ゲートバルブ及びこのゲートバルブを用いた真空装置
【課題】シール部材が装着されている弁体のシール面上にパーティクルや粉塵が直接落下することを防止するとともに、弁箱本体のシール座面上に落下するパーティクルや粉塵の量を減らし、かつ、落下してもこれを回収できる構造とする。
【解決手段】被搬送物を通過させるゲート開口部９ａ，９ｂが設けられた弁箱２と、ゲート開口部９ａ，９ｂを横方向からスライド往復移動させることによって開閉する弁体５とからなり、弁体５をスライド移動させて弁箱２のゲート開口部９ａ，９ｂを閉じたとき、弁体５に形成されたシール面５３ａ，５６ａが弁箱２のシール座面１１，１６に当接することによってゲート開口部９ａ，９ｂが遮断されるゲートバルブ１において、弁箱２の右シール座面１１の下部が傾斜面１１ａに形成されており、右シール座面１１の傾斜面１１ａの下端部に粉塵を収納するための収納凹部３１が設けられている。
【解決手段】被搬送物を通過させるゲート開口部９ａ，９ｂが設けられた弁箱２と、ゲート開口部９ａ，９ｂを横方向からスライド往復移動させることによって開閉する弁体５とからなり、弁体５をスライド移動させて弁箱２のゲート開口部９ａ，９ｂを閉じたとき、弁体５に形成されたシール面５３ａ，５６ａが弁箱２のシール座面１１，１６に当接することによってゲート開口部９ａ，９ｂが遮断されるゲートバルブ１において、弁箱２の右シール座面１１の下部が傾斜面１１ａに形成されており、右シール座面１１の傾斜面１１ａの下端部に粉塵を収納するための収納凹部３１が設けられている。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、真空装置等に使用されるゲートバルブに関する。
【背景技術】
【０００２】
ゲートバルブの従来の構造の一例を図７及び図８に示す。図７は、ゲートバルブの構造の一例を示す分解斜視図、図８はゲートバルブの縦断面図である。このゲートバルブは、特開２００４−３６７６２号公報に開示されているゲートバルブ（真空用ゲート弁）である。
【０００３】
このゲートバルブ１０１は、略箱形状の弁箱本体１０２と、サイドプレート１０３と、弁箱本体１０２の下端開口を覆うボンネットフランジ部材１０４と、軸１０６に支持された長形の弁体１０５とから構成されている。
【０００４】
弁箱本体１０２のサイドプレート１０３が装着される一方の長側壁１０８と他方の長側壁１０８との間には、略矩形状のゲート開口部１０９ａが貫通して形成されており、サイドプレート１０３にも、略矩形状のゲート開口部１０９ｂが貫通して形成されている。
【０００５】
弁箱本体１０２内には、ゲート開口部１０９ａ，１０９ｂを上下に挟む位置関係で、図の上方側に上方シール座面１１１が、図の下方側に下方シール座面１１６がそれぞれ形成され、これらのシール座面１１１，１１６は、段違いではあっても、全体が変形した環形状となるように、連続して形成されている。これにより、弁箱本体１０２内部には、上方シール座面１１１から下方シール座面１１６に至るまでの連続したシール座面が構成されている。
【０００６】
一方、弁体１０５の先端部１０５ａの端面及び基端部１０５ｂの端面には、シール部材１１３が装着されている。シール部材１１３は、図９に示すように、長細い環状に形成されており、上方シール座面１１１と下方シール座面１１６との連続する段違い部に対応する略Ｕ字状部分１１３ａ，１１３ａから上下両側に押し開いた姿勢で、弁体１０５の外周面（すなわち、先端部１０５ａの端面及び基端部１０５ｂの端面）に装着されている。
【０００７】
そして、弁体１０５がゲート開口部１０９ａ，１０９ｂを閉じる方向（図中、上方向）に移動したときに、その先端部１０５ａ及び基端部１０５ｂに装着されているシール部材１１３が、弁箱本体１０２の上方シール座面１１１及び下方シール座面１１６にそれぞれ圧接され、これにより、弁箱本体１０２のゲート開口部１０９ａ，１０９ｂ間の流通が遮断されるようになっている。
【０００８】
上記構成において、弁体１０５の移動は、図示しないエアーシリンダによる駆動手段によって行われており、弁体１０５をゲート開口部１０９ａ，１０９ｂを閉じる方向に移動したときにの、シール部材１１３と上方シール座面１１１及び下方シール座面１１６との圧接力（すなわち、シール部材１１３の潰し量）は、このエアーシリンダによるエアー圧を変えることによって制御されている。
【特許文献１】特開２００４−３６７６２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
上記従来のゲートバルブ１０１は、弁体１０５を上下に動かすことで、ゲート開口部１０９ａ，１０９ｂを上下方向に開閉する構造となっており、弁体１０５の先端部１０５ａの端面及び基端部１０５ｂの端面は、その両端部を除けばほぼ全体が上を向いた水平面となっている。
【００１０】
このような構造のゲートバルブ１０１を例えばプラズマＣＶＤ装置等の真空装置の各室を仕切るゲートバルブとして使用した場合、ゲートバルブ１０１の弁体１０５を開いて被搬送物である基板を隣の室に搬送するとき、製造過程で発生したパーティクル等が弁体１０５の先端部１０５ａの端面上に落下することになる。
【００１１】
また、最近はゲートバルブ自体の形状が大きくなり、これに伴って弁体１０５も大型化する傾向にあるため、この弁体１０５を駆動するエアシリンダの駆動力も大きくなっている。そのため、その駆動力でシール部材１１３をシール座面１１１，１１６に押し付けてしまうと、シール部材１１３を押さえ過ぎて余分な力がかかることになる。この場合、設計段階では、シール部材１１３がシール座面１１１，１１６に均等に当たるように設計しているが、使用による経年変化等により、シール部材１１３とシール座面１１１，１１６との当たりに偏りが出てくると、弁体１０５の先端部１０５ａの端面及び基端部１０５ｂの端面が弁箱本体１０２のシール座面１１１，１１６に直接当たって、弁体１０５の先端部１０５ａ及び基端部１０５ｂが削れていくといった問題が発生していた。従って、このような削り屑による粉塵も弁体１０５の先端部１０５ａの端面上に落下することになる。また、削り架すによる粉塵は、弁体１０５の基端部１０６ａの端面上にも落下することになる。
【００１２】
この場合、上記したように、従来のゲートバルブ１０１では、弁体１０５の先端部１０５ａの端面及び基端部１０５ｂの端面がその両端部を除いてほぼ全体が上を向いた水平面となっているため、落下したパーティクルや粉塵がそのまま端面上に堆積し、これが原因でゲートバルブの遮断性能が低下するといった問題があった。
【００１３】
本発明はかかる問題点を解決すべく創案されたもので、その目的は、シール部材が装着されている弁体のシール面上にパーティクルや粉塵が直接落下することを防止するとともに、弁箱本体のシール座面上に落下するパーティクルや粉塵の量を減らし、かつ、落下してもこれを回収することのできる構造とすることで、パーティクルや粉塵による遮断性能の低下を防止したゲートバルブ及びこれを用いた真空装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記課題を解決するため、本発明のゲートバルブは、被搬送物を通過させるためのゲート開口部が設けられた弁箱と、前記ゲート開口部を一方向からスライド往復移動させることによって開閉する板状の弁体とからなり、前記弁体をスライド移動させて前記弁箱のゲート開口部を閉じたとき、前記弁体に形成されたシール面が前記弁箱のゲート開口部を囲むようにして設けられたシール座面に当接することによって前記ゲート開口部が遮断されるゲートバルブにおいて、前記弁体が前記弁箱に対して横方向にスライド往復移動可能に設けられ、前記弁体のシール面及び前記弁箱のシール座面の下部が傾斜面に形成されていることを特徴としている。また、本発明のゲートバルブは、上記構成においてさらに、前記シール座面の傾斜面の下端部に粉塵を収納するための収納凹部が設けられていることを特徴としている。
【００１５】
このように、本発明では、弁体を横方向にスライド移動させることによってゲート開口部を開閉する構造としている。すなわち、ゲートが開いているとき、弁体はゲート開口部の横に位置しているので、例えば被搬送物がゲート開口部を通過するときにパーティクル等の粉塵を落下させたとしても、弁体のシール面に直接落下することがない。一方、ゲート開口部を通過時に落下した粉塵は、弁箱のシール座面上に落下することになるが、本発明では、粉塵が落下する箇所のシール座面が傾斜面に形成されているので、落下した粉塵はこの傾斜面を下方に滑り落ちるように落下し、シール座面上に残ることはない。これにより、粉塵の影響によるゲートバルブの遮断性能の低下を防止することができる。また、傾斜面を下方に滑り落ちるように落下した粉塵は、傾斜面の下端部に設けられた収納凹部内に収納されるので、落下した粉塵がゲートの開閉によって再び舞い上がり、シール座面上に付着するといった心配がない。これにより、粉塵の影響によるゲートバルブの遮断性能の低下をより確実に防止することができる。さらに、粉塵は収納凹部に収納されているので、ゲートバルブのメンテナンス時の粉塵除去作業が容易となる。
【００１６】
より具体的に説明すると、前記シール座面の下部はＶ字状の傾斜面に形成されており、前記収納凹部が前記傾斜面の交差部分に設けられている。ここで、Ｖ字状の傾斜面のうち、一方の傾斜面は下向きのシール座面となっており、他方の傾斜面が上向きのシール座面となっている。すなわち、粉塵の落下が遮断性能に影響するのは、傾斜面が上向きの他方のシール座面だけである。すなわち、上方を向いているシール座面が上記従来のゲートバルブに比べて約半分となっている。
【００１７】
このように、本発明のゲートバルブは、弁体を横方向にスライド移動させる構造としたこと、及びシール座面の下部をＶ字状の傾斜面に形成したことによって、従来構造のゲートバルブと比べて、粉塵の落下の影響を極めて受けにくい構造とすることができるものである。
【００１８】
なお、本発明のゲートバルブは、真空装置の第１処理室と第２処理室との間を開閉するゲートバルブとして用いることできる。これにより、真空装置自体の耐久性や、第１処理室と第２処理室との遮断性能を向上させることができる。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、弁体を横方向にスライド移動させることによって、ゲートが開いているとき、弁体はゲート開口部の横に位置しているので、被搬送物がゲート開口部を通過するときにパーティクル等の粉塵を落下させたとしても、弁体のシール面に粉塵が直接落下することがない。また、ゲート開口部を通過時に落下した粉塵は、弁箱のシール座面上に落下することになるが、粉塵が落下する箇所のシール座面が傾斜面に形成されているので、落下した粉塵はこの傾斜面を下方に滑り落ちるように落下する。これにより、粉塵がシール座面上に残ることがないので、粉塵の影響によるゲートバルブの遮断性能の低下を防止することができる。また、傾斜面を下方に滑り落ちるように落下した粉塵は、傾斜面の下端部に設けられている収納凹部内に収納されるので、落下した粉塵がゲートの開閉によって再び舞い上がるといった心配がない。これにより、粉塵の影響によるゲートバルブの遮断性能の低下をより確実に防止することができる。さらに、シール座面上にパーティクル等が溜まりにくい構造であるので、リークも起こりにくい構造とすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して説明する。
【００２１】
図１ないし図３は、本発明の実施形態に係るゲートバルブ１の構造を示しており、図１は分解斜視図、図２は縦断面図、図３は、弁箱の一部を切り欠いた状態の分解斜視図である。
【００２２】
このゲートバルブ１は、内部が後述する弁板５のスライド空間２ａ(図３参照)に形成された略箱形状の弁箱２と、サイド板３と、弁箱２の一側面（図３では左側の側面）に形成された、スライド空間２ａの開口部２ｂを覆う蓋部材４と、図示しないエアシリンダの駆動軸（シリンダロッド）６に支持された略板形状の弁体５とから構成されている。ただし、サイド板３は、図１では弁箱２に既に装着した状態で示している。
【００２３】
弁箱２のサイド板３が装着される一方の側壁８ａと他方の側壁８ｂとの間には、略矩形状に形成されたゲート開口部９ａが貫通して形成されており、サイド板３にも、略矩形状に形成されたゲート開口部９ｂが貫通して形成されている。すなわち、ゲート開口部９ａ，９ｂが、スライド空間２ａを貫通するように形成されている。
【００２４】
また、弁箱２のスライド空間２ａの左右の内壁面には、ゲート開口部９ａ，９ｂを左右から挟むような位置関係で、右シール座面１１と左シール座面１６とがそれぞれ形成されている。各シール座面１１，１６は、図１に示す正面側から見たときに、左右対称の台形形状に形成されており、全体として六角形状に形成されている。これらのシール座面１１，１６は、接続部である上部位置及び下部位置において段違いに形成されているが、その段違い部１５，１５を含めて、全体が厚み方向に段差を有する六角形の環形状となるように、連続して形成されている。これにより、弁箱２の内壁面には、右シール座面１１から段違い部１５を経て左シール座面１６に至るまでの連続した六角形状のシール座面が形成されている。
【００２５】
一方、弁体５は、略正方形状の本体部５１の右側端面５２に、スライド方向（図１及び図３中、矢符Ｘ１方向）に延設するようにして台形形状の右側弁体部５３が形成されている。この右側弁体部５３は、本体部５１の半分の厚みに形成されている。すなわち、右側端面５２の手前側半分に形成されている。一方、右側端面５２の奥側半分には、右側弁体部５３と対称な台形形状の切欠き部５５が形成されており、この切欠き部５５によって囲まれた本体部５１の切欠き部分が、六角形状の左側弁体部５６となっている。すなわち、右側弁体部５３と左側弁体部５６は、図１に示す正面側から見たときに、左右対称の台形形状に形成されており、全体として前記シール座面１１，１６に合致する六角形状に形成されている。すなわち、右側弁体部５３の周端面（以下、「右シール面」という。）５３ａ及び左側弁体部５６の周端面（以下、「左シール面」という。）５６ａは、接続部である上部位置及び下部位置において段違いに形成されているが、その段違い部５７，５７を含めて、全体が厚み方向に段差を有する六角形の環形状となるように、連続して形成されている。
【００２６】
また、右側弁体部５３のシール面５３ａ及び左側弁体部５６のシール面５６ａには、シール部材１３が装着されている。シール部材１３は、図４に示すように、長細い環状に形成されており、右側弁体部５３の右シール面５３ａと左側弁体部５６の左シール面５６ａとの連続する段違い部５７に対応する略Ｕ字状部分１３ａ，１３ａから上下両側に押し開いた姿勢で、右側弁体部５３の右シール面５３ａ及び左側弁体部５６の左シール面５６ａに装着されている。
【００２７】
そして、弁体５がゲート開口部９ａ，９ｂを閉じる方向（図中、Ｘ１方向）にスライド空間２ａ内を移動したときに、右側弁体部５３の右シール面５３ａ及び左側弁体部５６の左シール面５６ａに装着されているシール部材１３が、弁箱２の右シール座面１１及び左シール座面１６にそれぞれ圧接され、これにより、弁箱２のゲート開口部９ａ，９ｂ間の流通が遮断されるようになっている。
【００２８】
なお、弁体５には、本体部５１の上面と下面にそれぞれ自由回転可能に複数のローラ５８，５８，・・・が取り付けられており、このローラ５８，５８，・・・が、弁箱２のスライド空間２ａの上下の内壁面（レール面）２ａ２，２ａ２にそれぞれ接触した状態で転動することで、弁体５がスライド空間２ａ内をスムーズに移動するようになっている。
【００２９】
上記したように、弁箱２の内壁面に形成された右シール座面１１と左シール座面１６は、図１に示す正面側から見たとき、左右対称の台形形状に形成されており、全体として六角形状に形成されている。すなわち、右シール座面１１の下側傾斜面１１ａと、左シール座面１６の下側傾斜面１６ａとで、Ｖ字形状の傾斜面が形成されている。このうち、左側傾斜面１６ａは下向きの傾斜面（シール座面）となっており、右側傾斜面１１ａが上向きの傾斜面（シール座面）となっている。すなわち、粉塵の落下が遮断性能に影響するのは、傾斜面が上向きの右側傾斜面１１ａだけであり、上方を向いているシール座面の幅方向の領域が、上記従来のゲートバルブに比べて約半分となっている。
【００３０】
そこで、本実施形態では、このＶ字状の右側傾斜面１１ａと左側傾斜面１６ａの交差部分である段違い部１５に沿って、その下部に、粉塵等を収納するための収納凹部３１を形成している。この収納凹部３１は、図５に示すように、ポケット形状となっており、スライド空間２ａの下内壁面（レール面）２ａ２に、粉塵等を収納するための開口部３１ａが形成されている。このように、段違い部１５に沿ってその下部に、収納凹部３１を形成することで、右側傾斜面１１ａ上に落下し、この上を滑り落ちてきた粉塵等が、段違い部１５に沿って自然落下し、開口部３１ａから収納凹部３１内に落下することになる。
【００３１】
なお、収納凹部３１の底面部分に開閉可能な蓋体３１ｂを設け、この蓋体３１ｂを開放することで、収納凹部３１内に溜まった粉塵等を、弁箱２の底面側から取り出せるようにしておけばよい。具体的には、蓋体３１ｂの構造として、ねじ構造とすることができる。すなわち、蓋体３１ｂを円柱形状に形成し、その外周部に雄ねじを形成する一方、収納凹部３１の底面に円筒形状の穴３１ｃを形成し、この穴３１ｃの内周面に雌ねじを形成すればよい。ただし、蓋体３１ｂの開閉構造は、このようなねじ構造に限るものではない。
【００３２】
また、本実施形態では、右側弁体部５３の右シール面５３ａと弁箱２の右シール座面１１との間に、シール部材１３の圧潰量を規制するスペーサ部材２１をさらに取り付けてもよい。この場合、スペーサ部材１３を右シール座面１１に取り付けることも可能であるが、熱の影響による弁体５と弁箱２の温度の上がり方が微妙に異なるため、数ミリ単位で両者がずれるので、両者の位置関係をしっかり出すためには、動く方である弁体５にスペーサ部材２１を取り付けておくのがよい。すなわち、シール部材１３の潰し量を、従来のようにエアシリンダの圧力で制御するのではなく、このスペーサ部材２１の厚み幅で規制するようにしてもよい。これにより、製造過程で発生する熱の影響によって弁体５が伸縮や変形等し、その結果、シール部材１３のシール座面１１，１６への当たりに偏りが生じたとしても、シール部材１３はスペーサ部材２１の厚み以上には押し潰されないので、シール部材１３の先に当たる部分が必要以上に押し潰されてしまうといった事態は発生しない。そのため、仮にこの偏り部分に剪断応力が発生したとしても、その大きさはエアシリンダの圧力によって制御する従来の場合に比べてはるかに小さく、シール部材１３を転動させるほどの力とはならないので、シール部材１３が破損することもなく、ゲートバルブとしての遮断性能も低下することがない。
【００３３】
また、スペーサ部材２１は、右側弁体部５３の右シール面５３ａのうち、ゲート開口部を閉じる方向の先端側の垂直面５３ａ１に取り付けるのがよい。熱の影響による弁体５の伸縮等は、エアシリンダのシリンダロッド６が取り付けられている基端側（図１では左側）より先端側（図１では右側）により顕著に現れる。すなわち、エアシリンダのシリンダロッド６が連結される弁体の基端側を基準とした場合、この基端側から最も離れた先端側がより前方に延びた状態となる。従って、最も変化のある先端側、すなわち右側弁体部５３の右シール面５３ａの垂直面５３ａ１にスペーサ部材２１を取り付けることで、弁体の横方向のぶれや熱による変形等に十分に対応することが可能となる。すなわち、言い換えると、スペーサ部材２１は、右側弁体部５３の右シール面５３ａ及び左側弁体部５６の左シール面５６ａのうち、弁体５の温度が最も上昇する部分に取り付けられている。温度が最も上昇する部分が最も熱変形が生じる部分であるので、この部分にスペーサ部材１３を取り付けることにより、温度変化に十分対応することが可能となる。
【００３４】
さらに、スペーサ部材２１は、右シール座面１１に面接触するように設けるのがよい。すなわち、スペーサ部材２１は直方体形状に形成されており、この直方体形状のスペーサ部材２１を、所定の間隔を存して複数個（本実施例では３個）取り付けている。スペーサ部材２１と右シール座面１１との接触が点接触であった場合、その部分のスペーサ部材２１が削れてパーティクルが発生する可能性がある。従って、面接触にしておくことで、このようなパーティクルの発生を防止（低減）することが可能となる。
【００３５】
なお、スペーサ部材２１は、熱膨張の少ない材質の材料で形成されている。スペーサ部材２１はシール部材の潰し量を規制するものであるから、当然のことながら熱変形の少ないものがよい。ここで、スペーサ部材の材料としては、樹脂材料と金属材料とがある。樹脂材料としては、テフロン（登録商標）、ダイフロン、ピークなどの使用が可能である。また、金属材料としては、ステンレス、アルミ合金、チタン合金などの使用が可能である。
【００３６】
また、スペーサ部材２１は、右側弁体部５３の右シール面５３ａのうち、ゲート開口部９ａ，９ｂを閉じる方向の先端側の垂直面５３ａ１のみに取り付けているが、右シール面５３ａの他の面（傾斜している面）や、左側弁体部５６の左シール面５６ａの適所にも、必要に応じて取り付けてもよい。
【００３７】
このように、本実施形態によれば、スペーサ部材２１を設けることによって、弁体５の右シール面５３ａが弁箱２の右シール座面１１に直接当たって削り屑が発生することを抑制できるとともに、削り屑による粉塵が発生した場合でも、この粉塵は、右側傾斜面１１ａ上を滑り落ちて段違い部１５に沿って自然落下し、開口部３１ａから収納凹部３１内に落下することになる。すなわち、粉塵の発生抑制と、発生した粉塵の回収といった２段構成とすることで、粉塵に対してより強い構造のゲートバルブを実現することができるものである。
【００３８】
上記構成のゲートバルブ１は、真空装置の第１処理室と第２処理室との間を開閉するゲートバルブとして用いることできる。これにより、真空装置自体の耐久性や、第１処理室と第２処理室との遮断性能を向上させることができる。
【００３９】
図５は、本発明のゲートバルブを搭載した真空装置の概略構成図であり、ここではプラズマＣＶＤ装置を例示している。すなわち、このプラズマＣＶＤ装置８０は、加熱室８１、成膜室８２、及び取り出し室８３を有し、加熱室８１と成膜室８２との間、及び成膜室８２と取り出し室８３との間にそれぞれ本発明のゲートバルブ１Ａ，１Ｂが配置されている。基板は各室内を矢印Ｙ１方向に移動する。
【００４０】
まず最初に、ガラスなどからなる透明基板上に、透明導電膜が形成される。次に、この基板をプラズマＣＶＤ装置８０に搬入する。プラズマＣＶＤ装置８０に搬入した基板は、加熱室８１で成膜温度に一定時間加熱保持される。その後、加熱室８１と成膜室８２との間との間のゲートバルブ１Ａを開き、基板を加熱室８１から成膜室８２に搬入した後、ゲートバルブ１Ａを閉める。そして後、説膜室８２にてプラズマＣＶＤ法によりｐｉｎ成膜を行う。成膜後、成膜室８２と取り出し室８３との間のゲートバルブ１Ｂを開き、基板を取り出し室８３に搬出した後、ゲートバルブ１Ｂを閉める。この後、取り出し室８３にて膜剥離などの異常の有無の確認を行う。
【００４１】
このような構成のプラズマＣＶＤ装置８０によれば、ゲートバルブ１Ａ，１Ｂは、製造過程において発生する熱によって加熱されることになる。そのため、この熱の影響によって弁体５が伸縮や変形等し、その結果、シール部材１３のシール座面１１，１６への当たりに偏りが生じる可能性がある。すなわち、ゲートバルブ自体の経年変化に加え、熱による変形等によっても当たりに偏りが生じる可能性があるが、本発明のゲートバルブ１Ａ，１Ｂによれば、シール部材１３はスペーサ部材２１の厚み以上には押し潰されないので、シール部材１３の先に当たる部分が必要以上に押し潰されてしまうといった事態は発生しない。従って、シール部材１３が破損することもなく、ゲートバルブ１Ａ，１Ｂの遮断性能も低下しないので、耐久性に優れたプラズマＣＶＤ装置８０を実現することができるものである。なお、請求項に記載の第１処理室は、ゲートバルブ１Ａから見た場合には加熱室８１となり、第２処理室は成膜室８２となる。また、ゲートバルブ１Ｂから見た場合には、第１処理室が成膜室８２となり、第２処理室が取り出し室８３となる。
【００４２】
なお、本実施形態では、真空装置としてプラズマＣＶＤ装置を例示しているが、ドライエッチング装置やスパッタリング装置などのガス導入を伴うプラズマ処理装置に本発明のゲートバルブを適用した場合においても同様の効果を期待することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】本発明に係るゲートバルブの分解斜視図である。
【図２】本発明に係るゲートバルブの縦断面図である。
【図３】本発明に係るゲートバルブの弁箱の一部を切り欠いた状態の分解斜視図である。
【図４】本発明に係るゲートバルブのシール部材の形状を示す斜視図である。
【図５】図３のＶ−Ｖ線に沿う断面図である。
【図６】本発明のゲートバルブを搭載した真空装置の一構成例を示す概略図である。
【図７】従来のゲートバルブの構造の一例を示す分解斜視図である。
【図８】従来のゲートバルブの縦断面図である。
【図９】従来のゲートバルブのシール部材の形状を示す斜視図である。
【符号の説明】
【００４４】
１ ゲートバルブ
２ 弁箱
２ａ スライド空間
２ｂ 開口部
３ サイド板
４ 蓋部材
５ 弁体
６ エアシリンダの駆動軸（シリンダロッド）
８ａ，８ｂ 側壁
９ａ，９ｂ ゲート開口部
１１右シール座面
１１ａ 右側傾斜面
１３ シール部材
１３ａ，１３ｂ 略Ｕ字状部分
１５ 段違い部
１６ 左シール座面
１６ａ 左側傾斜面
２１ スペーサ部材
３１ 収納凹部
３１ａ 開口部
３１ｂ 蓋体
５１ 本体部
５２ 右側端面
５３ 右側弁体部
５５ 切欠き部
５６ 左側弁体部
５３ａ 右シール面（周端面）
５６ａ 左シール面（周端面）
５７ 段違い部
８０ プラズマＣＶＤ装置
８１ 加熱室
８２ 成膜室
８３ 取り出し室
【技術分野】
【０００１】
本発明は、真空装置等に使用されるゲートバルブに関する。
【背景技術】
【０００２】
ゲートバルブの従来の構造の一例を図７及び図８に示す。図７は、ゲートバルブの構造の一例を示す分解斜視図、図８はゲートバルブの縦断面図である。このゲートバルブは、特開２００４−３６７６２号公報に開示されているゲートバルブ（真空用ゲート弁）である。
【０００３】
このゲートバルブ１０１は、略箱形状の弁箱本体１０２と、サイドプレート１０３と、弁箱本体１０２の下端開口を覆うボンネットフランジ部材１０４と、軸１０６に支持された長形の弁体１０５とから構成されている。
【０００４】
弁箱本体１０２のサイドプレート１０３が装着される一方の長側壁１０８と他方の長側壁１０８との間には、略矩形状のゲート開口部１０９ａが貫通して形成されており、サイドプレート１０３にも、略矩形状のゲート開口部１０９ｂが貫通して形成されている。
【０００５】
弁箱本体１０２内には、ゲート開口部１０９ａ，１０９ｂを上下に挟む位置関係で、図の上方側に上方シール座面１１１が、図の下方側に下方シール座面１１６がそれぞれ形成され、これらのシール座面１１１，１１６は、段違いではあっても、全体が変形した環形状となるように、連続して形成されている。これにより、弁箱本体１０２内部には、上方シール座面１１１から下方シール座面１１６に至るまでの連続したシール座面が構成されている。
【０００６】
一方、弁体１０５の先端部１０５ａの端面及び基端部１０５ｂの端面には、シール部材１１３が装着されている。シール部材１１３は、図９に示すように、長細い環状に形成されており、上方シール座面１１１と下方シール座面１１６との連続する段違い部に対応する略Ｕ字状部分１１３ａ，１１３ａから上下両側に押し開いた姿勢で、弁体１０５の外周面（すなわち、先端部１０５ａの端面及び基端部１０５ｂの端面）に装着されている。
【０００７】
そして、弁体１０５がゲート開口部１０９ａ，１０９ｂを閉じる方向（図中、上方向）に移動したときに、その先端部１０５ａ及び基端部１０５ｂに装着されているシール部材１１３が、弁箱本体１０２の上方シール座面１１１及び下方シール座面１１６にそれぞれ圧接され、これにより、弁箱本体１０２のゲート開口部１０９ａ，１０９ｂ間の流通が遮断されるようになっている。
【０００８】
上記構成において、弁体１０５の移動は、図示しないエアーシリンダによる駆動手段によって行われており、弁体１０５をゲート開口部１０９ａ，１０９ｂを閉じる方向に移動したときにの、シール部材１１３と上方シール座面１１１及び下方シール座面１１６との圧接力（すなわち、シール部材１１３の潰し量）は、このエアーシリンダによるエアー圧を変えることによって制御されている。
【特許文献１】特開２００４−３６７６２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
上記従来のゲートバルブ１０１は、弁体１０５を上下に動かすことで、ゲート開口部１０９ａ，１０９ｂを上下方向に開閉する構造となっており、弁体１０５の先端部１０５ａの端面及び基端部１０５ｂの端面は、その両端部を除けばほぼ全体が上を向いた水平面となっている。
【００１０】
このような構造のゲートバルブ１０１を例えばプラズマＣＶＤ装置等の真空装置の各室を仕切るゲートバルブとして使用した場合、ゲートバルブ１０１の弁体１０５を開いて被搬送物である基板を隣の室に搬送するとき、製造過程で発生したパーティクル等が弁体１０５の先端部１０５ａの端面上に落下することになる。
【００１１】
また、最近はゲートバルブ自体の形状が大きくなり、これに伴って弁体１０５も大型化する傾向にあるため、この弁体１０５を駆動するエアシリンダの駆動力も大きくなっている。そのため、その駆動力でシール部材１１３をシール座面１１１，１１６に押し付けてしまうと、シール部材１１３を押さえ過ぎて余分な力がかかることになる。この場合、設計段階では、シール部材１１３がシール座面１１１，１１６に均等に当たるように設計しているが、使用による経年変化等により、シール部材１１３とシール座面１１１，１１６との当たりに偏りが出てくると、弁体１０５の先端部１０５ａの端面及び基端部１０５ｂの端面が弁箱本体１０２のシール座面１１１，１１６に直接当たって、弁体１０５の先端部１０５ａ及び基端部１０５ｂが削れていくといった問題が発生していた。従って、このような削り屑による粉塵も弁体１０５の先端部１０５ａの端面上に落下することになる。また、削り架すによる粉塵は、弁体１０５の基端部１０６ａの端面上にも落下することになる。
【００１２】
この場合、上記したように、従来のゲートバルブ１０１では、弁体１０５の先端部１０５ａの端面及び基端部１０５ｂの端面がその両端部を除いてほぼ全体が上を向いた水平面となっているため、落下したパーティクルや粉塵がそのまま端面上に堆積し、これが原因でゲートバルブの遮断性能が低下するといった問題があった。
【００１３】
本発明はかかる問題点を解決すべく創案されたもので、その目的は、シール部材が装着されている弁体のシール面上にパーティクルや粉塵が直接落下することを防止するとともに、弁箱本体のシール座面上に落下するパーティクルや粉塵の量を減らし、かつ、落下してもこれを回収することのできる構造とすることで、パーティクルや粉塵による遮断性能の低下を防止したゲートバルブ及びこれを用いた真空装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記課題を解決するため、本発明のゲートバルブは、被搬送物を通過させるためのゲート開口部が設けられた弁箱と、前記ゲート開口部を一方向からスライド往復移動させることによって開閉する板状の弁体とからなり、前記弁体をスライド移動させて前記弁箱のゲート開口部を閉じたとき、前記弁体に形成されたシール面が前記弁箱のゲート開口部を囲むようにして設けられたシール座面に当接することによって前記ゲート開口部が遮断されるゲートバルブにおいて、前記弁体が前記弁箱に対して横方向にスライド往復移動可能に設けられ、前記弁体のシール面及び前記弁箱のシール座面の下部が傾斜面に形成されていることを特徴としている。また、本発明のゲートバルブは、上記構成においてさらに、前記シール座面の傾斜面の下端部に粉塵を収納するための収納凹部が設けられていることを特徴としている。
【００１５】
このように、本発明では、弁体を横方向にスライド移動させることによってゲート開口部を開閉する構造としている。すなわち、ゲートが開いているとき、弁体はゲート開口部の横に位置しているので、例えば被搬送物がゲート開口部を通過するときにパーティクル等の粉塵を落下させたとしても、弁体のシール面に直接落下することがない。一方、ゲート開口部を通過時に落下した粉塵は、弁箱のシール座面上に落下することになるが、本発明では、粉塵が落下する箇所のシール座面が傾斜面に形成されているので、落下した粉塵はこの傾斜面を下方に滑り落ちるように落下し、シール座面上に残ることはない。これにより、粉塵の影響によるゲートバルブの遮断性能の低下を防止することができる。また、傾斜面を下方に滑り落ちるように落下した粉塵は、傾斜面の下端部に設けられた収納凹部内に収納されるので、落下した粉塵がゲートの開閉によって再び舞い上がり、シール座面上に付着するといった心配がない。これにより、粉塵の影響によるゲートバルブの遮断性能の低下をより確実に防止することができる。さらに、粉塵は収納凹部に収納されているので、ゲートバルブのメンテナンス時の粉塵除去作業が容易となる。
【００１６】
より具体的に説明すると、前記シール座面の下部はＶ字状の傾斜面に形成されており、前記収納凹部が前記傾斜面の交差部分に設けられている。ここで、Ｖ字状の傾斜面のうち、一方の傾斜面は下向きのシール座面となっており、他方の傾斜面が上向きのシール座面となっている。すなわち、粉塵の落下が遮断性能に影響するのは、傾斜面が上向きの他方のシール座面だけである。すなわち、上方を向いているシール座面が上記従来のゲートバルブに比べて約半分となっている。
【００１７】
このように、本発明のゲートバルブは、弁体を横方向にスライド移動させる構造としたこと、及びシール座面の下部をＶ字状の傾斜面に形成したことによって、従来構造のゲートバルブと比べて、粉塵の落下の影響を極めて受けにくい構造とすることができるものである。
【００１８】
なお、本発明のゲートバルブは、真空装置の第１処理室と第２処理室との間を開閉するゲートバルブとして用いることできる。これにより、真空装置自体の耐久性や、第１処理室と第２処理室との遮断性能を向上させることができる。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、弁体を横方向にスライド移動させることによって、ゲートが開いているとき、弁体はゲート開口部の横に位置しているので、被搬送物がゲート開口部を通過するときにパーティクル等の粉塵を落下させたとしても、弁体のシール面に粉塵が直接落下することがない。また、ゲート開口部を通過時に落下した粉塵は、弁箱のシール座面上に落下することになるが、粉塵が落下する箇所のシール座面が傾斜面に形成されているので、落下した粉塵はこの傾斜面を下方に滑り落ちるように落下する。これにより、粉塵がシール座面上に残ることがないので、粉塵の影響によるゲートバルブの遮断性能の低下を防止することができる。また、傾斜面を下方に滑り落ちるように落下した粉塵は、傾斜面の下端部に設けられている収納凹部内に収納されるので、落下した粉塵がゲートの開閉によって再び舞い上がるといった心配がない。これにより、粉塵の影響によるゲートバルブの遮断性能の低下をより確実に防止することができる。さらに、シール座面上にパーティクル等が溜まりにくい構造であるので、リークも起こりにくい構造とすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して説明する。
【００２１】
図１ないし図３は、本発明の実施形態に係るゲートバルブ１の構造を示しており、図１は分解斜視図、図２は縦断面図、図３は、弁箱の一部を切り欠いた状態の分解斜視図である。
【００２２】
このゲートバルブ１は、内部が後述する弁板５のスライド空間２ａ(図３参照)に形成された略箱形状の弁箱２と、サイド板３と、弁箱２の一側面（図３では左側の側面）に形成された、スライド空間２ａの開口部２ｂを覆う蓋部材４と、図示しないエアシリンダの駆動軸（シリンダロッド）６に支持された略板形状の弁体５とから構成されている。ただし、サイド板３は、図１では弁箱２に既に装着した状態で示している。
【００２３】
弁箱２のサイド板３が装着される一方の側壁８ａと他方の側壁８ｂとの間には、略矩形状に形成されたゲート開口部９ａが貫通して形成されており、サイド板３にも、略矩形状に形成されたゲート開口部９ｂが貫通して形成されている。すなわち、ゲート開口部９ａ，９ｂが、スライド空間２ａを貫通するように形成されている。
【００２４】
また、弁箱２のスライド空間２ａの左右の内壁面には、ゲート開口部９ａ，９ｂを左右から挟むような位置関係で、右シール座面１１と左シール座面１６とがそれぞれ形成されている。各シール座面１１，１６は、図１に示す正面側から見たときに、左右対称の台形形状に形成されており、全体として六角形状に形成されている。これらのシール座面１１，１６は、接続部である上部位置及び下部位置において段違いに形成されているが、その段違い部１５，１５を含めて、全体が厚み方向に段差を有する六角形の環形状となるように、連続して形成されている。これにより、弁箱２の内壁面には、右シール座面１１から段違い部１５を経て左シール座面１６に至るまでの連続した六角形状のシール座面が形成されている。
【００２５】
一方、弁体５は、略正方形状の本体部５１の右側端面５２に、スライド方向（図１及び図３中、矢符Ｘ１方向）に延設するようにして台形形状の右側弁体部５３が形成されている。この右側弁体部５３は、本体部５１の半分の厚みに形成されている。すなわち、右側端面５２の手前側半分に形成されている。一方、右側端面５２の奥側半分には、右側弁体部５３と対称な台形形状の切欠き部５５が形成されており、この切欠き部５５によって囲まれた本体部５１の切欠き部分が、六角形状の左側弁体部５６となっている。すなわち、右側弁体部５３と左側弁体部５６は、図１に示す正面側から見たときに、左右対称の台形形状に形成されており、全体として前記シール座面１１，１６に合致する六角形状に形成されている。すなわち、右側弁体部５３の周端面（以下、「右シール面」という。）５３ａ及び左側弁体部５６の周端面（以下、「左シール面」という。）５６ａは、接続部である上部位置及び下部位置において段違いに形成されているが、その段違い部５７，５７を含めて、全体が厚み方向に段差を有する六角形の環形状となるように、連続して形成されている。
【００２６】
また、右側弁体部５３のシール面５３ａ及び左側弁体部５６のシール面５６ａには、シール部材１３が装着されている。シール部材１３は、図４に示すように、長細い環状に形成されており、右側弁体部５３の右シール面５３ａと左側弁体部５６の左シール面５６ａとの連続する段違い部５７に対応する略Ｕ字状部分１３ａ，１３ａから上下両側に押し開いた姿勢で、右側弁体部５３の右シール面５３ａ及び左側弁体部５６の左シール面５６ａに装着されている。
【００２７】
そして、弁体５がゲート開口部９ａ，９ｂを閉じる方向（図中、Ｘ１方向）にスライド空間２ａ内を移動したときに、右側弁体部５３の右シール面５３ａ及び左側弁体部５６の左シール面５６ａに装着されているシール部材１３が、弁箱２の右シール座面１１及び左シール座面１６にそれぞれ圧接され、これにより、弁箱２のゲート開口部９ａ，９ｂ間の流通が遮断されるようになっている。
【００２８】
なお、弁体５には、本体部５１の上面と下面にそれぞれ自由回転可能に複数のローラ５８，５８，・・・が取り付けられており、このローラ５８，５８，・・・が、弁箱２のスライド空間２ａの上下の内壁面（レール面）２ａ２，２ａ２にそれぞれ接触した状態で転動することで、弁体５がスライド空間２ａ内をスムーズに移動するようになっている。
【００２９】
上記したように、弁箱２の内壁面に形成された右シール座面１１と左シール座面１６は、図１に示す正面側から見たとき、左右対称の台形形状に形成されており、全体として六角形状に形成されている。すなわち、右シール座面１１の下側傾斜面１１ａと、左シール座面１６の下側傾斜面１６ａとで、Ｖ字形状の傾斜面が形成されている。このうち、左側傾斜面１６ａは下向きの傾斜面（シール座面）となっており、右側傾斜面１１ａが上向きの傾斜面（シール座面）となっている。すなわち、粉塵の落下が遮断性能に影響するのは、傾斜面が上向きの右側傾斜面１１ａだけであり、上方を向いているシール座面の幅方向の領域が、上記従来のゲートバルブに比べて約半分となっている。
【００３０】
そこで、本実施形態では、このＶ字状の右側傾斜面１１ａと左側傾斜面１６ａの交差部分である段違い部１５に沿って、その下部に、粉塵等を収納するための収納凹部３１を形成している。この収納凹部３１は、図５に示すように、ポケット形状となっており、スライド空間２ａの下内壁面（レール面）２ａ２に、粉塵等を収納するための開口部３１ａが形成されている。このように、段違い部１５に沿ってその下部に、収納凹部３１を形成することで、右側傾斜面１１ａ上に落下し、この上を滑り落ちてきた粉塵等が、段違い部１５に沿って自然落下し、開口部３１ａから収納凹部３１内に落下することになる。
【００３１】
なお、収納凹部３１の底面部分に開閉可能な蓋体３１ｂを設け、この蓋体３１ｂを開放することで、収納凹部３１内に溜まった粉塵等を、弁箱２の底面側から取り出せるようにしておけばよい。具体的には、蓋体３１ｂの構造として、ねじ構造とすることができる。すなわち、蓋体３１ｂを円柱形状に形成し、その外周部に雄ねじを形成する一方、収納凹部３１の底面に円筒形状の穴３１ｃを形成し、この穴３１ｃの内周面に雌ねじを形成すればよい。ただし、蓋体３１ｂの開閉構造は、このようなねじ構造に限るものではない。
【００３２】
また、本実施形態では、右側弁体部５３の右シール面５３ａと弁箱２の右シール座面１１との間に、シール部材１３の圧潰量を規制するスペーサ部材２１をさらに取り付けてもよい。この場合、スペーサ部材１３を右シール座面１１に取り付けることも可能であるが、熱の影響による弁体５と弁箱２の温度の上がり方が微妙に異なるため、数ミリ単位で両者がずれるので、両者の位置関係をしっかり出すためには、動く方である弁体５にスペーサ部材２１を取り付けておくのがよい。すなわち、シール部材１３の潰し量を、従来のようにエアシリンダの圧力で制御するのではなく、このスペーサ部材２１の厚み幅で規制するようにしてもよい。これにより、製造過程で発生する熱の影響によって弁体５が伸縮や変形等し、その結果、シール部材１３のシール座面１１，１６への当たりに偏りが生じたとしても、シール部材１３はスペーサ部材２１の厚み以上には押し潰されないので、シール部材１３の先に当たる部分が必要以上に押し潰されてしまうといった事態は発生しない。そのため、仮にこの偏り部分に剪断応力が発生したとしても、その大きさはエアシリンダの圧力によって制御する従来の場合に比べてはるかに小さく、シール部材１３を転動させるほどの力とはならないので、シール部材１３が破損することもなく、ゲートバルブとしての遮断性能も低下することがない。
【００３３】
また、スペーサ部材２１は、右側弁体部５３の右シール面５３ａのうち、ゲート開口部を閉じる方向の先端側の垂直面５３ａ１に取り付けるのがよい。熱の影響による弁体５の伸縮等は、エアシリンダのシリンダロッド６が取り付けられている基端側（図１では左側）より先端側（図１では右側）により顕著に現れる。すなわち、エアシリンダのシリンダロッド６が連結される弁体の基端側を基準とした場合、この基端側から最も離れた先端側がより前方に延びた状態となる。従って、最も変化のある先端側、すなわち右側弁体部５３の右シール面５３ａの垂直面５３ａ１にスペーサ部材２１を取り付けることで、弁体の横方向のぶれや熱による変形等に十分に対応することが可能となる。すなわち、言い換えると、スペーサ部材２１は、右側弁体部５３の右シール面５３ａ及び左側弁体部５６の左シール面５６ａのうち、弁体５の温度が最も上昇する部分に取り付けられている。温度が最も上昇する部分が最も熱変形が生じる部分であるので、この部分にスペーサ部材１３を取り付けることにより、温度変化に十分対応することが可能となる。
【００３４】
さらに、スペーサ部材２１は、右シール座面１１に面接触するように設けるのがよい。すなわち、スペーサ部材２１は直方体形状に形成されており、この直方体形状のスペーサ部材２１を、所定の間隔を存して複数個（本実施例では３個）取り付けている。スペーサ部材２１と右シール座面１１との接触が点接触であった場合、その部分のスペーサ部材２１が削れてパーティクルが発生する可能性がある。従って、面接触にしておくことで、このようなパーティクルの発生を防止（低減）することが可能となる。
【００３５】
なお、スペーサ部材２１は、熱膨張の少ない材質の材料で形成されている。スペーサ部材２１はシール部材の潰し量を規制するものであるから、当然のことながら熱変形の少ないものがよい。ここで、スペーサ部材の材料としては、樹脂材料と金属材料とがある。樹脂材料としては、テフロン（登録商標）、ダイフロン、ピークなどの使用が可能である。また、金属材料としては、ステンレス、アルミ合金、チタン合金などの使用が可能である。
【００３６】
また、スペーサ部材２１は、右側弁体部５３の右シール面５３ａのうち、ゲート開口部９ａ，９ｂを閉じる方向の先端側の垂直面５３ａ１のみに取り付けているが、右シール面５３ａの他の面（傾斜している面）や、左側弁体部５６の左シール面５６ａの適所にも、必要に応じて取り付けてもよい。
【００３７】
このように、本実施形態によれば、スペーサ部材２１を設けることによって、弁体５の右シール面５３ａが弁箱２の右シール座面１１に直接当たって削り屑が発生することを抑制できるとともに、削り屑による粉塵が発生した場合でも、この粉塵は、右側傾斜面１１ａ上を滑り落ちて段違い部１５に沿って自然落下し、開口部３１ａから収納凹部３１内に落下することになる。すなわち、粉塵の発生抑制と、発生した粉塵の回収といった２段構成とすることで、粉塵に対してより強い構造のゲートバルブを実現することができるものである。
【００３８】
上記構成のゲートバルブ１は、真空装置の第１処理室と第２処理室との間を開閉するゲートバルブとして用いることできる。これにより、真空装置自体の耐久性や、第１処理室と第２処理室との遮断性能を向上させることができる。
【００３９】
図５は、本発明のゲートバルブを搭載した真空装置の概略構成図であり、ここではプラズマＣＶＤ装置を例示している。すなわち、このプラズマＣＶＤ装置８０は、加熱室８１、成膜室８２、及び取り出し室８３を有し、加熱室８１と成膜室８２との間、及び成膜室８２と取り出し室８３との間にそれぞれ本発明のゲートバルブ１Ａ，１Ｂが配置されている。基板は各室内を矢印Ｙ１方向に移動する。
【００４０】
まず最初に、ガラスなどからなる透明基板上に、透明導電膜が形成される。次に、この基板をプラズマＣＶＤ装置８０に搬入する。プラズマＣＶＤ装置８０に搬入した基板は、加熱室８１で成膜温度に一定時間加熱保持される。その後、加熱室８１と成膜室８２との間との間のゲートバルブ１Ａを開き、基板を加熱室８１から成膜室８２に搬入した後、ゲートバルブ１Ａを閉める。そして後、説膜室８２にてプラズマＣＶＤ法によりｐｉｎ成膜を行う。成膜後、成膜室８２と取り出し室８３との間のゲートバルブ１Ｂを開き、基板を取り出し室８３に搬出した後、ゲートバルブ１Ｂを閉める。この後、取り出し室８３にて膜剥離などの異常の有無の確認を行う。
【００４１】
このような構成のプラズマＣＶＤ装置８０によれば、ゲートバルブ１Ａ，１Ｂは、製造過程において発生する熱によって加熱されることになる。そのため、この熱の影響によって弁体５が伸縮や変形等し、その結果、シール部材１３のシール座面１１，１６への当たりに偏りが生じる可能性がある。すなわち、ゲートバルブ自体の経年変化に加え、熱による変形等によっても当たりに偏りが生じる可能性があるが、本発明のゲートバルブ１Ａ，１Ｂによれば、シール部材１３はスペーサ部材２１の厚み以上には押し潰されないので、シール部材１３の先に当たる部分が必要以上に押し潰されてしまうといった事態は発生しない。従って、シール部材１３が破損することもなく、ゲートバルブ１Ａ，１Ｂの遮断性能も低下しないので、耐久性に優れたプラズマＣＶＤ装置８０を実現することができるものである。なお、請求項に記載の第１処理室は、ゲートバルブ１Ａから見た場合には加熱室８１となり、第２処理室は成膜室８２となる。また、ゲートバルブ１Ｂから見た場合には、第１処理室が成膜室８２となり、第２処理室が取り出し室８３となる。
【００４２】
なお、本実施形態では、真空装置としてプラズマＣＶＤ装置を例示しているが、ドライエッチング装置やスパッタリング装置などのガス導入を伴うプラズマ処理装置に本発明のゲートバルブを適用した場合においても同様の効果を期待することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】本発明に係るゲートバルブの分解斜視図である。
【図２】本発明に係るゲートバルブの縦断面図である。
【図３】本発明に係るゲートバルブの弁箱の一部を切り欠いた状態の分解斜視図である。
【図４】本発明に係るゲートバルブのシール部材の形状を示す斜視図である。
【図５】図３のＶ−Ｖ線に沿う断面図である。
【図６】本発明のゲートバルブを搭載した真空装置の一構成例を示す概略図である。
【図７】従来のゲートバルブの構造の一例を示す分解斜視図である。
【図８】従来のゲートバルブの縦断面図である。
【図９】従来のゲートバルブのシール部材の形状を示す斜視図である。
【符号の説明】
【００４４】
１ ゲートバルブ
２ 弁箱
２ａ スライド空間
２ｂ 開口部
３ サイド板
４ 蓋部材
５ 弁体
６ エアシリンダの駆動軸（シリンダロッド）
８ａ，８ｂ 側壁
９ａ，９ｂ ゲート開口部
１１右シール座面
１１ａ 右側傾斜面
１３ シール部材
１３ａ，１３ｂ 略Ｕ字状部分
１５ 段違い部
１６ 左シール座面
１６ａ 左側傾斜面
２１ スペーサ部材
３１ 収納凹部
３１ａ 開口部
３１ｂ 蓋体
５１ 本体部
５２ 右側端面
５３ 右側弁体部
５５ 切欠き部
５６ 左側弁体部
５３ａ 右シール面（周端面）
５６ａ 左シール面（周端面）
５７ 段違い部
８０ プラズマＣＶＤ装置
８１ 加熱室
８２ 成膜室
８３ 取り出し室
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被搬送物を通過させるためのゲート開口部が設けられた弁箱と、前記ゲート開口部を一方向からスライド往復移動させることによって開閉する板状の弁体とからなり、前記弁体をスライド移動させて前記弁箱のゲート開口部を閉じたとき、前記弁体に形成されたシール面が前記弁箱のゲート開口部を囲むようにして設けられたシール座面に当接することによって前記ゲート開口部が遮断されるゲートバルブにおいて、
前記弁体が前記弁箱に対して横方向にスライド往復移動可能に設けられ、前記弁体のシール面及び前記弁箱のシール座面の下部が傾斜面に形成されていることを特徴とするゲートバルブ。
【請求項２】
請求項１に記載のゲートバルブにおいて、
前記シール座面の傾斜面の下端部に粉塵を収納するための収納凹部が設けられていることを特徴とするゲートバルブ。
【請求項３】
請求項２に記載のゲートバルブにおいて、
前記シール座面の下部がＶ字状の傾斜面に形成されており、前記収納凹部が前記傾斜面の交差部分に設けられていることを特徴とするゲートバルブ。
【請求項４】
請求項１から請求項３までのいずれか１項に記載のゲートバルブが、被搬送物の第１処理室と第２処理室との間を開閉するゲートバルブとして設けられていることを特徴とする真空装置。
【請求項１】
被搬送物を通過させるためのゲート開口部が設けられた弁箱と、前記ゲート開口部を一方向からスライド往復移動させることによって開閉する板状の弁体とからなり、前記弁体をスライド移動させて前記弁箱のゲート開口部を閉じたとき、前記弁体に形成されたシール面が前記弁箱のゲート開口部を囲むようにして設けられたシール座面に当接することによって前記ゲート開口部が遮断されるゲートバルブにおいて、
前記弁体が前記弁箱に対して横方向にスライド往復移動可能に設けられ、前記弁体のシール面及び前記弁箱のシール座面の下部が傾斜面に形成されていることを特徴とするゲートバルブ。
【請求項２】
請求項１に記載のゲートバルブにおいて、
前記シール座面の傾斜面の下端部に粉塵を収納するための収納凹部が設けられていることを特徴とするゲートバルブ。
【請求項３】
請求項２に記載のゲートバルブにおいて、
前記シール座面の下部がＶ字状の傾斜面に形成されており、前記収納凹部が前記傾斜面の交差部分に設けられていることを特徴とするゲートバルブ。
【請求項４】
請求項１から請求項３までのいずれか１項に記載のゲートバルブが、被搬送物の第１処理室と第２処理室との間を開閉するゲートバルブとして設けられていることを特徴とする真空装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【公開番号】特開２００９−２６４４２１（Ｐ２００９−２６４４２１Ａ）
【公開日】平成２１年１１月１２日（２００９．１１．１２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−１１１５０１（Ｐ２００８−１１１５０１）
【出願日】平成２０年４月２２日（２００８．４．２２）
【出願人】（０００００５０４９）シャープ株式会社 (33,933)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年１１月１２日（２００９．１１．１２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年４月２２日（２００８．４．２２）
【出願人】（０００００５０４９）シャープ株式会社 (33,933)
【Ｆターム（参考）】
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