００ｍＡ／ｍ２乃至４００ｍＡ／ｍ２にすることができるように、前記タンクの底部（２）の近くに位置することを特徴とする請求項２乃至９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
その位置により、種々のアノード（５１，６１）に関連して行った前記測定値の関数として、前記種々のアノードに注入される電流量を規制できるように、前記壁部の前記電気化学ポテンシャルを測定し、前記第１および第２のアノード（５１，６１）に電流を供給する複数の発電機（９）を制御するために、前記タンク（１）の壁部（２，３）に対してデバイス（１０，１１）が設置されていることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれかに記載の方法。
【請求項１２】
前記タンクの底部（２）のすぐ近くに位置する前記第１のアノード（５１）がほぼ完全に浸漬するまで、最初に前記タンクに淡水を注水し、その後で、前記第１のアノード（５１）に電流が注入され、前記タンクに引き続き海水が注水される請求項１乃至１１のいずれかに記載の方法。
【請求項１３】
請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の方法で使用するのに適している鋼鉄の露出金属壁部を有する極低温タンク（１）であって、前記タンクが、好適には請求項１乃至１２のいずれか１項に定義するように、前記タンク（１）内に取り外すことができるように配置されているアノード（５１，６１）を備える一時的なカソード防食システムを含み、好適には請求項２乃至１０のいずれか１項に定義するように、支持手段（５２）含むことと、また、タンクが、好適には、請求項１１に定義するように、複数の発電機（９）を制御するために、前記壁部（２，３）の前記電気化学ポテンシャルを測定することができるデバイス（１０乃至１１）を含むことを特徴とするタンク。
【請求項１４】
前記タンクの底部の直径が５０ｍ以上であることを特徴とする請求項１３に記載のタンク。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【公表番号】特表２００６−５１４１６２（Ｐ２００６−５１４１６２Ａ）
【公表日】平成１８年４月２７日（２００６．４．２７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００４−５６９２９７（Ｐ２００４−５６９２９７）
【出願日】平成１５年１０月１０日（２００３．１０．１０）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＦＲ２００３／００３００７
【国際公開番号】ＷＯ２００４／０８１５４３
【国際公開日】平成１６年９月２３日（２００４．９．２３）
【出願人】（５０３４３８０８９）
【氏名又は名称原語表記】ＳＡＩＰＥＭ ｓ．ａ．
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成１８年４月２７日（２００６．４．２７）
【国際特許分類】
【出願日】平成１５年１０月１０日（２００３．１０．１０）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＦＲ２００３／００３００７
【国際公開番号】ＷＯ２００４／０８１５４３
【国際公開日】平成１６年９月２３日（２００４．９．２３）
【出願人】（５０３４３８０８９）
【氏名又は名称原語表記】ＳＡＩＰＥＭ ｓ．ａ．
【Ｆターム（参考）】
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