シリコーン溶解剤
【課題】浴室の壁や床にこびりついたヘアケア製品由来のシリコーンを落とすのに好適な新規シリコーン溶解剤を提供すること。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（1)で表されるポリオキシエチレンモノアルキルエーテルであって、水溶性であるポリオキシエチレンモノアルキルエーテル、例えばポリオキシエチレンモノ−ｎ−ペンチルエーテル（ｎ＝３〜６）を含むシリコーン溶解剤。
Ｒ−Ｏ−（Ｃ2Ｈ4Ｏ）n−Ｈ （１）
（式中、Ｒは炭素数５〜１０の直鎖のアルキル基、ｎは１〜６の整数である。）
【解決手段】（Ａ）下記一般式（1)で表されるポリオキシエチレンモノアルキルエーテルであって、水溶性であるポリオキシエチレンモノアルキルエーテル、例えばポリオキシエチレンモノ−ｎ−ペンチルエーテル（ｎ＝３〜６）を含むシリコーン溶解剤。
Ｒ−Ｏ−（Ｃ2Ｈ4Ｏ）n−Ｈ （１）
（式中、Ｒは炭素数５〜１０の直鎖のアルキル基、ｎは１〜６の整数である。）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、シリコーン溶解剤に関する。詳しくは、浴室の壁や床にこびりついたヘアケア製品由来のシリコーンを落とすのに好適なシリコーン溶解剤に関する。
【背景技術】
【０００２】
シャンプーやコンディショナー等のヘアケア製品の中には、毛髪に柔軟性を付与したり、指どおりをよくしたりするためにシリコーンが配合されているものがある。
これらヘアケア製品に配合されているシリコーンはこれまでは数十万ｍｍ2／ｓ程度の低重合のものが主であったが（特許文献１）、近年、性能を向上させるために数千万ｍｍ2／ｓ程度の高重合のものが使用されるようになってきている（特許文献２）。
【０００３】
【特許文献１】特開平4-54111号公報
【特許文献２】特開2007-77057号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
シリコーンの高重合化に伴い、シリコーン汚れを簡単に落とすことが難しくなった。そこで、高重合シリコーンに由来する汚れでも簡単に落とすことのできる技術が求められている。従って、本発明は、新規なシリコーン溶解剤を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らが鋭意検討した結果、特定のポリオキシエチレンモノアルキルエーテルを使用すれば、高重合シリコーン汚れを水へ溶解させることにより容易に除去できることを見出した。
即ち、本発明は、（Ａ）下記一般式（1)で表されるポリオキシエチレンモノアルキルエーテルであって、水溶性であるポリオキシエチレンモノアルキルエーテルを含むシリコーン溶解剤を提供する。
Ｒ−Ｏ−（Ｃ2Ｈ4Ｏ）n−Ｈ （１）
（式中、Ｒは炭素数５〜１０の直鎖のアルキル基、ｎは１〜６の整数である。）
【０００６】
本発明はまた、（Ｂ）下記一般式（1)で表されるポリオキシエチレンモノアルキルエーテルであって、難水溶性であるポリオキシエチレンモノアルキルエーテルと、
Ｒ−Ｏ−（Ｃ2Ｈ4Ｏ）n−Ｈ （１）
（式中、Ｒは炭素数５〜１０の直鎖のアルキル基、ｎは１〜６の整数である。）
（Ｃ）ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ドデシルエーテル（エチレンオキサイドの平均付加モル数ｍは５〜３０である。）
とを含むシリコーン溶解剤を提供する。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、浴室の床や壁面等にこびりついたシリコーンを容易に除去することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
本発明において用いる成分（Ａ）及び成分（Ｂ）のいずれも同じ一般式（１）で表されるが、式中のＲの炭素数とｎの数との組合せにより、式（１）の化合物の水への溶解性が異なる。成分（Ａ）は水溶性、成分（Ｂ）は難水溶性である。
第一の態様
本発明の第一の態様は、成分（Ａ）を含有するシリコーン溶解剤である。
本発明において用いる成分（Ａ）は、上記一般式（１）で表されるポリオキシエチレンモノアルキルエーテルであって、水溶性である化合物である。成分（Ａ）は、非水溶性シリコーンを水へ溶解させる作用を持つ。本明細書において、「水溶性」とは、式（１）の化合物１０質量部と水９０質量部との混合物を、２５℃で、Ｔｕｂｅ Ｍｉｘｅｒ（ＶＴＸ−３５００ ＬＭＳ社製）で３０分間攪拌（回転数：１５００ｒｐｍ）した後、一晩静置した時の混合物の状態が均一であるものをいう。
式（１）中、Ｒは炭素数５〜１０の直鎖のアルキル基である。具体的には、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基などの直鎖のアルキル基が挙げられる。なかでも、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基が特に好ましく、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基がより好ましい。ｎは１〜６、好ましくは３〜６の整数である。Ｒの炭素数が５未満であるか又は１０を超えるとシリコーン溶解能が不十分となる。ｎが１未満だと、式（１）の化合物自体の水溶性が低すぎて水への溶解能が不十分となる。また、においが悪く使用性が悪い。ｎが６を超えると親水性が高まりすぎてシリコーンの水への溶解能が不十分である。式（１）の化合物は、単独で使用しても2種以上を組み合わせて用いても良い。
【０００９】
具体的には例えば、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ペンチルエーテル（ｎ＝３〜６）、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ヘキシルエーテル（ｎ＝４〜６）、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ヘプチルエーテル（ｎ＝４〜６）、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（ｎ＝４〜６）、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ノニルエーテル（ｎ＝５〜６）、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−デシルエーテル（ｎ＝５〜６）などが挙げられる。
このうち、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ヘキシルエーテル（ｎ＝４）、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（ｎ＝４〜５）、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ノニルエーテル（ｎ＝５）、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−デシルエーテル（ｎ＝５〜６）が好ましい。
なかでも、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ヘキシルエーテル（ｎ＝４）、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（ｎ＝４〜５）がより好ましい。
本発明の成分（Ａ）は、公知の方法により、例えば、塩基性触媒存在下、ポリオキシエチレングリコールとアルキルハライドまたはアルキルメタンスルホニルエステルやアルキルｐ−トルエンスルホニルエステルとの付加反応により製造することができるし、商業的に入手できるものを使用することもできる。
【００１０】
成分（Ａ）は、本発明のシリコーン溶解剤の全質量に対して、０．５〜８０質量％で含まれるのが好ましく、１〜５０質量％で含まれるのがより好ましい。
本発明のシリコーン溶解剤は、上記成分（Ａ）と水と混合することにより調製することができる。水としては、精製水、蒸留水、イオン交換水、純水、超純水、海洋深層水、重水等を使用することができる。
本発明のシリコーン溶解剤は、商業的に入手可能な浴室用洗剤と同様、浴室の壁面や床面に噴霧したり、塗布したりすることにより適用することができる。
【００１１】
本発明のシリコーン溶解剤により、シャンプーやヘアコンディショナー等のヘアケア製品に通常含まれている非水溶性シリコーンを容易に水に溶解させることができる。このようなシリコーンとしては、25℃における動粘度が１００mm2/s程度の低重合のものから、３０００万mm2/s程度の高重合のものまで含む、非水溶性シリコーン、例えば、ジメチルシリコーン、ポリエーテル変性シリコーン、メチルフェニルシリコーン、フェニル変性シリコーン、アルキル変性シリコーン、高級脂肪酸変性シリコーン、メチルハイドロジェンシリコーン、フッ素変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、カルボキシ変性シリコーン、カルビノール変性シリコーン、及びアミノ変性シリコーンなどが挙げられる。「非水溶性シリコーン」とは、後述の「シリコーン溶解能評価」の欄に記載の方法にしたがい測定したシリコーンのメチル基由来のピークが１０ｐｐｍ以下であるものをいう。
【００１２】
本発明のシリコーン溶解剤を、アニオン界面活性剤などと混合することにより、液体洗浄剤組成物を製造することができる。従って、本発明はまた、上記成分（Ａ）とアニオン界面活性剤とを含有する液体洗浄剤組成物を提供する。
本発明において用いることのできる陰イオン性界面活性剤の具体例としては、アルキル硫酸塩、ポリオキシエチレン（エチレンオキサイドの平均付加モル数（nav）＝１〜５）アルキル硫酸塩、直鎖又は分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩、α−オレフィンスルホン酸塩、石鹸、α−スルホ脂肪酸塩、α−スルホ脂肪酸エステル塩、アルキルエーテルカルボン酸塩、アルカンスルホン酸塩、アミドエーテルカルボン酸塩、アルキルリン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルリン酸塩、モノアルキルスルホコハク酸エステル塩、ジアルキルスルホコハク酸エステル塩、アルキルコハク酸塩、Ｎ−アシルアミノ酸塩、Ｎ−アシルメチルタウリン塩等である。これら陰イオン性界面活性剤の対イオン（陽イオン）は、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、アルカノールアミンイオン、アンモニウムイオンなどが挙げられる。
本発明の液体洗浄剤組成物中の成分（Ａ）の配合量は特に限定されず、製品の剤型、種類によって変化するが、一般的には、０．５〜８０質量％、より好ましくは１〜５０質量％である。これらの範囲を下回るか又は上回ると、本発明の成分（Ａ）によるシリコーンを水中に溶解させる効果が発揮しにくくなる。
【００１３】
第二の態様
本発明の第二の態様は、成分（Ｂ）と成分（Ｃ）とを含むシリコーン溶解剤である。
本発明において用いる成分（Ｂ）は、上記一般式（１）で表されるポリオキシエチレンモノアルキルエーテルであって、難水溶性である化合物である。成分（Ｂ）は、非水溶性シリコーンを水へ溶解させる作用を持つ。本明細書において、「難水溶性」とは、式（１）の化合物１０質量部と水９０質量部との混合物を、２５℃で、Ｔｕｂｅ Ｍｉｘｅｒ（ＶＴＸ−３５００ ＬＭＳ社製）で３０分間攪拌（回転数：１５００ｒｐｍ）した後、一晩静置した時の混合物の状態が分離（化合物と水とが分離）しているものをいう。
【００１４】
式（１）中、Ｒは炭素数５〜１０の直鎖のアルキル基である。具体的には、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基などの直鎖のアルキル基が挙げられる。なかでも、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基が特に好ましく、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基がより好ましい。ｎは１〜６、好ましくは１〜３の整数である。Ｒの炭素数が５未満であるか又は１０を超えるとシリコーン溶解能が不十分となる。ｎが１未満だと、式（１）の化合物自体の水溶性が低すぎて水への溶解能が不十分となる。また、においが悪く使用性が悪い。ｎが６を超えると親水性が高まりすぎてシリコーンの水への溶解能が不十分である。式（１）の化合物は、単独で使用しても2種以上を組み合わせて用いても良い。
【００１５】
具体的には例えば、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ペンチルエーテル（ｎ＝１〜２）、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ヘキシルエーテル（ｎ＝１〜３）、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ヘプチルエーテル（ｎ＝１〜３）、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（ｎ＝１〜３）、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ノニルエーテル（ｎ＝１〜４）、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−デシルエーテル（ｎ＝１〜４）などが挙げられる。
このうち、特にポリオキシエチレンモノ−ｎ−ヘキシルエーテル（ｎ＝１〜３）、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（ｎ＝２〜３）、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ノニルエーテル（ｎ＝４）が好ましい。
なかでも、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ヘキシルエーテル（ｎ＝１〜３）、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（ｎ＝３）がより好ましい。
【００１６】
成分（Ｂ）は、本発明のシリコーン溶解剤の全質量に対して、０．５〜８０質量％で含まれるのが好ましく、１〜５０質量％で含まれるのがより好ましい。
本発明の成分（Ｂ）は、公知の方法により、例えば、塩基性触媒存在下、ポリオキシエチレングリコールとアルキルハライドまたはアルキルメタンスルホニルエステルやアルキルｐ−トルエンスルホニルエステルとの付加反応により製造することができるし、商業的に入手できるものを使用することもできる。
【００１７】
本発明の成分（Ｃ）は、成分（Ｂ）を可溶化し、成分（Ｂ）のシリコーンの水への可溶化性能を維持しつつ成分（Ｂ）の水溶性を高めるため、成分（Ｂ）と成分（Ｃ）を組合わせることでシリコーンの水への可溶化に優れた溶解剤となる。
エチレンオキサイドの平均付加モル数ｍは、５〜３０であるのが好ましく、７〜２０であるのがより好ましい。ｍが５〜３０の範囲外だと、成分（Ｂ）の可溶化が不十分になる。成分（Ｃ）は単独で使用しても2種以上を組み合わせて用いても良い。
具体的には、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ドデシルエーテル（ｍ＝５〜３０）があげられる。このうち、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ドデシルエーテル（ｍ＝７〜２０）が好ましい。なかでも、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ドデシルエーテル（ｍ＝１５）が好ましい。
本発明のシリコーン溶解剤における（Ｃ）成分の配合量は、好ましくは０．０１〜５０質量％、より好ましくは０．０１〜３０質量％、さらに好ましくは０．１〜１０質量％である。
【００１８】
本発明のシリコーン溶解剤は、上記成分（Ｂ）及び成分（Ｃ）と水とを混合することにより調製することができる。水としては、精製水、蒸留水、イオン交換水、純水、超純水、海洋深層水、重水等を使用することができる。
本発明のシリコーン溶解剤は、商業的に入手可能な浴室用洗剤と同様、浴室の壁面や床面に噴霧したり、塗布したりすることにより適用することができる。
【００１９】
本発明のシリコーン溶解剤により、シャンプーやヘアコンディショナー等のヘアケア製品に通常含まれている非水溶性シリコーンを容易に水に溶解させることができる。このような非水溶性シリコーンとしては、25℃における動粘度が１００mm2/s程度の低重合のものから、３０００万mm2/s程度の高重合のものまで含む、非水溶性シリコーン、ジメチルシリコーン、ポリエーテル変性シリコーン、メチルフェニルシリコーン、フェニル変性シリコーン、アルキル変性シリコーン、高級脂肪酸変性シリコーン、メチルハイドロジェンシリコーン、フッ素変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、カルボキシ変性シリコーン、カルビノール変性シリコーン、及びアミノ変性シリコーンなどが挙げられる。「非水溶性シリコーン」とは、後述の「シリコーン溶解能評価」の欄に記載の方法にしたがい測定したシリコーンのメチル基由来のピークが１０ｐｐｍ以下であるものをいう。
【００２０】
本発明のシリコーン溶解剤を、アニオン界面活性剤などと混合することにより、液体洗浄剤組成物を製造することができる。従って、本発明はまた、上記成分（Ｂ）及び成分（Ｃ）とアニオン界面活性剤とを含有する液体洗浄剤組成物を提供する。
本発明において用いることのできる陰イオン性界面活性剤の具体例としては、アルキル硫酸塩、ポリオキシエチレン（ｎav＝１〜５）アルキル硫酸塩、直鎖又は分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩、α−オレフィンスルホン酸塩、石鹸、α−スルホ脂肪酸塩、α−スルホ脂肪酸エステル塩、アルキルエーテルカルボン酸塩、アルカンスルホン酸塩、アミドエーテルカルボン酸塩、アルキルリン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルリン酸塩、モノアルキルスルホコハク酸エステル塩、ジアルキルスルホコハク酸エステル塩、アルキルコハク酸塩、Ｎ−アシルアミノ酸塩、Ｎ−アシルメチルタウリン塩等である。これら陰イオン性界面活性剤の対イオン（陽イオン）は、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、アルカノールアミンイオン、アンモニウムイオンなどが挙げられる。
【００２１】
本発明の液体洗浄剤組成物中の成分（Ｂ）の配合量は特に限定されず、製品の剤型、種類によって変化するが、一般的には、０．５〜８０質量％、より好ましくは１〜５０質量％である。これらの範囲を下回るか又は上回ると、本発明の成分（Ｂ）によるシリコーンを水中に溶解させる効果が発揮しにくくなる。
本発明の液体洗浄剤組成物中の成分（Ｃ）の配合量は特に限定されず、製品の剤型、種類によって変化するが、一般的には、０．０１〜５０質量％、好ましくは０．０１〜３０質量％ であり、より好ましくは０．１〜１０質量％である。これらの範囲を下回ると、本発明の成分（Ｃ）の好ましい効果が発揮しにくくなり、これらの範囲を上回っても本発明の成分（Ｃ）の好ましい効果が更に強く発揮されることはない。
本発明の液体洗浄剤組成物中の陰イオン性界面活性剤の配合量は特に限定されず、好ましくは０．５〜５．０質量％、さらに好ましくは０．５〜３．５質量％である。
【００２２】
〔任意成分〕
本発明のシリコーン溶解剤及び液体洗浄剤組成物には、本発明の効果を損なわない範囲で、上記（Ａ）又は（Ｂ）及び（Ｃ）成分と、水との他に、必要により、水溶性高分子、塩基性化合物、必須成分以外の非イオン性界面活性剤、両性界面活性剤、半極性界面活性剤、陽イオン性界面活性剤などの各種界面活性剤、キレート剤、必須成分以外の水溶性溶剤、ｐＨ調整剤、色素、香料などを配合することができるが、これらについては特に限定されず、目的に応じた配合がなされてよい。
水溶性高分子の具体例としては、アニオン性基含有ビニル系単量体、カチオン性基含有ビニル系単量体、ノニオン性基含有ビニル系単量体からなる共重合体が挙げられる。具体的には、アニオン性基含有ビニル系単量体としてはビニルスルホン酸、アリルスルホン酸、メタクリルスルホン酸、スチレンスルホン酸等のスルホン酸類、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸等のカルボン酸類、またはその塩などが挙げられる。
【００２３】
カチオン性基含有単量体としては、アクリル酸−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル、アクリル酸−Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノエチル、メタクリル酸−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル、メタクリル酸−Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノエチル等のアクリル酸−Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノアルキル、メタクリル酸−Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノアルキル及びそれらのハロゲン化アルキルによる四級化物等、また、Ｎ−［（Ｎ，Ｎ-ジメチルアミノ）プロピル］アクリルアミド、Ｎ−［（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）プロピル］アクリルアミド、Ｎ−［（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）プロピル］メタクリルアミド、Ｎ−［（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）プロピル］メタクリルアミド等のＮ−［（Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ）アルキル］アクリルアミド、Ｎ−［（Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ）アルキル］メタクリルアミド及びこれらのハロゲン化アルキルによる四級化物等が挙げられ、上記ハロゲン化アルキルとしては、例えば、塩化メチル、塩化エチル、臭化メチル、臭化エチル、ヨウ化メチル、ベンジルクロリド等が挙げられる。ノニオン性ビニル系単量体はイオン性基を持たないものであれば、特に限定されずに用いることができ、例えば、炭素数１〜３０の直鎖または分岐鎖状のアクリル酸アルキルエステル類およびメタクリル酸アルキルエステル類、スチレン、α−メチルスチレン等の芳香族ビニル系化合物等が挙げられる。これらのアニオン性基含有ビニル系単量体、カチオン性基含有ビニル系単量体、ノニオン性基含有ビニル系単量体はそれぞれ１種用いても良いし、２種以上を組み合わせて用いても良い。
【００２４】
さらに、天然高分子のアラビアガム、トラガントガム、キサンタンガム、グアーガム、ローカストビーンガム、ジェランガム、アルギン酸、カラギーナン、半合成高分子のメチルセルロース、エチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルヒドロキシプロピルセルロース、エチルヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、カチオン化セルロース、合成高分子のポリアクリル酸、ポリ−α−ヒドロキシアクリル酸、アクリル酸系共重合体、アクリル酸エステル系共重合体、メタクリル酸エステル系、ノニオン系ポリアクリルアミド、アニオン系ポリアクリルアミド、カチオン系ポリアクリルアミド、ポリアミノアルキルメタクリレート、アクリルアミド／アクリル酸共重合体、ポリビニルスルホン酸、ポリスチレンスルホン酸、スルホン化マレイン酸、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリエチレングリコール、ポリビニルメチルエーテル、ポリエーテル変性シリコーンなどを挙げることができる。
非イオン性界面活性剤としては、必須成分を除くポリ（ｎav＝３〜２０）オキシアルキレン（Ｃ２〜Ｃ２０）アルキルエーテル、ポリオキシエチレン（ｎav＝３〜２０）アルキルフェニルエーテル、脂肪酸ポリグリセリンエステル、脂肪酸ショ糖エステル、脂肪酸アルカノールアミドなどが挙げられる。
両性界面活性剤の具体例としては、アルキルアミノプロピオン酸、脂肪酸アミドプロピルベタイン、アルキルベタイン、アルキルヒドロキシスルホベタイン、アルキルアミドベタイン、イミダゾリニウムベタイン、Ｎ−アルキルアミノ酸などが挙げられる。
【００２５】
半極性を有する界面活性剤の具体例としては例えば、アルキルアミンオキシド、アルキルアミドプロピルアミンオキシドなどがあげられる。
陽イオン性界面活性剤の具体例としては、アルキルトリメチルアンモニウム塩、ジアルキルジメチルアンモニウム塩、アルキルアンモニウム塩、ベンザルコニウム塩、ベンゼトニウム塩、ピリジニウム塩、イミダゾリニウム塩等である。これらカチオン界面活性剤の対イオン（陰イオン）は、ハロゲンイオンなどが挙げられる。（なお、ｎavは、エチレンオキサイドの平均付加モル数であり、アルキルは飽和、不飽和、直鎖、分岐のアルキル基を含む。）
【００２６】
キレート剤の具体例としては、有機カルボン酸類、アミノカルボン酸類、ホスホン酸類、ホスホノカルボン酸類、リン酸類などが挙げられる。有機カルボン酸類としては、例えば、シュウ酸、コハク酸、グリコール酸、ジグリコール酸、乳酸、酒石酸、クエン酸、リンゴ酸、グルコン酸などを挙げることができる。アミノカルボン酸類としては、例えば、イミノジ酢酸、エチレンジアミンテトラ酢酸、ジエチレントリアミノペンタ酢酸、エチレンジアミンテトラプロピオン酢酸などを挙げることができる。ホスホン酸類としては、例えば、エタン−１，１−ジホスホン酸、エタン−１，１，２−トリホスホン酸、１−ヒドロキシエタン−１，１−ジホスホン酸およびその誘導体などを挙げることができる。ホスホノカルボン酸類としては、例えば、２−ホスホノブタン−１，２−ジカルボン酸、１，−ホスホノブタン−２，３，４−トリカルボン酸、α−メチルホスホノコハク酸等を挙げることができる。リン酸類としては、例えば、オルソリン酸、ピロリン酸、トリポリリン酸、メタリン酸、ヘキサメタリン酸、フィチン酸等の縮合リン酸などを挙げることができる。これらキレート剤は、酸の形でも使用可能であるし、アルカリ金属との塩、アルカノールアミンとの塩等、塩基性物質との塩の形で使用することも可能である。
水溶性溶剤としては、必須成分以外の汎用の水溶性溶剤を用いることができるが、具体例として、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノフェニル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等が挙げられる。
【００２７】
香料として使用される香料原料のリストは、様々な文献、例えば「Ｐｅｒｆｕｍｅ ａｎｄ Ｆｌａｖｏｒ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ 」，Ｖｏｌ．Ｉａｎｄ ＩＩ，Ｓｔｅｆｆｅｎ Ａｒｃｔａｎｄｅｒ，Ａｌｌｕｒｅｄ Ｐｕｂ．Ｃｏ．（１９９４）および「合成香料 化学と商品知識」、印藤元一著、化学工業日報社（１９９６）および「Ｐｅｒｆｕｍｅ ａｎｄ Ｆｌａｖｏｒ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ｏｆ Ｎａｔｕｒａｌ Ｏｒｉｇｉｎ」，Ｓｔｅｆｆｅｎ Ａｒｃｔａｎｄｅｒ，Ａｌｌｕｒｅｄ Ｐｕｂ．Ｃｏ．（１９９４ ）および「香りの百科」、日本香料協会編、朝倉書店（１９８９）および「Ｐｅｒｆｕｍｅｒｙ Ｍａｔｅｒｉａｌ Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ Ｖ．３．３」，Ｂｏｅｌｅｎｓ Ａｒｏｍａ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｉｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ Ｓｅｒｖｉｃｅ（１９９６）および「Ｆｌｏｗｅｒ ｏｉｌｓ ａｎｄ Ｆｌｏｒａｌ Ｃｏｍｐｏｕｎｄ-ｓ Ｉｎ Ｐｅｒｆｕｍｅｒｙ」，Ｄａｎｕｔｅ Ｌａｊａｕｊｉｓ Ａｎｏｎｉｓ，Ａｌｌｕｒｅｄ Ｐｕｂ．Ｃｏ．（１９９３）等で見られ、これらに開示されているものを使用することができる。
必要に応じて配合される色素としても特に制限はなく、公知のものを使用できる。ｐＨ調整剤としても特に制限はなく、塩酸、硫酸などの酸や、トリエタノールアミン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の塩基を、単独もしくは複合して用いることが好ましい。
【実施例】
【００２８】
実施例及び比較例のシリコーン溶解剤を調製するのに用いた（Ａ）成分は以下のとおりである。使用した各（Ａ）成分について、当該（Ａ）成分化合物１０質量部と水９０質量部との混合物は、２５℃で、Ｔｕｂｅ Ｍｉｘｅｒ（ＶＴＸ−３５００ ＬＭＳ社製）で３０分間攪拌（回転数：１５００ｒｐｍ）した後、一晩静置した時に混合物の状態は均一であった。したがって、いずれの（Ａ）成分も水溶性であった。
【００２９】
【表１】
【００３０】
表１中、「合成品」と示した化合物は以下のようにして製造した。
＜製造例１＞
トリオキシエチレンモノ−ｎ−ペンチルエーテル（Ｃ５ＥＯ３）の合成
窒素雰囲気下、ジムロートと滴下ロートとスリーワンモーターの攪拌機を取り付けた２Ｌの四ツ口フラスコに、トリエチレングリコール５１１．１８ｇ（３．４ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）、t-ブトキシカリウム１０５．０３g（０．９４moL、東京化成（株）試薬）、テトラヒドロフラン２００mL(東京化成（株）試薬)を仕込み、水浴でｔ‐ブトキシカリウムが溶解するまで攪拌した。ｔ‐ブトキシカリウムが溶解した後、６０℃に加温して1-ブロモペンタン１２８．５ｇ（０．８５１ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）のテトラヒドロフラン１００ｍL溶液を室温で３０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で４時間攪拌したのち、加熱を停止した。放冷後、水３００ｍＬ、酢酸エチル８００ｍＬで抽出した。有機層を水４００ｍＬで３回水洗して水層が中性になったことを確認し、飽和食塩水４００ｍＬで１回洗浄した。分液して有機層の溶媒を留去した。塩が析出したので濾過で取り除いたあと、残渣を減圧蒸留で精製してトリオキシエチレンモノ−ｎ−ペンチルエーテル（Ｃ５ＥＯ３）を１１３．５ｇ（収率６０．５％、ｂｐ９８〜１００℃／５０Ｐａ）得た。
1H NMR(CDCL3, 25℃) δ0.84(t, 3H), 1.24(m, 4H), 1.53(m, 2H), 2.62(br, 1H), 3.42(t, 2H), 3.52-3.70(m, 12H)
【００３１】
＜製造例２＞
テトラオキシエチレンモノ−ｎ−ヘキシルエーテル（Ｃ６ＥＯ４）の合成
窒素雰囲気下、ジムロートと滴下ロートと攪拌子を取り付けた１Ｌの四ツ口フラスコに、ｔ‐ブトキシカリウム２９．９ｇ（０．２６６ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）、テトラヒドロフラン１００ｍＬ（東京化成（株）試薬）を仕込み、水冷下でテトラエチレングリコール１８８ｇ（０．９６８ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）を１時間かけて滴下した。ｔ‐ブトキシカリウムが溶解した後、５５℃で1-ブロモヘキサン４０ｇ（０．２４２ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）のテトラヒドロフラン５０ｍL溶液を３０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃に加温して５．５時間攪拌したのち、加熱を停止した。放冷後、水２００ｍＬ、酢酸エチル４００ｍＬで抽出した。有機層を水３００ｍＬで３回水洗して水層が中性になったことを確認し、飽和食塩水３００ｍＬで１回洗浄した。分液して有機層の溶媒を留去した。塩が析出したので濾過で取り除いたあと、残渣を減圧蒸留で精製してテトラオキシエチレンモノ−ｎ−ヘキシルエーテル（Ｃ６ＥＯ４）を４３．８ｇ（収率６５．０％、ｂｐ１２６〜１２９℃／３０Ｐａ）得た。
1H NMR(CDCL3, 25℃) δ0.84(t, 3H), 1.25(br, 6H), 1.52(m, 2H), 3.25(br, 1H), 3.42(t, 2H), 3.52-3.75(m, 16H)
【００３２】
＜製造例３＞
ペンタオキシエチレンモノ−ｎ−ヘキシルエーテル（Ｃ６ＥＯ５）の合成
窒素雰囲気下、ジムロートと滴下ロートと攪拌子を取り付けた１００ｍLの２口フラスコに、ｔ‐ブトキシカリウム２．５８ｇ（２３ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）、テトラヒドロフラン２０ｍＬ（東京化成（株）試薬）を仕込み、室温でペンタエチレングリコール５ｇ（２１ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）を５分間で滴下した。滴下終了後、ｔ‐ブトキシカリウムが完全に溶解するまで室温攪拌した。その後、室温で1-ブロモヘキサン３．４７ｇ（２１ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）のテトラヒドロフラン２０ｍL溶液を５分間で滴下した。滴下終了後、６０℃に加温して５時間攪拌したのち、加熱を停止した。放冷後、水１００ｍＬ、酢酸エチル１００ｍＬで抽出した。抽出の最中にエマルジョンになった時は、飽和食塩水を小量添加すると有機層と水層は分離する。有機層を水１００ｍＬで２回水洗して水層が中性になったことを確認し、最後に飽和食塩水１００ｍＬで１回洗浄した。分液して有機層の溶媒を留去した。塩が析出したので濾過で取り除いたあと、残渣をガラスチューブオーブンを用いて減圧蒸留で精製してペンタオキシエチレンモノ−ｎ−ヘキシルエーテル（Ｃ６ＥＯ５）を３．１ｇ（収率３６．０％、１３４〜１４０℃／２０Ｐａ）得た。
1H NMR(CDCL3, 25℃)δ0.84(t, 3H), 1.24(br, 6H), 1.53(m, 2H), 2.63(br, 1H), 3.41(t, 2H), 3.53-3.70(m, 20H)
【００３３】
＜製造例４＞
テトラオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（Ｃ８ＥＯ４）の合成
窒素雰囲気下、ジムロートと滴下ロートと攪拌子を取り付けた５００ｍLの四ツ口フラスコに、ｔ‐ブトキシカリウム３４．８ｇ（０．３１ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）、テトラヒドロフラン１５０ｍＬ（東京化成（株）試薬）を仕込み、室温でテトラエチレングリコール１８１ｇ（０．９１ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）を３０分間かけて滴下した。滴下終了後、ｔ‐ブトキシカリウムが完全に溶解するまで室温で攪拌した。その後、室温で1-ブロモオクタン６０ｇ（０．３１ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）のテトラヒドロフラン３０ｍL溶液を３０分かけて滴下した。滴下終了後、６５℃で３時間攪拌したのち加熱を停止した。放冷後、水３００ｍＬ、酢酸エチル３００ｍＬで抽出した。有機層を水３００ｍＬで２回水洗して水層が中性になったことを確認し、飽和食塩水３００ｍＬで１回洗浄した。分液して有機層の溶媒を留去した。塩が析出したので濾過で取り除いたあと、残渣を減圧蒸留で精製してテトラオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（Ｃ８ＥＯ４）を６３．３ｇ（収率６６．６％、ｂｐ１５２〜１６１℃／２５Ｐａ）得た。
1H NMR(CDCL3, 25℃) δ0.89(t, 3H), 1.31(br, 10H), 1.56(m, 2H), 3.30(br, 1H), 3.46(t, 2H), 3.53-3.67(m, 16H)
【００３４】
＜製造例５＞
ペンタオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（Ｃ８ＥＯ５）の合成
（I）塩化カルシウム管付きの滴下ロートを取り付けた５００ｍＬの一口ナスフラスコに、トリエチレングリコール モノ-n-オクチルエーテル２０ｇ（０．０８６５ｍｏＬ）、トリエチルアミン９．１９ｇ（０．０９０８ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）、テトラヒドロフラン１５０ｍＬ（東京化成（株）試薬）を仕込み、塩化メタンスルホニル１０．４ｇ（０．０９０８ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）のテトラヒドロフラン２０ｍＬ溶液を０℃で滴下した。滴下した直後から、白色のトリエチルアミン塩酸塩が析出する。１０分間で滴下し、滴下終了後０℃で１時間攪拌した。その後、減圧濾過で析出したアミン塩酸塩を除去し、トリエチレングリコール モノ-n-オクチルエーテルのメタンスルホニルエステルのテトラヒドロフラン溶液を得た。尚、ろ過で析出した残渣はテトラヒドロフラン５０ｍＬで洗浄した。
【００３５】
（II）窒素雰囲気下、ジムロートと滴下ロートとスリーワンモーターの攪拌機を取り付けた１Ｌの四ツ口フラスコにｔ‐ブトキシカリウム１０．６７ｇ（０．０９５２ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）、テトラヒドロフラン７０ｍＬを仕込み、ジエチレングリコール３６．７ｇ（０．３４６ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）のジメチルホルムアミド５０mＬ（東京化成（株）試薬）溶液を室温で滴下したのち１時間攪拌してｔ‐ブトキシカリウムを溶解させた。その後６０℃に加温して、その温度で（I）で調製したトリエチレングリコール モノ-n-オクチルエーテルのメタンスルホニルエステルのテトラヒドロフラン溶液を３０分間かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で４時間攪拌したのち、加熱を停止した。放冷後、水３００ｍL、酢酸エチル４００ｍＬで抽出した。有機層を水３００ｍLで３回水洗して水層が中性になったことを確認したのち、飽和食塩水３００ｍLで１回洗浄した。分液して有機層の溶媒を留去したのち、残渣を減圧蒸留で精製してペンタオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（Ｃ８ＥＯ５）を１２ｇ（収率４３％、ｂｐ１６５〜１７０／２０Ｐａ）得た。
1H NMR(CDCL3, 25℃) δ0.79(t, 3H), 1.19(br, 10H), 1.48(m, 2H), 3.36(t, 3H), 3.50-3.78(m, 21H)
【００３６】
＜製造例６＞
ヘキサオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（Ｃ８ＥＯ６）の合成
窒素雰囲気下、ジムロートと滴下ロートと攪拌子を取り付けた１００ｍLの２口フラスコに、ｔ‐ブトキシカリウム２．１９ｇ（１９．５mｍｏＬ、東京化成（株）試薬）、テトラヒドロフラン２０ｍＬ（東京化成（株）試薬）を仕込み、室温でヘキサエチレングリコール５ｇ（１７．７ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）を５分間で滴下した。滴下終了後、ｔ‐ブトキシカリウムが完全に溶解するまで室温で攪拌した。その後、室温で1-ブロモオクタン３．４２ｇ（１７．７ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）のテトラヒドロフラン１０ｍL溶液を５分間で滴下した。滴下終了後、６０℃で７時間攪拌したのち加熱を停止した。放冷後、水１００ｍＬ、酢酸エチル１００ｍＬで抽出した。有機層を水１００ｍＬで２回水洗して水層が中性になったことを確認し、飽和食塩水１００ｍＬで１回洗浄した。分液して有機層の溶媒を留去した。塩が析出したので濾過で取り除いたあと、残渣をガラスチューブオーブンを用いて減圧蒸留で精製してヘキサオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（Ｃ８ＥＯ６）を３．３ｇ（収率４７．３％、ガラスチューブオーブン温度２０２℃／２０Ｐａ）得た。
1H NMR(CDCL3, 25℃) δ0.85(t, 3H), 1.24(br, 10H), 1.54(m, 2H), 2.17(br, 1H), 3.41(t, 2H), 3.52-3.72(m, 24H)
【００３７】
＜製造例７＞
ペンタオキシエチレンモノ−ｎ−ノニルエーテル（Ｃ９ＥＯ５）の合成
（I）塩化カルシウム管付きの滴下ロートを取り付けた３００ｍＬの一口ナスフラスコに、テトラエチレングリコール モノ-n-ノニルエーテル２５ｇ（７８ｍｍｏＬ）、トリエチルアミン８．３ｇ（８２ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）、テトラヒドロフラン１００ｍＬ（東京化成（株）試薬）を仕込み、水冷下で塩化メタンスルホニル９．４ｇ（８２ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）のテトラヒドロフラン２０ｍＬ溶液を２０分間で滴下した。滴下した直後から、白色のトリエチルアミン塩酸塩が析出する。滴下終了後、水冷下で３０分間攪拌した。その後、減圧濾過で析出したアミン塩酸塩を除去し、テトラエチレングリコール モノ-n-ノニルエーテルのメタンスルホニルエステルのテトラヒドロフラン溶液を得た。尚、ろ過で析出した残渣はテトラヒドロフラン５０ｍＬで洗浄した。
【００３８】
（II）窒素雰囲気下、ジムロートと滴下ロートとスリーワンモーターの攪拌機を取り付けた５００ｍＬの四ツ口フラスコにｔ‐ブトキシカリウム９．６３ｇ（８６ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）、テトラヒドロフラン２０ｍＬを仕込み、室温でエチレングリコール１９．４ｇ（３１３ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）のジメチルホルムアミド１００mＬの溶液を３０分間で滴下した。このとき、白色沈殿物が生成した。６０℃に加温するとこの沈殿物は溶解して透明溶液になった。６０℃で（I）で調製したテトラエチレングリコール モノ-n-ノニルエーテルのメタンスルホニルエステルのテトラヒドロフラン溶液を３０分間で滴下した。反応液はゲル状になる。滴下終了後、６０℃で４時間攪拌したのち、加熱を停止した。放冷後、水３００ｍL、酢酸エチル３００ｍＬで抽出した。有機層を水３００mＬで３回水洗して水層が中性になったことを確認したのち、飽和食塩水３００ｍLで１回洗浄した。分液して有機層の溶媒を留去した。残渣を減圧蒸留で精製してペンタオキシエチレンモノ−ｎ−ノニルエーテル（Ｃ９ＥＯ５）を１２．８ｇ（収率４５．１％、ｂｐ１８０〜１８２℃／２０Ｐａ）得た。
1H NMR(CDCL3, 25℃) δ0.80(s, 3H), 1.19(br, 12H), 1.48(m, 2H), 3.15(br, 1H), 3.37(t, 2H), 3.49-3.67(m, 20H)
【００３９】
＜製造例８＞
ヘキサオキシエチレンモノ−ｎ−ノニルエーテル（Ｃ９ＥＯ６）の合成
窒素雰囲気下、ジムロートと滴下ロートと攪拌子を取り付けた１００ｍLの２口フラスコに、ｔ‐ブトキシカリウム２．１９ｇ（１９．５ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）、テトラヒドロフラン２０ｍＬ（東京化成（株）試薬）を仕込み、室温でヘキサエチレングリコール５ｇ（１７．７ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）を５分間で滴下した。滴下終了後、ｔ‐ブトキシカリウムが完全に溶解するまで室温攪拌した。その後、室温で1-ブロモノナン３．６６ｇ（１７．７ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）のテトラヒドロフラン２０ｍL溶液を５分間で滴下した。滴下終了後、６０℃に加温して５時間攪拌したのち、加熱を停止した。放冷後、水１００ｍＬ、酢酸エチル１００ｍＬで抽出した。有機層を水１００ｍＬで２回水洗して水層が中性になったことを確認し、飽和食塩水１００ｍＬで１回洗浄した。分液して有機層の溶媒を留去した。塩が析出したので濾過で取り除いたあと、残渣をガラスチューブオーブンを用いて減圧蒸留で精製してヘキサオキシエチレンモノ−ｎ−ノニルエーテル（Ｃ９ＥＯ６）を３．３ｇ（収率４１．１％、ガラスチューブオーブン温度２１０℃／２０Ｐａ）得た。
1H NMR(CDCL3, 25℃) δ0.84(t, 3H), 1.22(br, 12H), 1.55(m, 2H), 2.76(br, 1H), 3.40(t, 2H), 3.53-3.70(m, 24H)
【００４０】
＜製造例９＞
ペンタオキシエチレンモノ−ｎ−デシルエーテル（Ｃ１０ＥＯ５）の合成
窒素雰囲気下、ジムロートと滴下ロートと攪拌子を取り付けた１００ｍLの２口フラスコに、ｔ‐ブトキシカリウム２．５８ｇ（２３ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）、テトラヒドロフラン２０ｍＬ（東京化成（株）試薬）を仕込み、室温でペンタエチレングリコール５ｇ（２１ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）を５分間で滴下した。滴下終了後、ｔ‐ブトキシカリウムが完全に溶解するまで室温攪拌した。その後、室温で1-ブロモデカン４．６４ｇ（２１ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）のテトラヒドロフラン２０ｍL溶液を５分間で滴下した。滴下終了後、６０℃に加温して５時間攪拌したのち、加熱を停止した。放冷後、水１００ｍＬ、酢酸エチル１００ｍＬで抽出した。有機層を水１００ｍＬで２回水洗して水層が中性になったことを確認し、飽和食塩水１００ｍＬで１回洗浄した。分液して有機層の溶媒を留去した。塩が析出したので濾過で取り除いたあと、残渣をガラスチューブオーブンを用いて減圧蒸留で精製してペンタオキシエチレンモノ−ｎ−デシルエーテル（Ｃ１０ＥＯ５）を３．４ｇ（収率４２．８％、ガラスチューブオーブン温度２１０℃／２０Ｐａ）得た。
1H NMR(CDCL3, 25℃) δ0.84(t, 3H), 1.22(br, 14H), 1.54(m, 2H), 2.79(br, 1H), 3.41(t, 2H), 3.52-3.70(m, 20H)
【００４１】
＜製造例１０＞
ヘキサオキシエチレンモノ−ｎ−デシルエーテル（Ｃ１０ＥＯ６）の合成
窒素雰囲気下、ジムロートと滴下ロートと攪拌子を取り付けた１００ｍLの２口フラスコに、ｔ‐ブトキシカリウム２．１９ｇ（１９．５ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）、テトラヒドロフラン２０ｍＬ（東京化成（株）試薬）を仕込み、室温でヘキサエチレングリコール５ｇ（１７．７ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）を５分間で滴下した。滴下終了後、ｔ‐ブトキシカリウムが完全に溶解するまで室温攪拌した。その後、室温で1-ブロモデカン３．９１ｇ（１７．７ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）のテトラヒドロフラン２０ｍL溶液を５分間で滴下した。滴下終了後、６０℃に加温して５時間攪拌したのち、加熱を停止した。放冷後、水１００ｍＬ、酢酸エチル１００ｍＬで抽出した。有機層を水１００ｍＬで２回水洗して水層が中性になったことを確認し、飽和食塩水１００ｍＬで１回洗浄した。分液して有機層の溶媒を留去した。塩が析出したので濾過で取り除いたあと、残渣をガラスチューブオーブンを用いて減圧蒸留で精製してヘキサオキシエチレンモノ−ｎ−デシルエーテル（Ｃ１０ＥＯ６）を３．５ｇ（収率４６．８％、ガラスチューブオーブン温度２４０℃／２０Ｐａ）得た。
1H NMR(CDCL3, 25℃) δ0.84(t, 3H), 1.22(br, 14H), 1.54(m, 2H), 2.79(br, 1H), 3.41(t, 2H), 3.52-3.70(m, 24H)
【００４２】
＜比較製造例１＞
ヘプタオキシエチレンモノ−ｎ−ドデシルエーテル（Ｃ１２ＥＯ７）の合成
窒素雰囲気下、ジムロートと滴下ロートと攪拌子を取り付けた１００ｍLの２口フラスコに、ｔ‐ブトキシカリウム１．８９ｇ（１６．８ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）、テトラヒドロフラン２０ｍＬ（東京化成（株）試薬）を仕込み、室温でヘプタエチレングリコール５ｇ（１５．３ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）を５分間で滴下した。滴下終了後、ｔ‐ブトキシカリウムが完全に溶解するまで室温攪拌した。その後、室温で1-ブロモドデカン３．８１ｇ（１５．３ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）のテトラヒドロフラン２０ｍL溶液を５分間で滴下した。滴下終了後、６０℃に加温して５時間攪拌したのち、加熱を停止した。放冷後、水１００ｍＬ、酢酸エチル１００ｍＬで抽出した。有機層を水１００ｍＬで２回水洗して水層が中性になったことを確認し、飽和食塩水１００ｍＬで１回洗浄した。分液して有機層の溶媒を留去した。塩が析出したので濾過で取り除いたあと、残渣をガラスチューブオーブンを用いて減圧蒸留で精製してヘプタオキシエチレンモノ−ｎ−ドデシルエーテル（Ｃ１２ＥＯ７）を３．３ｇ（収率４３．６％、ガラスチューブオーブン温度３００℃／２０Ｐａ）得た。
1H NMR(CDCL3, 25℃) δ0.83(t, 3H), 1.22(br, 18H), 1.53(m, 2H), 2.65(br, 1H), 3.40(t, 2H), 3.52-3.70(m, 28H)
【００４３】
＜比較製造例２＞
ヘプタオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（Ｃ８ＥＯ７）の合成
（I）塩化カルシウム管付きの滴下ロートを取り付けた３００ｍＬの一口ナスフラスコに、テトラオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル２５ｇ（８２ｍｍｏＬ）、トリエチルアミン８．７ｇ（８６ｍｍｏＬ）、テトラヒドロフラン１００ｍＬを仕込み、水冷下で塩化メタンスルホニル９．８ｇ（８６ｍｍｏＬ）のテトラヒドロフラン２０ｍＬ溶液を２０分間で滴下した。滴下した直後から、白色のトリエチルアミン塩酸塩が析出する。滴下終了後、水冷下で５０分間攪拌した。その後、減圧濾過で析出したアミン塩酸塩を除去し、テトラオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテルのメタンスルホニルエステルのテトラヒドロフラン溶液を得た。尚、ろ過で析出した残渣はテトラヒドロフラン３０ｍＬで洗浄した。
【００４４】
（II）窒素雰囲気下、ジムロートと滴下ロートとスリーワンモーターの攪拌機を取り付けた５００ｍＬの四ツ口フラスコにｔ‐ブトキシカリウム１０．０９ｇ（９０ｍｍｏＬ）、テトラヒドロフラン２０ｍＬを仕込み、室温でトリエチレングリコール４９．６ｇ（０．３３ｍｏＬ）を２０分間で滴下した。滴下終了後、ｔ‐ブトキシカリウムが完全に溶解するまで室温で攪拌した。次に６０℃に加温して（I）で調製したテトラオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテルのメタンスルホニルエステルのテトラヒドロフラン溶液を３０分間で滴下した。滴下終了後、６０℃で４時間攪拌したのち、加熱を停止した。放冷後、水３００ｍL、酢酸エチル３００ｍＬで抽出した。有機層を水３００mＬで３回水洗して水層が中性になったことを確認し、飽和食塩水３００ｍLで１回洗浄した。分液して有機層の溶媒を留去した。残渣をガラスチューブオーブンを用いて減圧蒸留で精製してヘプタオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（Ｃ８ＥＯ７）を１５．９ｇ（収率４４．３％、ガラスチューブオーブン温度２３０℃／２０Ｐａ）得た。
1H NMR(CDCL3, 25℃) δ0.83(s, 3H), 1.21(br, 10H), 1.50(m, 2H), 2.81(br, 1H), 3.39(t, 2H), 3.52-3.70(m, 28H)
【００４５】
＜比較製造例３＞
テトラオキシエチレングリコール モノ（４−メチル−１−ペンチル）エーテル（ｉＣ６ＥＯ４）の合成
窒素雰囲気下、ジムロートと滴下ロートと攪拌子を取り付けた２００ｍLの２口フラスコに、ｔ‐ブトキシカリウム３．５３ｇ（３１．５ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）、テトラヒドロフラン５０ｍＬ（東京化成（株）試薬）を仕込み、室温でテトラエチレングリコール２３．３ｇ（０．１２ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）を５分間で滴下した。滴下終了後、ｔ‐ブトキシカリウムが完全に溶解するまで室温攪拌した。その後、室温で1-ブロモ-４‐メチルペンタン５ｇ（３０．３ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）のテトラヒドロフラン２０ｍL溶液を１０分間で滴下した。滴下終了後、６０℃に加温して５時間攪拌したのち、加熱を停止した。放冷後、水１００ｍＬ、酢酸エチル１００ｍＬで抽出した。有機層を水１００ｍＬで２回水洗して水層が中性になったことを確認し、飽和食塩水１００ｍＬで１回洗浄した。分液して有機層の溶媒を留去した。塩が析出したので濾過で取り除いたあと、残渣を減圧蒸留で精製してテトラエチレングリコール モノ-４‐メチル-１-ペンチルエーテルを５．２ｇ（収率６２％、１２２−１２５℃／３０Ｐａ）得た。
1H NMR(CDCL3, 25℃) δ0.86(6H), 1.22-1.86(m, 5H), 2.76(br, 1H), 3.41(t, 2H), 3.52-3.75(m, 16H)
【００４６】
＜比較製造例４＞
テトラオキシエチレンモノ（２−エチルヘキシル）エーテル（ｉＣ８ＥＯ４）の合成
窒素雰囲気下、ジムロートと滴下ロートと攪拌子を取り付けた５００ｍLの４口フラスコに、ｔ‐ブトキシカリウム１２．８８ｇ（０．１１５ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）、テトラヒドロフラン５０ｍＬ（東京化成（株）試薬）を仕込み、室温でテトラエチレングリコール６０．６ｇ（０．３１２ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）を２０分間で滴下した。滴下終了後、ｔ‐ブトキシカリウムが完全に溶解するまで室温で攪拌した。その後、４０℃に加温して1-ブロモ-2-エチルヘキサン２０ｇ（０．１０４ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）のテトラヒドロフラン２０ｍL溶液を２０分間で滴下した。滴下終了後、４０℃で1時間攪拌したのち６０℃に加温して６時間攪拌したのち、加熱を停止した。放冷後、水１００ｍＬ、酢酸エチル２００ｍＬで抽出した。有機層を水２００ｍＬで３回水洗して水層が中性になったことを確認し、飽和食塩水２００ｍＬで１回洗浄した。分液して有機層の溶媒を留去した。塩が析出したので濾過で取り除いたあと、残渣を減圧蒸留で精製してテトラオキシエチレンモノ（２−エチルヘキシル）エーテル（ｉＣ８ＥＯ４）を３ｇ（収率９．５％、ｂｐ１４０℃／２０Ｐａ）得た。
1H NMR(CDCL3, 25℃) δ0.79(m, 6H), 1.25(br, 8H), 1.44(br, 1H), 2.91(br, 1H), 3.25(d, 2H), 3.49-3.64(m, 16H)
【００４７】
実施例及び比較例のシリコーン溶解剤を調製するのに用いた（Ｂ）成分は以下のとおりである。使用した各（Ｂ）成分について、当該（Ｂ）成分化合物１０質量部と水９０質量部との混合物は、２５℃で、Ｔｕｂｅ Ｍｉｘｅｒ（ＶＴＸ−３５００ ＬＭＳ社製）で３０分間攪拌（回転数：１５００ｒｐｍ）した後、一晩静置した時に混合物の状態が分離（（Ｂ）成分化合物と水とが分離）していた。したがって、いずれの（Ｂ）成分も難水溶性であった。
【００４８】
【表２】
【００４９】
表２中、「合成品」と示した化合物は以下のようにして製造した。
＜製造例１＞
トリオキシエチレンモノ−ｎ−ヘキシルエーテル（Ｃ６ＥＯ３）の合成
窒素雰囲気下、ジムロートと滴下ロートとスリーワンモーターの攪拌機を取り付けた２Ｌの四ツ口フラスコに、トリエチレングリコール４８０．５４ｇ（３．２ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）、ｔ‐ブトキシカリウム９８．７４ｇ（０．８８ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）、テトラヒドロフラン２００ｍＬ（東京化成（株）試薬）を仕込み、水浴でｔ‐ブトキシカリウムが溶解するまで攪拌を継続した。ｔ‐ブトキシカリウムが溶解した後、室温で1-ブロモヘキサン１３２．０５ｇ（０．８ｍｏＬ、東京化成（株）、試薬）のテトラヒドロフラン１００ｍL溶液を室温で３０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃に加温して４時間攪拌したのち、加熱を停止した。放冷後、水４００ｍＬ、酢酸エチル８００ｍＬで抽出した。有機層を水４００ｍＬで３回水洗して水層が中性になったことを確認し、飽和食塩水４００ｍＬで１回洗浄した。分液して有機層の溶媒を留去した。塩が析出したので濾過で取り除いたあと、残渣を減圧蒸留で精製してトリオキシエチレンモノ−ｎ−ヘキシルエーテル（Ｃ６ＥＯ３）を１２０．９ｇ（収率６４．５％、ｂｐ１１１〜１１６℃／２０Ｐａ）得た。
1H NMR(CDCL3, 25℃) δ0.84(t, 3H), 1.25(br, 6H), 1.53(m, 2H), 2.61(br, 1H), 3.41(t, 2H), 3.53-3.70(m, 12H)
【００５０】
＜製造例２＞
ジオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（Ｃ８ＥＯ２）の合成
窒素雰囲気下、ジムロートと滴下ロートと攪拌子を取り付けた５００mＬの四ツ口フラスコに、ｔ‐ブトキシカリウム３４．８ｇ（０．３１ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）、テトラヒドロフラン１５０ｍＬ（東京化成（株）試薬）を仕込み、水冷下でジエチレングリコール１３２ｇ（１．２４ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）を３０分間かけて滴下した。ｔ‐ブトキシカリウムが溶解した後、室温で1-ブロモオクタン６０ｇ（０．３１ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）のテトラヒドロフラン３０ｍL溶液を３０分かけて滴下した。滴下終了後、６５℃に加温して３時間攪拌したのち、加熱を停止した。放冷後、水２００ｍＬ、酢酸エチル４００ｍＬで抽出した。有機層を水３００ｍＬで２回水洗して水層が中性になったことを確認し、飽和食塩水３００ｍＬで１回洗浄した。分液して有機層の溶媒を留去した。塩が析出したので濾過で取り除いたあと、残渣を減圧蒸留で精製してジオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（Ｃ８ＥＯ２）を４７．４ｇ（収率７０．１％、ｂｐ８８〜９４℃／２０Ｐａ）得た。
1H NMR(CDCL3, 25℃) δ0.89(t, 3H), 1.30(br, 10H), 1.55(m, 2H), 3.30(br, 1H), 3.47(t, 2H), 3.53-3.67(m, 8H)
【００５１】
＜製造例３＞
トリオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（Ｃ８ＥＯ３）の合成
窒素雰囲気下、ジムロートと滴下ロートとスリーワンモーターの攪拌機を取り付けた２Lの四ツ口フラスコに、トリエチレングリコール４２６．５ｇ（２．８４ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）、テトラヒドロフラン２００ｍＬ（東京化成（株）試薬）を仕込み、水冷下でｔ‐ブトキシカリウム８０．６ｇ（０．７８ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）を３０分間かけて少量ずつ溶液に添加した。添加終了後、ｔ‐ブトキシカリウムが完全に溶解するまで室温で攪拌した。その後、６０℃に加温して1-ブロモオクタン１３７．１ｇ（０．７１ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）のテトラヒドロフラン１００ｍL溶液を３０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で３時間攪拌したのち加熱を停止した。放冷後、水４００ｍＬ、酢酸エチル８００ｍＬで抽出した。有機層を水４００ｍＬで３回水洗して水層が中性になったことを確認し、飽和食塩水４００ｍＬで１回洗浄した。分液して有機層の溶媒を留去した。塩が析出したので濾過で取り除いたあと、残渣を減圧蒸留で精製してトリオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（Ｃ８ＥＯ３）を１２８．８ｇ（収率６８．７％、ｂｐ１１８〜１２２℃／２０Ｐａ）得た。
1H NMR(CDCL3, 25℃) δ0.83(t, 3H), 1.23(br, 10H), 1.53(m, 2H), 2.65(br, 1H), 3.43(t, 2H), 3.52-3.70(m, 12H)
【００５２】
＜製造例４＞
テトラオキシエチレンモノ−ｎ−ノニルエーテル（Ｃ９ＥＯ４）の合成
窒素雰囲気下、ジムロートと滴下ロートと攪拌子を取り付けた１Lの４ツ口フラスコに、ｔ‐ブトキシカリウム４８．９ｇ（０．４３６ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）、テトラヒドロフラン１００ｍＬ（東京化成（株）試薬）を仕込み、水冷下でテトラエチレングリコール３０７．５ｇ（１．５８ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）を４０分間で滴下した。滴下終了後、ｔ‐ブトキシカリウムが完全に溶解するまで室温で攪拌した。その後、６０℃で1-ブロモノナン８２ｇ（０．３９６ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）のテトラヒドロフラン８０ｍL溶液を８０分間で滴下した。滴下終了後、６０℃で４時間攪拌したのち、加熱を停止した。放冷後、水４００ｍＬ、酢酸エチル８００ｍＬで抽出した。有機層を水４００ｍＬで３回水洗して水層が中性になったことを確認し、飽和食塩水４００ｍＬで１回洗浄した。分液して有機層の溶媒を留去した。塩が析出したので濾過で取り除いたあと、残渣を減圧蒸留で精製してテトラオキシエチレンモノ−ｎ−ノニルエーテル（Ｃ９ＥＯ４）を８４．５ｇ（収率６６．６％、ｂｐ１５８〜１６７℃／２５Ｐａ）得た。
1H NMR(CDCL3, 25℃) δ0.83(t, 3H), 1.21(br, 12H), 1.53(m, 2H), 3.25(s, 1H), 3.40(t, 2H), 3.51-3.69(m, 16H)
【００５３】
〔シリコーン溶解剤の調製〕
（１）（Ａ）を含むシリコーン溶解剤の場合
（Ａ）成分と重水とを、（Ａ）成分／重水＝１０／９０（質量比）で混合することにより、シリコーン溶解剤を調製した。
（２）（Ｂ）成分を含むシリコーン溶解剤の場合
（Ｂ）成分と、（Ｃ）成分と、重水とを、（Ｂ）／（Ｃ）／重水＝１０／５／８５（質量比）で混合することにより、シリコーン溶解剤を調製した。なお、（Ｃ）成分としては、ポリオキシエチレンモノラウリルエーテル（エチレンオキシドの平均付加モル数ｍ＝１５）を用いた。
【００５４】
〔シリコーン溶解能評価〕
上で得られた溶液に、溶液の全質量に対して５質量％に相当する量のジメチルシリコーン（信越化学工業社製：25℃における動粘度が１０００万ｍｍ2／ｓの高重合メチルポリシロキサン）を加え、Ｔｕｂｅ Ｍｉｘｅｒ（ＶＴＸ−３５００ ＬＭＳ社製）で３０分間攪拌した後、遠心分離により余分なジメチルシリコーンを除去した。ＮＭＲチューブに水層を量り取り、そこへ、内標（２−フェノキシエタノール）を添加し、ＮＭＲ測定サンプルとした。1Ｈ−ＮＭＲ測定を行い、シリコーンのメチル基由来のピーク（０ｐｐｍ）の積分値から、実施例及び比較例のシリコーン溶解剤のジメチルシリコーンの溶解能を算出した。結果を表３及び４に示す。
なお、使用したジメチルシリコーンについて、重水と重水の全質量に対して５質量％に相当する量の当該ジメチルシリコーンとの混合物を、Ｔｕｂｅ Ｍｉｘｅｒ（ＶＴＸ−３５００ ＬＭＳ社製）で３０分間攪拌（回転数：１５００ｒｐｍ）した後、遠心分離により余分なジメチルシリコーンを除去した。ＮＭＲチューブに水層を量り取り、そこへ、内標（２−フェノキシエタノール）を添加し、ＮＭＲ測定サンプルとした。1Ｈ−ＮＭＲ測定を行ったところ、シリコーンのメチル基由来のピークは１０ｐｐｍ以下であった。したがって、当該ジメチルシリコーンは水不溶性（非水溶性）であった。
【００５５】
【表３】
【００５６】
【表４】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、シリコーン溶解剤に関する。詳しくは、浴室の壁や床にこびりついたヘアケア製品由来のシリコーンを落とすのに好適なシリコーン溶解剤に関する。
【背景技術】
【０００２】
シャンプーやコンディショナー等のヘアケア製品の中には、毛髪に柔軟性を付与したり、指どおりをよくしたりするためにシリコーンが配合されているものがある。
これらヘアケア製品に配合されているシリコーンはこれまでは数十万ｍｍ2／ｓ程度の低重合のものが主であったが（特許文献１）、近年、性能を向上させるために数千万ｍｍ2／ｓ程度の高重合のものが使用されるようになってきている（特許文献２）。
【０００３】
【特許文献１】特開平4-54111号公報
【特許文献２】特開2007-77057号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
シリコーンの高重合化に伴い、シリコーン汚れを簡単に落とすことが難しくなった。そこで、高重合シリコーンに由来する汚れでも簡単に落とすことのできる技術が求められている。従って、本発明は、新規なシリコーン溶解剤を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らが鋭意検討した結果、特定のポリオキシエチレンモノアルキルエーテルを使用すれば、高重合シリコーン汚れを水へ溶解させることにより容易に除去できることを見出した。
即ち、本発明は、（Ａ）下記一般式（1)で表されるポリオキシエチレンモノアルキルエーテルであって、水溶性であるポリオキシエチレンモノアルキルエーテルを含むシリコーン溶解剤を提供する。
Ｒ−Ｏ−（Ｃ2Ｈ4Ｏ）n−Ｈ （１）
（式中、Ｒは炭素数５〜１０の直鎖のアルキル基、ｎは１〜６の整数である。）
【０００６】
本発明はまた、（Ｂ）下記一般式（1)で表されるポリオキシエチレンモノアルキルエーテルであって、難水溶性であるポリオキシエチレンモノアルキルエーテルと、
Ｒ−Ｏ−（Ｃ2Ｈ4Ｏ）n−Ｈ （１）
（式中、Ｒは炭素数５〜１０の直鎖のアルキル基、ｎは１〜６の整数である。）
（Ｃ）ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ドデシルエーテル（エチレンオキサイドの平均付加モル数ｍは５〜３０である。）
とを含むシリコーン溶解剤を提供する。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、浴室の床や壁面等にこびりついたシリコーンを容易に除去することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
本発明において用いる成分（Ａ）及び成分（Ｂ）のいずれも同じ一般式（１）で表されるが、式中のＲの炭素数とｎの数との組合せにより、式（１）の化合物の水への溶解性が異なる。成分（Ａ）は水溶性、成分（Ｂ）は難水溶性である。
第一の態様
本発明の第一の態様は、成分（Ａ）を含有するシリコーン溶解剤である。
本発明において用いる成分（Ａ）は、上記一般式（１）で表されるポリオキシエチレンモノアルキルエーテルであって、水溶性である化合物である。成分（Ａ）は、非水溶性シリコーンを水へ溶解させる作用を持つ。本明細書において、「水溶性」とは、式（１）の化合物１０質量部と水９０質量部との混合物を、２５℃で、Ｔｕｂｅ Ｍｉｘｅｒ（ＶＴＸ−３５００ ＬＭＳ社製）で３０分間攪拌（回転数：１５００ｒｐｍ）した後、一晩静置した時の混合物の状態が均一であるものをいう。
式（１）中、Ｒは炭素数５〜１０の直鎖のアルキル基である。具体的には、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基などの直鎖のアルキル基が挙げられる。なかでも、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基が特に好ましく、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基がより好ましい。ｎは１〜６、好ましくは３〜６の整数である。Ｒの炭素数が５未満であるか又は１０を超えるとシリコーン溶解能が不十分となる。ｎが１未満だと、式（１）の化合物自体の水溶性が低すぎて水への溶解能が不十分となる。また、においが悪く使用性が悪い。ｎが６を超えると親水性が高まりすぎてシリコーンの水への溶解能が不十分である。式（１）の化合物は、単独で使用しても2種以上を組み合わせて用いても良い。
【０００９】
具体的には例えば、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ペンチルエーテル（ｎ＝３〜６）、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ヘキシルエーテル（ｎ＝４〜６）、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ヘプチルエーテル（ｎ＝４〜６）、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（ｎ＝４〜６）、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ノニルエーテル（ｎ＝５〜６）、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−デシルエーテル（ｎ＝５〜６）などが挙げられる。
このうち、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ヘキシルエーテル（ｎ＝４）、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（ｎ＝４〜５）、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ノニルエーテル（ｎ＝５）、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−デシルエーテル（ｎ＝５〜６）が好ましい。
なかでも、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ヘキシルエーテル（ｎ＝４）、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（ｎ＝４〜５）がより好ましい。
本発明の成分（Ａ）は、公知の方法により、例えば、塩基性触媒存在下、ポリオキシエチレングリコールとアルキルハライドまたはアルキルメタンスルホニルエステルやアルキルｐ−トルエンスルホニルエステルとの付加反応により製造することができるし、商業的に入手できるものを使用することもできる。
【００１０】
成分（Ａ）は、本発明のシリコーン溶解剤の全質量に対して、０．５〜８０質量％で含まれるのが好ましく、１〜５０質量％で含まれるのがより好ましい。
本発明のシリコーン溶解剤は、上記成分（Ａ）と水と混合することにより調製することができる。水としては、精製水、蒸留水、イオン交換水、純水、超純水、海洋深層水、重水等を使用することができる。
本発明のシリコーン溶解剤は、商業的に入手可能な浴室用洗剤と同様、浴室の壁面や床面に噴霧したり、塗布したりすることにより適用することができる。
【００１１】
本発明のシリコーン溶解剤により、シャンプーやヘアコンディショナー等のヘアケア製品に通常含まれている非水溶性シリコーンを容易に水に溶解させることができる。このようなシリコーンとしては、25℃における動粘度が１００mm2/s程度の低重合のものから、３０００万mm2/s程度の高重合のものまで含む、非水溶性シリコーン、例えば、ジメチルシリコーン、ポリエーテル変性シリコーン、メチルフェニルシリコーン、フェニル変性シリコーン、アルキル変性シリコーン、高級脂肪酸変性シリコーン、メチルハイドロジェンシリコーン、フッ素変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、カルボキシ変性シリコーン、カルビノール変性シリコーン、及びアミノ変性シリコーンなどが挙げられる。「非水溶性シリコーン」とは、後述の「シリコーン溶解能評価」の欄に記載の方法にしたがい測定したシリコーンのメチル基由来のピークが１０ｐｐｍ以下であるものをいう。
【００１２】
本発明のシリコーン溶解剤を、アニオン界面活性剤などと混合することにより、液体洗浄剤組成物を製造することができる。従って、本発明はまた、上記成分（Ａ）とアニオン界面活性剤とを含有する液体洗浄剤組成物を提供する。
本発明において用いることのできる陰イオン性界面活性剤の具体例としては、アルキル硫酸塩、ポリオキシエチレン（エチレンオキサイドの平均付加モル数（nav）＝１〜５）アルキル硫酸塩、直鎖又は分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩、α−オレフィンスルホン酸塩、石鹸、α−スルホ脂肪酸塩、α−スルホ脂肪酸エステル塩、アルキルエーテルカルボン酸塩、アルカンスルホン酸塩、アミドエーテルカルボン酸塩、アルキルリン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルリン酸塩、モノアルキルスルホコハク酸エステル塩、ジアルキルスルホコハク酸エステル塩、アルキルコハク酸塩、Ｎ−アシルアミノ酸塩、Ｎ−アシルメチルタウリン塩等である。これら陰イオン性界面活性剤の対イオン（陽イオン）は、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、アルカノールアミンイオン、アンモニウムイオンなどが挙げられる。
本発明の液体洗浄剤組成物中の成分（Ａ）の配合量は特に限定されず、製品の剤型、種類によって変化するが、一般的には、０．５〜８０質量％、より好ましくは１〜５０質量％である。これらの範囲を下回るか又は上回ると、本発明の成分（Ａ）によるシリコーンを水中に溶解させる効果が発揮しにくくなる。
【００１３】
第二の態様
本発明の第二の態様は、成分（Ｂ）と成分（Ｃ）とを含むシリコーン溶解剤である。
本発明において用いる成分（Ｂ）は、上記一般式（１）で表されるポリオキシエチレンモノアルキルエーテルであって、難水溶性である化合物である。成分（Ｂ）は、非水溶性シリコーンを水へ溶解させる作用を持つ。本明細書において、「難水溶性」とは、式（１）の化合物１０質量部と水９０質量部との混合物を、２５℃で、Ｔｕｂｅ Ｍｉｘｅｒ（ＶＴＸ−３５００ ＬＭＳ社製）で３０分間攪拌（回転数：１５００ｒｐｍ）した後、一晩静置した時の混合物の状態が分離（化合物と水とが分離）しているものをいう。
【００１４】
式（１）中、Ｒは炭素数５〜１０の直鎖のアルキル基である。具体的には、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基などの直鎖のアルキル基が挙げられる。なかでも、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基が特に好ましく、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基がより好ましい。ｎは１〜６、好ましくは１〜３の整数である。Ｒの炭素数が５未満であるか又は１０を超えるとシリコーン溶解能が不十分となる。ｎが１未満だと、式（１）の化合物自体の水溶性が低すぎて水への溶解能が不十分となる。また、においが悪く使用性が悪い。ｎが６を超えると親水性が高まりすぎてシリコーンの水への溶解能が不十分である。式（１）の化合物は、単独で使用しても2種以上を組み合わせて用いても良い。
【００１５】
具体的には例えば、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ペンチルエーテル（ｎ＝１〜２）、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ヘキシルエーテル（ｎ＝１〜３）、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ヘプチルエーテル（ｎ＝１〜３）、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（ｎ＝１〜３）、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ノニルエーテル（ｎ＝１〜４）、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−デシルエーテル（ｎ＝１〜４）などが挙げられる。
このうち、特にポリオキシエチレンモノ−ｎ−ヘキシルエーテル（ｎ＝１〜３）、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（ｎ＝２〜３）、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ノニルエーテル（ｎ＝４）が好ましい。
なかでも、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ヘキシルエーテル（ｎ＝１〜３）、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（ｎ＝３）がより好ましい。
【００１６】
成分（Ｂ）は、本発明のシリコーン溶解剤の全質量に対して、０．５〜８０質量％で含まれるのが好ましく、１〜５０質量％で含まれるのがより好ましい。
本発明の成分（Ｂ）は、公知の方法により、例えば、塩基性触媒存在下、ポリオキシエチレングリコールとアルキルハライドまたはアルキルメタンスルホニルエステルやアルキルｐ−トルエンスルホニルエステルとの付加反応により製造することができるし、商業的に入手できるものを使用することもできる。
【００１７】
本発明の成分（Ｃ）は、成分（Ｂ）を可溶化し、成分（Ｂ）のシリコーンの水への可溶化性能を維持しつつ成分（Ｂ）の水溶性を高めるため、成分（Ｂ）と成分（Ｃ）を組合わせることでシリコーンの水への可溶化に優れた溶解剤となる。
エチレンオキサイドの平均付加モル数ｍは、５〜３０であるのが好ましく、７〜２０であるのがより好ましい。ｍが５〜３０の範囲外だと、成分（Ｂ）の可溶化が不十分になる。成分（Ｃ）は単独で使用しても2種以上を組み合わせて用いても良い。
具体的には、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ドデシルエーテル（ｍ＝５〜３０）があげられる。このうち、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ドデシルエーテル（ｍ＝７〜２０）が好ましい。なかでも、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ドデシルエーテル（ｍ＝１５）が好ましい。
本発明のシリコーン溶解剤における（Ｃ）成分の配合量は、好ましくは０．０１〜５０質量％、より好ましくは０．０１〜３０質量％、さらに好ましくは０．１〜１０質量％である。
【００１８】
本発明のシリコーン溶解剤は、上記成分（Ｂ）及び成分（Ｃ）と水とを混合することにより調製することができる。水としては、精製水、蒸留水、イオン交換水、純水、超純水、海洋深層水、重水等を使用することができる。
本発明のシリコーン溶解剤は、商業的に入手可能な浴室用洗剤と同様、浴室の壁面や床面に噴霧したり、塗布したりすることにより適用することができる。
【００１９】
本発明のシリコーン溶解剤により、シャンプーやヘアコンディショナー等のヘアケア製品に通常含まれている非水溶性シリコーンを容易に水に溶解させることができる。このような非水溶性シリコーンとしては、25℃における動粘度が１００mm2/s程度の低重合のものから、３０００万mm2/s程度の高重合のものまで含む、非水溶性シリコーン、ジメチルシリコーン、ポリエーテル変性シリコーン、メチルフェニルシリコーン、フェニル変性シリコーン、アルキル変性シリコーン、高級脂肪酸変性シリコーン、メチルハイドロジェンシリコーン、フッ素変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、カルボキシ変性シリコーン、カルビノール変性シリコーン、及びアミノ変性シリコーンなどが挙げられる。「非水溶性シリコーン」とは、後述の「シリコーン溶解能評価」の欄に記載の方法にしたがい測定したシリコーンのメチル基由来のピークが１０ｐｐｍ以下であるものをいう。
【００２０】
本発明のシリコーン溶解剤を、アニオン界面活性剤などと混合することにより、液体洗浄剤組成物を製造することができる。従って、本発明はまた、上記成分（Ｂ）及び成分（Ｃ）とアニオン界面活性剤とを含有する液体洗浄剤組成物を提供する。
本発明において用いることのできる陰イオン性界面活性剤の具体例としては、アルキル硫酸塩、ポリオキシエチレン（ｎav＝１〜５）アルキル硫酸塩、直鎖又は分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩、α−オレフィンスルホン酸塩、石鹸、α−スルホ脂肪酸塩、α−スルホ脂肪酸エステル塩、アルキルエーテルカルボン酸塩、アルカンスルホン酸塩、アミドエーテルカルボン酸塩、アルキルリン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルリン酸塩、モノアルキルスルホコハク酸エステル塩、ジアルキルスルホコハク酸エステル塩、アルキルコハク酸塩、Ｎ−アシルアミノ酸塩、Ｎ−アシルメチルタウリン塩等である。これら陰イオン性界面活性剤の対イオン（陽イオン）は、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、アルカノールアミンイオン、アンモニウムイオンなどが挙げられる。
【００２１】
本発明の液体洗浄剤組成物中の成分（Ｂ）の配合量は特に限定されず、製品の剤型、種類によって変化するが、一般的には、０．５〜８０質量％、より好ましくは１〜５０質量％である。これらの範囲を下回るか又は上回ると、本発明の成分（Ｂ）によるシリコーンを水中に溶解させる効果が発揮しにくくなる。
本発明の液体洗浄剤組成物中の成分（Ｃ）の配合量は特に限定されず、製品の剤型、種類によって変化するが、一般的には、０．０１〜５０質量％、好ましくは０．０１〜３０質量％ であり、より好ましくは０．１〜１０質量％である。これらの範囲を下回ると、本発明の成分（Ｃ）の好ましい効果が発揮しにくくなり、これらの範囲を上回っても本発明の成分（Ｃ）の好ましい効果が更に強く発揮されることはない。
本発明の液体洗浄剤組成物中の陰イオン性界面活性剤の配合量は特に限定されず、好ましくは０．５〜５．０質量％、さらに好ましくは０．５〜３．５質量％である。
【００２２】
〔任意成分〕
本発明のシリコーン溶解剤及び液体洗浄剤組成物には、本発明の効果を損なわない範囲で、上記（Ａ）又は（Ｂ）及び（Ｃ）成分と、水との他に、必要により、水溶性高分子、塩基性化合物、必須成分以外の非イオン性界面活性剤、両性界面活性剤、半極性界面活性剤、陽イオン性界面活性剤などの各種界面活性剤、キレート剤、必須成分以外の水溶性溶剤、ｐＨ調整剤、色素、香料などを配合することができるが、これらについては特に限定されず、目的に応じた配合がなされてよい。
水溶性高分子の具体例としては、アニオン性基含有ビニル系単量体、カチオン性基含有ビニル系単量体、ノニオン性基含有ビニル系単量体からなる共重合体が挙げられる。具体的には、アニオン性基含有ビニル系単量体としてはビニルスルホン酸、アリルスルホン酸、メタクリルスルホン酸、スチレンスルホン酸等のスルホン酸類、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸等のカルボン酸類、またはその塩などが挙げられる。
【００２３】
カチオン性基含有単量体としては、アクリル酸−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル、アクリル酸−Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノエチル、メタクリル酸−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル、メタクリル酸−Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノエチル等のアクリル酸−Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノアルキル、メタクリル酸−Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノアルキル及びそれらのハロゲン化アルキルによる四級化物等、また、Ｎ−［（Ｎ，Ｎ-ジメチルアミノ）プロピル］アクリルアミド、Ｎ−［（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）プロピル］アクリルアミド、Ｎ−［（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）プロピル］メタクリルアミド、Ｎ−［（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）プロピル］メタクリルアミド等のＮ−［（Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ）アルキル］アクリルアミド、Ｎ−［（Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ）アルキル］メタクリルアミド及びこれらのハロゲン化アルキルによる四級化物等が挙げられ、上記ハロゲン化アルキルとしては、例えば、塩化メチル、塩化エチル、臭化メチル、臭化エチル、ヨウ化メチル、ベンジルクロリド等が挙げられる。ノニオン性ビニル系単量体はイオン性基を持たないものであれば、特に限定されずに用いることができ、例えば、炭素数１〜３０の直鎖または分岐鎖状のアクリル酸アルキルエステル類およびメタクリル酸アルキルエステル類、スチレン、α−メチルスチレン等の芳香族ビニル系化合物等が挙げられる。これらのアニオン性基含有ビニル系単量体、カチオン性基含有ビニル系単量体、ノニオン性基含有ビニル系単量体はそれぞれ１種用いても良いし、２種以上を組み合わせて用いても良い。
【００２４】
さらに、天然高分子のアラビアガム、トラガントガム、キサンタンガム、グアーガム、ローカストビーンガム、ジェランガム、アルギン酸、カラギーナン、半合成高分子のメチルセルロース、エチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルヒドロキシプロピルセルロース、エチルヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、カチオン化セルロース、合成高分子のポリアクリル酸、ポリ−α−ヒドロキシアクリル酸、アクリル酸系共重合体、アクリル酸エステル系共重合体、メタクリル酸エステル系、ノニオン系ポリアクリルアミド、アニオン系ポリアクリルアミド、カチオン系ポリアクリルアミド、ポリアミノアルキルメタクリレート、アクリルアミド／アクリル酸共重合体、ポリビニルスルホン酸、ポリスチレンスルホン酸、スルホン化マレイン酸、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリエチレングリコール、ポリビニルメチルエーテル、ポリエーテル変性シリコーンなどを挙げることができる。
非イオン性界面活性剤としては、必須成分を除くポリ（ｎav＝３〜２０）オキシアルキレン（Ｃ２〜Ｃ２０）アルキルエーテル、ポリオキシエチレン（ｎav＝３〜２０）アルキルフェニルエーテル、脂肪酸ポリグリセリンエステル、脂肪酸ショ糖エステル、脂肪酸アルカノールアミドなどが挙げられる。
両性界面活性剤の具体例としては、アルキルアミノプロピオン酸、脂肪酸アミドプロピルベタイン、アルキルベタイン、アルキルヒドロキシスルホベタイン、アルキルアミドベタイン、イミダゾリニウムベタイン、Ｎ−アルキルアミノ酸などが挙げられる。
【００２５】
半極性を有する界面活性剤の具体例としては例えば、アルキルアミンオキシド、アルキルアミドプロピルアミンオキシドなどがあげられる。
陽イオン性界面活性剤の具体例としては、アルキルトリメチルアンモニウム塩、ジアルキルジメチルアンモニウム塩、アルキルアンモニウム塩、ベンザルコニウム塩、ベンゼトニウム塩、ピリジニウム塩、イミダゾリニウム塩等である。これらカチオン界面活性剤の対イオン（陰イオン）は、ハロゲンイオンなどが挙げられる。（なお、ｎavは、エチレンオキサイドの平均付加モル数であり、アルキルは飽和、不飽和、直鎖、分岐のアルキル基を含む。）
【００２６】
キレート剤の具体例としては、有機カルボン酸類、アミノカルボン酸類、ホスホン酸類、ホスホノカルボン酸類、リン酸類などが挙げられる。有機カルボン酸類としては、例えば、シュウ酸、コハク酸、グリコール酸、ジグリコール酸、乳酸、酒石酸、クエン酸、リンゴ酸、グルコン酸などを挙げることができる。アミノカルボン酸類としては、例えば、イミノジ酢酸、エチレンジアミンテトラ酢酸、ジエチレントリアミノペンタ酢酸、エチレンジアミンテトラプロピオン酢酸などを挙げることができる。ホスホン酸類としては、例えば、エタン−１，１−ジホスホン酸、エタン−１，１，２−トリホスホン酸、１−ヒドロキシエタン−１，１−ジホスホン酸およびその誘導体などを挙げることができる。ホスホノカルボン酸類としては、例えば、２−ホスホノブタン−１，２−ジカルボン酸、１，−ホスホノブタン−２，３，４−トリカルボン酸、α−メチルホスホノコハク酸等を挙げることができる。リン酸類としては、例えば、オルソリン酸、ピロリン酸、トリポリリン酸、メタリン酸、ヘキサメタリン酸、フィチン酸等の縮合リン酸などを挙げることができる。これらキレート剤は、酸の形でも使用可能であるし、アルカリ金属との塩、アルカノールアミンとの塩等、塩基性物質との塩の形で使用することも可能である。
水溶性溶剤としては、必須成分以外の汎用の水溶性溶剤を用いることができるが、具体例として、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノフェニル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等が挙げられる。
【００２７】
香料として使用される香料原料のリストは、様々な文献、例えば「Ｐｅｒｆｕｍｅ ａｎｄ Ｆｌａｖｏｒ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ 」，Ｖｏｌ．Ｉａｎｄ ＩＩ，Ｓｔｅｆｆｅｎ Ａｒｃｔａｎｄｅｒ，Ａｌｌｕｒｅｄ Ｐｕｂ．Ｃｏ．（１９９４）および「合成香料 化学と商品知識」、印藤元一著、化学工業日報社（１９９６）および「Ｐｅｒｆｕｍｅ ａｎｄ Ｆｌａｖｏｒ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ｏｆ Ｎａｔｕｒａｌ Ｏｒｉｇｉｎ」，Ｓｔｅｆｆｅｎ Ａｒｃｔａｎｄｅｒ，Ａｌｌｕｒｅｄ Ｐｕｂ．Ｃｏ．（１９９４ ）および「香りの百科」、日本香料協会編、朝倉書店（１９８９）および「Ｐｅｒｆｕｍｅｒｙ Ｍａｔｅｒｉａｌ Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ Ｖ．３．３」，Ｂｏｅｌｅｎｓ Ａｒｏｍａ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｉｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ Ｓｅｒｖｉｃｅ（１９９６）および「Ｆｌｏｗｅｒ ｏｉｌｓ ａｎｄ Ｆｌｏｒａｌ Ｃｏｍｐｏｕｎｄ-ｓ Ｉｎ Ｐｅｒｆｕｍｅｒｙ」，Ｄａｎｕｔｅ Ｌａｊａｕｊｉｓ Ａｎｏｎｉｓ，Ａｌｌｕｒｅｄ Ｐｕｂ．Ｃｏ．（１９９３）等で見られ、これらに開示されているものを使用することができる。
必要に応じて配合される色素としても特に制限はなく、公知のものを使用できる。ｐＨ調整剤としても特に制限はなく、塩酸、硫酸などの酸や、トリエタノールアミン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の塩基を、単独もしくは複合して用いることが好ましい。
【実施例】
【００２８】
実施例及び比較例のシリコーン溶解剤を調製するのに用いた（Ａ）成分は以下のとおりである。使用した各（Ａ）成分について、当該（Ａ）成分化合物１０質量部と水９０質量部との混合物は、２５℃で、Ｔｕｂｅ Ｍｉｘｅｒ（ＶＴＸ−３５００ ＬＭＳ社製）で３０分間攪拌（回転数：１５００ｒｐｍ）した後、一晩静置した時に混合物の状態は均一であった。したがって、いずれの（Ａ）成分も水溶性であった。
【００２９】
【表１】
【００３０】
表１中、「合成品」と示した化合物は以下のようにして製造した。
＜製造例１＞
トリオキシエチレンモノ−ｎ−ペンチルエーテル（Ｃ５ＥＯ３）の合成
窒素雰囲気下、ジムロートと滴下ロートとスリーワンモーターの攪拌機を取り付けた２Ｌの四ツ口フラスコに、トリエチレングリコール５１１．１８ｇ（３．４ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）、t-ブトキシカリウム１０５．０３g（０．９４moL、東京化成（株）試薬）、テトラヒドロフラン２００mL(東京化成（株）試薬)を仕込み、水浴でｔ‐ブトキシカリウムが溶解するまで攪拌した。ｔ‐ブトキシカリウムが溶解した後、６０℃に加温して1-ブロモペンタン１２８．５ｇ（０．８５１ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）のテトラヒドロフラン１００ｍL溶液を室温で３０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で４時間攪拌したのち、加熱を停止した。放冷後、水３００ｍＬ、酢酸エチル８００ｍＬで抽出した。有機層を水４００ｍＬで３回水洗して水層が中性になったことを確認し、飽和食塩水４００ｍＬで１回洗浄した。分液して有機層の溶媒を留去した。塩が析出したので濾過で取り除いたあと、残渣を減圧蒸留で精製してトリオキシエチレンモノ−ｎ−ペンチルエーテル（Ｃ５ＥＯ３）を１１３．５ｇ（収率６０．５％、ｂｐ９８〜１００℃／５０Ｐａ）得た。
1H NMR(CDCL3, 25℃) δ0.84(t, 3H), 1.24(m, 4H), 1.53(m, 2H), 2.62(br, 1H), 3.42(t, 2H), 3.52-3.70(m, 12H)
【００３１】
＜製造例２＞
テトラオキシエチレンモノ−ｎ−ヘキシルエーテル（Ｃ６ＥＯ４）の合成
窒素雰囲気下、ジムロートと滴下ロートと攪拌子を取り付けた１Ｌの四ツ口フラスコに、ｔ‐ブトキシカリウム２９．９ｇ（０．２６６ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）、テトラヒドロフラン１００ｍＬ（東京化成（株）試薬）を仕込み、水冷下でテトラエチレングリコール１８８ｇ（０．９６８ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）を１時間かけて滴下した。ｔ‐ブトキシカリウムが溶解した後、５５℃で1-ブロモヘキサン４０ｇ（０．２４２ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）のテトラヒドロフラン５０ｍL溶液を３０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃に加温して５．５時間攪拌したのち、加熱を停止した。放冷後、水２００ｍＬ、酢酸エチル４００ｍＬで抽出した。有機層を水３００ｍＬで３回水洗して水層が中性になったことを確認し、飽和食塩水３００ｍＬで１回洗浄した。分液して有機層の溶媒を留去した。塩が析出したので濾過で取り除いたあと、残渣を減圧蒸留で精製してテトラオキシエチレンモノ−ｎ−ヘキシルエーテル（Ｃ６ＥＯ４）を４３．８ｇ（収率６５．０％、ｂｐ１２６〜１２９℃／３０Ｐａ）得た。
1H NMR(CDCL3, 25℃) δ0.84(t, 3H), 1.25(br, 6H), 1.52(m, 2H), 3.25(br, 1H), 3.42(t, 2H), 3.52-3.75(m, 16H)
【００３２】
＜製造例３＞
ペンタオキシエチレンモノ−ｎ−ヘキシルエーテル（Ｃ６ＥＯ５）の合成
窒素雰囲気下、ジムロートと滴下ロートと攪拌子を取り付けた１００ｍLの２口フラスコに、ｔ‐ブトキシカリウム２．５８ｇ（２３ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）、テトラヒドロフラン２０ｍＬ（東京化成（株）試薬）を仕込み、室温でペンタエチレングリコール５ｇ（２１ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）を５分間で滴下した。滴下終了後、ｔ‐ブトキシカリウムが完全に溶解するまで室温攪拌した。その後、室温で1-ブロモヘキサン３．４７ｇ（２１ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）のテトラヒドロフラン２０ｍL溶液を５分間で滴下した。滴下終了後、６０℃に加温して５時間攪拌したのち、加熱を停止した。放冷後、水１００ｍＬ、酢酸エチル１００ｍＬで抽出した。抽出の最中にエマルジョンになった時は、飽和食塩水を小量添加すると有機層と水層は分離する。有機層を水１００ｍＬで２回水洗して水層が中性になったことを確認し、最後に飽和食塩水１００ｍＬで１回洗浄した。分液して有機層の溶媒を留去した。塩が析出したので濾過で取り除いたあと、残渣をガラスチューブオーブンを用いて減圧蒸留で精製してペンタオキシエチレンモノ−ｎ−ヘキシルエーテル（Ｃ６ＥＯ５）を３．１ｇ（収率３６．０％、１３４〜１４０℃／２０Ｐａ）得た。
1H NMR(CDCL3, 25℃)δ0.84(t, 3H), 1.24(br, 6H), 1.53(m, 2H), 2.63(br, 1H), 3.41(t, 2H), 3.53-3.70(m, 20H)
【００３３】
＜製造例４＞
テトラオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（Ｃ８ＥＯ４）の合成
窒素雰囲気下、ジムロートと滴下ロートと攪拌子を取り付けた５００ｍLの四ツ口フラスコに、ｔ‐ブトキシカリウム３４．８ｇ（０．３１ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）、テトラヒドロフラン１５０ｍＬ（東京化成（株）試薬）を仕込み、室温でテトラエチレングリコール１８１ｇ（０．９１ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）を３０分間かけて滴下した。滴下終了後、ｔ‐ブトキシカリウムが完全に溶解するまで室温で攪拌した。その後、室温で1-ブロモオクタン６０ｇ（０．３１ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）のテトラヒドロフラン３０ｍL溶液を３０分かけて滴下した。滴下終了後、６５℃で３時間攪拌したのち加熱を停止した。放冷後、水３００ｍＬ、酢酸エチル３００ｍＬで抽出した。有機層を水３００ｍＬで２回水洗して水層が中性になったことを確認し、飽和食塩水３００ｍＬで１回洗浄した。分液して有機層の溶媒を留去した。塩が析出したので濾過で取り除いたあと、残渣を減圧蒸留で精製してテトラオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（Ｃ８ＥＯ４）を６３．３ｇ（収率６６．６％、ｂｐ１５２〜１６１℃／２５Ｐａ）得た。
1H NMR(CDCL3, 25℃) δ0.89(t, 3H), 1.31(br, 10H), 1.56(m, 2H), 3.30(br, 1H), 3.46(t, 2H), 3.53-3.67(m, 16H)
【００３４】
＜製造例５＞
ペンタオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（Ｃ８ＥＯ５）の合成
（I）塩化カルシウム管付きの滴下ロートを取り付けた５００ｍＬの一口ナスフラスコに、トリエチレングリコール モノ-n-オクチルエーテル２０ｇ（０．０８６５ｍｏＬ）、トリエチルアミン９．１９ｇ（０．０９０８ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）、テトラヒドロフラン１５０ｍＬ（東京化成（株）試薬）を仕込み、塩化メタンスルホニル１０．４ｇ（０．０９０８ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）のテトラヒドロフラン２０ｍＬ溶液を０℃で滴下した。滴下した直後から、白色のトリエチルアミン塩酸塩が析出する。１０分間で滴下し、滴下終了後０℃で１時間攪拌した。その後、減圧濾過で析出したアミン塩酸塩を除去し、トリエチレングリコール モノ-n-オクチルエーテルのメタンスルホニルエステルのテトラヒドロフラン溶液を得た。尚、ろ過で析出した残渣はテトラヒドロフラン５０ｍＬで洗浄した。
【００３５】
（II）窒素雰囲気下、ジムロートと滴下ロートとスリーワンモーターの攪拌機を取り付けた１Ｌの四ツ口フラスコにｔ‐ブトキシカリウム１０．６７ｇ（０．０９５２ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）、テトラヒドロフラン７０ｍＬを仕込み、ジエチレングリコール３６．７ｇ（０．３４６ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）のジメチルホルムアミド５０mＬ（東京化成（株）試薬）溶液を室温で滴下したのち１時間攪拌してｔ‐ブトキシカリウムを溶解させた。その後６０℃に加温して、その温度で（I）で調製したトリエチレングリコール モノ-n-オクチルエーテルのメタンスルホニルエステルのテトラヒドロフラン溶液を３０分間かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で４時間攪拌したのち、加熱を停止した。放冷後、水３００ｍL、酢酸エチル４００ｍＬで抽出した。有機層を水３００ｍLで３回水洗して水層が中性になったことを確認したのち、飽和食塩水３００ｍLで１回洗浄した。分液して有機層の溶媒を留去したのち、残渣を減圧蒸留で精製してペンタオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（Ｃ８ＥＯ５）を１２ｇ（収率４３％、ｂｐ１６５〜１７０／２０Ｐａ）得た。
1H NMR(CDCL3, 25℃) δ0.79(t, 3H), 1.19(br, 10H), 1.48(m, 2H), 3.36(t, 3H), 3.50-3.78(m, 21H)
【００３６】
＜製造例６＞
ヘキサオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（Ｃ８ＥＯ６）の合成
窒素雰囲気下、ジムロートと滴下ロートと攪拌子を取り付けた１００ｍLの２口フラスコに、ｔ‐ブトキシカリウム２．１９ｇ（１９．５mｍｏＬ、東京化成（株）試薬）、テトラヒドロフラン２０ｍＬ（東京化成（株）試薬）を仕込み、室温でヘキサエチレングリコール５ｇ（１７．７ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）を５分間で滴下した。滴下終了後、ｔ‐ブトキシカリウムが完全に溶解するまで室温で攪拌した。その後、室温で1-ブロモオクタン３．４２ｇ（１７．７ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）のテトラヒドロフラン１０ｍL溶液を５分間で滴下した。滴下終了後、６０℃で７時間攪拌したのち加熱を停止した。放冷後、水１００ｍＬ、酢酸エチル１００ｍＬで抽出した。有機層を水１００ｍＬで２回水洗して水層が中性になったことを確認し、飽和食塩水１００ｍＬで１回洗浄した。分液して有機層の溶媒を留去した。塩が析出したので濾過で取り除いたあと、残渣をガラスチューブオーブンを用いて減圧蒸留で精製してヘキサオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（Ｃ８ＥＯ６）を３．３ｇ（収率４７．３％、ガラスチューブオーブン温度２０２℃／２０Ｐａ）得た。
1H NMR(CDCL3, 25℃) δ0.85(t, 3H), 1.24(br, 10H), 1.54(m, 2H), 2.17(br, 1H), 3.41(t, 2H), 3.52-3.72(m, 24H)
【００３７】
＜製造例７＞
ペンタオキシエチレンモノ−ｎ−ノニルエーテル（Ｃ９ＥＯ５）の合成
（I）塩化カルシウム管付きの滴下ロートを取り付けた３００ｍＬの一口ナスフラスコに、テトラエチレングリコール モノ-n-ノニルエーテル２５ｇ（７８ｍｍｏＬ）、トリエチルアミン８．３ｇ（８２ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）、テトラヒドロフラン１００ｍＬ（東京化成（株）試薬）を仕込み、水冷下で塩化メタンスルホニル９．４ｇ（８２ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）のテトラヒドロフラン２０ｍＬ溶液を２０分間で滴下した。滴下した直後から、白色のトリエチルアミン塩酸塩が析出する。滴下終了後、水冷下で３０分間攪拌した。その後、減圧濾過で析出したアミン塩酸塩を除去し、テトラエチレングリコール モノ-n-ノニルエーテルのメタンスルホニルエステルのテトラヒドロフラン溶液を得た。尚、ろ過で析出した残渣はテトラヒドロフラン５０ｍＬで洗浄した。
【００３８】
（II）窒素雰囲気下、ジムロートと滴下ロートとスリーワンモーターの攪拌機を取り付けた５００ｍＬの四ツ口フラスコにｔ‐ブトキシカリウム９．６３ｇ（８６ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）、テトラヒドロフラン２０ｍＬを仕込み、室温でエチレングリコール１９．４ｇ（３１３ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）のジメチルホルムアミド１００mＬの溶液を３０分間で滴下した。このとき、白色沈殿物が生成した。６０℃に加温するとこの沈殿物は溶解して透明溶液になった。６０℃で（I）で調製したテトラエチレングリコール モノ-n-ノニルエーテルのメタンスルホニルエステルのテトラヒドロフラン溶液を３０分間で滴下した。反応液はゲル状になる。滴下終了後、６０℃で４時間攪拌したのち、加熱を停止した。放冷後、水３００ｍL、酢酸エチル３００ｍＬで抽出した。有機層を水３００mＬで３回水洗して水層が中性になったことを確認したのち、飽和食塩水３００ｍLで１回洗浄した。分液して有機層の溶媒を留去した。残渣を減圧蒸留で精製してペンタオキシエチレンモノ−ｎ−ノニルエーテル（Ｃ９ＥＯ５）を１２．８ｇ（収率４５．１％、ｂｐ１８０〜１８２℃／２０Ｐａ）得た。
1H NMR(CDCL3, 25℃) δ0.80(s, 3H), 1.19(br, 12H), 1.48(m, 2H), 3.15(br, 1H), 3.37(t, 2H), 3.49-3.67(m, 20H)
【００３９】
＜製造例８＞
ヘキサオキシエチレンモノ−ｎ−ノニルエーテル（Ｃ９ＥＯ６）の合成
窒素雰囲気下、ジムロートと滴下ロートと攪拌子を取り付けた１００ｍLの２口フラスコに、ｔ‐ブトキシカリウム２．１９ｇ（１９．５ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）、テトラヒドロフラン２０ｍＬ（東京化成（株）試薬）を仕込み、室温でヘキサエチレングリコール５ｇ（１７．７ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）を５分間で滴下した。滴下終了後、ｔ‐ブトキシカリウムが完全に溶解するまで室温攪拌した。その後、室温で1-ブロモノナン３．６６ｇ（１７．７ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）のテトラヒドロフラン２０ｍL溶液を５分間で滴下した。滴下終了後、６０℃に加温して５時間攪拌したのち、加熱を停止した。放冷後、水１００ｍＬ、酢酸エチル１００ｍＬで抽出した。有機層を水１００ｍＬで２回水洗して水層が中性になったことを確認し、飽和食塩水１００ｍＬで１回洗浄した。分液して有機層の溶媒を留去した。塩が析出したので濾過で取り除いたあと、残渣をガラスチューブオーブンを用いて減圧蒸留で精製してヘキサオキシエチレンモノ−ｎ−ノニルエーテル（Ｃ９ＥＯ６）を３．３ｇ（収率４１．１％、ガラスチューブオーブン温度２１０℃／２０Ｐａ）得た。
1H NMR(CDCL3, 25℃) δ0.84(t, 3H), 1.22(br, 12H), 1.55(m, 2H), 2.76(br, 1H), 3.40(t, 2H), 3.53-3.70(m, 24H)
【００４０】
＜製造例９＞
ペンタオキシエチレンモノ−ｎ−デシルエーテル（Ｃ１０ＥＯ５）の合成
窒素雰囲気下、ジムロートと滴下ロートと攪拌子を取り付けた１００ｍLの２口フラスコに、ｔ‐ブトキシカリウム２．５８ｇ（２３ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）、テトラヒドロフラン２０ｍＬ（東京化成（株）試薬）を仕込み、室温でペンタエチレングリコール５ｇ（２１ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）を５分間で滴下した。滴下終了後、ｔ‐ブトキシカリウムが完全に溶解するまで室温攪拌した。その後、室温で1-ブロモデカン４．６４ｇ（２１ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）のテトラヒドロフラン２０ｍL溶液を５分間で滴下した。滴下終了後、６０℃に加温して５時間攪拌したのち、加熱を停止した。放冷後、水１００ｍＬ、酢酸エチル１００ｍＬで抽出した。有機層を水１００ｍＬで２回水洗して水層が中性になったことを確認し、飽和食塩水１００ｍＬで１回洗浄した。分液して有機層の溶媒を留去した。塩が析出したので濾過で取り除いたあと、残渣をガラスチューブオーブンを用いて減圧蒸留で精製してペンタオキシエチレンモノ−ｎ−デシルエーテル（Ｃ１０ＥＯ５）を３．４ｇ（収率４２．８％、ガラスチューブオーブン温度２１０℃／２０Ｐａ）得た。
1H NMR(CDCL3, 25℃) δ0.84(t, 3H), 1.22(br, 14H), 1.54(m, 2H), 2.79(br, 1H), 3.41(t, 2H), 3.52-3.70(m, 20H)
【００４１】
＜製造例１０＞
ヘキサオキシエチレンモノ−ｎ−デシルエーテル（Ｃ１０ＥＯ６）の合成
窒素雰囲気下、ジムロートと滴下ロートと攪拌子を取り付けた１００ｍLの２口フラスコに、ｔ‐ブトキシカリウム２．１９ｇ（１９．５ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）、テトラヒドロフラン２０ｍＬ（東京化成（株）試薬）を仕込み、室温でヘキサエチレングリコール５ｇ（１７．７ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）を５分間で滴下した。滴下終了後、ｔ‐ブトキシカリウムが完全に溶解するまで室温攪拌した。その後、室温で1-ブロモデカン３．９１ｇ（１７．７ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）のテトラヒドロフラン２０ｍL溶液を５分間で滴下した。滴下終了後、６０℃に加温して５時間攪拌したのち、加熱を停止した。放冷後、水１００ｍＬ、酢酸エチル１００ｍＬで抽出した。有機層を水１００ｍＬで２回水洗して水層が中性になったことを確認し、飽和食塩水１００ｍＬで１回洗浄した。分液して有機層の溶媒を留去した。塩が析出したので濾過で取り除いたあと、残渣をガラスチューブオーブンを用いて減圧蒸留で精製してヘキサオキシエチレンモノ−ｎ−デシルエーテル（Ｃ１０ＥＯ６）を３．５ｇ（収率４６．８％、ガラスチューブオーブン温度２４０℃／２０Ｐａ）得た。
1H NMR(CDCL3, 25℃) δ0.84(t, 3H), 1.22(br, 14H), 1.54(m, 2H), 2.79(br, 1H), 3.41(t, 2H), 3.52-3.70(m, 24H)
【００４２】
＜比較製造例１＞
ヘプタオキシエチレンモノ−ｎ−ドデシルエーテル（Ｃ１２ＥＯ７）の合成
窒素雰囲気下、ジムロートと滴下ロートと攪拌子を取り付けた１００ｍLの２口フラスコに、ｔ‐ブトキシカリウム１．８９ｇ（１６．８ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）、テトラヒドロフラン２０ｍＬ（東京化成（株）試薬）を仕込み、室温でヘプタエチレングリコール５ｇ（１５．３ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）を５分間で滴下した。滴下終了後、ｔ‐ブトキシカリウムが完全に溶解するまで室温攪拌した。その後、室温で1-ブロモドデカン３．８１ｇ（１５．３ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）のテトラヒドロフラン２０ｍL溶液を５分間で滴下した。滴下終了後、６０℃に加温して５時間攪拌したのち、加熱を停止した。放冷後、水１００ｍＬ、酢酸エチル１００ｍＬで抽出した。有機層を水１００ｍＬで２回水洗して水層が中性になったことを確認し、飽和食塩水１００ｍＬで１回洗浄した。分液して有機層の溶媒を留去した。塩が析出したので濾過で取り除いたあと、残渣をガラスチューブオーブンを用いて減圧蒸留で精製してヘプタオキシエチレンモノ−ｎ−ドデシルエーテル（Ｃ１２ＥＯ７）を３．３ｇ（収率４３．６％、ガラスチューブオーブン温度３００℃／２０Ｐａ）得た。
1H NMR(CDCL3, 25℃) δ0.83(t, 3H), 1.22(br, 18H), 1.53(m, 2H), 2.65(br, 1H), 3.40(t, 2H), 3.52-3.70(m, 28H)
【００４３】
＜比較製造例２＞
ヘプタオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（Ｃ８ＥＯ７）の合成
（I）塩化カルシウム管付きの滴下ロートを取り付けた３００ｍＬの一口ナスフラスコに、テトラオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル２５ｇ（８２ｍｍｏＬ）、トリエチルアミン８．７ｇ（８６ｍｍｏＬ）、テトラヒドロフラン１００ｍＬを仕込み、水冷下で塩化メタンスルホニル９．８ｇ（８６ｍｍｏＬ）のテトラヒドロフラン２０ｍＬ溶液を２０分間で滴下した。滴下した直後から、白色のトリエチルアミン塩酸塩が析出する。滴下終了後、水冷下で５０分間攪拌した。その後、減圧濾過で析出したアミン塩酸塩を除去し、テトラオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテルのメタンスルホニルエステルのテトラヒドロフラン溶液を得た。尚、ろ過で析出した残渣はテトラヒドロフラン３０ｍＬで洗浄した。
【００４４】
（II）窒素雰囲気下、ジムロートと滴下ロートとスリーワンモーターの攪拌機を取り付けた５００ｍＬの四ツ口フラスコにｔ‐ブトキシカリウム１０．０９ｇ（９０ｍｍｏＬ）、テトラヒドロフラン２０ｍＬを仕込み、室温でトリエチレングリコール４９．６ｇ（０．３３ｍｏＬ）を２０分間で滴下した。滴下終了後、ｔ‐ブトキシカリウムが完全に溶解するまで室温で攪拌した。次に６０℃に加温して（I）で調製したテトラオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテルのメタンスルホニルエステルのテトラヒドロフラン溶液を３０分間で滴下した。滴下終了後、６０℃で４時間攪拌したのち、加熱を停止した。放冷後、水３００ｍL、酢酸エチル３００ｍＬで抽出した。有機層を水３００mＬで３回水洗して水層が中性になったことを確認し、飽和食塩水３００ｍLで１回洗浄した。分液して有機層の溶媒を留去した。残渣をガラスチューブオーブンを用いて減圧蒸留で精製してヘプタオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（Ｃ８ＥＯ７）を１５．９ｇ（収率４４．３％、ガラスチューブオーブン温度２３０℃／２０Ｐａ）得た。
1H NMR(CDCL3, 25℃) δ0.83(s, 3H), 1.21(br, 10H), 1.50(m, 2H), 2.81(br, 1H), 3.39(t, 2H), 3.52-3.70(m, 28H)
【００４５】
＜比較製造例３＞
テトラオキシエチレングリコール モノ（４−メチル−１−ペンチル）エーテル（ｉＣ６ＥＯ４）の合成
窒素雰囲気下、ジムロートと滴下ロートと攪拌子を取り付けた２００ｍLの２口フラスコに、ｔ‐ブトキシカリウム３．５３ｇ（３１．５ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）、テトラヒドロフラン５０ｍＬ（東京化成（株）試薬）を仕込み、室温でテトラエチレングリコール２３．３ｇ（０．１２ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）を５分間で滴下した。滴下終了後、ｔ‐ブトキシカリウムが完全に溶解するまで室温攪拌した。その後、室温で1-ブロモ-４‐メチルペンタン５ｇ（３０．３ｍｍｏＬ、東京化成（株）試薬）のテトラヒドロフラン２０ｍL溶液を１０分間で滴下した。滴下終了後、６０℃に加温して５時間攪拌したのち、加熱を停止した。放冷後、水１００ｍＬ、酢酸エチル１００ｍＬで抽出した。有機層を水１００ｍＬで２回水洗して水層が中性になったことを確認し、飽和食塩水１００ｍＬで１回洗浄した。分液して有機層の溶媒を留去した。塩が析出したので濾過で取り除いたあと、残渣を減圧蒸留で精製してテトラエチレングリコール モノ-４‐メチル-１-ペンチルエーテルを５．２ｇ（収率６２％、１２２−１２５℃／３０Ｐａ）得た。
1H NMR(CDCL3, 25℃) δ0.86(6H), 1.22-1.86(m, 5H), 2.76(br, 1H), 3.41(t, 2H), 3.52-3.75(m, 16H)
【００４６】
＜比較製造例４＞
テトラオキシエチレンモノ（２−エチルヘキシル）エーテル（ｉＣ８ＥＯ４）の合成
窒素雰囲気下、ジムロートと滴下ロートと攪拌子を取り付けた５００ｍLの４口フラスコに、ｔ‐ブトキシカリウム１２．８８ｇ（０．１１５ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）、テトラヒドロフラン５０ｍＬ（東京化成（株）試薬）を仕込み、室温でテトラエチレングリコール６０．６ｇ（０．３１２ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）を２０分間で滴下した。滴下終了後、ｔ‐ブトキシカリウムが完全に溶解するまで室温で攪拌した。その後、４０℃に加温して1-ブロモ-2-エチルヘキサン２０ｇ（０．１０４ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）のテトラヒドロフラン２０ｍL溶液を２０分間で滴下した。滴下終了後、４０℃で1時間攪拌したのち６０℃に加温して６時間攪拌したのち、加熱を停止した。放冷後、水１００ｍＬ、酢酸エチル２００ｍＬで抽出した。有機層を水２００ｍＬで３回水洗して水層が中性になったことを確認し、飽和食塩水２００ｍＬで１回洗浄した。分液して有機層の溶媒を留去した。塩が析出したので濾過で取り除いたあと、残渣を減圧蒸留で精製してテトラオキシエチレンモノ（２−エチルヘキシル）エーテル（ｉＣ８ＥＯ４）を３ｇ（収率９．５％、ｂｐ１４０℃／２０Ｐａ）得た。
1H NMR(CDCL3, 25℃) δ0.79(m, 6H), 1.25(br, 8H), 1.44(br, 1H), 2.91(br, 1H), 3.25(d, 2H), 3.49-3.64(m, 16H)
【００４７】
実施例及び比較例のシリコーン溶解剤を調製するのに用いた（Ｂ）成分は以下のとおりである。使用した各（Ｂ）成分について、当該（Ｂ）成分化合物１０質量部と水９０質量部との混合物は、２５℃で、Ｔｕｂｅ Ｍｉｘｅｒ（ＶＴＸ−３５００ ＬＭＳ社製）で３０分間攪拌（回転数：１５００ｒｐｍ）した後、一晩静置した時に混合物の状態が分離（（Ｂ）成分化合物と水とが分離）していた。したがって、いずれの（Ｂ）成分も難水溶性であった。
【００４８】
【表２】
【００４９】
表２中、「合成品」と示した化合物は以下のようにして製造した。
＜製造例１＞
トリオキシエチレンモノ−ｎ−ヘキシルエーテル（Ｃ６ＥＯ３）の合成
窒素雰囲気下、ジムロートと滴下ロートとスリーワンモーターの攪拌機を取り付けた２Ｌの四ツ口フラスコに、トリエチレングリコール４８０．５４ｇ（３．２ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）、ｔ‐ブトキシカリウム９８．７４ｇ（０．８８ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）、テトラヒドロフラン２００ｍＬ（東京化成（株）試薬）を仕込み、水浴でｔ‐ブトキシカリウムが溶解するまで攪拌を継続した。ｔ‐ブトキシカリウムが溶解した後、室温で1-ブロモヘキサン１３２．０５ｇ（０．８ｍｏＬ、東京化成（株）、試薬）のテトラヒドロフラン１００ｍL溶液を室温で３０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃に加温して４時間攪拌したのち、加熱を停止した。放冷後、水４００ｍＬ、酢酸エチル８００ｍＬで抽出した。有機層を水４００ｍＬで３回水洗して水層が中性になったことを確認し、飽和食塩水４００ｍＬで１回洗浄した。分液して有機層の溶媒を留去した。塩が析出したので濾過で取り除いたあと、残渣を減圧蒸留で精製してトリオキシエチレンモノ−ｎ−ヘキシルエーテル（Ｃ６ＥＯ３）を１２０．９ｇ（収率６４．５％、ｂｐ１１１〜１１６℃／２０Ｐａ）得た。
1H NMR(CDCL3, 25℃) δ0.84(t, 3H), 1.25(br, 6H), 1.53(m, 2H), 2.61(br, 1H), 3.41(t, 2H), 3.53-3.70(m, 12H)
【００５０】
＜製造例２＞
ジオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（Ｃ８ＥＯ２）の合成
窒素雰囲気下、ジムロートと滴下ロートと攪拌子を取り付けた５００mＬの四ツ口フラスコに、ｔ‐ブトキシカリウム３４．８ｇ（０．３１ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）、テトラヒドロフラン１５０ｍＬ（東京化成（株）試薬）を仕込み、水冷下でジエチレングリコール１３２ｇ（１．２４ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）を３０分間かけて滴下した。ｔ‐ブトキシカリウムが溶解した後、室温で1-ブロモオクタン６０ｇ（０．３１ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）のテトラヒドロフラン３０ｍL溶液を３０分かけて滴下した。滴下終了後、６５℃に加温して３時間攪拌したのち、加熱を停止した。放冷後、水２００ｍＬ、酢酸エチル４００ｍＬで抽出した。有機層を水３００ｍＬで２回水洗して水層が中性になったことを確認し、飽和食塩水３００ｍＬで１回洗浄した。分液して有機層の溶媒を留去した。塩が析出したので濾過で取り除いたあと、残渣を減圧蒸留で精製してジオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（Ｃ８ＥＯ２）を４７．４ｇ（収率７０．１％、ｂｐ８８〜９４℃／２０Ｐａ）得た。
1H NMR(CDCL3, 25℃) δ0.89(t, 3H), 1.30(br, 10H), 1.55(m, 2H), 3.30(br, 1H), 3.47(t, 2H), 3.53-3.67(m, 8H)
【００５１】
＜製造例３＞
トリオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（Ｃ８ＥＯ３）の合成
窒素雰囲気下、ジムロートと滴下ロートとスリーワンモーターの攪拌機を取り付けた２Lの四ツ口フラスコに、トリエチレングリコール４２６．５ｇ（２．８４ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）、テトラヒドロフラン２００ｍＬ（東京化成（株）試薬）を仕込み、水冷下でｔ‐ブトキシカリウム８０．６ｇ（０．７８ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）を３０分間かけて少量ずつ溶液に添加した。添加終了後、ｔ‐ブトキシカリウムが完全に溶解するまで室温で攪拌した。その後、６０℃に加温して1-ブロモオクタン１３７．１ｇ（０．７１ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）のテトラヒドロフラン１００ｍL溶液を３０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で３時間攪拌したのち加熱を停止した。放冷後、水４００ｍＬ、酢酸エチル８００ｍＬで抽出した。有機層を水４００ｍＬで３回水洗して水層が中性になったことを確認し、飽和食塩水４００ｍＬで１回洗浄した。分液して有機層の溶媒を留去した。塩が析出したので濾過で取り除いたあと、残渣を減圧蒸留で精製してトリオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（Ｃ８ＥＯ３）を１２８．８ｇ（収率６８．７％、ｂｐ１１８〜１２２℃／２０Ｐａ）得た。
1H NMR(CDCL3, 25℃) δ0.83(t, 3H), 1.23(br, 10H), 1.53(m, 2H), 2.65(br, 1H), 3.43(t, 2H), 3.52-3.70(m, 12H)
【００５２】
＜製造例４＞
テトラオキシエチレンモノ−ｎ−ノニルエーテル（Ｃ９ＥＯ４）の合成
窒素雰囲気下、ジムロートと滴下ロートと攪拌子を取り付けた１Lの４ツ口フラスコに、ｔ‐ブトキシカリウム４８．９ｇ（０．４３６ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）、テトラヒドロフラン１００ｍＬ（東京化成（株）試薬）を仕込み、水冷下でテトラエチレングリコール３０７．５ｇ（１．５８ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）を４０分間で滴下した。滴下終了後、ｔ‐ブトキシカリウムが完全に溶解するまで室温で攪拌した。その後、６０℃で1-ブロモノナン８２ｇ（０．３９６ｍｏＬ、東京化成（株）試薬）のテトラヒドロフラン８０ｍL溶液を８０分間で滴下した。滴下終了後、６０℃で４時間攪拌したのち、加熱を停止した。放冷後、水４００ｍＬ、酢酸エチル８００ｍＬで抽出した。有機層を水４００ｍＬで３回水洗して水層が中性になったことを確認し、飽和食塩水４００ｍＬで１回洗浄した。分液して有機層の溶媒を留去した。塩が析出したので濾過で取り除いたあと、残渣を減圧蒸留で精製してテトラオキシエチレンモノ−ｎ−ノニルエーテル（Ｃ９ＥＯ４）を８４．５ｇ（収率６６．６％、ｂｐ１５８〜１６７℃／２５Ｐａ）得た。
1H NMR(CDCL3, 25℃) δ0.83(t, 3H), 1.21(br, 12H), 1.53(m, 2H), 3.25(s, 1H), 3.40(t, 2H), 3.51-3.69(m, 16H)
【００５３】
〔シリコーン溶解剤の調製〕
（１）（Ａ）を含むシリコーン溶解剤の場合
（Ａ）成分と重水とを、（Ａ）成分／重水＝１０／９０（質量比）で混合することにより、シリコーン溶解剤を調製した。
（２）（Ｂ）成分を含むシリコーン溶解剤の場合
（Ｂ）成分と、（Ｃ）成分と、重水とを、（Ｂ）／（Ｃ）／重水＝１０／５／８５（質量比）で混合することにより、シリコーン溶解剤を調製した。なお、（Ｃ）成分としては、ポリオキシエチレンモノラウリルエーテル（エチレンオキシドの平均付加モル数ｍ＝１５）を用いた。
【００５４】
〔シリコーン溶解能評価〕
上で得られた溶液に、溶液の全質量に対して５質量％に相当する量のジメチルシリコーン（信越化学工業社製：25℃における動粘度が１０００万ｍｍ2／ｓの高重合メチルポリシロキサン）を加え、Ｔｕｂｅ Ｍｉｘｅｒ（ＶＴＸ−３５００ ＬＭＳ社製）で３０分間攪拌した後、遠心分離により余分なジメチルシリコーンを除去した。ＮＭＲチューブに水層を量り取り、そこへ、内標（２−フェノキシエタノール）を添加し、ＮＭＲ測定サンプルとした。1Ｈ−ＮＭＲ測定を行い、シリコーンのメチル基由来のピーク（０ｐｐｍ）の積分値から、実施例及び比較例のシリコーン溶解剤のジメチルシリコーンの溶解能を算出した。結果を表３及び４に示す。
なお、使用したジメチルシリコーンについて、重水と重水の全質量に対して５質量％に相当する量の当該ジメチルシリコーンとの混合物を、Ｔｕｂｅ Ｍｉｘｅｒ（ＶＴＸ−３５００ ＬＭＳ社製）で３０分間攪拌（回転数：１５００ｒｐｍ）した後、遠心分離により余分なジメチルシリコーンを除去した。ＮＭＲチューブに水層を量り取り、そこへ、内標（２−フェノキシエタノール）を添加し、ＮＭＲ測定サンプルとした。1Ｈ−ＮＭＲ測定を行ったところ、シリコーンのメチル基由来のピークは１０ｐｐｍ以下であった。したがって、当該ジメチルシリコーンは水不溶性（非水溶性）であった。
【００５５】
【表３】
【００５６】
【表４】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）下記一般式（1)で表されるポリオキシエチレンモノアルキルエーテルであって、水溶性であるポリオキシエチレンモノアルキルエーテルを含むシリコーン溶解剤。
Ｒ−Ｏ−（Ｃ2Ｈ4Ｏ）n−Ｈ （１）
（式中、Ｒは炭素数５〜１０の直鎖のアルキル基、ｎは１〜６の整数である。）
【請求項２】
成分（Ａ）が、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ペンチルエーテル（ｎ＝３〜６）、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ヘキシルエーテル（ｎ＝４〜６）、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ヘプチルエーテル（ｎ＝４〜６）、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（ｎ＝４〜６）、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ノニルエーテル（ｎ＝５〜６）又はポリオキシエチレンモノ−ｎ−デシルエーテル（ｎ＝５〜６）である請求項１記載のシリコーン溶解剤。
【請求項３】
成分（Ａ）が、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ヘキシルエーテル（ｎ＝４）、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（ｎ＝４〜５）、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ノニルエーテル（ｎ＝５）又はポリオキシエチレンモノ−ｎ−デシルエーテル（ｎ＝５〜６）である請求項２記載のシリコーン溶解剤。
【請求項４】
成分（Ａ）が、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ヘキシルエーテル（ｎ＝４）又はポリオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（ｎ＝４〜５）である請求項３記載のシリコーン溶解剤。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項記載のシリコーン溶解剤と、アニオン界面活性剤とを含有する液体洗浄剤組成物。
【請求項６】
（Ｂ）下記一般式（1)で表されるポリオキシエチレンモノアルキルエーテルであって、難水溶性であるポリオキシエチレンモノアルキルエーテルと、
Ｒ−Ｏ−（Ｃ2Ｈ4Ｏ）n−Ｈ （１）
（式中、Ｒは炭素数５〜１０の直鎖のアルキル基、ｎは１〜６の整数である。）
（Ｃ）ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ドデシルエーテル（エチレンオキサイドの平均付加モル数ｍは５〜３０である。）
とを含むシリコーン溶解剤。
【請求項７】
成分（Ｂ）が、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ペンチルエーテル（ｎ＝１〜２）、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ヘキシルエーテル（ｎ＝１〜３）、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ヘプチルエーテル（ｎ＝１〜３）、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（ｎ＝１〜３）、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ノニルエーテル（ｎ＝１〜４）又はポリオキシエチレンモノ−ｎ−デシルエーテル（ｎ＝１〜４）である、請求項６記載のシリコーン溶解剤。
【請求項８】
成分（Ｂ）が、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ヘキシルエーテル（ｎ＝１〜３）、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（ｎ＝２〜３）又はポリオキシエチレンモノ−ｎ−ノニルエーテル（ｎ＝４）である、請求項７記載のシリコーン溶解剤。
【請求項９】
成分（Ｂ）が、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ヘキシルエーテル（ｎ＝１〜３）又はポリオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（ｎ＝３）である、請求項８記載のシリコーン溶解剤。
【請求項１０】
成分（Ｃ）が、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ドデシルエーテル（ｍ＝１５）である、請求項６〜９のいずれか１項記載のシリコーン溶解剤。
【請求項１１】
請求項５〜１０のいずれか１項記載のシリコーン溶解剤と、アニオン界面活性剤とを含有する液体洗浄剤組成物。
【請求項１】
（Ａ）下記一般式（1)で表されるポリオキシエチレンモノアルキルエーテルであって、水溶性であるポリオキシエチレンモノアルキルエーテルを含むシリコーン溶解剤。
Ｒ−Ｏ−（Ｃ2Ｈ4Ｏ）n−Ｈ （１）
（式中、Ｒは炭素数５〜１０の直鎖のアルキル基、ｎは１〜６の整数である。）
【請求項２】
成分（Ａ）が、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ペンチルエーテル（ｎ＝３〜６）、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ヘキシルエーテル（ｎ＝４〜６）、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ヘプチルエーテル（ｎ＝４〜６）、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（ｎ＝４〜６）、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ノニルエーテル（ｎ＝５〜６）又はポリオキシエチレンモノ−ｎ−デシルエーテル（ｎ＝５〜６）である請求項１記載のシリコーン溶解剤。
【請求項３】
成分（Ａ）が、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ヘキシルエーテル（ｎ＝４）、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（ｎ＝４〜５）、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ノニルエーテル（ｎ＝５）又はポリオキシエチレンモノ−ｎ−デシルエーテル（ｎ＝５〜６）である請求項２記載のシリコーン溶解剤。
【請求項４】
成分（Ａ）が、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ヘキシルエーテル（ｎ＝４）又はポリオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（ｎ＝４〜５）である請求項３記載のシリコーン溶解剤。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項記載のシリコーン溶解剤と、アニオン界面活性剤とを含有する液体洗浄剤組成物。
【請求項６】
（Ｂ）下記一般式（1)で表されるポリオキシエチレンモノアルキルエーテルであって、難水溶性であるポリオキシエチレンモノアルキルエーテルと、
Ｒ−Ｏ−（Ｃ2Ｈ4Ｏ）n−Ｈ （１）
（式中、Ｒは炭素数５〜１０の直鎖のアルキル基、ｎは１〜６の整数である。）
（Ｃ）ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ドデシルエーテル（エチレンオキサイドの平均付加モル数ｍは５〜３０である。）
とを含むシリコーン溶解剤。
【請求項７】
成分（Ｂ）が、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ペンチルエーテル（ｎ＝１〜２）、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ヘキシルエーテル（ｎ＝１〜３）、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ヘプチルエーテル（ｎ＝１〜３）、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（ｎ＝１〜３）、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ノニルエーテル（ｎ＝１〜４）又はポリオキシエチレンモノ−ｎ−デシルエーテル（ｎ＝１〜４）である、請求項６記載のシリコーン溶解剤。
【請求項８】
成分（Ｂ）が、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ヘキシルエーテル（ｎ＝１〜３）、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（ｎ＝２〜３）又はポリオキシエチレンモノ−ｎ−ノニルエーテル（ｎ＝４）である、請求項７記載のシリコーン溶解剤。
【請求項９】
成分（Ｂ）が、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ヘキシルエーテル（ｎ＝１〜３）又はポリオキシエチレンモノ−ｎ−オクチルエーテル（ｎ＝３）である、請求項８記載のシリコーン溶解剤。
【請求項１０】
成分（Ｃ）が、ポリオキシエチレンモノ−ｎ−ドデシルエーテル（ｍ＝１５）である、請求項６〜９のいずれか１項記載のシリコーン溶解剤。
【請求項１１】
請求項５〜１０のいずれか１項記載のシリコーン溶解剤と、アニオン界面活性剤とを含有する液体洗浄剤組成物。
【公開番号】特開２０１０−１５５９１１（Ｐ２０１０−１５５９１１Ａ）
【公開日】平成２２年７月１５日（２０１０．７．１５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−３３４５３８（Ｐ２００８−３３４５３８）
【出願日】平成２０年１２月２６日（２００８．１２．２６）
【出願人】（０００００６７６９）ライオン株式会社 (1,816)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年７月１５日（２０１０．７．１５）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年１２月２６日（２００８．１２．２６）
【出願人】（０００００６７６９）ライオン株式会社 (1,816)
【Ｆターム（参考）】
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