【課題】 毛髪や皮膚の付着物等（特にシリコーン）の除去に優れたパーソナル洗浄・除去剤を提供することを目的とする。特に、シリコーン等の除去に優れ且つ毛髪にダメージを与えない毛髪洗浄剤及びシャンプー剤、並びにシリコーン等のメーク汚れとの馴染みが良く、シリコーン等を簡易に水洗にて除去可能なクレンジング剤、を提供することを目的とする。
【解決手段】 ＨＬＢ値がそれぞれ８．０〜１１．０及び１２．０〜１５．０の各ポリエーテル変性シリコーン、並びにノニオン界面活性剤を含有することを特徴とするパーソナル洗浄・除去剤。 （もっと読む）

【課題】蛋白質汚れに対して良好な洗浄力を示し、アルマイトに対する防食性に優れ、且つ保存安定性に優れたアルマイト用洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカノールアミン、（Ｂ）脂肪族カルボン酸及び／又はその塩、並びに、（Ｃ）ポリカルボン酸及び／又はその塩を、それぞれ特定範囲の質量％で含有するアルマイト用洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】起泡性及びすすぎ性に優れ、皮脂洗浄性の高い皮膚洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）一般式（１）
Ｒ¹−Ｏ−(ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ)_n−ＣＨ₂−ＣＯＯＭ （１）
（式中、Ｒ¹は炭素数４〜２２のアルキル基を示し、ｎは０〜２０の数を示し、Ｍは水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム又は有機アンモニウムを示す）
で表されるアルキルエーテルカルボン酸又はその塩であって、Ｒ¹の平均炭素数が１０．８〜１２．８であり、ｎ＝０の成分を９．６質量％を超え２７質量％以下、ｎ＝１の成分とｎ＝２の成分を合計で２１質量％以上４０質量％未満含むアルキルエーテルカルボン酸又はその塩、
（Ｂ）一般式（２）
Ｒ²−Ｏ−(ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ)_m−ＳＯ₃Ｙ （２）
（式中、Ｒ²は炭素数８〜２２のアルキル基又はアルケニル基を示し、ｍは０〜２０の数を示し、且つｍの平均が２以上４未満であり、Ｙは水素原子、又は、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム、アルキルアンモニウム、アルカノールアンモニウム及びグルクアンモニウムから選ばれるカチオンを示す）
で表されるアルキル硫酸塩又はポリオキシエチレンアルキル硫酸塩
を含有する皮膚洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】食器の洗浄において、リンス剤を用いることなく、汚れの除去と同時に食器の乾燥を速め、ウォータースポットの低減を可能にする自動食器洗浄機用固体組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）４級アンモニウム基を有するモノマー及びアミノ基を有するモノマーから選ばれるモノマーに由来する構成単位と陰イオン性の基を有するモノマーに由来する構成単位とを有する高分子化合物を０．６質量％以上、並びに、（Ｂ）水中において次亜塩素酸イオンを生成する塩を含有し、〔（Ａ）の含有量〕＋〔（Ｂ）の含有量〕／〔（Ａ）の含有量〕（但し、（Ｂ）成分の含有量は、有効塩素換算の含有量である）〕］の質量比が２〜４である自動食器洗浄機用固体組成物。 （もっと読む）

【課題】クレンジング力に優れた水性のクレンジング料を提供すること。
【解決手段】 次の成分（Ａ）〜（Ｄ）；
（Ａ）グリセリン
（Ｂ）アクリル酸・アクリロイルジメチルタウリンナトリウムコポリマー及び／又はアク
リルアミドと２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸の架橋コポリマー
（Ｃ）アルキル変性カルボキシビニルポリマー及び／又はカルボキシビニルポリマー
（Ｄ）２５℃で液状であって、成分（Ａ）に溶解しない非イオン性界面活性剤
を含有し、成分（Ａ）を連続相とし、成分（Ｄ）が成分（Ａ）中に分散していることを特徴とするクレンジング料である。 （もっと読む）

【課題】果汁系飲料、スポーツ飲料、コーヒー飲料、栄養ドリンクなどの多様化する異なる種類のフレーバー臭に対しても均質で優れた脱臭効果を発現し、同一の製造ラインにおいて異なる各種の製品を製造する飲食料製造工場において、製造ラインに付着残留している前の製品のフレーバー臭を効率良く脱臭除去することができる飲食料製造ライン用脱臭剤組成物を提供する。
【解決手段】本発明の飲食料製造ライン用脱臭剤組成物は、（Ａ）成分としてヒドロキシプロピル‐β‐シクロデキストリン、（Ｂ）成分としてα−シクロデキストリン、β‐シクロデキストリン、γ‐シクロデキストリンから選ばれる少なくとも一種よりなるシクロデキストリン成分、（Ｃ）成分として水を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、高濃度酸などによる過酷な酸洗条件下であっても、鉄鋼に対しては勿論、その他の金属に対しても極めて高い腐食抑制効果を示す酸洗浄用腐食抑制剤組成物、当該組成物を含む金属腐食抑制性酸洗浄液、および当該酸洗浄液を用いる金属の洗浄方法を提供することにある。
【解決手段】本発明に係る金属腐食抑制剤組成物は、ロジンアミン、および、無機リン酸塩または有機ホスホン酸塩の少なくとも１種を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、銅配線を腐食させることなく、配線金属の腐食抑制の目的で添加されている防食剤などの有機残渣、および研磨された銅配線金属の銅の残渣の除去性に優れる銅および銅合金配線半導体用の洗浄剤を提供することを目的とする。
【解決手段】 銅または銅合金配線を形成する半導体製造工程中の化学的機械的研磨工程に続く洗浄工程において使用される洗浄剤であって、ＨＬＢが１５〜３５であって分子内に少なくとも１個の水酸基を有するアミン（Ａ）、ＨＬＢが１０〜３０であって分子内に少なくとも１個の３級アミノ基を有しかつ水酸基を含まないアミン（Ｂ）、および水を必須成分とし、使用時のｐＨが７．５〜１３．０であることを特徴とする銅配線半導体用洗浄剤を用いる。 （もっと読む）

【課題】クレンジング化粧料のたれ落ちがなく、塗擦による肌への負担が少ない固形の油性クレンジング化粧料でありながら、メイクアップ化粧料とのなじみ性が良く、汚れ落ちに優れ、かつ洗浄後のさっぱり感に優れる固形状油性クレンジング化粧料を提供する。
【解決手段】下記（Ａ）〜（Ｃ）成分を含有することを特徴とする固形状油性クレンジング化粧料。
（Ａ）融点が６０〜１２０℃である炭化水素油 化粧料全量中に５〜１５質量％
（Ｂ）エステル油を液状油全量に対して３５質量％以上含有する液状油
（Ｃ）ＨＬＢ値が５〜１３のノニオン性界面活性剤 化粧料全量中に５〜３０質量％ （もっと読む）