【課題】本発明の目的は、透湿度の低いセルロースアシレートフィルムを提供することにある。
【解決手段】２５℃８０％ＲＨにおける含水率が２．９質量％以下のセルロースアシレートフィルムであって、特定の疎水化剤を含むセルロースアシレートフィルムにより解決される。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、セルロースアシレートフィルム、光学機能フィルム、その製造方法、並びにそのセルロースアシレートフィルム又は光学機能フィルムを用いた偏光板及び画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶表示装置（ＬＣＤ）は大画面化が進み、例えば反射防止フィルム、光拡散シート等の光学機能フィルムを配置した液晶表示装置が増大している。例えば反射防止フィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような様々な画像表示装置において、外光の反射や像の映り込みによるコントラスト低下を防止するために、ディスプレイの表面に配置される。また、光拡散シートは液晶表示装置のバックライトに用いられる。
【０００３】
液晶表示装置の主要構成は通常、薄い液晶層を基板で挟んだ構成に、更に機能層を有するフィルムを複数積層することでできており、旧来の表示装置に比べて比較的装置の厚みを薄くできるが、積層の層数が多いため総合厚みでは十分に薄手化が達成できたとはいえず、さらなる薄手化が望まれている。また、液晶表示装置に配置された光学機能フィルムが、環境条件変化等によって物理性変化を起こして視認性に影響を与える現象も起きており、これに対して種々のフィルムの薄手化が関係する知見もみられている。これらのために、近年、各機能層の支持体の厚みを薄くすることが試みられている。
支持体を薄くすることの欠点のひとつにカールが大きくなること挙げられ、これを改良するために、例えば機能層の支持体を挟んだ他方の面にバックコート層を設けることが提案されている。（特許文献１）しかしながら増設層の膜厚分が厚くなることやコストアップ等の問題があること、また、物理的強度が劣化することの欠点は依然と残っており、改良が望まれていた。
【０００４】
一方で、偏光板の温度及び湿度に対する耐久性の向上が求められている。 偏光板の耐久性試験において特に問題となるのは、偏光度の低下であるが、これは偏光子に吸着されたヨウ素が水の作用により分解することが原因であり、偏光板の保護フィルムの透湿度を低下せしめることが有効であることが知られている。偏光板保護フィルムとして汎用されているセルロースアシレートは親水的なポリマーで透湿度が高いため、様々な疎水化剤を添加し透湿度を低下させる方法が提案されている。特許文献２にはロジン誘導体が、更に特許文献３には分子内に芳香環又はシクロアルキル環を有する多価アルコールエステル類及び分子内に芳香環又はシクロアルキル環を有するグリコレート類を添加し透湿度を低下させる方法が開示されている。
しかし、これらの方法ではある添加量までは疎水化剤の添加により透湿度を低下できるが、更に添加量を増やしても変化が頭打ちとなり、十分な改良効果を得られないという問題があった。
【０００５】
一方、液晶表示装置において、偏光板は不可欠な光学材料であり、一般に、偏光膜を２枚の保護フィルムが保護する構造を有している。これらの保護フィルムに反射防止機能やその他の光学的機能を付与することができれば、視認性の向上や表示装置の薄手化が可能となる。
【０００６】
偏光板に用いる保護フィルムは、偏光膜と貼り合わせるうえで十分な密着性を有していることが必要である。偏光膜との密着性を改良する手法として、保護フィルムを鹸化処理して、保護フィルムの表面を親水化処理することが通常行われている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００４−１０９７７１号公報
【特許文献２】特開２００２−１４６０４４号公報
【特許文献３】特開２００３−２３２９２０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、透湿度の低いセルロースアシレートフィルムを提供することである。
本発明の別の目的は、反射防止性その他の光学性能に優れた光学機能フィルム、特に薄手化の光学機能フィルム及びそれに伴うカール特性の悪化、表面強度の低下を回復することであり、更に透湿性が低く、透明度と巻きシワ防止性の良好な塗布物を安定に供給する方法を提供することである。本発明の別の目的は、このようなフィルムを用いて反射防止処理がされている偏光板、画像表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題は、下記１〜１１の構成のセルロースアシレートフィルム、そのセルロースアシレートフィルムを用いた偏光板及び画像表示装置により達成された。
１． ２５℃８０％ＲＨにおける含水率が２．９質量％以下のセルロースアシレートフィルムであって、下記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される疎水化剤を含むセルロースアシレートフィルム。
一般式（Ｉ）
【化１】

（式中、Ｒ¹、Ｒ²、及びＲ³は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、芳香族環基又は複素環基である。）
一般式（ＩＩ）
【化２】

（式中、Ｘは置換又は未置換のアミノ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、カルボキシル基を表わす。
Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ²¹、Ｒ²²、Ｒ²³、Ｒ²⁴、Ｒ²⁵、Ｒ³¹、Ｒ³²、Ｒ³³、Ｒ³⁴ないしＲ³⁵は水素原子又は置換基を表す。）
２． 膜厚が１０μm〜７０μmであることを特徴とする上記１に記載のセルロースアシレートフィルム。
３． 前記疎水化剤の含有量が、セルロースアシレートに対して１１．７質量％以上２０質量％以下である上記１又は２に記載のセルロースアシレートフィルム。
４． ２５℃８０％ＲＨにおける含水率が２．３質量％以下である上記１〜３のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
５． 前記疎水化剤のオクタノール−水分配係数（以下ｌｏｇＰ）の質量平均値が４以上１２以下である上記１〜４のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
６． セルロースアシレートの結晶化度が３０００以上１５０００以下である上記１〜５のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
７． ２５℃９０％ＲＨ環境下での透湿度が、２０ｇ／m²・２４ｈｒｓ以上２００ｇ／m²・２４ｈｒｓ以下である上記１〜６のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
８． フィルム厚み方向において、基層と少なくとも一層の表層とを有する多層構造からなり、該表層にのみ微粒子が含有されている上記１〜７のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
９． 少なくとも一方の面に塗設層を有する上記１〜８のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
１０． 上記１〜９のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルムが偏光膜の２枚の保護フィルムの少なくとも一方に用いられていることを特徴とする偏光板。
１１． 上記１〜９のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム又は上記１０に記載の偏光板が画像表示面に配置されていることを特徴とする画像表示装置。
本発明は上記１〜１１に係るものであるが、以下、その他の事項についても参考のために記載した。
【００１０】
（１）２５℃８０％ＲＨにおける含水率が２．９質量％以下のセルロースアシレートフィルムからなる透明支持体の少なくとも一方の面に塗設層を有することを特徴とする光学機能フィルム。
（２）セルロースアシレートフィルムの膜厚が１０μm〜７０μmであることを特徴とする前記（１）に記載の光学機能フィルム。
（３）膜厚が１０μm〜７０μmで、水素結合性水素供与性基を有する疎水化剤を少なくとも一つ、オクタノール−水分配係数（以下ｌｏｇＰ）の質量平均値が４以上１２以下で分子量１００以上２０００以下である低分子化合物を少なくとも一つ、含有するセルロースアシレートフィルムからなる透明支持体の少なくとも一方の面に塗設層を有することを特徴とする光学機能フィルム。
（４）膜厚が１０μm〜７０μmで、２５℃８０％ＲＨにおける含水率が２．９質量％以下で、水素結合性水素供与性基を有する疎水化剤を少なくとも一つ、オクタノール−水分配係数（以下ｌｏｇＰ）の質量平均値が４以上１２以下で分子量１００以上２０００以下である低分子化合物を少なくとも一つ、含有するセルロースアシレートフィルムからなる透明支持体の少なくとも一方の面に塗設層を有することを特徴とする光学機能フィルム。
（５）該疎水化剤がリン酸エステル系化合物であり、該リン酸エステル系化合物をセルロースアシレートに対して５質量％以下含有するセルロースアシレートフィルムであることを特徴とする前記（１）〜（４）のいずれかに記載の光学機能フィルム。
（６）セルロースアシレートの結晶化度が３０００以上１５０００以下のセルロースアシレートフィルムであることを特徴とする（１）〜（５）のいずれかに記載の光学機能フィルム。
（７）２５℃９０％ＲＨ環境下での透湿度が２０ｇ／m²・２４ｈｒｓ以上２００ｇ／m²・２４ｈｒｓ以下のセルロースアシレートフィルムであることを特徴とする（１）〜（６）のいずれかに記載の光学機能フィルム。
（８）セルロースアシレートフィルムが厚み方向において、基層と少なくとも一層の表層とを有する多層構造からなり、該表層にのみ微粒子が含有されており、該セルロースアシレートフィルムの少なくとも一方の面に塗設層を有する光学機能フィルム。
（９）セルロースアシレートフィルムが水素結合性水素供与性基を有する疎水化剤を少なくとも一つ含有する（８）に記載の光学機能フィルム。
（１０）該塗設層の少なくとも１層が平均粒径０．３μm〜０．０２μmの無機微粒子を含有することを特徴とする（１）〜（９）のいずれかに記載の光学機能フィルム。
（１１）該無機微粒子含有層のうちの少なくとも１層の無機微粒子が導電性無機微粒子であることを特徴とする（１０）に記載の光学機能フィルム。
（１２）該塗設層の少なくとも１層にアルキレンオキシド類を付加した多官能アクリレート系化合物を硬化した組成物を含有することを特徴とする（１）〜（１１）のいずれかに記載の光学機能フィルム。
（１３）該塗設層が光拡散層と該光拡散層より０．０２以上屈折率が低い低屈折率層の少なくとも２層から構成され、該光拡散層が該低屈折率層より支持体に近い側に塗設されていることを特徴とする（１）〜（１２）のいずれかに記載の光学機能フィルム。
（１４）該光拡散層が透光性粒子を含有し、該粒子の平均粒径が該光拡散層の膜厚の２０％〜１００％であることを特徴とする（１３）に記載の光学機能フィルム。
（１５）該光拡散層の透光性樹脂の屈折率が１．４５〜１．９０であり、透光性樹脂と樹脂粒子の屈折率差が０〜０．４０であることを特徴とする（１３）又は（１４）のいずれかに記載の光学機能フィルム。
（１６）透明支持体上のいずれかの層に下記一般式（ａ）で表されるオルガノシラン化合物及びその誘導体の少なくともいずれかを含有することを特徴とする（１）〜（１５）のいずれかに記載の光学機能フィルム。
一般式（ａ） （Ｒ¹⁰）_s−Ｓｉ（Ｚ）_4-s
一般式（ａ）中、Ｒ¹⁰は置換若しくは無置換のアルキル基又は置換若しくは無置換のアリール基を表す。Ｚは水酸基又は加水分解可能な基を表す。ｓは１〜３の整数を表す。
（１７）該低屈折率層が中空シリカ微粒子を含有することを特徴とする（１３）〜（１６）のいずれかに記載の光学機能フィルム。
（１８）該低屈折率層が下記一般式（１）で表される含フッ素化合物の架橋又は重合反応により形成されたことを特徴とする（１３）〜（１７）のいずれかに記載の光学機能フィルム。
一般式（１）
【化３】

一般式（１）中、Ｌは炭素数１〜１０の連結基を表し、ｍは０又は１を表す。Ｘは水素原子又はメチル基を表す。Ａは任意のビニルモノマーの重合単位を表し、単一重合単位であっても複数の重合単位で構成されていてもよい。ｘ、ｙ、ｚはそれぞれの構成重合単位のモル％を表し、３０≦ｘ≦６０、５≦ｙ≦７０、０≦ｚ≦６５を満たす値を表す。
（１９）透明支持体上のいずれかの層が、塗布液をダイコート法で塗布することによって形成されたことを特徴とする（１）〜（１８）のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
（２０）前記（１）〜（１８）のいずれかに記載の光学機能フィルムが偏光膜の２枚の保護フィルムの少なくとも一方に用いられていることを特徴とする偏光板。
（２１）前記（１）〜（１８）のいずれかに記載の光学機能フィルム、又は（２０）に記載の偏光板が画像表示面に配置されていることを特徴とする画像表示装置。
（２２）画像表示装置が、ＴＮ、ＳＴＮ、ＩＰＳ、ＶＡ又はＯＣＢモードの、透過型、反射型又は半透過型の液晶表示装置であることを特徴とする（２１）に記載の画像表示装置。
【発明の効果】
【００１１】
本発明により、透湿度の低いセルロースアシレートフィルムを提供することができる。
また、上記光学機能フィルム及びその製造方法により、反射防止性その他の光学性能に優れ、薄手でカール特性、表面強度、透湿性の低下が少ない光学機能フィルムを製造することができる。
また、上記フィルムを用いることにより、カールが少なく耐久性に優れた偏光板及びその偏光板を用いた画像表示装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の光学機能フィルムの好ましい１実施形態（反射防止フィルムの層構成）を模式的に示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
本発明に係るセルロースアシレートについて説明する。
本発明で使用されるセルロースアシレートのアシル基は特に制限は無いがアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基を用いることが好ましく、特にアセチル基が好ましい。全アシル基の置換度は２．７〜３．０が好ましく、２．８〜２．９５が更に好ましい。全アシル基がアセチル基であるセルロースアセテートを用いる場合にはアセチル置換度が２．７〜２．９５が好ましく、２．８〜２．９５が更に好ましい。また、特開２００1−３５６２１４号に記載されているアセチル置換度が２．５０以上２．８６以下や、２００１−２２６４９５号に記載されているアセチル置換度が２．７５以上２．８６以下のセルロースアセテートも好ましく使用することができる。アセチル置換度が低すぎると、流延時の搬送テンションによって後述するフィルムのリターデーション値が所望の値より大きくなり易く、面内ばらつきも発生しやすくなる問題がある。また、６位のアシル基の置換度は０．９以上が好ましく用いられる。０．９以下の置換度の場合、リターデーション値のばらつき（フィルム面内及びフィルム厚み）が発生しやすい。なお、本特許におけるアシル基の置換度はＡＳＴＭ Ｄ８１７に従って算出した値を採用する。
本発明では、酢化度が５９．０〜６１．９％の範囲にあるセルロースアセテートを使用することが好ましい。
酢化度とは、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験法）におけるアセチル化度の測定及び計算に従う。
セルロースアシレートの粘度平均重合度（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０以上であることが更に好ましい。
また、本発明に使用するセルロースアシレートは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値は、１．０〜１．７の範囲にあることが好ましく、１．３〜１．６５の範囲にあることが更に好ましく、１．４〜１．６の範囲にあることが最も好ましい。
本発明のセルロースアセテートとして、特開平１１−５８５１号公報の段落番号[００４３]〜[００４４]に記載されている[合成例１]、段落番号[００４８]〜[００４９]に記載されている[合成例２]、そして段落番号[００５１]〜[００５２]に記載されている[合成例３]の合成方法により得られたセルロースアセテートを用いることができる。
【００１４】
次に、本発明に係る疎水化剤について説明する。
疎水化剤としてはできるだけ疎水性の高い化合物が、セルロースアシレートに対する可塑化効果が小さく（弾性率を低下させることなく）かつ含水率低下効果が大きいため好ましい。しかし、疎水性が高すぎると逆にセルロースアシレートとの相溶性が悪すぎて、ブリードアウト等の問題が生じる。従って、水素結合性水素供与性基を少なくとも一つ有する疎水性化合物が、前記低可塑性及び含水率低下効果と、ブリードアウト防止のトレードオフの関係においてに有利であり好ましい。
水素結合性水素供与性基とは、水素原子を有し、該水素原子と他の電気陰度性度の高い官能基との間で水素結合を形成できる官能基であり、本発明における水素結合性水素供与性基としてはアミノ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、カルボキシル基が好ましく、ヒドロキシ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基等の官能基が特に好ましい。
【００１５】
本発明に係る疎水化剤の分子量は２５０以上２０００以下が好ましい。またその沸点は２６０℃以上であることが好ましい。沸点は市販の測定装置（例えば、ＴＧ／ＤＴＡ１００、セイコー電子工業（株）製））を用いて測定できる。
【００１６】
従来一般に疎水化剤として用いられてきたリン酸エステル系化合物は前記低可塑性及び含水率低下効果の両立上不利であり、その含量は低いことが好ましい。本発明のセルロースアシレートフィルム中における、リン酸エステル系化合物のセルロースアシレートに対する比率は５質量％以下が好ましく、２質量％以下が更に好ましく、実質的に含有しないことが最も好ましい。
上記リン酸エステル系化合物としては、トリフェニルホスフェート（ＴＰＰ）、トリクレジルホスフェート（ＴＣＰ）、ビフェニルジフェニルホスフェート等が含まれる。カルボン酸エステルとしては、フタル酸エステル及びクエン酸エステルが代表的である。フタル酸エステルの例には、ジメチルフタレート（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジフェニルフタレート（ＤＰＰ）及びジエチルヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）等の化合物が挙げられる。
【００１７】
本発明の弾性率を低下させることなく含水率を低下せしめる疎水化剤としてはさまざまな化合物が使用可能であるが、下記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される化合物が特に好ましく使用できる。
一般式（Ｉ）
【００１８】
【化４】

【００１９】
式中、Ｒ¹、Ｒ²、及びＲ³は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、芳香族環基又は複素環基である。
一般式（ＩＩ）
【００２０】
【化５】

【００２１】
式中、Ｘは置換又は未置換のアミノ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、カルボキシル基を表わす。
Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ²¹、Ｒ²²、Ｒ²³、Ｒ²⁴、Ｒ²⁵、Ｒ³¹、Ｒ³²、Ｒ³³、Ｒ³⁴ないしＲ³⁵は水素原子又は置換基を表す。
【００２２】
まず、一般式（Ｉ）で表される化合物について詳しく説明する。
Ｒ¹、Ｒ²、及びＲ³は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、芳香族環基又は複素環基を表すが、芳香族環又は複素環がより好ましい。Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³がそれぞれ表す芳香族環は、フェニル又はナフチルであることが好ましく、フェニルであることが特に好ましい。Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³は芳香環又は複素環に置換基を有していてもよい。置換基の例としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルファモイル基、アルキル置換スルファモイル基、アルケニル置換スルファモイル基、アリール置換スルファモイル基、スルオンアミド基、カルバモイル基、アルキル置換カルバモイル基、アルケニル置換カルバモイル基、アリール置換カルバモイル基、アミド基、アルキルチオ基、アルケニルチオ基、アリールチオ基及びアシル基があげられる。
【００２３】
Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³が複素環基を表す場合、複素環は芳香族性を有することが好ましい。芳香族性を有する複素環とは、一般に不飽和複素環であり、好ましくは最多の二重結合を有する複素環である。複素環は５員環、６員環又は７員環であることが好ましく、５員環又は６員環であることが更に好ましく、６員環であることが最も好ましい。複素環のヘテロ原子は、窒素原子、硫黄原子又は酸素原子であることが好ましく、窒素原子であることが特に好ましい。芳香族性を有する複素環としては、ピリジン環（複素環基としては、２−ピリジル又は４−ピリジル）が特に好ましい。複素環基は、置換基を有していてもよい。複素環基の置換基の例は、上記に挙げた置換基の例と同様である。これらの置換基は、上記置換基で更に置換されていても良い。
【００２４】
以下に本発明に係る一般式（Ｉ）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
【００２５】
【化６】

【００２６】
【化７】

【００２７】
【化８】

【００２８】
【化９】

【００２９】
【化１０】

【００３０】
【化１１】

【００３１】
【化１２】

【００３２】
【化１３】

【００３３】
【化１４】

【００３４】
【化１５】

【００３５】
【化１６】

【００３６】
【化１７】

【００３７】
次に一般式（ＩＩ）の化合物について詳しく説明する。
Ｘは、置換又は未置換のアミノ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、カルボキシル基であり、より好ましくはアミノ基、ヒドロキシ基であり、特に好ましくはヒドロキシ基である。
【００３８】
Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ²¹、Ｒ²²、Ｒ²³、Ｒ²⁴、Ｒ²⁵、Ｒ³¹、Ｒ³²、Ｒ³³、Ｒ³⁴ないしＲ³⁵は水素原子又は置換基を表し、置換基としては以下の置換基Ｔが適用できる。
【００３９】
置換基Ｔとしては例えばアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、例えばメチル、エチル、ｉｓｏ−プロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−オクチル、ｎ−デシル、ｎ−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、例えばビニル、アリル、２−ブテニル、３−ペンテニルなどが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、例えばプロパルギル、３−ペンチニルなどが挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、例えばフェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる。）、置換又は未置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノなどが挙げられる。）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシなどが挙げられる。）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、例えばフェニルオキシ、２−ナフチルオキシなどが挙げられる。）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、例えばフェニルオキシカルボニルなどが挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられる。）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、例えばメトキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）
【００４０】
アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、例えばフェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、例えばメタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、例えばスルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどが挙げられる。）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、例えばフェニルチオなどが挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、例えばメシル、トシルなどが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、例えばウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる。）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、ピペリジル、モルホリノ、ベンゾオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリルなどが挙げられる。）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、例えば、トリメチルシリル、トリフェニルシリルなどが挙げられる）などが挙げられる。中でも、より好ましくはアルキル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基であり、更に好ましくはアルキル基、アリール基、アルコキシ基である。
これらの置換基は更に置換基Ｔで置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。
【００４１】
以下に一般式（ＩＩ）で表される化合物に関して具体例をあげて詳細に説明するが、本発明は以下の具体例によって何ら限定されることはない。
【００４２】
【化１８】

【００４３】
【化１９】

【００４４】
一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される化合物は、単独あるいは２種類以上混合して用いることができる。本発明においては、一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される化合物の併用も好ましい。本発明の疎水化剤はセルロースアシレート１００質量部に対して、０．０１〜３０質量部、好ましくは０．５〜２０質量部用いられる。この範囲で前記化合物を用いることにより、フィルムの弾性率を実質的に低下させることなく、含水率を低下させることができる。
【００４５】
本発明の疎水化剤の添加方法は、アルコールやメチレンクロライド、ジオキソランの有機溶媒に溶解してから、セルロースアシレート溶液（ドープ）に添加するか、又は直接ドープ組成中に添加してもよい。
【００４６】
本発明に係るセルロースアシレートフィルムは前記疎水化剤の他にＵＶ吸収剤を含有することが好ましい。
本発明に用いられる紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等を挙げることが出来るが、着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物が好ましい。また、特開平１０−１８２６２１号、特開平８−３３７５７４号記載の紫外線吸収剤、特開平６−１４８４３０号記載の高分子紫外線吸収剤も好ましく用いられる。本発明のセルロースアシレートフィルムを偏光板の保護フィルムとして用いる場合、紫外線吸収剤としては、偏光子や液晶の劣化防止の観点から、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れており、かつ、液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。
【００４７】
本発明に有用なベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の具体例として、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、オクチル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートの混合物等を挙げることが出来るが、これらに限定されない。また、市販品として、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１０９、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１７１、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３２６（何れもチバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製）を好ましく使用出来る。
【００４８】
本発明に係るセルロースアシレートフィルムにおいて、弾性率を低下させずに含水率を低下せしめるには、該セルロースアシレートフィルム中に、分子量１００以上２０００以下の低分子化合物を含有することが好ましい。下記式（ＩＩＩ）で定義される該低分子化合物のオクタノール−水分配係数の質量平均値（ｌｏｇＰ）は、４以上１２以下であることが好ましく、５以上１１以下であることが更に好ましく、６以上１０以下であることが最も好ましい。
【００４９】
一般式（ＩＩＩ）
質量平均ｌｏｇＰ＝[Σ（Ｍｉ×Ｐｉ）]／ΣＭｉ
式中、Ｍｉはｉ番目の低分子化合物の全低分子化合物添加量に対する質量、Ｐｉはｉ番目の低分子化合物のｌｏｇＰ値である。
【００５０】
また、本発明に係るセルロースアシレートフィルムにおいて、分子量１００以上２０００以下の低分子化合物のセルロースアシレートに対する質量比は５％以上３５％以下が好ましく、１０％以上３０％以下が更に好ましく、１５％以上２５％以下が最も好ましい。
【００５１】
［セルロースアシレートフィルムの製造］
本発明のセルロースアシレートフィルムは、ソルベントキャスト法により製造することができる。ソルベントキャスト法では、セルロースアシレートを有機溶媒に溶解した溶液（ドープ）を用いてフィルムを製造する。
有機溶媒は、炭素原子数が３〜１２のエーテル、炭素原子数が３〜１２のケトン、炭素原子数が３〜１２のエステル及び炭素原子数が１〜６のハロゲン化炭化水素から選ばれる溶媒を含むことが好ましい。エーテル、ケトン及びエステルは、環状構造を有していてもよい。
【００５２】
炭素原子数が３〜１２のエーテル類の例には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソール及びフェネトールが含まれる。炭素原子数が３〜１２のケトン類の例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン及びメチルシクロヘキサノンが含まれる。炭素原子数が３〜１２のエステル類の例には、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテート及びペンチルアセテートが含まれる。
二種類以上の官能基を有する有機溶媒の例には、２−エトキシエチルアセテート、２−メトキシエタノール及び２−ブトキシエタノールが含まれる。
ハロゲン化炭化水素の炭素原子数は、１又は２であることが好ましく、１であることが最も好ましい。ハロゲン化炭化水素のハロゲンは、塩素であることが好ましい。ハロゲン化炭化水素の水素原子が、ハロゲンに置換されている割合は、２５〜７５モル％であることが好ましく、３０〜７０モル％であることがより好ましく、３５〜６５モル％であることが更に好ましい。メチレンクロリドが、代表的なハロゲン化炭化水素である。
二種類以上の有機溶媒を混合して用いてもよい。
【００５３】
０℃以上の温度（常温又は高温）で処理することからなる一般的な方法で、セルロースアシレート溶液を調製することができる。溶液の調製は、通常のソルベントキャスト法におけるドープの調製方法及び装置を用いて実施することができる。なお、一般的な方法の場合は、有機溶媒としてハロゲン化炭化水素（特にメチレンクロリド）を用いることが好ましい。
【００５４】
冷却溶解法により、溶液を調製することもできる。冷却溶解法では、通常の溶解方法では溶解させることが困難な有機溶媒中にもセルロースアシレートを溶解させることができる。
【００５５】
種々の溶解法で調製したセルロースアシレート溶液（ドープ）を、ソルベントキャスト法によってセルロースアシレートフィルムを製造することができる。ドープにはレターデーション上昇剤を添加することが好ましい。
ドープは、ドラム又はバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１８〜３５％となるように濃度を調整することが好ましい。ドラム又はバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。ドープは、表面温度が１０℃以下のドラム又はバンド上に流延することが好ましい。
【００５６】
ソルベントキャスト法における乾燥方法については、米国特許２３３６３１０号、同２３６７６０３号、同２４９２０７８号、同２４９２９７７号、同２４９２９７８号、同２６０７７０４号、同２７３９０６９号、同２７３９０７０号、英国特許６４０７３１号、同７３６８９２号の各明細書、特公昭４５−４５５４号、同４９−５６１４号、特開昭６０−１７６８３４号、同６０−２０３４３０号、同６２−１１５０３５号の各公報に記載がある。バンド又はドラム上での乾燥は空気、窒素などの不活性ガスを送風することにより行なうことができる。
【００５７】
得られたフィルムをドラム又はバンドから剥ぎ取り、更に１００℃から１６０℃まで逐次温度を変えた高温風で乾燥して残留溶剤を蒸発させることもできる。以上の方法は、特公平５−１７８４４号公報に記載がある。
【００５８】
流延から後乾燥までの工程は、空気雰囲気下でもよいし窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気下でもよい。本発明に用いるセルロースアシレートフィルムの製造に用いる巻き取り機は一般的に使用されているものでよく、定テンション法、定トルク法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法などの巻き取り方法で巻き取ることができる。
【００５９】
二層以上の流延を行いフィルム化することもできる。二層以上の複数のセルロースアシレート液を流延する場合、複数のセルロースアシレート溶液を流延することが可能で、支持体の進行方向に間隔をおいて設けられた複数の流延口からセルロースアシレートを含む溶液をそれぞれ流延させて積層させながらフィルムを作製してもよい。例えば、特開昭６１−１５８４１４号、特開平１−１２２４１９号、及び、特開平１１−１９８２８５号の各公報に記載の方法を用いることができる。
【００６０】
本発明に係るセルロースアシレート溶液は、他の機能層（例えば、接着層、染料層、帯電防止層、アンチハレーション層、紫外線吸収層、偏光層など）と同時に流延することもできる。
【００６１】
セルロースアシレートフィルムには、劣化防止剤（例、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン）を添加してもよい。劣化防止剤については、特開平３−１９９２０１号、同５−１９０７０７３号、同５−１９４７８９号、同５−２７１４７１号、同６−１０７８５４号の各公報に記載がある。好ましい劣化防止剤の例としては、ブチル化ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）、トリベンジルアミン（ＴＢＡ）を挙げることができる。
【００６２】
本発明に係るセルロースアシレートフィルムには、キシミやシワを防止する目的のマット剤として、微粒子が添加されることが好ましい。
微粒子は、フィルム中に均一に存在しても良いが、好ましくは表層にのみ存在するほうが透明性を損なわない点で好ましい。表層に多く存在させるには微粒子を含むドープと含まないドープを共流延させるか、又は逐次流延する方法が挙げられる。
微粒子の種類としては、無機化合物が好ましく、無機化合物の例としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化錫等の微粒子が挙げられる。この中では、珪素原子を含有する化合物であることが好ましく、フィルムのヘイズ（もや、霞み）を小さくすることができる二酸化珪素微粒子が特に好ましい。
二酸化珪素微粒子としては、例えばアエロジル株式会社製のＡＥＲＯＳＩＬ−２００、２００Ｖ、３００、Ｒ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ２０２、Ｒ８１２，Ｒ８０５、ＯＸ５０、ＴＴ６００などがあげられる。
【００６３】
本発明において、最終的に乾燥フィルム中での微粒子の平均粒径は１００ｎｍ〜５００ｎｍであることが好ましく、１５０ｎｍ〜４００ｎｍが更に好ましい。フィルム中での微粒子の平均粒径は断面写真を撮影し観察することで確認できる。上記粒径が、５００ｎｍを超えた場合は、ヘイズ（もや、霞み）の劣化等が見られたり、異物としてフィルムの巻状態での故障を発生する原因にもなる。また、１００ｎｍより小さい場合は、充分な巻き取り性の改善効果が見られない。
微粒子の添加量は、フィルム中に対して、分散した状態で平均粒径１００〜５００ｎｍの微粒子が０．１５〜１．２０質量％であることが好ましく、より好ましくは０．２０〜０．７０質量％、更に好ましくは０．２０〜０．３０質量％である。
【００６４】
［セルロースアシレートフィルムの膜厚］
本発明に係るセルロースアシレートフィルムの膜厚は１０μｍ以上８０μｍ以下が好ましく、１０μｍ以上７０μｍ以下が更に好ましく、２０μｍ以上６０μｍ以下が最も好ましい。これより膜厚が薄いとハンドリングにおいてフィルム切断や皺などの故障が起こりやすい。これより厚いと液晶ディスプレイに貼った場合の薄手化が不十分である。
【００６５】
［セルロースアシレートフィルムの弾性率］
セルロースアシレートフィルムの弾性率は結晶化度を高くすることにより大きくすることが可能である。逆にセルロースと相溶性の高い化合物を添加すると弾性率は小さくなる。セルロースアシレートフィルムの弾性率は引っ張り試験により求めることができる。
具体的にはサンプルを２５℃６０％ＲＨの環境下で２４ｈｒ調湿し、ＪＩＳ Ｋ７１２７に記載の方法に従って弾性率を測定する。引っ張り試験機は（株）エー・アンド・デイ製テンシロンなどを用いることができる。
本発明のセルロースアシレートフィルムは、幅方向又は長手方向のいずれかの方向における２５℃６０％ＲＨの弾性率が、４００ｋｇｆ／ｍｍ²以上となる。より好ましくは、４５０ｋｇｆ／ｍｍ²以上６００Ｋｇｆ／ｍｍ²以下である。６００Ｋｇｆ／ｍｍ²以上となると、フィルムの加工適性が損なわれる。
【００６６】
［セルロースアシレートフィルムの結晶化度］
フィルムの結晶化度は様々な方法により増大させうるが、残留溶剤量の高い状態で高温で処理すると効果的に結晶化を進行させられる。したがって、セルロースアシレートフィルムの製造においては、フィルムをバンドあるいはドラム上から剥ぎ取った直後に高温で乾燥させることが好ましい。乾燥温度は８０℃以上２００℃以下が好ましく、１００℃以上１８０℃以下が更に好ましく、１２０℃以上１６０℃以下が最も好ましい。
結晶化増大に効果的な残留溶剤量は溶剤種の組み合わせにより異なる。例えば、メチレンクロライド／メタノール混合溶剤系の場合、セルロースアシレートフィルムに対する該混合溶媒の質量比は１％以上７０％以下が好ましく、５％以上６０％以下が更に好ましく、１０％以上５０％以下が最も好ましい。また、メチレンクロライド／メタノール／n−ブタノール混合溶剤系では２０％以上９０％以下が好ましく、３０％以上８０％以下が更に好ましく、３０％以上７０％以下が最も好ましい。
本発明で定義する結晶化度はＸ線回折測定で検出された回折ピーク強度からブラッグ角２θ＝１４°の回折強度を引いた値の和である。
本発明のアシレートフィルムの結晶化度は３０００以上１５０００以下が好ましく、４０００以上１２０００以下が更に好ましく、５０００以上９０００以下が最も好ましい。結晶度が高過ぎるとフィルムが脆くなったり、ヘイズが大きくなってしまう。
【００６７】
［セルロースアシレートフィルムの含水率］
セルロースアシレートフィルムの含水率は一定温湿度における平衡含水率を測定することにより評価することができる。平衡含水率は前記温湿度に２４時間放置した後、平衡に達した試料の水分量をカールフィッシャー法で測定し、水分量（g）を試料質量（g）で除して算出したものである。
本発明のセルロースアシレートフィルムの２５℃８０％ＲＨにおける含水率は２．９質量％以下であることが好ましく、２．６質量％以下であることが更に好ましく、２．３質量％以下であることが最も好ましい。含水率が２．９質量％を超えると偏光板の保護フィルムとして用いたときに偏光度の著しい低下を引き起こす。
【００６８】
[透湿度]
透湿度はＪＩＳ Ｚ ０２０８に記載の方法に則り、各試料の透湿度を測定し、面積１ｍ²あたり２４時間で蒸発する水分量（ｇ）として算出する。透湿度は偏光板の耐久性と密接に関係したフィルム物性であり、透湿度を下げることにより偏光板耐久性を向上させることができる。本発明に係るセルロースアシレートフィルムでは、２５℃９０％ＲＨ環境下での透湿度が２０ｇ／ｍ²・２４ｈｒｓ以上２００ｇ／ｍ²・２４ｈｒｓ以下であることが好ましい。より好ましくは、４０ｇ／ｍ²・２４ｈｒｓ以上１８０ｇ／ｍ²・２４ｈｒｓ以下であり、特に好ましくは６０ｇ／ｍ²・２４ｈｒｓ以上１６０ｇ／ｍ²・２４ｈｒｓ以下である。透湿度が２０ｇ／ｍ²・２４ｈｒｓ以下となると、偏光板作製時の乾燥が不十分となり偏光板耐久性が悪化する。また、２００ｇ／ｍ²・２４ｈｒｓ以上では外界からの水の浸入が多いため偏光板耐久性が悪化する。
【００６９】
透湿度は水の吸着量及びフィルム中の水の拡散速度を小することにより、低下させることができる。本発明に係る疎水化剤はフィルム中の水の拡散速度を大きくすることなく、水の吸着量を小さくできるため、特に好ましい。また、セルロースアシレートフィルムの結晶化度を上げる方法も、フィルム中の水の拡散速度を大きくすることなく、水の吸着量を小さくでき好ましい。
更に、透湿度は製膜時に搬送方向及び／あるいは幅方向に延伸し、セルロースアシレートの分子鎖の配向を密にすることによっても低下させることが可能である。延伸は一軸延伸、二軸延伸のどちらでも可能である。
【００７０】
二軸延伸には、同時二軸延伸法と逐次二軸延伸法があるが、連続製造の観点から逐次二軸延伸方法が好ましく、ドープを流延した後、バンド若しくはドラムよりフィルムを剥ぎ取り、幅方向（長手方法）に延伸した後、長手方向（幅方向）に延伸される。
幅方向に延伸する方法は、例えば、特開昭６２−１１５０３５号、特開平４−１５２１２５号、同４−２８４２１１号、同４−２９８３１０号、同１１−４８２７１号などの各公報に記載されている。フィルムの延伸倍率（元の長さに対する延伸による増加分の比率）は、１〜５０％の範囲にあることが好ましく、５〜４０％の範囲にあることが更に好ましく、１０〜３５％の範囲にあることが最も好ましい。
【００７１】
[吸湿膨張係数]
吸湿膨張係数は、一定温度下において相対湿度を変化させた時の試料の長さの変化量を示す。
偏光板耐久試験における額縁状の透過率上昇を防止するために、セルロースアシレートフィルムの吸湿膨張係数は、３０×１０^-5／％ＲＨ以下とすることが好ましく、１５×１０^-5／％ＲＨ以下とすることが更に好ましく、１０×１０^-5／％ＲＨ以下とすることが最も好ましい。また、吸湿膨張係数は小さい方が好ましいが、通常は、１．０×１０^-5／％ＲＨ以上の値である。
吸湿膨張係数の測定方法について以下に示す。セルロースアシレートフィルムから幅５ｍｍ、長さ２０ｍｍの試料を切り出し、片方の端を固定して２５℃、２０％ＲＨ（Ｒ０）の雰囲気下にぶら下げる。他方の端に０．５ｇの重りをぶら下げて、１０分間放置し長さ（Ｌ０ ）を測定する。次に、温度は２５℃のまま、湿度を８０％ＲＨ（Ｒ１ ）にして、長さ（Ｌ１ ）を測定する。吸湿膨張係数は下式により算出する。測定は同一試料につき１０サンプル行い、平均値を採用する。
吸湿膨張係数［／％ＲＨ］＝｛（Ｌ１−Ｌ０）／Ｌ０｝／（Ｒ１−Ｒ０）
【００７２】
上記吸湿による寸度変化を小さくするには、製膜時の残留溶剤量を低くし、ポリマーフィルム中の自由体積を小さくすることが好ましい。
残留溶剤を減らすための一般的手法は、高温かつ長時間で乾燥することであるが、長時間化は生産性が落ちる欠点をもつ。従ってセルロースアシレートフィルムに対する残留溶剤の量は、０．０１〜１質量％の範囲にあることが好ましく、０．０２〜０．０７質量％の範囲にあることが更に好ましく、０．０３〜０．０５質量％の範囲にあることが最も好ましい。
上記残留溶剤量を制御することにより、光学補償能を有する偏光板を安価に高い生産性で製造することができる。
残留溶剤量は、一定量の試料をクロロフォルムに溶解し、ガスクロマトグラフ（ＧＣ１８Ａ、島津製作所（株）製）を用いて測定する。
【００７３】
前記吸湿による寸度変化を小さくする別の方法として、疎水基を有する化合物を添加することが好ましい。疎水基を有する素材としては、分子中にアルキル基やフェニル基のような疎水基を有する素材であれば特に制限はないが、一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で表わされる本発明の疎水化剤は疎水化効果が大きく特に好ましい。
これらの疎水基を有する化合物の添加量は、調整する溶液（ドープ）に対して０．０１〜３０質量％の範囲にあることが好ましく、０．１〜２０質量％の範囲にあることが更に好ましい。
【００７４】
［フィルムのレターデーション］
フィルムのＲｅレターデーション値及びＲｔｈレターデーション値は、それぞれ、下記式（Ｉ）及び（II）で定義される。
（Ｉ） Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
（II） Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
式（Ｉ）及び（II）において、ｎｘは、フィルム面内の遅相軸方向（屈折率が最大となる方向）の屈折率である。
式（Ｉ）及び（II）において、ｎｙは、フィルム面内の進相軸方向（屈折率が最小となる方向）の屈折率である。
式（II）において、ｎｚは、フィルムの厚み方向の屈折率である。式（Ｉ）及び（II）において、ｄは、単位をｎｍとするフィルムの厚さである。
【００７５】
本発明に係るセルロースアシレートフィルムは偏光板の保護フィルムとして用いられ、特に、様々な液晶モードに対応した位相差フィルムとしても好ましく用いることができる。
本発明に係るセルロースアシレートフィルムを位相差フィルムとして用いる場合、セルロースアシレートフィルムの好ましい光学特性は液晶モードによって異なる。
ＯＣＢモード用としてはＲｅは１０〜１００のものが好ましく、２０〜７０のものが更に好ましい。Ｒｔｈは５０〜３００のものが好ましく１００〜２５０のものが更に好ましい。
ＶＡモード用としてはＲｅは２０〜１００のものが好ましく、３０〜７０のものが更に好ましい。Ｒｔｈは５０〜２５０のものが好ましく８０〜１８０のものが更に好ましい。
また、ＴＮ用としてはＲｅは０〜５０のものが好ましく、２〜３０のものが更に好ましい。Ｒｔｈは１０〜２００のものが好ましく３０〜１５０のものが更に好ましい。
ＯＣＢ用モード及びＴＮ用モードでは前記レターデーション値を有するセルロースアシレートフィルム上に光学異方性層を塗布して光学補償フィルムとして使用できる。
【００７６】
なお、セルロースアシレートフィルムの複屈折率（Δｎ：ｎｘ−ｎｙ）は、０．００〜０．００２μｍの範囲にあることが好ましい。また、支持体フィルム及び対向フィルムの厚み方向の複屈折率｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝は、０．００〜０．０４の範囲にあることが好ましい。
【００７７】
[光弾性]
本発明に係るセルロースアシレートの光弾性係数は６０×１０^-8ｃｍ²／Ｎ以下が好ましく、２０×１０^-8ｃｍ²／Ｎが更に好ましい。光弾性係数はエリプソメーターにより求めることができる。
【００７８】
[ガラス転移温度]
本発明に係るセルロースアシレートのガラス転移温度は１２０℃以上が好ましく、更に１４０℃以上が好ましい。ガラス転移温度は、示差走査型熱量計（ＤＳＣ）を用いて昇温速度１０℃／分で測定したときにフィルムのガラス転移に由来するベースラインが変化しはじめる温度と再びベースラインに戻る温度との平均値として求めたものである。
【００７９】
［セルロースアシレートフィルムの表面処理］
セルロースアシレートフィルムは、表面処理を施すことが好ましい。具体的方法としては、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、酸処理、アルカリ処理又は紫外線照射処理が挙げられる。また、特開平７−３３３４３３号公報に記載のように、下塗り層を設けることも好ましい。
セルロースアシレートフィルムを偏光板の透明保護フィルムとして使用する場合、偏光子との接着性の観点から、酸処理又はアルカリ処理、すなわちセルロースアシレートに対するケン化処理を実施することが特に好ましい。
【００８０】
セルロースアシレートフィルムの表面エネルギーは５５ｍＮ／ｍ以上であることが好ましく、６０ｍＮ／ｍ以上７５ｍＮ／ｍ以下であることが更に好ましい。固体の表面エネルギーは、「ぬれの基礎と応用」（リアライズ社 １９８９．１２．１０発行）に記載のように接触角法、湿潤熱法、及び吸着法により求めることができる。本発明のセルロースアシレートフィルムの場合、接触角法を用いることが好ましい。
具体的には、表面エネルギーが既知である２種の溶液をセルロースアシレートフィルムに滴下し、液滴の表面とフィルム表面との交点において、液滴に引いた接線とフィルム表面のなす角で、液滴を含む方の角を接触角と定義し、計算によりフィルムの表面エネルギーを算出できる。
【００８１】
以下に、本発明の塗設層について詳細に説明する。
【００８２】
＜層構成＞
本発明の光学機能フィルムについては以下のような公知の層構成を使用することができる。
たとえば、代表的な例としては
透明支持体／光拡散層
透明支持体／光拡散層／低屈折率層
透明支持体／ハードコート層／低屈折率層
透明支持体／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
がある。
透明支持体と表面層の間に設けても良い層として、光拡散層、帯電防止層（ディスプレイ側からの表面抵抗値を下げる等の要求がある場合、表面等へのゴミつきが問題となる場合）、ハードコート層（防眩層だけで硬度が不足する場合）、低屈折率層、防湿層、密着改良層、虹ムラ（干渉ムラ）防止層等が挙げられる。また、低屈折率層の上にスベリ剤等を含む防汚層を設置しても良い。透明支持体の上に光拡散層を用い光拡散層だけで硬度が不足する場合、透明支持体と光拡散層との間にハードコート層を儲けても良い。
帯電防止層は透明支持体に接することが好ましいが、それ以外の位置に儲けることもできる。
防眩層の上に低屈折率層を光の波長の１／４前後の膜厚で形成することで、薄膜干渉の原理により表面反射を低減することができる。
ここで、図１は、本発明の光学機能フィルムの好ましい１実施形態を模式的に示す断面図である。図１に示す本実施形態の光学機能フィルム１は、透明支持体２と、透明支持体２上に形成された光拡散層３と、そして光拡散層３上に形成された低屈折率層４とからなる。この他、表面への汚れの付着を防止するための層などがある。光拡散層３は、透光性樹脂と透光性樹脂中に分散された透光性微粒子５とからなる。
本発明における反射防止層を有する光学機能フィルムを構成する各層の屈折率は以下の関係を満たすことが好ましい。
光拡散層の屈折率＞透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率
防眩性、光拡散性を有する光拡散層は、好ましくは防眩性、光拡散性、ハードコート性と高屈折率性を兼ね備えており、本実施形態においては、１層で形成されたものを例示しているが、複数層、例えば２層〜４層で構成されていてもよい。また、本実施形態のように透明支持体上に直接設けてもよいが、帯電防止層や防湿層等の他の層を介して設けてもよい。
本発明の光学機能フィルムにおける塗設層の総膜厚は、カールを低減するために、１０μm以下であることが必要である。好ましくは８μm以下であり、より好ましくは６μm以下である。
【００８３】
＜光拡散層＞
光拡散層は、表面散乱による防眩性と、好ましくはフィルムの耐擦傷性を向上するためのハードコート性をフィルムに寄与することと、必要によって層内部の散乱効果を利用する目的で形成される。また、低屈折率層に対して相対的に屈折率が高いことが好ましく、低屈折率層より０．０２以上、好ましくは０．０３以上屈折率が高いことが反射防止性向上のために好ましい。光拡散層は、好ましくはハードコート性を付与することのできる透光性樹脂、光拡散性を付与するための透光性微粒子、及び溶媒を必須成分として含有する。
光拡散層の膜厚は８μm以下が好ましく、２μm〜７μmがより好ましく、３μm〜６μmが最も好ましい。
【００８４】
＜透光性微粒子＞
透光性微粒子の平均粒径は、０．５μm〜８μmが好ましく、０．７μm〜６μmがより好ましく、１μm〜５μmが更に好ましい。また、透光性微粒子の平均粒径は、光拡散層の膜厚の２０％〜１００％であることが好ましく、１５％〜９０％がより好ましく、２０％〜８０％が更に好ましい。
平均粒径が０．５μm未満であると、光の散乱角度分布が広角にまで広がるため、ディスプレイの文字ボケを引き起こすため、好ましくない。一方、８μｍを超えると、塗設面の防眩性が強くなりすぎ、素材コストの上昇等の問題も生じる。
前記透光性微粒子の具体例としては、例えばポリ（（メタ）アクリレート）粒子、架橋ポリ（（メタ）アクリレート）粒子、ポリスチレン粒子、架橋ポリスチレン粒子、架橋ポリ（アクリル−スチレン）粒子、メラミン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子等の樹脂粒子が好ましく挙げられる。無機微粒子としては、シリカビーズ（屈折率１．４４）、アルミナビーズ（屈折率１．６３）等が挙げられ、沈降防止や屈折率低下のために中空無機ビーズも好ましい。
これらの中で、架橋ポリスチレン粒子、架橋ポリ（（メタ）アクリレート）粒子、架橋ポリ（アクリル−スチレン）粒子が好ましく用いられ、これらの粒子の中から選ばれた各透光性微粒子の屈折率にあわせて透光性樹脂の屈折率を調整することにより、本発明の内部ヘイズ、表面ヘイズ、中心線平均粗さを達成することができる。具体的には、後述するような本発明の防眩層に好ましく用いられる３官能以上の（メタ）アクリレートモノマーを主成分とした透光性樹脂（硬化後の屈折率が１．５０〜１．５３）とアクリル含率５０〜１００質量パーセントである架橋ポリ（メタ）アクリレート重合体からなる透光性微粒子の組合せが好ましく、特に前記透光性樹脂と架橋ポリ（スチレン−アクリル）共重合体からなる透光性微粒子（屈折率が１．４８〜１．５４）との組合せが好ましい。
【００８５】
また、粒子径の異なる２種以上の透光性微粒子を併用して用いてもよい。より大きな粒子径の透光性微粒子で防眩性を付与し、より小さな粒子径の透光性微粒子で表面のザラツキ感を低減することが可能である。
【００８６】
前記透光性微粒子は、形成された光拡散層中に、層全固形分中に３〜３０質量％含有されるように配合される。より好ましくは５〜２０質量％である。３質量％未満であると、防眩性、光拡散性が不足し、３０質量％を超えると、画像ボケや表面の白濁やギラツキ等の問題が生じる。
また、透光性微粒子の塗布量は、好ましくは１０〜１０００ｍｇ／ｍ²、より好ましくは１００〜７００ｍｇ／ｍ²である。
【００８７】
本発明における透光性樹脂の屈折率は、１．４５〜１．９０であることが好ましく、より好ましくは１．４８〜１．７５である。
また、本発明においては、透光性樹脂と透光性微粒子との屈折率の差（透光性微粒子の屈折率−透光性樹脂の屈折率）は、絶対値として好ましくは０〜０．４０であり、より好ましくは０〜０．３である。この差が０．４０を超えると、フィルム文字ボケ、暗室コントラストの低下、表面の白濁等の問題が生じる。
ここで、前記透光性樹脂の屈折率は、アッベ屈折計で直接測定するか、分光反射スペクトルや分光エリプソメトリーで定量評価できる。
【００８８】
透光性微粒子の製造法は、懸濁重合法、乳化重合法、ソープフリー乳化重合法、分散重合法、シード重合法等を挙げることができ、いずれの方法で製造されてもよい。これらの製造法は、例えば「高分子合成の実験法」（大津隆行、木下雅悦共著、化学同人社）１３０頁及び１４６頁から１４７頁の記載、「合成高分子」１巻、ｐ．２４６〜２９０、同３巻、ｐ．１〜１０８等に記載の方法、及び特許第２５４３５０３号明細書、同第３５０８３０４号明細書、同第２７４６２７５号明細書、同第３５２１５６０号明細書、同第３５８０３２０号明細書、特開平１０−１５６１号公報、特開平７−２９０８号公報、特開平５−２９７５０６号公報、特開２００２−１４５９１９号公報等に記載の方法を参考にすることができる。
【００８９】
透光性微粒子の粒度分布はヘイズ値と拡散性の制御性、塗布面状の均質性から単分散性粒子が好ましい。例えば平均粒子径よりも２０％以上粒子径が大きな粒子を粗大粒子と規定した場合、この粗大粒子の割合は全粒子数の１％以下であることが好ましく、より好ましくは０．１%以下であり、更に好ましくは０．０１％以下である。このような粒度分布を持つ粒子は、調製又は合成反応後に、分級することも有力な手段であり、分級の回数を上げることやその程度を強くすることで、望ましい分布の粒子を得ることができる。
分級には風力分級法、遠心分級法、沈降分級法、濾過分級法、静電分級法等の方法を用いることが好ましい。
【００９０】
＜透光性樹脂＞
透光性樹脂は、飽和炭化水素鎖又はポリエーテル鎖を主鎖として有するバインダーポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素鎖を主鎖として有するバインダーポリマーであることが更に好ましい。また、バインダーポリマーは架橋構造を有することが好ましい。
飽和炭化水素鎖を主鎖として有するバインダーポリマーとしては、エチレン性不飽和モノマーの重合体が好ましい。飽和炭化水素鎖を主鎖として有し、かつ架橋構造を有するバインダーポリマーとしては、二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの（共）重合体が好ましい。
バインダーポリマーを高屈折率にするには、このモノマーの構造中に芳香族環や、フッ素以外のハロゲン原子、硫黄原子、リン原子、及び窒素原子から選ばれた少なくとも１種の原子を含む高屈折率モノマーや、フルオレン骨格を分子内に有するモノマー等を選択することもできる。
【００９１】
二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーとしては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル〔例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート〕、前記のエステルのエチレンオキサイド変性体やカプロラクトン変性体、ビニルベンゼン及びその誘導体〔例、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン〕、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）及びメタクリルアミドが挙げられる。前記モノマーは２種以上併用してもよい。
【００９２】
高屈折率モノマーの具体例としては、フルオレン骨格を有する（メタ）アクリレート類、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタクリロキシフェニル−４'−メトキシフェニルチオエーテル等が挙げられる。これらのモノマーも２種以上併用してもよい。
【００９３】
これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射又は加熱により行うことができる。
従って、前記光拡散層は、上述のエチレン性不飽和モノマー等の透光性樹脂形成用のモノマー、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤、透光性微粒子及び必要に応じて後述するような無機フィラーを含有する塗液を調製し、該塗液を透明支持体上に塗布後電離放射線又は熱による重合反応により硬化させることにより形成することができる。
【００９４】
光ラジカル重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。
アセトフェノン類の例には、２，２−ジメトキシアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、１−ヒドロキシ-ジメチルフェニルケトン、１−ヒドロキシ-ジメチル-p-イソプロピルフェニルケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−４−メチルチオ−２−モルフォリノプロピオフェノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン、４-フェノキシジクロロアセトフェノン、４-t-ブチル-ジクロロアセトフェノン、が含まれる。
ベンゾイン類の例には、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール、ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル及びベンゾインイソプロピルエーテルが含まれる。
ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、４-ベンゾイル-４’-メチルジフェニルサルファイド、２，４−ジクロロベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン及びｐ−クロロベンゾフェノン、４，４’-ジメチルアミノベンゾフェノン(ミヒラーケトン)、３，３’、４、４’-テトラ(t-ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノンなどが含まれる。
ホスフィンオキシド類の例には、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが含まれる。
活性エステル類の例には1、2-オクタンジオン、1-[4-(フェニルチオ)-,2-(O-ベンゾイルオキシム)]、スルホン酸エステル類、環状活性エステル化合物などが含まれる。
オニウム塩類の例には、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩が挙げられる。
ボレート塩の例にはカチオン性色素とのイオンコンプレックス類が挙げられる。
活性ハロゲン類の例にはS-トリアジンやオキサチアゾール化合物が知られており、２-(p-メトキシフェニル)-４，６-ビス(トリクロルメチル)-s-トリアジン、２-(p-メトキシフェニル)-４，６-ビス(トリクロルメチル)-s-トリアジン、２-(p-スチリルフェニル)-４，６-ビス(トリクロルメチル)-s-トリアジン、２-(３-Br-４-ジ（エチル酢酸エステル）アミノ)フェニル)-４，６-ビス(トリクロルメチル)-s-トリアジン、２-トリハロメチル-５-(p-メトキシフェニル)-１，３，４-オキサジアゾールが含まれる。
無機錯体の例にはビス(η⁵-２，４-シクロペンタジエン-1-イル)-ビス(2,6−ジフルオロ-３-(１Ｈ-ピロール-１-イル)-フェニル)チタニウムが挙げられる。
クマリン類の例には３−ケトクマリンが挙げられる。
これらの開始剤は単独でも混合して用いても良い。
「最新ＵＶ硬化技術」，（株）技術情報協会，１９９１年，ｐ．１５９にも種々の例が記載されており本発明に有用である。
市販の光開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製のイルガキュア（６５１，１８４，８１９、９０７、１８７０(CGI-403/Irg184=7/3混合開始剤、５００，３６９，１１７３，２９５９，４２６５，４２６３など)、OXE０１）等、日本化薬（株）製のKAYACURE（DETX-S，BP-100，BDMK，CTX，BMS，2-EAQ，ABQ，CPTX，EPD，ITX，QTX，BTC，MCAなど）、サートマー社製のEsacure（KIP100F，KB1，EB3，BP，X33，KT046，KT37，KIP150，TZT）等が好ましい例として挙げられる。
光重合開始剤は、多官能モノマー１００質量部に対して、０．１〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１〜１０質量部の範囲である。
光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の具体例として、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、ミヒラーケトン及びチオキサントン、などを挙げることができる。
更にアジド化合物、チオ尿素化合物、メルカプト化合物などの助剤を1種以上組み合わせて用いてもよい。
市販の光増感剤としては、日本化薬（株）製のKAYACURE（DMBI，EPA）などが挙げられる。
熱ラジカル開始剤としては、有機あるいは無機過酸化物、有機アゾ及びジアゾ化合物等を用いることができる。
具体的には、有機過酸化物として過酸化ベンゾイル、過酸化ハロゲンベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、過酸化ジブチル、クメンヒドロぺルオキシド、ブチルヒドロぺルオキシド、無機過酸化物として、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等、アゾ化合物として２，２'−アゾビス（イソブチロニトリル）、２，２'−アゾビス（プロピオニトリル）、１，１'−アゾビス（シクロヘキサンカルボニトリル）等、ジアゾ化合物としてジアゾアミノベンゼン、ｐ−ニトロベンゼンジアゾニウム等が挙げられる。
【００９５】
ポリエーテルを主鎖として有するポリマーは、多官能エポシキシ化合物の開環重合体が好ましい。多官能エポシキシ化合物の開環重合は、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤の存在下、電離放射線の照射又は加熱により行うことができる。
従って、多官能エポシキシ化合物、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤、透光性微粒子及び無機フィラーを含有する塗液を調製し、該塗液を透明支持体上に塗布後電離放射線又は熱による重合反応により硬化して光拡散層を形成することができる。
【００９６】
二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりに又はそれに加えて、架橋性官能基を有するモノマーを用いてポリマー中に架橋性官能基を導入し、この架橋性官能基の反応により、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。
架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基及び活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステル及びウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。すなわち、本発明において架橋性官能基は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解した結果反応性を示すものであってもよい。
これら架橋性官能基を有するバインダーポリマーは塗布後、加熱することによって架橋構造を形成することができる。
【００９７】
光拡散層には、膜強度を増加したり、硬化収縮を小さくしてカールを小さくしたり、内部散乱を減らしたい場合には内部散乱に起因するヘイズ値を低減するために、前記の透光性微粒子に加えて、ケイ素、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物からなる無機微粒子を含有することが好ましい。特にＡＴＯ、ＩＴＯ、アンチモン酸亜鉛、五酸化アンチモン等の導電性無機微粒子を用いることが帯電防止性をも合わせて付与できる点で望ましい。無機微粒子を分散した後の実質的に用いる粒子の平均粒径としては、０．３μm〜０．０２μmが好ましく、０．２μm〜０．０２μmがより好ましく、０．１μm〜０．０２μmが更に好ましい。無機微粒子の一次粒子の好ましい平均粒径は０．２μm以下、より好ましくは０．１μm以下、更に好ましくは０．０５μm以下である。これらの無機微粒子は、一般的に比重が有機物よりも高く、塗布組成物の密度を高くできるため、透光性微粒子の沈降速度を遅くする効果もある。
光拡散層に用いられる無機微粒子は表面をシランカップリング処理又はチタンカップリング処理されることも好ましく、フィラー表面にバインダー種と反応できる官能基を有する表面処理剤が好ましく用いられる。
これらの無機微粒子を用いる場合、その添加量は、防眩層の全質量の１０〜９０％であることが好ましく、より好ましくは２０〜８０％であり、特に好ましくは３０〜７５％である。
なお、このような無機微粒子は、粒径が光の波長よりも十分小さいために散乱が生じず、バインダーポリマーに該微粒子が分散した分散体は光学的に均一な物質としての性質をもつ。
また、光拡散層にオルガノシラン化合物を用いることができる。オルガノシラン化合物の添加量は、含有層（添加層）の全固形分の０．００１〜５０質量％が好ましく、０．０１〜２０質量％がより好ましく、０．０５〜１０質量％が更に好ましく、０．１〜５質量％が特に好ましい。
【００９８】
＜アルキレンオキシド類を付加した多官能アクリレート系化合物＞
光拡散層にはカールを低減するために、アルキレンオキシド類を付加した多官能アクリレート系化合物を含有することが好ましい。本発明で述べるアクリレート系化合物とは、アクリロイル基を有するアクリレートモノマーと、メタアクリロイル基を有するメタアクリレートモノマーを指す。
本発明に係るアルキレンオキシド類には、エチレンオキシド、プロピレンオキシト゛、これらより炭素数の大きいアルキレンオキシド、及び変性アルキレンオキシド類を含む。本発明では、エチレンオキシドを「ＥＯ」、プロピレンオキシト゛を「ＰＯ」、炭素数がそれより大きいアルキレンオキシドを「ＡＯ」、また、カプロラクトンのような、カルボニル基等の官能基を含む「ＡＯ」と見ることもできるアルキレンオキシドを広義に「変性ＡＯ」と称する。更に、ＥＯ、ＰＯ、ＡＯ、変性ＡＯのくり返し数を「ｎ」で表示する。
【００９９】
オキシドを付加した多官能アクリレート系モノマーにおいて、ＥＯ、ＰＯ、ＡＯ、変性ＡＯのｎ数としては、ｎ＝１〜１５が好ましくｎ＝１〜１０がより好ましく、ｎ＝１〜６が更に好ましく、ｎ＝１〜３が特に好ましい（この時のｎは平均値で表す。）また、アルキレンオキシド類が化合物１分子中の複数の部位に付加される場合には、その数は１〜６箇所が好ましく、３〜６がより好ましい。
具体的に以下のモノマー類があげられるがこれらによって限定されるものではない。
【０１００】
Ａ−１ ＥＯ付加トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート（ｎ＝１）
Ａ−２ ＥＯ付加トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート（ｎ＝１．５）
Ａ−３ ＥＯ付加トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート（ｎ＝２）
Ａ−４ ＥＯ付加トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート（ｎ＝６）
Ａ−５ ＰＯ付加トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート（ｎ＝１）
Ａ−６ ＰＯ付加トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート（ｎ＝２）
Ａ−７ ＥＯ付加グリセリントリ（メタ）アクリレート（ｎ＝２）
Ａ−８ ＰＯ付加グリセリントリ（メタ）アクリレート（ｎ＝２）
Ａ−９ ＥＯ付加ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート（ｎ＝２）
Ａ−１０ ＰＯ付加ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート（ｎ＝２）
Ａ−１１ ＥＯ付加ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート（ｎ＝２）
Ａ−１２ ＰＯ付加ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート（ｎ＝２）
Ａ−１３ ＥＯ付加ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート（ｎ＝１．５）
Ａ−１４ ＥＯ付加ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（ｎ＝１）
Ａ−１５ ＰＯ付加ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート（ｎ＝１．５）
Ａ−１６ ＰＯ付加ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（ｎ＝１）
Ａ−１７ トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート
Ａ−１８ ＡＯ付加ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（ｎ＝１）
Ａ−１９ 変性ＡＯ付加ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（ｎ＝１）
Ａ−２０ 変性ＡＯ付加ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（ｎ＝２）
【０１０１】
これらの化合物類は併用して用いられてもよい。
前記具体例の中で、Ａ−１、Ａ−２、Ａ−１０、Ａ−１９が特に好ましい。
アルキレンオキシド類を付加した多官能アクリレート系化合物は塗布組成物中の透光性樹脂を形成するための全化合物に対して、３質量％〜８０質量％用いるのが好ましく、５質量％〜６０質量％がより好ましく、７質量％〜４０質量％が更に好ましい。透光性樹脂を形成するためのこの他の化合物類としては、前記エチレン性不飽和基を有するモノマー類や、光拡散層用塗布溶媒に溶解するポリマー類が挙げられる。
【０１０２】
＜防眩層用界面活性剤＞
本発明の光拡散層は、特に塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状均一性を確保するために、フッ素系、シリコーン系の何れかの界面活性剤、あるいはその両者を光拡散層形成用の塗布組成物中に含有することが好ましい。特にフッ素系の界面活性剤は、より少ない添加量において、本発明の反射防止フィルムの塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状故障を改良する効果が現れるため、好ましく用いられる。
面状均一性を高めつつ、高速塗布適性を持たせることにより生産性を高めることが目的である。
【０１０３】
フッ素系の界面活性剤の好ましい例としては、フルオロ脂肪族基含有共重合体（「フッ素系ポリマー」と略記することもある）が挙げられ、該フッ素系ポリマーは、下記（ｉ）のモノマーに相当する繰り返し単位を含むことを特徴とする、あるいは下記（ii）のモノマーに相当する繰り返し単位を含むことを特徴とするアクリル樹脂、メタアクリル樹脂、及びこれらに共重合可能なビニル系モノマーとの共重合体が有用である。
【０１０４】
（ｉ）下記一般式イで表されるフルオロ脂肪族基含有モノマー
【０１０５】
一般式イ
【化２０】

【０１０６】
一般式イにおいてＲ¹¹は水素原子又はメチル基を表し、Ｘは酸素原子、イオウ原子又は−Ｎ（Ｒ¹²）−を表し、ｍは１以上６以下の整数、ｎは２〜４の整数を表す。Ｒ¹²は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基を表し、好ましくは水素原子又はメチル基である。Ｘは酸素原子が好ましい。
【０１０７】
（ii）前記（ｉ）と共重合可能な下記一般式ロで示されるモノマー
【０１０８】
一般式ロ
【化２１】

【０１０９】
一般式ロにおいて、Ｒ¹³は水素原子又はメチル基を表し、Ｙは酸素原子、イオウ原子又は−Ｎ（Ｒ¹⁵）−を表し、Ｒ¹⁵は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基を表し、好ましくは水素原子又はメチル基である。Ｙは酸素原子、−Ｎ（Ｈ）−、及び−Ｎ（ＣＨ₃）−が好ましい。
Ｒ¹⁴は置換基を有しても良い炭素数４以上２０以下の直鎖、分岐又は環状のアルキル基を表す。Ｒ¹⁴のアルキル基の置換基としては、水酸基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、カルボキシル基、アルキルエーテル基、アリールエーテル基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基等があげられるがこの限りではない。炭素数４以上２０以下の直鎖、分岐又は環状のアルキル基としては、直鎖及び分岐してもよいブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、オクタデシル基、エイコサニル基等、また、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等の単環シクロアルキル基及びビシクロヘプチル基、ビシクロデシル基、トリシクロウンデシル基、テトラシクロドデシル基、アダマンチル基、ノルボルニル基、テトラシクロデシル基、等の多環シクロアルキル基が好適に用いられる。
【０１１０】
本発明で用いられるフッ素系ポリマー中に用いられるこれらの一般式イで示されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの量は、該フッ素系ポリマーの各単量体に基づいて１０モル％以上であり、好ましくは１５〜７０モル％であり、より好ましくは２０〜６０モル％の範囲である。
【０１１１】
本発明で用いられるフッ素系ポリマーの好ましい質量平均分子量は、３０００〜１００，０００が好ましく、５，０００〜８０，０００がより好ましい。
更に、本発明で用いられるフッ素系ポリマーの好ましい添加量は、塗布液に対して０．００１〜５質量％の範囲であり、好ましくは０．００５〜３質量％の範囲であり、更に好ましくは０．０１〜１質量％の範囲である。フッ素系ポリマーの添加量が０．００１質量％未満では効果が不十分であり、また５質量％より多くなると、塗膜の乾燥が十分に行われなくなったり、塗膜としての性能（例えば反射率、耐擦傷性）に悪影響を及ぼす。
【０１１２】
以下、一般式イで表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーからなるフッ素系ポリマーの具体的な構造の例を示すがこの限りではない。なお式中の数字は各モノマー成分のモル比率を示す。Ｍｗは質量平均分子量を表す。
【０１１３】
【化２２】

【０１１４】
【化２３】

【０１１５】
光拡散層の表面エネルギーは、好ましくは２０ｍＮ・ｍ^-1〜５０ｍＮ・ｍ^-1、より好ましくは３０ｍＮ・ｍ^-1〜４０ｍＮ・ｍ^-1に制御することが効果的である。前記のような表面エネルギーを実現するためには、Ｘ線光電子分光法で測定したフッ素原子由来のピークと炭素原子由来のピークの比であるＦ／Ｃが０．１〜１．５であることが必要である。
【０１１６】
上層を塗布する時には上層を形成する溶媒に抽出されるようなフッ素系ポリマーを選択することが好ましく、このような素材の例は下記一般式ハで表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーに相当する繰り返し単位を含むことを特徴とするアクリル樹脂、メタアクリル樹脂、及びこれらに共重合可能なビニル系モノマーとの共重合体である。
【０１１７】
（iii）下記一般式ハで表されるフルオロ脂肪族基含有モノマー
【０１１８】
一般式ハ
【化２４】

【０１１９】
一般式ハにおいてＲ²¹は水素原子又はハロゲン原子又はメチル基を表し、水素原子、メチル基がより好ましい。Ｘ²は酸素原子、イオウ原子又は−Ｎ（Ｒ²²）−を表し、酸素原子又は−Ｎ(Ｒ²²)−がより好ましく、酸素原子が更に好ましい。ｍは１以上６以下の整数（１〜３がより好ましく、１であることが更に好ましい。）、ｎは１以上１８以下の整数（４〜１２がより好ましく、６〜８が更に好ましい。）を表す。Ｒ²²は水素原子又は置換基を有しても良い炭素数１〜８のアルキル基を表し、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基がより好ましく、水素原子又はメチル基が更に好ましい。Ｘは酸素原子が好ましい。
またフッ素系ポリマー中に一般式ハで表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーが２種類以上構成成分として含まれていても良い。
【０１２０】
（iv）前記（iii）と共重合可能な下記一般式ニで示されるモノマー
【０１２１】
一般式ニ
【化２５】

【０１２２】
一般式ニにおいて、Ｒ²³は水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表し、水素原子、メチル基がより好ましい。Ｙ²は酸素原子、イオウ原子又は−Ｎ（Ｒ²⁵）−を表し、酸素原子又は−Ｎ（Ｒ²⁵）−がより好ましく、酸素原子が更に好ましい。Ｒ²⁵は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基がより好ましい。
Ｒ²⁴は置換基を有しても良い炭素数１〜２０の直鎖、分岐又は環状のアルキル基、ポリ（アルキレンオキシ）基を含むアルキル基、置換基を有していても良い芳香族基（例えば、フェニル基又はナフチル基）を表す。炭素数１〜１２の直鎖、分岐、又は環状のアルキル基、又は総炭素数６〜１８の芳香族が好ましい。
【０１２３】
以下、一般式ハで表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーに相当する繰り返し単位を含むフッ素系ポリマーの具体的な構造の例を示すがこの限りではない。なお、式中の数字は各モノマー成分のモル比率を示す。Ｍｗは質量平均分子量を表す。
【０１２４】
【化２６】

【０１２５】
【化２７】

【０１２６】
【化２８】

【０１２７】
【化２９】

【０１２８】
【化３０】

【０１２９】
また光拡散層上に低屈折率層をオーバーコートする時点で表面エネルギーの低下を防げば、反射防止性能の悪化が防げる。光拡散層塗布後にコロナ処理、ＵＶ処理、熱処理、鹸化処理、溶剤処理等を用いて表面自由エネルギーの低下を防ぐことにより、低屈折率層塗布前の光拡散層の表面エネルギーを前記範囲に制御することができる。
【０１３０】
また、本発明の光拡散層を形成する為の塗布組成物中に、チクソトロピー剤を添加しても良い。チクソトロピー剤としては、０．１μｍ以下のシリカ、マイカ等があげられる。これら添加剤の含有量は、通常、紫外線硬化型樹脂１００質量部に対して、１〜１０質量部程度とするのが好適である。
【０１３１】
本発明に係る光拡散層に用いる溶媒は、支持体にトリアセチルセルロースを用いる場合には、主溶媒として各種ケトン（メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、各種セロソルブ（エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル等）が好ましく用いられる。また、上記の中から選択した主溶媒に対して、水酸基を有する少量溶媒を添加することにより、防眩性が調整でき、特に好ましい。水酸基を有する少量溶媒は、蒸気圧が前記主溶媒に対して低いことが好ましい。例えば、主溶媒であるメチルイソブチルケトンに対して水酸基を有する少量溶媒としてプロピレングリコール、エチレングリコールなどの組み合わせが好ましい一例として挙げられる。主溶媒と水酸基を有する少量溶媒の混合比は、質量比で９９：１〜５０：５０が好ましく、９５：５〜７０：３０がより好ましい。５０：５０を超えると、塗布液の安定性や、塗布後の乾燥工程における面質のバラツキが大きくなり、好ましくない。
＜ハードコート層＞
本発明の光学機能フィルムには、物理強度を付与するためにハードコート層を設けることができる。特に、透明支持体と最外層の間に設けることが好ましい。
ハードコート層は、電離放射線硬化性化合物の架橋又は重合反応により形成されることが好ましい。電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましい。
光重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
【０１３２】
光重合性官能基を有する光重合性多官能モノマーの具体例としては、光拡散層で例示したものが挙げられ、光重合開始剤、光増感剤を用いて重合することが好ましい。ハードコート層の膜厚は、１〜１０μｍが好ましく、より好ましくは２〜７μｍ、特に好ましくは３〜５μｍである。
ハードコート層の強度は、ＪＩＳ Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることが更に好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。また、ＪＩＳ Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
【０１３３】
ハードコート層には樹脂、分散剤、界面活性剤、帯電防止剤、シランカップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤（顔料、染料）、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤、などを添加することもできる。また、ハードコート層の硬度を高くする、硬化収縮を抑える、屈折率を制御するなどの目的で、前記光拡散層で例示した平均粒径が０．２μm以下の無機微粒子を添加することができる。
更には、防眩機能、光拡散機能、液晶表示装置の視野角拡大機能を付与する目的で前記光拡散層で例示した平均粒径０．５〜１０μmの粒子を含有することもできる。
【０１３４】
＜帯電防止層＞
本発明の光学機能フィルムは表面に塵埃（埃など）が付着するのを防止するために帯電防止層を用いることが好ましい。防塵性は、表面の表面抵抗値を下げることで発現される。表面抵抗値は、１×１０¹³Ω／□以下であることが好ましく、１×１０¹²Ω／□以下であることがより好ましく、１×１０¹⁰Ω／□以下であることが更に好ましい。
帯電防止層は、光拡散層と低屈折率層の間、又は透明支持体と光拡散層の間に設けることが好ましく、特に後者の態様が好ましい。
帯電防止層は導電材（電子伝導型の導電性粒子、イオン伝導型の有機化合物など）を結着剤（バインダーなど）に含有させた塗布液を塗布して形成することが好ましい。特に、電子伝導型の導電材のほうが、環境の変化を受け難くので好ましい。
【０１３５】
帯電防止層に用いられる好ましい導電材としては、酸化錫、アンチモンをドープした酸化錫（ＡＴＯ）、酸化インジウム、スズをドープした酸化インジウム（ＩＴＯ）、酸化亜鉛、アルミニウムをドープした酸化亜鉛、アンチモン酸亜鉛、五酸化アンチモンなどが挙げられる。
導電材の一次粒子の質量平均粒径は１〜２００ｎｍであることが好ましく、より好ましくは１〜１００ｎｍである。導電材の比表面積は、１０〜４００ｍ²／ｇであることが好ましく、２０〜２００ｍ²／ｇであることが更に好ましい。
【０１３６】
導電材の分散においては、分散剤の存在下で、分散媒体中に分散することが好ましい。分散は、例えばカルボキシル基、スルホン酸基（スルホ基）、リン酸基（ホスホノ基）、スルホンアミド基等の酸性プロトンを有するアニオン性基を有する分散剤を用いることができる。アニオン性の極性基を有する分散剤としては、ホスファノール（PE−510、PE−610、LB−400、EC−6103、RE−410など；東邦化学工業（株）製）、Disperbyk（−110、−111、−116、−140、−161、−162、−163、−164、−164、−170、−171など；ビックケミー・ジャパン社製）などが挙げられる。分散剤は、更に架橋又は重合性の官能基を含有することが好ましい。
【０１３７】
分散媒体は、沸点が６０〜１７０℃の液体を用いることが好ましい。中でも、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ブタノール、プロパノ−ル、セロソルブ類（例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテル等）が好ましい。
導電材は、サンドグラインダーミル（例、ピン付きビーズミル）、ダイノミル、高速インペラーミル、アイガーミル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライター及びコロイドミル、ペイントシェーカーなどのメディア型分散機を用いて分散することが好ましい。
導電材は、分散媒体中でなるべく微細化されていることが好ましく、分散後の平均粒径は１〜２００ｎｍが好ましい。
【０１３８】
本発明の帯電防止層のバインダー前駆体としては、前記光拡散層等に記載の（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーなどが好ましい。
帯電防止層の形成は、４体積％以下の雰囲気で電離放射線硬化性化合物の架橋又は重合反応により形成することが好ましい。
帯電防止層の膜厚は用途により適切に設計することができ、透明性を優先して帯電防止層を形成する場合、膜厚は１μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは５００ｎｍ以下、更に好ましくは２００ｎｍ以下、特に好ましくは１５０ｎｍ以下である。
また、帯電防止層がハードコート処理されハードコート層を兼ねる場合、１μm〜３μｍが好ましく、より好ましくは１μm〜２μｍである。
【０１３９】
帯電防止層には、前記の成分（導電材、重合開始剤、光増感剤、バインダーなど）以外に、樹脂、界面活性剤、カップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤（顔料、染料）、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤、などを添加することもできる。
【０１４０】
＜低屈折率層＞
本発明の光学機能フィルムにおける低屈折率層の屈折率は、１．３０〜１．５５であり、好ましくは１．３５〜１．４５の範囲である。屈折率が１．３０未満であると、反射防止性能は向上するが、膜の機械強度が低下し、１．５５を超えると、反射防止性能が著しく悪化してしまう。
更に、低屈折率層は下記数式（Ｉ）を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
数式（Ｉ）
（ｍ／４）×０．７＜ｎ１×ｄ１＜（ｍ／４）×１．３
式中、ｍは正の奇数であり、ｎ１は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ１は低屈折率層の膜厚（ｎｍ）である。また、λは波長であり、５００〜５５０ｎｍの範囲の値である。
なお、前記数式（Ｉ）を満たすとは、前記波長の範囲において数式（Ｉ）を満たすｍ（正の奇数、通常１である）が存在することを意味している。
【０１４１】
低屈折率層としては、熱又は電離放射線により架橋する含フッ素樹脂（以下、「架橋前の含フッ素樹脂」ともいう）の架橋からなる低屈折率層(態様１)、ゾルゲル法による低屈折率層(態様２)、及び粒子とバインダーポリマーを用い、粒子間又は粒子内部に空隙を有する低屈折率層(態様３)等が用いられる。
熱又は電離放射線により架橋する含フッ素樹脂（以下、「架橋前の含フッ素樹脂」ともいう）の架橋からなる低屈折率層(態様１)を形成する素材について以下に説明する。
低屈折率層は、例えば含フッ素ポリマーを主成分とする硬化性組成物を塗布、乾燥、硬化して形成される硬化膜である。
＜低屈折率層用含フッ素ポリマー＞
前記含フッ素ポリマーは、硬化被膜にした場合の被膜の動摩擦係数が０．０３〜０．２０、水に対する接触角が９０〜１２０°、純水の滑落角が７０°以下であり、熱又は電離放射線により架橋するポリマーであるのが、ロールフィルムをウェブ搬送しながら塗布、硬化する場合などにおいて生産性向上の点で好ましい。
また、本発明の光学機能フィルムを画像表示装置に装着した時、市販の接着テープとの剥離力が低いほどシールやメモを貼り付けた後に剥がれ易くなるので、剥離力は、５００ｇｆ以下が好ましく、３００ｇｆ以下がより好ましく、１００ｇｆ以下が最も好ましい。また、微小硬度計で測定した表面硬度が高いほど、傷がつき難いので、該表面硬度が、０．３ＧＰａ以上が好ましく、０．５ＧＰａ以上がより好ましい。
【０１４２】
低屈折率層に用いられる含フッ素ポリマーは、フッ素原子を３５〜８０質量％の範囲で含有し、かつ架橋性若しくは重合性の官能基を含む含フッ素ポリマーであり、例えば、パーフルオロアルキル基含有シラン化合物〔例えば（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロデシル）トリエトキシシラン〕の加水分解物や脱水縮合物の他、含フッ素モノマー単位と架橋反応性単位とを構成単位とする含フッ素共重合体が挙げられる。含フッ素共重合体の場合、主鎖は、炭素原子のみからなるのが好ましい。すなわち、主鎖骨格に酸素原子や窒素原子などを有しないのが好ましい。
【０１４３】
前記含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、パーフルオロオクチルエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分又は完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等）、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。
【０１４４】
前記架橋反応性単位としては、グリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルビニルエーテルのように分子内にあらかじめ自己架橋性官能基を有するモノマーの重合によって得られる構成単位；カルボキシル基やヒドロキシ基、アミノ基、スルホ基等を有するモノマー〔例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、マレイン酸、クロトン酸等〕の重合によって得られる構成単位に高分子反応によって（メタ）アクリルロイル基等の架橋反応性基を導入した構成単位（例えばヒドロキシ基に対してアクリル酸クロリドを作用させる等の手法で導入できる）が挙げられる。
【０１４５】
また、前記含フッ素モノマー単位及び前記架橋反応性単位以外に溶剤への溶解性、皮膜の透明性等の観点から、適宜フッ素原子を含有しないモノマーを共重合させて、他の重合単位を導入することもできる。併用可能なモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類〔エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等〕、アクリル酸エステル類〔アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル〕、メタクリル酸エステル類〔メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等〕、スチレン誘導体〔スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等〕、ビニルエーテル類〔メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル等〕、ビニルエステル類〔酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等〕、アクリルアミド類〔Ｎ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等〕、メタクリルアミド類、アクリロ二トリル誘導体等を挙げることができる。
【０１４６】
前記含フッ素ポリマーに対しては特開平１０−２５３８８号及び特開平１０−１４７７３９号各公報に記載のごとく適宜硬化剤を併用しても良い。
【０１４７】
本発明で特に有用な含フッ素ポリマーは、パーフルオロオレフィンとビニルエーテル類又はビニルエステル類とのランダム共重合体である。特に単独で架橋反応可能な基〔（メタ）アクリロイル基等のラジカル反応性基、エポキシ基、オキセタニル基等の開環重合性基等〕を有していることが好ましい。
これらの架橋反応性基含有重合単位はポリマーの全重合単位の５〜７０ｍｏｌ％を占めていることが好ましく、特に好ましくは３０〜６０ｍｏｌ％を占めていることである。
【０１４８】
本発明に用いられる低屈折率層用含フッ素ポリマーの好ましい形態として一般式１で表される共重合体が挙げられる。
【０１４９】
【化３１】

【０１５０】
一般式１中、Ｌは炭素数１〜１０の連結基を表し、より好ましくは炭素数１〜６の連結基であり、特に好ましくは２〜４の連結基であり、直鎖であっても分岐構造を有していてもよく、環構造を有していてもよく、Ｏ、Ｎ及びＳから選ばれるヘテロ原子を有していても良い。
好ましい例としては、*−（ＣＨ₂）₂−Ｏ−**， *−（ＣＨ₂）₂−ＮＨ−**， *−（ＣＨ₂）₄−Ｏ−**， *−（ＣＨ₂）₆−Ｏ−**， *−（ＣＨ₂）₂−Ｏ−（ＣＨ₂）₂−Ｏ−**， *−ＣＯＮＨ−（ＣＨ₂）₃−Ｏ−**， *−ＣＨ₂ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ₂−Ｏ−**， *−ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＯＮＨ（ＣＨ₂）₃−Ｏ−**（* はポリマー主鎖側の連結部位を表し、**は（メタ）アクリロイル基側の連結部位を表す。）等が挙げられる。ｍは０又は１を表わす。
【０１５１】
一般式１中、Ｘは水素原子又はメチル基を表す。硬化反応性の観点から、より好ましくは水素原子である。
一般式１中、Ａは任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を表わし、ヘキサフルオロプロピレンと共重合可能な単量体の構成成分であれば特に制限はなく、基材への密着性、ポリマーのＴｇ（皮膜硬度に寄与する）、溶剤への溶解性、透明性、滑り性、防塵・防汚性等種々の観点から適宜選択することができ、目的に応じて単一あるいは複数のビニルモノマーによって構成されていても良い。
【０１５２】
好ましい例としては、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ｔ−ブチルビニルエーテル、シクロへキシルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、グリシジルビニルエーテル、アリルビニルエーテル等のビニルエーテル類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジルメタアクリレート、アリル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン等の（メタ）アクリレート類、スチレン、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン等のスチレン誘導体、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸及びその誘導体等を挙げることができるが、より好ましくはビニルエーテル誘導体、ビニルエステル誘導体であり、特に好ましくはビニルエーテル誘導体である。
【０１５３】
ｘ、ｙ、ｚはそれぞれの構成成分のモル％を表わし、３０≦ｘ≦６０、５≦ｙ≦７０、０≦ｚ≦６５が好ましく、更に好ましくは、３５≦ｘ≦５５、３０≦ｙ≦６０、０≦ｚ≦２０の場合であり、特に好ましくは４０≦ｘ≦５５、４０≦ｙ≦５５、０≦ｚ≦１０の場合である。ただし、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１００である。
本発明に用いられる共重合体の特に好ましい形態として一般式２が挙げられる。
【０１５４】
【化３２】

【０１５５】
一般式２においてＸは一般式１と同じ意味を表わし、好ましい範囲も同じである。
ｎは２≦ｎ≦１０の整数を表わし、２≦ｎ≦６であることが好ましく、２≦ｎ≦４であることが特に好ましい。
Ｂは任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を単位を表わし、単一組成であっても複数の組成によって構成されていても良い。例としては、前記一般式１におけるＡの例として説明したものが当てはまる。
ｘ、ｙ、ｚ１及びｚ２はそれぞれの繰返し単位のｍｏｌ％を表わし、ｘ及びｙは、それぞれ３０≦ｘ≦６０、５≦ｙ≦７０を満たすのが好ましく、更に好ましくは、３５≦ｘ≦５５、３０≦ｙ≦６０の場合であり、特に好ましくは４０≦ｘ≦５５、４０≦ｙ≦５５の場合である。ｚ１及びｚ２については、０≦ｚ１≦６５、０≦ｚ２≦６５を満たすのが好ましく、更に好ましくは０≦ｚ１≦３０、０≦ｚ２≦１０であることが好ましく、０≦ｚ１≦１０、０≦ｚ２≦５であることが特に好ましい。ただし、ｘ＋ｙ＋ｚ１＋ｚ２＝１００である。
一般式１又は２で表わされる共重合体は、例えば、ヘキサフルオロプロピレン成分とヒドロキシアルキルビニルエーテル成分とを含んでなる共重合体に前記のいずれかの手法により（メタ）アクリロイル基を導入することにより合成できる。この際用いられる再沈殿溶媒としては、イソプロパノール、ヘキサン、メタノール等が好ましい。
一般式１又は２で表わされる共重合体の好ましい具体例としては、特開２００４−４５４６２号公報の［００３５］〜［００４７］に記載されたものを挙げることができ、該公報に記載の方法により合成することができる。
【０１５６】
低屈折率層用硬化組成物には、（Ａ）前記含フッ素ポリマー、（Ｂ）無機微粒子、（Ｃ）後述するオルガノシラン化合物を含有してなるのが好ましい。
＜低屈折率層用無機微粒子＞
低屈折率層として、無機若しくは有機の微粒子を用い、微粒子間又は微粒子内のミクロボイドとして形成した層を用いることも好ましい。微粒子の平均粒径は、０．５〜２００ｍｍであることが好ましく、１〜１００ｎｍであることがより好ましく、３〜７０ｎｍであることが更に好ましく、５〜４０ｎｍの範囲であることが最も好ましい。微粒子の粒径は、なるべく均一（単分散）であることが好ましい。
【０１５７】
無機微粒子としては、非晶質であることが好ましい。無機微粒子は、金属の酸化物、窒化物、硫化物又はハロゲン化物からなることが好ましく、金属酸化物又は金属ハロゲン化物からなることが更に好ましく、金属酸化物又は金属フッ化物からなることが最も好ましい。金属原子としては、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｗ、Ｙ、Ｓｂ、Ｍｎ、Ｇａ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ａｇ、Ｓｉ、Ｂ、Ｂｉ、Ｍｏ、Ｃｅ、Ｃｄ、Ｂｅ、Ｐｂ及びＮｉが好ましく、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂ及びＳｉが更に好ましい。二種類の金属を含む無機化合物を用いてもよい。特に好ましい無機化合物は、二酸化ケイ素、すなわちシリカである。
【０１５８】
無機微粒子内ミクロボイドは、例えば、粒子を形成するシリカの分子を架橋させることにより形成することができる。シリカの分子を架橋させると体積が縮小し、粒子が多孔質になる。ミクロボイドを有する（多孔質）無機微粒子は、ゾル−ゲル法（特開昭５３−１１２７３２号、特公昭５７−９０５１号の各公報記載）又は析出法（APPLIED OPTICS、27、3356頁（1988）記載）により、分散物として直接合成することができる。
また、乾燥・沈澱法で得られた粉体を、機械的に粉砕して分散物を得ることもできる。市販の多孔質無機微粒子（例えば、二酸化ケイ素ゾル）を用いてもよい。ミクロボイドを有する無機微粒子は、低屈折率層の形成のため、適当な媒体に分散した状態で使用することが好ましい。分散媒としては、水、アルコール（例、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール）及びケトン（例、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン）が好ましい。
粒子間のミクロボイドは、微粒子を少なくとも２個以上積み重ねることにより形成することができる。
【０１５９】
低屈折率層は、５〜５０質量％の量のポリマーを含むことが好ましい。ポリマーは、微粒子を接着し、空隙を含む低屈折率層の構造を維持する機能を有する。ポリマーの使用量は、空隙を充填することなく低屈折率層の強度を維持できるように調整する。
【０１６０】
微粒子（特に無機微粒子）には、表面処理を実施して、ポリマーとの親和性を改善することが好ましい。表面処理は、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理と、カップリング剤を使用する化学的表面処理に分類できる。化学的表面処理のみ、又は物理的表面処理と化学的表面処理の組合せで実施することが好ましい。カップリング剤としては、オルガノアルコキシメタル化合物（例、チタンカップリング剤、シランカップリング剤）が好ましく用いられる。微粒子が二酸化ケイ素からなる場合は、シランカップリング剤による表面処理が特に有効に実施できる。カップリング剤による表面処理は、微粒子の分散物 に、カップリング剤を加え、室温から６０℃までの温度で、数時間から１０日間分散物を放置することにより実施できる。表面処理反応を促進するため、無機酸、有機酸、又はこれらの塩（例、金属塩、アンモニウム塩）を、分散物に添加してもよい。
【０１６１】
シェルを形成するポリマーは、飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーであることが好ましい。フッ素原子を主鎖又は側鎖に含むポリマーが好ましく、フッ素原子を側鎖に含むポリマーが更に好ましい。ポリアクリル酸エステル又はポリメタクリル酸エステルが好ましく、フッ素置換アルコールとポリアクリル酸又はポリメタクリル酸とのエステルが最も好ましい。
【０１６２】
無機微粒子の配合量は、１ｍｇ／ｍ²〜１００ｍｇ／ｍ²が好ましく、より好ましくは５ｍｇ／ｍ²〜８０ｍｇ／ｍ²、更に好ましくは１０ｍｇ／ｍ²〜６０ｍｇ／ｍ²である。少なすぎると、耐擦傷性の改良効果が減り、多すぎると、低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりなどが悪化する場合がある。
無機微粒子の平均粒径は、低屈折率層の厚みの３０％以上１００％以下が好ましく、より好ましくは３５％以上８０％以下、更に好ましくは４０％以上６０％以下である。
無機微粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでも良く、また単分散粒子でも、所定の粒径を満たすならば凝集粒子でも構わない。形状は、球径が最も好ましいが、不定形であっても問題無い。
無機微粒子の平均粒径はコールターカウンターにより測定される。
【０１６３】
低屈折率層の屈折率上昇をより一層少なくするために、前記無機微粒子は、中空構造であるのが好ましく、また、無機微粒子の屈折率は１．１７〜１．４０、より好ましくは１．１７〜１．３５、更に好ましくは１．１７〜１．３０である。ここでの屈折率はシェルのみではなく中空を有する粒子全体としての屈折率を表す。この時、粒子内の空腔の半径をａ、粒子外殻の半径をｂとすると、下記数式（II）で表される空隙率ｘは
（数式II）
ｘ＝（４πａ³／３）／（４πｂ³／３）×１００
好ましくは１０〜６０％、更に好ましくは２０〜６０％、最も好ましくは３０〜６０％である。
無機微粒子の屈折率はアッベ屈折率計（アタゴ（株）製）にて測定を行い測定した。
【０１６４】
また、平均粒径が低屈折率層の厚みの２５％未満である無機微粒子（以下「小サイズ無機微粒子」と称す）の少なくとも１種を前記の好ましい範囲内の粒径の無機微粒子（以下「大サイズ無機微粒子」と称す）と併用してもよい。
小サイズ無機微粒子は、大サイズ無機微粒子同士の隙間に存在することができるため、大サイズ無機微粒子の保持剤として寄与することができる。
小サイズ無機微粒子の平均粒径は、低屈折率層が１００ｎｍの場合、１ｎｍ以上２０ｎｍ以下が好ましく、５ｎｍ以上１５ｎｍ以下が更に好ましく、１０ｎｍ以上１５ｎｍ以下が特に好ましい。このような無機微粒子を用いると、原料コスト及び保持剤効果の点で好ましい。
上述のように前記無機微粒子としては、平均粒径が上述のように低屈折率層の厚みの３０〜１００％であり、中空構造からなり、屈折率が上述のように１．１７〜１．４０であるものが特に好ましく用いられる。
【０１６５】
無機微粒子は、分散液中あるいは塗布液中で、分散安定化を図るために、あるいはバインダー成分との親和性、結合性を高めるために、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理、界面活性剤やカップリング剤等による化学的表面処理がなされていても良い。中でもカップリング剤の使用が特に好ましい。カップリング剤としては、アルコキシメタル化合物（例、チタンカップリング剤、シランカップリング剤）が好ましく用いられる。なかでも、シランカップリング処理が特に有効である。
前記カップリング剤は、低屈折率層の無機微粒子の表面処理剤として該層塗布液調製以前にあらかじめ表面処理を施すために用いられるが、該層塗布液調製時に更に添加剤として添加して該層に含有させることが好ましい。
無機微粒子は、表面処理前に、媒体中に予め分散されていることが、表面処理の負荷軽減のために好ましい。
【０１６６】
本発明に係る低屈折率層に含有する有機微粒子も、非晶質であることが好ましい。有機微粒子は、モノマーの重合反応（例えば乳化重合法）により合成されるポリマー微粒子であることが好ましい。有機微粒子のポリマーはフッ素原子を含むことが好ましい。ポリマー中のフッ素原子の割合は、３５〜８０質量％であることが好ましく、４５〜７５質量％であることが更に好ましい。また、有機微粒子内に、例えば、粒子を形成するポリマーを架橋させ、体積を縮小させることによりミクロボイドを形成させることも好ましい。
有機微粒子の合成に用いられるモノマーとしては、含フッ素ポリマーを合成するために用いるフッ素原子を含む。モノマーの例として、フルオロオレフィン類（例、フルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール）、アクリル酸又はメタクリル酸のフッ素化アルキルエステル類及びフッ素化ビニルエーテル類が挙げられる。フッ素原子を含むモノマーとフッ素原子を含まないモノマーとのコポリマーを用いてもよい。
フッ素原子を含まないモノマーの例としては、オレフィン類、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、スチレン類、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類及びアクリルニトリル類が挙げられる。多官能モノマーの例としては、ジエン類、多価アルコールとアクリル酸とのエステル、多価アルコールとメタクリル酸とのエステル、ジビニル化合物、ジビニルスルホン、ビスアクリルアミド類、及びビスメタクリルアミド類が挙げられる。
【０１６７】
＜低屈折率層用オルガノシラン化合物＞
前記硬化性組成物には、オルガノシラン化合物の加水分解物及び/又はその部分縮合物等（以下、得られた反応溶液を「ゾル成分」とも称する）を含有させることが、耐擦傷性の点で、特に反射防止能と耐擦傷性とを両立させる点で、好ましい。
このゾル成分は、前記硬化性組成物を塗布後、乾燥、加熱工程で縮合して硬化物を形成することにより低屈折率層のバインダーとして機能する。また、本発明においては、前記含フッ素ポリマーを有するので、活性光線の照射により３次元構造を有するバインダーが形成される。
前記オルガノシラン化合物は、下記一般式［Ａ］で表されるものが好ましい。
一般式［Ａ］
（Ｒ¹⁰）_m−Ｓｉ（Ｘ）_4-m
前記一般式［Ａ］において、Ｒ¹⁰は置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアリール基を表す。アルキル基としてはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ヘキシル、デシル、ヘキサデシル等が挙げられる。アルキル基として好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜６のものである。アリール基としてはフェニル、ナフチル等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。
Ｘは、水酸基又は加水分解可能な基を表し、例えばアルコキシ基（炭素数1〜５のアルコキシ基が好ましい。例えばメトキシ基、エトキシ基等が挙げられる）、ハロゲン原子（例えばＣｌ、Ｂｒ、Ｉ等）、及びＲ²ＣＯＯ（Ｒ²は水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基が好ましい。例えばＣＨ₃ＣＯＯ、Ｃ₂Ｈ₅ＣＯＯ等が挙げられる）で表される基が挙げられ、好ましくはアルコキシ基であり、特に好ましくはメトキシ基又はエトキシ基である。
ｍは１〜３の整数を表し、好ましくは１又は２であり、特に好ましくは１である。
【０１６８】
Ｒ¹⁰あるいはＸが複数存在するとき、複数のＲ¹⁰あるいはＸはそれぞれ同じであっても異なっていても良い。
Ｒ¹⁰に含まれる置換基としては特に制限はないが、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素等）、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基（メチル、エチル、ｉ−プロピル、プロピル、ｔ−ブチル等）、アリール基（フェニル、ナフチル等）、芳香族ヘテロ環基（フリル、ピラゾリル、ピリジル等）、アルコキシ基（メトキシ、エトキシ、ｉ−プロポキシ、ヘキシルオキシ等）、アリールオキシ（フェノキシ等）、アルキルチオ基（メチルチオ、エチルチオ等）、アリールチオ基（フェニルチオ等）、アルケニル基（ビニル、１−プロペニル等）、アシルオキシ基（アセトキシ、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ等）、アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等）、アリールオキシカルボニル基（フェノキシカルボニル等）、カルバモイル基（カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−オクチルカルバモイル等）、アシルアミノ基（アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、アクリルアミノ、メタクリルアミノ等）等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていても良い。
【０１６９】
Ｒ¹⁰が複数ある場合は、少なくとも一つが置換アルキル基若しくは置換アリール基であることが好ましい。
前記一般式［Ａ］で表されるオルガノシラン化合物の中でも、下記一般式［Ｂ］で表されるビニル重合性の置換基を有するオルガノシラン化合物が好ましい。
【０１７０】
一般式［Ｂ］
【化３３】

【０１７１】
前記一般式［Ｂ］において、Ｒ¹は水素原子、メチル基、メトキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、又は塩素原子を表す。アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。水素原子、メチル基、メトキシ基、メトキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、及び塩素原子が好ましく、水素原子、メチル基、メトキシカルボニル基、フッ素原子、及び塩素原子が更に好ましく、水素原子及びメチル基が特に好ましい。
Ｙは単結合若しくは *−ＣＯＯ−**， *−ＣＯＮＨ−**又は *−Ｏ−**を表し、単結合、 *−ＣＯＯ−**及び *−ＣＯＮＨ−**が好ましく、単結合及び *−ＣＯＯ−**が更に好ましく、 *−ＣＯＯ−**が特に好ましい。* は＝Ｃ（Ｒ¹）−に結合する位置を、**はＬに結合する位置を表す。
【０１７２】
Ｌは２価の連結鎖を表す。具体的には、置換若しくは無置換のアルキレン基、置換若しくは無置換のアリーレン基、内部に連結基（例えば、エーテル、エステル、アミドなど）を有する置換若しくは無置換のアルキレン基、内部に連結基を有する置換若しくは無置換のアリーレン基が挙げられ、置換若しくは無置換のアルキレン基、置換若しくは無置換のアリーレン基、内部に連結基を有するアルキレン基が好ましく、無置換のアルキレン基、無置換のアリーレン基、内部にエーテルあるいはエステル連結基を有するアルキレン基が更に好ましく、無置換のアルキレン基、内部にエーテルあるいはエステル連結基を有するアルキレン基が特に好ましい。置換基は、ハロゲン、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アリール基等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていても良い。
【０１７３】
ｎは０又は１を表す。Ｘが複数存在するとき、複数のＸはそれぞれ同じであっても異なっていても良い。ｎとして好ましくは０である。
Ｒ¹⁰は一般式［Ａ］と同義であり、置換若しくは無置換のアルキル基、無置換のアリール基が好ましく、無置換のアルキル基、無置換のアリール基が更に好ましい。
Ｘは一般式［Ａ］と同義であり、ハロゲン原子、水酸基、無置換のアルコキシ基が好ましく、塩素原子、水酸基、無置換の炭素数１〜６のアルコキシ基が更に好ましく、水酸基、炭素数１〜３のアルコキシ基が更に好ましく、メトキシ基が特に好ましい。
【０１７４】
一般式［Ａ］、一般式［Ｂ］の化合物は２種類以上を併用しても良い。以下に一般式［Ａ］、一般式［Ｂ］で表される化合物の具体例を示すが、限定されるものではない。
【０１７５】
【化３４】

【０１７６】
【化３５】

【０１７７】
これらのうち、（Ｍ−１）、（Ｍ−２）、及び（Ｍ−５）が特に好ましい。
【０１７８】
そして、前記オルガノシラン化合物の加水分解物及び／又は部分縮合物は、一般に前記オルガノシラン化合物を触媒の存在下で処理して製造されるものである。触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸類；シュウ酸、酢酸、ギ酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸等の有機酸類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等の無機塩基類；トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基類；トリイソプロポキシアルミニウム、テトラブトキシジルコニウム等の金属アルコキシド類；Ｚｒ、Ｔｉ又はＡｌなどの金属を中心金属とする金属キレート化合物等が挙げられる。本発明においては、金属キレート化合物、無機酸類及び有機酸類の酸触媒を用いるのが好ましい。無機酸では塩酸、硫酸が好ましく、有機酸では、水中での酸解離定数(ｐＫa値（２５℃）)が４．５以下のものが好ましく、更には、塩酸、硫酸、水中での酸解離定数が３．０以下の有機酸が好ましく、特に、塩酸、硫酸、水中での酸解離定数が２．５以下の有機酸が好ましく、具体的には、メタンスルホン酸、シュウ酸、フタル酸、マロン酸が更に好ましく、シュウ酸が特に好ましい。
【０１７９】
金属キレート化合物としては、一般式Ｒ³ＯＨ（式中、Ｒ³は炭素数１〜１０のアルキル基を示す）で表されるアルコールとＲ⁴ＣＯＣＨ₂ＣＯＲ⁵（式中、Ｒ⁴は炭素数１〜１０のアルキル基、Ｒ⁵は炭素数１〜１０のアルキル基又は炭素数１〜１０のアルコキシ基を示す）で表される化合物とを配位子とした、Ｚｒ、Ｔｉ、Ａｌから選ばれる金属を中心金属とするものであれば特に制限なく好適に用いることができる。この範疇であれば、２種以上の金属キレート化合物を併用しても良い。本発明に用いられる 金属キレート化合物は、一般式Ｚｒ（ＯＲ³）_p1（Ｒ⁴ＣＯＣＨＣＯＲ⁵）_p2、Ｔｉ（ＯＲ³）_q1（Ｒ⁴ＣＯＣＨＣＯＲ⁵）_q2、及びＡｌ（ＯＲ³）_r1（Ｒ⁴ＣＯＣＨＣＯＲ⁵）_r2で表される化合物群から選ばれるものが好ましく、前記オルガノシラン化合物の加水分解物及び／又は部分縮合物の縮合反応を促進する作用をなす。
金属キレート化合物中のＲ³及びＲ⁴は、同一又は異なってもよく炭素数１〜１０のアルキル基、具体的にはエチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、フェニル基などである。また、Ｒ⁵は、前記と同様の炭素数１〜１０のアルキル基のほか、炭素数１〜１０のアルコキシ基、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基などである。また、金属キレート化合物中のｐ１、ｐ２、ｑ１、ｑ２、ｒ１、及びｒ２は、それぞれｐ１＋ｐ２＝４、ｑ１＋ｑ２＝４、ｒ１＋ｒ２＝３となる様に決定される整数を表す。
【０１８０】
これらの金属キレート化合物の具体例としては、トリ−ｎ−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジイソプロポキシビス（アセチルアセトナート）チタニウム、ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウムなどが挙げられる。これらの金属キレート化合物は、１種単独であるいは２種以上混合して使用することができる。また、これらの金属キレート化合物の部分加水分解物を使用することもできる。
【０１８１】
また、本発明においては、前記硬化性組成物に、更にβ−ジケトン化合物及び／又はβ−ケトエステル化合物が添加されることが好ましい。以下に更に説明する。
【０１８２】
本発明で使用されるのは、一般式Ｒ⁴ＣＯＣＨ₂ＣＯＲ⁵で表されるβ−ジケトン化合物及び／又はβ−ケトエステル化合物であり、本発明に用いられる硬化性組成物の安定性向上剤として作用するものである。ここで、Ｒ⁴は炭素数１〜１０のアルキル基、Ｒ⁵は炭素数１〜１０のアルキル基又は炭素数１〜１０のアルコキシ基を表す。β−ジケトン化合物及び／又はβ−ケトエステル化合物を構成するＲ⁴及びＲ⁵は、前記金属キレート化合物を構成するＲ⁴及びＲ⁵と同様である。
【０１８３】
このβ−ジケトン化合物及び／又はβ−ケトエステル化合物の具体例としては、アセチルアセトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸−ｎ−プロピル、アセト酢酸−ｉ−プロピル、アセト酢酸−ｎ−ブチル、アセト酢酸−sec−ブチル、アセト酢酸−ｔ−ブチル、２，４−ヘキサン−ジオン、２，４−ヘプタン−ジオン、３，５−ヘプタン−ジオン、２，４−オクタン−ジオン、２，４−ノナン−ジオン、５−メチル−ヘキサン−ジオンなどを挙げることができる。これらのうち、アセト酢酸エチル及びアセチルアセトンが好ましく、特にアセチルアセトンが好ましい。
【０１８４】
前記オルガノシラン化合物の配合量は、低屈折率層の全固形分の０．１〜５０質量％が好ましく、０．５〜２０質量％がより好ましく、１〜１０質量％が最も好ましい。
前記オルガノシラン化合物は硬化性組成物（防眩層用、低屈折率層用等の塗布液）に直接添加してもよいが、あらかじめ前記オルガノシラン化合物の加水分解物及び／又は部分縮合物及び金属キレート化合物を含有する組成物を調製しておいて、これにβ−ジケトン化合物及び／又はβ−ケトエステル化合物を添加した液を防眩層若しくは低屈折率層の少なくとも１層の塗布液に含有せしめて塗設することが好ましい。
【０１８５】
低屈折率層における、含フッ素ポリマーに対するオルガノシランのゾル成分の使用量は、５〜１００質量％が好ましく、５〜４０質量％がより好ましく、８〜３５質量％が更に好ましく、１０〜３０質量％が特に好ましい。使用量が少ないと本発明の効果が得にくく、多すぎると屈折率が増加したり、膜の形状・面状が悪化するので好ましくない。
【０１８６】
［低屈折率層用硬化性組成物に含有するその他の物質］
前記硬化性組成物は、前述の（Ａ）含フッ素ポリマー、（Ｂ）無機微粒子及び（Ｃ）オルガノシラン化合物に、必要に応じて各種添加剤及び後述するラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤を添加し、更にこれらを適当な溶剤に溶解して作製される。この際固形分の濃度は、用途に応じて適宜選択されるが一般的には０．０１〜６０質量％程度であり、好ましくは０．５〜５０質量％、特に好ましくは１％〜２０質量％程度である。
【０１８７】
低屈折率層と直接接する下層との界面密着性等の観点からは、多官能（メタ）アクリレート化合物、多官能エポキシ化合物、ポリイソシアネート化合物、アミノプラスト、多塩基酸又はその無水物等の硬化剤を少量添加することもできる。これらを添加する場合には低屈折率層皮膜の全固形分に対して３０質量％以下の範囲とすることが好ましく、２０質量％以下の範囲とすることがより好ましく、１０質量％以下の範囲とすることが特に好ましい。
【０１８８】
また、防汚性、耐水性、耐薬品性、滑り性等の特性を付与する目的で、公知のシリコーン系化合物あるいはフッ素系化合物の防汚剤、滑り剤等を適宜添加することもできる。これらの添加剤を添加する場合には低屈折率層全固形分の０．０１〜２０質量％の範囲で添加されることが好ましく、より好ましくは０．０５〜１０質量%の範囲で添加される場合であり、特に好ましくは０．１〜５質量％の場合である。
【０１８９】
シリコーン系化合物の好ましい例としてはジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位として複数個含む化合物鎖の末端及び／又は側鎖に置換基を有するものが挙げられる。ジメチルシリルオキシを繰り返し単位として含む化合物鎖中にはジメチルシリルオキシ以外の構造単位を含んでもよい。置換基は同一であっても異なっていても良く、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としてはアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、フルオロアルキル基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などを含む基が挙げられる。分子量に特に制限はないが、１０万以下であることが好ましく、５万以下であることが特に好ましく、３０００〜３００００であることが最も好ましい。シリコーン系化合物のシリコーン原子含有量には特に制限はないが１８．０質量％以上であることが好ましく、２５．０〜３７.８質量％であることが特に好ましく、３０．０〜３７．０質量％であることが最も好ましい。好ましいシリコーン系化合物の例としては信越化学（株）製、Ｘ−２２−１７４ＤＸ、Ｘ−２２−２４２６、Ｘ−２２−１６４Ｂ、Ｘ２２−１６４Ｃ、Ｘ−２２−１７０ＤＸ、Ｘ−２２−１７６Ｄ、Ｘ−２２−１８２１（以上商品名）やチッソ（株）製、ＦＭ−０７２５、ＦＭ−７７２５、ＦＭ−４４２１、ＦＭ−５５２１、ＦＭ６６２１、ＦＭ−１１２１やＧｅｌｅｓｔ製ＤＭＳ−Ｕ２２、ＲＭＳ−０３３、ＲＭＳ−０８３、ＵＭＳ−１８２、ＤＭＳ−Ｈ２１、ＤＭＳ−Ｈ３１、ＨＭＳ−３０１、ＦＭＳ１２１、ＦＭＳ１２３、ＦＭＳ１３１、ＦＭＳ１４１、ＦＭＳ２２１（以上商品名）などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
【０１９０】
フッ素系化合物としては、フルオロアルキル基を有する化合物が好ましい。該フルオロアルキル基は炭素数１〜２０であることが好ましく、より好ましくは１〜１０であり、直鎖（例えば−ＣＦ₂ＣＦ₃，−ＣＨ₂（ＣＦ₂）₄Ｈ，−ＣＨ₂（ＣＦ₂）₈ＣＦ₃，−ＣＨ₂ＣＨ₂（ＣＦ₂）₄Ｈ等）であっても、分岐構造（例えば−ＣＨ（ＣＦ₃）₂，−ＣＨ₂ＣＦ（ＣＦ₃）₂，−ＣＨ（ＣＨ₃）ＣＦ₂ＣＦ₃，−ＣＨ（ＣＨ₃）（ＣＦ₂）₅ＣＦ₂Ｈ等）であっても、脂環式構造（好ましくは５員環又は６員環、例えばパーフルオロシクロへキシル基、パーフルオロシクロペンチル基又はこれらで置換されたアルキル基等）であっても良く、エーテル結合を有していても良い（例えば−ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＦ₂ＣＦ₃，−ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂Ｃ₄Ｆ₈Ｈ，−ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂Ｃ₈Ｆ₁₇，−ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＦ₂ＣＦ₂ＯＣＦ₂ＣＦ₂Ｈ等)。該フルオロアルキル基は同一分子中に複数含まれていてもよい。
フッ素系化合物は、更に低屈折率層皮膜との結合形成あるいは相溶性に寄与する置換基を有していることが好ましい。該置換基は同一であっても異なっていても良く、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としてはアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などが挙げられる。フッ素系化合物はフッ素原子を含まない化合物とのポリマーであってもオリゴマーであってもよく、分子量に特に制限はない。フッ素系化合物のフッ素原子含有量には特に制限は無いが２０質量％以上であることが好ましく、３０〜７０質量％であることが特に好ましく、４０〜７０質量％であることが最も好ましい。好ましいフッ素系化合物の例としてはダイキン化学工業（株）製、Ｒ−２０２０、Ｍ−２０２０、Ｒ−３８３３、Ｍ−３８３３(以上商品名)、大日本インキ（株）製、メガファックＦ−１７１、Ｆ−１７２、Ｆ−１７９Ａ、ディフェンサＭＣＦ−３００(以上商品名)などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
【０１９１】
防塵性、帯電防止等の特性を付与する目的で、公知のカチオン系界面活性剤あるいはポリオキシアルキレン系化合物のような防塵剤、帯電防止剤等を適宜添加することもできる。これら防塵剤、帯電防止剤は前述したシリコーン系化合物やフッ素系化合物にその構造単位が機能の一部として含まれていてもよい。これらを添加剤として添加する場合には低ｎ層全固形分の０．０１〜２０質量％の範囲で添加されることが好ましく、より好ましくは０．０５〜１０質量％の範囲で添加される場合であり、特に好ましくは０．１〜５質量％の場合である。好ましい化合物の例としては大日本インキ（株）製、メガファックＦ−１５０(商品名)、東レダウコーニング（株）製、ＳＨ−３７４８(商品名)などが挙げられるが、これらに限定されるわけではない。
【０１９２】
［低屈折率層用の溶剤］
本発明の低屈折率層を形成するための塗布組成物に用いられる溶剤としては、各成分を溶解又は分散可能であること、塗布工程、乾燥工程において均一な面状となり易いこと、液保存性が確保できること、適度な飽和蒸気圧を有すること、等の観点で選ばれる各種の溶剤が使用できる。乾燥負荷の観点からは、常圧、室温における沸点が１００℃以下の溶剤を主成分とし、乾燥速度の調整のために沸点が１００℃以上の溶剤を少量含有することが好ましい。
沸点が１００℃以下の溶剤としては、例えば、ヘキサン（沸点６８．７℃）、ヘプタン（９８．４℃）、シクロヘキサン（８０．７℃）、ベンゼン（８０．１℃）などの炭化水素類、ジクロロメタン（３９．８℃）、クロロホルム（６１．２℃）、四塩化炭素（７６．８℃）、１，２−ジクロロエタン（８３．５℃）、トリクロロエチレン（８７．２℃）などのハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル（３４．６℃）、ジイソプロピルエーテル（６８．５℃）、ジプロピルエーテル （９０．５℃）、テトラヒドロフラン（６６℃）などのエーテル類、ギ酸エチル（５４．２℃）、酢酸メチル（５７．８℃）、酢酸エチル（７７．１℃）、酢酸イソプロピル（８９℃）などのエステル類、アセトン（５６．１℃）、２−ブタノン（メチルエチルケトンと同じ、７９．６℃）などのケトン類、メタノール（６４．５℃）、エタノール（７８．３℃）、２−プロパノール（８２．４℃）、１−プロパノール（９７．２℃）などのアルコール類、アセトニトリル（８１．６℃）、プロピオニトリル（９７．４℃）などのシアノ化合物類、二硫化炭素（４６．２℃）などがある。このうちケトン類、エステル類が好ましく、特に好ましくはケトン類である。ケトン類の中では２−ブタノンが特に好ましい。
沸点が１００℃を以上の溶剤としては、例えば、オクタン（１２５．７℃）、トルエン（１１０．６℃）、キシレン（１３８℃）、テトラクロロエチレン（１２１．２℃）、クロロベンゼン（１３１．７℃）、ジオキサン（１０１．３℃）、ジブチルエーテル（１４２．４℃）、酢酸イソブチル（１１８℃）、シクロヘキサノン（１５５．７℃）、２−メチル−４−ペンタノン（ＭＩＢＫと同じ、１１５．９℃）、１−ブタノール（１１７．７℃）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１５３℃）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（１６６℃）、ジメチルスルホキシド（１８９℃）などがある。好ましくは、シクロヘキサノン、２−メチル−４−ペンタノンである。
【０１９３】
［ゾルゲル法による低屈折率層］］
低屈折率層用の素材として、各種ゾルゲル素材を用いることもできる。このようなゾルゲル素材としては、金属アルコレート（シラン、チタン、アルミニウム、ジルコニウム等のアルコレート）、オルガ ノアルコキシ金属化合物、及びその加水分解物を用いることができる。特に、アルコキシシラン、オルガノアルコキシシラン及びその加水分解物が好ましい。これらの例としては、テトラアルコキシシラン（テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等）、アルキルトリアルコキシシラン（メチルトリメトキシシラン、エチル トリメトキシシラン等）、アリールトリアルコキシシラ ン（フェニルトリメトキシシラン等）、ジアルキルジアルコキシシラン、ジアリールジアルコキシシラン等が挙 げられる。また、各種の官能基を有するオルガノアルコキシシラン（ビニルトリアルコキシシラン、メチルビニ ルジアルコキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリアルコキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピル メチルジアルコキシシラン、β−（３，４−エポキジシ クロヘキシル）エチルトリアルコキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリアルコキシシラン、γ−アミノプロピルトリアルコキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリアルコキシシラン、γ−クロロプロピルトリアルコキシシラン等）、パーフルオロアルキル基含有シラン化合物（例えば（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラデシル）トリエトキシシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等）を用いることも好ましい。特にフッ素含有のシラン化合物を用いることは、層の低屈折率化及び撥水・撥油性付与の点で好ましい。
【０１９４】
本発明の光学機能フィルムは以下の方法で形成することができるが、この方法に制限されない。
［塗布液の調製］
【０１９５】
まず、各層を形成するための成分を含有した塗布液が調製される。その際、溶剤の揮発量を最小限に抑制することにより、塗布液中の含水率の上昇を抑制できる。塗布液中の含水率は５％以下が好ましく、２％以下がより好ましい。溶剤の揮発量の抑制は、各素材をタンクに投入後の攪拌時の密閉性を向上すること、移液作業時の塗布液の空気接触面積を最小化すること等で達成される。また、塗布中、或いはその前後に塗布液中の含水率を低減する手段を設けてもよい。
【０１９６】
＜光学機能フィルムの形成法等＞
本発明において光学機能フィルムを構成する各層は、塗布法により作製したものが好ましい。塗布で形成する場合、各層はディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法やエクストルージョンコート法（米国特許２，６８１，２９４号明細書記載）、又はダイコート法（特開２００３−２００９７号、同２００３−２１１０５２号、２００３−２３６４３４号、同２００３−２６０４００号、同２００３−２６０４０２号公報等に記載）により作製することができる。２層以上を同時に塗布してもよい。同時塗布の方法については、米国特許２，７６１，７９１号、同２，９４１，８９８号、同３，５０８，９４７号、同３，５２６，５２８号の各明細書、及び原崎勇次著、「コーティング工学」、２５３頁、朝倉書店（１９７３年）に記載がある。ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法、ダイコートが好ましい。特に、マイクログラビアコート法、ダイコート法が好ましく、ダイコート法が最もこのましい。
【０１９７】
（マイクログラビアコート法）
マイクログラビアコート法とは、直径が約１０〜１００ｍｍ、好ましくは約２０〜５０ｍｍで全周にグラビアパターンが刻印されたグラビアロールを支持体の下方に、かつ支持体の搬送方向に対してグラビアロールを逆回転させると共に、該グラビアロールの表面からドクターブレードによって余剰の塗布液を掻き落として、定量の塗布液を支持体に転写させて塗工することを特徴とする塗布法である。
マイクログラビアコート法では、グラビアロールに刻印されたグラビアパターンの線数は５０〜８００本／インチが好ましく、より好ましくは１００〜３００本／インチである。グラビアパターンの深度は１〜６００μｍが好ましく、より好ましくは５〜２００μｍである。グラビアロールの回転数は３〜８００ｒｐｍであることが好ましく、より好ましくは５〜２００ｒｐｍである。支持体の搬送速度は０．５〜１００ｍ／分であることが好ましく、より好ましくは１〜５０ｍ／分である。
【０１９８】
（ダイコート法）
ダイコート法はバックアップローラに支持されて連続走行するウェブに対して、内部にポケットが形成されているスロットダイから塗布液をビードにして塗布することにより、ウェブ上に塗膜を形成する。スロットダイの先端とウェブとの距離を、ウェブ進行方向に対するスロット部材の上流側と下流側で適度に調節することによって湿潤膜厚が数十μｍ以下の塗布を精度よく行うことができる。特に、本発明の光拡散層や低屈折率層のような、ウエット塗布量の少ない領域（２０ｃｃ／ｍ²以下）で好ましく用いることができるダイコーターについて、以下に説明する。
【０１９９】
（ウエット塗布量）
防眩層を形成する際には、基材フィルム上に直接又は他の層を介してウエット塗布膜厚として６〜３０μｍの範囲で前記塗液を塗布するのが好ましく、乾燥ムラ防止の観点から更に３〜２０μｍの範囲がより好ましい。また、低屈折率層を形成する際には、防眩層上に直接、或いは他の層を介してウエット塗布膜厚として１〜１０μｍの範囲で塗布組成物を塗布するのが好ましく、２〜５μｍの範囲で塗布されるのがより好ましい。
【０２００】
（乾燥）
防眩層及び低屈折率層は、基材フィルム上に直接又は他の層を介して塗布された後、溶剤を乾燥するために加熱されたゾーンにウェブで搬送される。その際の乾燥ゾーンの温度は２５℃〜１４０℃が好ましく、乾燥ゾーンの前半は比較的低温であり、後半は比較的高温であることが好ましい。
【０２０１】
（硬化）
溶剤の乾燥ゾーンの後に、ウェブで電離放射線及び／又は熱により各塗膜を硬化させるゾーンを通過させ、塗膜を硬化する。例えば塗膜が紫外線硬化性であれば、紫外線ランプにより１０ｍＪ／ｃｍ²〜１０００ｍＪ／ｃｍ²の照射量の紫外線を照射して各層を硬化するのが好ましい。更に表面硬化を促進する為に窒素ガス等をパージして酸素濃度を低下する必要がある際には、酸素濃度０．０１％〜５％が好ましく、幅方向の分布は酸素濃度で２％以下が好ましい。
また、光拡散層の硬化率（１００−残存官能基含率）が１００％未満であることも光拡散層と低屈折率層との間の密着性が改良されて好ましい。
熱硬化性樹脂、ゾルゲル法による低屈折率層の場合には、通常、乾燥後加熱工程を経ることが行われる。加熱温度は８０℃〜１８０℃が好ましく、１００℃〜１６０℃がより好ましい。加熱時間は１分〜６０分が好ましいが、ウェブ状で搬送される工程ではゾーン長さの制約があり、１分〜２０分が実用的な時間である。また、ウェブを巻き取ったあとのロール状で加熱しても良い。
【０２０２】
以上のように形成された本発明の光学機能フィルムの特性値としては以下のようなものが好ましい。
（表面形状）
表面凹凸形状として、中心線平均粗さＲａが０．０８〜０．３０μｍ、１０点平均粗さＲｚがＲａの１０倍以下、平均山谷距離Ｓｍが１〜１００μｍ、凹凸最深部からの凸部高さの標準偏差が０．５μｍ以下、中心線を基準とした平均山谷距離Ｓｍの標準偏差が２０μｍ以下、傾斜角０〜５度の面が１０％以上となるように設計するのが好ましい。
（光学特性）
また、Ｃ光源下でのＣＩＥ１９７６Ｌ^＊ａ^＊ｂ^＊色空間における反射光の色味がａ^*値−２〜２、ｂ^*値−３〜３、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲内での反射率の最小値と最大値の比０．５〜０．９９とするのが、反射光の色味がニュートラルとなるので、好ましい。またＣ光源下での透過光のｂ^*値を０〜３とすると、表示装置に適用した際の白表示の黄色味が低減され、好ましい。
【０２０３】
また、本発明の光学機能フィルムは、その光学特性を内部散乱に起因するヘイズ（以後、内部ヘイズと呼称する）が５％〜２０％であることが好ましく、５％〜１５％であることがより好ましく、表面散乱に起因するヘイズ（以後、表面ヘイズと呼称する）が１％〜１０％であることが好ましく、２％〜７％であることがより好ましく、更にくし幅０．５ｍｍにおける透過像鮮明度５％〜３０％とするのが、充分な防眩性と画像ボケ、暗室コントラスト低下の改善が両立されるので、好ましい。表面ヘイズが１％未満では防眩性が不足し、１０％を超えると外光が反射した際の表面の白化等の問題が発生する。また、鏡面反射率２．５％以下、透過率９０％以上とするのが、外光の反射を抑制でき、視認性が向上するため、好ましい。
【０２０４】
前記のようにして製造された本発明の光学機能フィルムは、公知の粘着剤を付けて各種公知のディスプレイ材料の表面フィルムとして用いることができる。この場合、片面に粘着層を設ける等してディスプレイの最表面に配置する。本発明の光学機能フィルムは、偏光板における偏光膜を両面から挟む２枚の保護フィルムのうち少なくとも１枚に用いることが好ましい。
本発明の光学機能フィルムが保護フィルムを兼ねることで、偏光板の製造コストを低減できる。また、本発明のフィルムを最表層に使用することにより、外光の映り込み等が防止され、耐擦傷性、防汚性等も優れた偏光板とすることができる。
【０２０５】
本発明の光学機能フィルムを２枚の偏光膜の表面保護フィルムの内の一方として用いて偏光板を作成する際には、前記のフィルムを、反射防止構造を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面を後述の方法で親水化して接着性を改良することが好ましい。
【０２０６】
［鹸化処理］
（１）アルカリ液に浸漬する法
アルカリ液の中に光学機能フィルムを適切な条件で浸漬して、フィルム全表面のアルカリと反応性を有する全ての面を鹸化処理する手法であり、特別な設備を必要としないため、コストの観点で好ましい。アルカリ液は、水酸化ナトリウム水溶液であることが好ましい。好ましい濃度は０．５〜３ｍｏｌ／Ｌであり、特に好ましくは１〜２ｍｏｌ／Ｌである。好ましいアルカリ液の液温は３０〜７５℃、特に好ましくは４０〜６０℃である。
前記の鹸化条件の組合せは比較的穏和な条件同士の組合せであることが好ましいが、光学機能フィルムの素材や構成、目標とする接触角によって設定することができる。アルカリ液に浸漬した後は、フィルムの中にアルカリ成分が残留しないように、水で十分に水洗したり、希薄な酸に浸漬してアルカリ成分を中和することが好ましい。
（２）アルカリ液を塗布する方法
上述の浸漬法における各膜へのダメージを回避する手段として、適切な条件でアルカリ液を光学機能層を有する表面と反対側の表面のみに塗布、加熱、水洗、乾燥するアルカリ液塗布法が好ましく用いられる。なお、この場合の塗布とは、鹸化を行う面に対してのみアルカリ液などを接触させることを意味し、塗布以外にも噴霧、液を含んだベルト等に接触させる、などによって行われることも含む。
【０２０７】
（３）光学機能層をラミネートフィルムで保護して鹸化する方法
前記（２）と同様に光拡散層及び／又は低屈折率層がアルカリ液に対する耐性が不足している場合に、最終層まで形成した後に該最終層を形成した面にラミネートフィルムを貼り合せてからアルカリ液に浸漬することで最終層を形成した面とは反対側のトリアセチルセルロース面だけを親水化し、然る後にラミネートフィルムを剥離することができる。
【０２０８】
（４）光拡散層まで形成後にアルカリ液に浸漬する方法
光拡散層まではアルカリ液に対する耐性があるが、低屈折率層がアルカリ液に対する耐性不足である場合には、光拡散層まで形成後にアルカリ液に浸漬して両面を親水化処理し、然る後に光拡散層上に低屈折率層を形成することもできる。
【０２０９】
（５）予め鹸化済のトリアセチルセルロースフィルムに光学機能層を形成する方法
トリアセチルセルロースフィルムを予めアルカリ液に浸漬するなどして鹸化し、何れか一方の面に直接又は他の層を介して光学機能層を形成してもよい。
【０２１０】
以下に、本発明の光学機能フィルムを用いた偏光板及び該偏光板を用いた液晶表示装置について説明する。
［偏光板］
本発明の好ましい偏光板は、偏光膜の保護フィルム（偏光板用保護フィルム）の少なくとも一方として、本発明の光学機能フィルム、例えば光散乱フィルム又は反射防止フィルムを有する。偏光板用保護フィルムは、前記のように、光学機能層を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面の水に対する接触角が１０度〜５０度の範囲にあることが好ましい。
本発明の光学機能フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いることにより、物理強度、耐光性に優れた光散乱機能、あるいは反射防止機能を有する偏光板が作製でき、大幅なコスト削減、表示装置の薄手化が可能となる。
また、本発明の光学機能フィルムを偏光板用保護フィルムの一方に、後述する光学異方性のある光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムのもう一方に用いた偏光板を作製することにより、更に、液晶表示装置の明室での視認性やコントラストを改良し、上下左右の視野角が非常に広げることができる偏光板を作製できる。
【０２１１】
［光学補償層］
偏光板には光学補償層（位相差層）を設けることにより、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。
光学補償層としては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、ディスコティック構造単位を有する化合物からなる光学異方性を有する層を有し、該ディスコティック化合物と透明支持体とのなす角度が透明支持体からの距離に伴って変化していることを特徴とする光学補償層が好ましい。
該角度は該ディスコティック化合物からなる光学異方性層の透明支持体面側からの距離の増加とともに増加していることが好ましい。
光学補償層を偏光膜の保護フィルムとして用いる場合、偏光膜と貼り合わせる側の表面が鹸化処理されていることが好ましく、前記の鹸化処理に従って実施することが好ましい。
【０２１２】
［偏光膜］
偏光膜としては公知の偏光膜や、偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光膜から切り出された偏光膜を用いてもよい。偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光膜は以下の方法により作成される。
即ち、連続的に供給されるポリマーフィルムの両端を保持手段により保持しつつ張力を付与して延伸した偏光膜で、少なくともフィルム幅方向に１．１〜２０．０倍に延伸し、フィルム両端の保持装置の長手方向進行速度差が３％以内であり、フィルム両端を保持する工程の出口におけるフィルムの進行方向と、フィルムの実質延伸方向のなす角が、２０〜７０゜傾斜するようにフィルム進行方向を、フィルム両端を保持させた状態で屈曲させてなる延伸方法によって製造することができる。特に４５°傾斜させたものが生産性の観点から好ましく用いられる。
【０２１３】
ポリマーフィルムの延伸方法については、特開２００２−８６５５４号公報の段落００２０〜００３０に詳しい記載がある。
【０２１４】
＜液晶表示装置＞
本発明の光学機能フィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置に適用することができる。本発明の光学機能フィルムは透明支持体を有しているので、透明支持体側を画像表示装置の画像表示面に接着して用いられる。
【０２１５】
本発明の光学機能フィルムは、偏光膜の表面保護フィルムの片側として用いた場合、ツイステットネマチック（ＴＮ）、スーパーツイステットネマチック（ＳＴＮ）、バーティカルアライメント（ＶＡ）、インプレインスイッチング（ＩＰＳ）、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル（ＯＣＢ）等のモードの透過型、反射型、又は半透過型の液晶表示装置に好ましく用いることができる。特に、大型液晶テレビ等の用途として、ＶＡ、ＩＰＳ、ＯＣＢ等で好ましく用いることができ、中小の精細度の低い表示装置用途であれば、ＴＮ、ＳＴＮ等にも好ましく用いることができる。大型液晶テレビ等の用途としては、表示画面の対角が２０インチ以上であり、精細度がＸＧＡ以下（縦横比３：４の表示装置において１０２４×７６８以下）であるものに対して、特に好ましく用いることができる。本発明の光学機能フィルムは、実質的に内部ヘイズがないため、２０インチで精細度がＸＧＡ（縦横比３：４の表示装置において１０２４×７６８）を超えるものに対してはギラツキが許容レベルを超える為、ギラツキを重視する場合には好ましくない。また、ギラツキの程度は画素の大きさと表面の防眩フィルムの表面凹凸形状との関係で発生するものであるため、表示装置の大きさが３０インチになれば精細度がＵＸＧＡ（縦横比３：４の表示装置において１６００×１２００）以下、４０インチならば精細度がＱＸＧＡ（縦横比３：４の表示装置において２０４８×１５３６）以下まで好ましくもちいることができる。
【０２１６】
ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ ｔｅｃｈ． Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）及び（４）ＳＵＲＶＡＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。
【０２１７】
ＯＣＢモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置であり、米国特許４５８３８２５号、同５４１０４２２号の各明細書に開示されている。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ(Optically Compensatory Bend) 液晶モードとも呼ばれる。ベンド配向モードの液晶表示装置は、応答速度が速いとの利点がある。
【０２１８】
ＥＣＢモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向しており、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。例えば「ＥＬ、ＰＤＰ、ＬＣＤディスプレイ」東レリサーチセンター発行（２００１）などに記載されている。
【実施例】
【０２１９】
本発明を詳細に説明するために、以下に実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、特別の断りの無い限り、「部」及び「％」は質量基準である。また、以下において、試料Ｎｏ．１５３及び１５４は「本発明」と読み替えるものとする。
【０２２０】
［実施例１］
（セルロースアセテートフィルム １aの作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液Ａを調製した。
【０２２１】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
＜セルロースアセテート溶液Ａ組成＞
酢化度６１．２％のセルロースアセテート ５０質量部
酢化度６０．６％のセルロースアセテート ５０質量部
トリフェニルホスフェート（疎水化剤１） ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（疎水化剤２） ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ３００質量部
メタノール（第２溶媒） ５４質量部
１−ブタノール １１質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２２２】
別のミキシングタンクに、下記の組成物を投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、添加剤溶液Ｂ−１を調製した。
【０２２３】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
＜添加剤溶液Ｂ−１組成＞
メチレンクロライド ８０質量部
メタノール ２０質量部
ＵＶ吸収剤（Ａ） ２質量部
ＵＶ吸収剤（Ｂ） ４質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２２４】
【化３６】

【０２２５】
セルロースアセテート溶液Ａを４７４質量部に、添加剤溶液Ｂ−１を４０質量部を添加し、充分に攪拌して、ドープを調製した。ドープを流延口から０℃に冷却したドラム上に流延した。溶媒含有率７０質量％で剥ぎ取り、フィルムの巾方向の両端をピンテンター（特開平４−１００９号の図３に記載のピンテンター）で固定し、横方向（機械方向に垂直な方向）の延伸率が4％となる間隔を保ちつつ１１５℃で溶媒含有率が５質量％になるまで乾燥した（乾燥工程１）。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、更に１４０℃乾燥し、厚み８０μｍのセルロースアセテートフィルム １aを作製した。
【０２２６】
（セルロースアセテートフィルム１ｂ〜１ｆの作製）
フィルム膜厚、疎水化剤の種類及び添加量、剥ぎ取り時の残留溶剤量、乾燥工程１の温度を表１の内容に変更した以外は同様にしてセルロースアセテートフィルム １ｂ〜１ｆを作製した。
【０２２７】
比較化合物（Ａ）
【化３７】

【０２２８】
【表１】

【０２２９】
このようにして作製したセルロースアシレートフィルムの含水率、弾性率、透湿度、結晶化度を下記の方法で測定した。結果を表２に示す。
【０２３０】
＜含水率の測定＞
２５℃８０％ＲＨの環境下２４ｈｒ調湿後、平沼産業（株）社製ＡＱ−２０００カールフィッシャー水分測定装置で平衡含水率を測定した。
【０２３１】
＜弾性率の測定＞
サンプルを２５℃６０％ＲＨの環境下で２４ｈｒ調湿し、ＪＩＳＫ ７１２７に記載の方法に従って弾性率を測定した。引っ張り試験機は（株）エー・アンド・デイ製テンシロンを使用し、試験片は５０mm×１０mmでチャック間距離３０mm、試験速度は３０ｍｍ／分でおこなった。
【０２３２】
＜透湿度の測定＞
ＪＩＳ Ｚ ０２０８に記載の方法に従い、各サンプルの透湿度を測定した。但し、試験を行った温湿度条件は２５℃９０％ＲＨである。
【０２３３】
＜結晶化度＞
日本電子（株）社製ＪＤＸ−１１ＲＡを用いて、サンプルの回折パターンを測定した。測定した回折ピークからブラッグ角２θ=１４°の回折強度を引いた値の和を結晶化度とする。走査範囲は２θ=５°〜３５°で測定した。
【０２３４】
[実施例２]
(鹸化処理)
セルロースアセテートフィルム １ａ〜１ｌを、１．５規定の水酸化ナトリウム水溶液に、５５℃で２分間浸漬した。室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．１規定の硫酸を用いて中和した。再度、室温の水洗浴槽中で洗浄し、更に１００℃の温風で乾燥した。このようにして、セルロースアセテートフィルムの表面をケン化した。更に、富士写真フィルム製ＷＶフィルムを同条件で鹸化し、下記の試料作製に供した。
【０２３５】
［実施例３］
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光子を作製し、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、実施例２で作製したセルロースアセテートフィルム １ａを偏光子の片側に貼り付けた。偏光子の透過軸とセルロースアセテートフィルムの遅相軸とは平行になるように配置した。
更に実施例２で鹸化処理したＷＶフィルムをポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光子の反対側に貼り付けた。このようにして偏光板１Ａを作製した。
【０２３６】
[実施例４]
実施例３と同様にして表２に示すセルロースアセテートフィルムの組合せで偏光板１Ｂ〜１Ｌを作製した。
【０２３７】
［実施例５］
このようにして作製した偏光板をＷＶフィルムがガラス側となるようにガラス板に貼り付け、島津ＵＶ２２００分光光度計で平行透過率及び直交透過率を測定し前記（式４）により偏光度を算出した。更に前記偏光板を６０℃９５％ＲＨで１０００時間経時させた後、再度平行透過率及び直交透過率を測定し、経時前後での偏光度の変化を算出した。結果を表２に示す。
【０２３８】
表２の結果から、本発明の偏光板（１Ｆ、１Ｈ、１Ｊ、１Ｌ）は、比較例（１Ｂ、１Ｄ）に比べて、熱及び湿度に対する偏光度の変化が小さく、耐久性に優れることがわかる。
【０２３９】
【表２】

【０２４０】
［実施例６］
（セルロースアセテートフィルム２ａの作製）
＜セルロースアセテート溶液の調製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液Ｃを調製した。
【０２４１】
――――――――――――――――――――――――――――――――
セルロースアセテート溶液Ｃ組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
酢化度６２．０％のセルロースアセテート １００．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ４０２．０質量部
メタノール（第２溶媒） ６０．０質量部
トリフェニルホスフェート（疎水化剤１） ８．０質量部
ビフェニルホスフェート（疎水化剤２） ５．０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２４２】
＜マット剤溶液の調製＞
下記の組成物を分散機に投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
【０２４３】
――――――――――――――――――――――――――――――――
マット剤溶液組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
平均粒径２０ｎｍのシリカ粒子
（AEROSIL R972、日本アエロジル（株）製 ２．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ７５．０質量部
メタノール（第２溶媒） １２．７質量部
セルロースアセテート溶液Ｃ １０．３質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２４４】
＜ＵＶ吸収剤溶液の調製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
【０２４５】
―――――――――――――――――――――――――――――――
ＵＶ吸収剤溶液組成
―――――――――――――――――――――――――――――――
ＵＶ吸収剤（Ａ） １．６質量部
ＵＶ吸収剤（Ｂ） ３．２質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ５８．４質量部
メタノール（第２溶媒） ８．７質量部
セルロースアセテート溶液Ｃ １２．８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――
【０２４６】
上記セルロースアセテート溶液Ｃを９４．６質量部、マット剤溶液を１．３質量部、ＵＶ吸収剤溶液４．１質量部それぞれを濾過後に混合し、バンド流延機を用いて流延した。ＵＶ吸収剤（Ａ）及び（Ｂ）のセルロースアセテートに対する質量比はそれぞれ０．３７％及び０．７４％であった。残留溶剤量４０質量％でフィルムをバンドから剥離し、８０℃の条件で、フィルムをテンターを用いて５％延伸しつつ、残留溶剤量が５質量％まで乾燥した（乾燥工程１）。その後、クリップを外して１４０℃で４０分間乾燥させ（乾燥工程２）セルロースアセテートフィルムを製造した。出来あがったセルロースアセテートフィルムの残留溶剤量は０．２％であり、膜厚は５０μmであった。
【０２４７】
（セルロースアセテートフィルム ２ｂ〜２ｅの作製）
疎水化剤の種類及び添加量を表３の内容に変更した以外は同様にしてセルロースアセテ
ートフィルム２〜２ｅを作製した。
【０２４８】
【表３】

【０２４９】
【化３８】

【０２５０】
（光学特性の測定）
作製したセルロースアセテートフィルムについて、下記方法によりレターデーション値を測定した。
＜Ｒｔｈレターデーション値の測定法＞
エリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用い、２５℃６０％ＲＨで、面内レターデーションＲｅ(０)を測定した。また面内の遅相軸をあおり軸として４０°及び−４０°あおってレターデーションＲｅ(４０)及びＲｅ（−４０）を測った。膜厚及び遅相軸方向の屈折率ｎｘをパラメータとし、これらの測定値Ｒｅ（０）、Ｒｅ(４０)、Ｒｅ(−４０)にフィッティングするように進相軸方向の屈折率ｎｙ及び厚み方向の屈折率ｎｚを計算で求め、Ｒｔｈレターデーション値を決定した。測定波長は６３２．８ｎｍとした。
更に実施例１と同様にして、２５℃８０％ＲＨにおける含水率、２５℃６０％ＲＨの弾性率、２５℃９０％ＲＨ２４ｈｒ後の透湿度を測定した。結果を表４に示す。
【０２５１】
【表４】

【０２５２】
表４の結果から本発明のセルロールアシレートフィルムは透湿度が低く、かつ光学的等法的であり、偏光板保護フィルムとして好ましいことがわかる。
【０２５３】
［実施例７］
表５に記載のような、基調ドープと表層ドープを調製した。
【０２５４】
【表５】

【０２５５】
得られたドープを、乾燥後の膜厚が下記表６に記載の基層と表層の割合になるように、共流延法又は逐次流延法にて流延を行い、その後１００℃の熱風にて残留溶剤量が１０質量％になるまで乾燥し、更に１４０℃の熱風で１０分間乾燥した。このようにして合計のフィルム膜厚が８０μmのフィルムを作製した。
流延形態、表層膜厚、ドープ処方組合せとこれらについて評価した結果を表６に示す。
【０２５６】
【表６】

【０２５７】
評価方法は以下のとおりである。
＜含水量＞、＜透湿度＞
前記実施例１と同じである。
＜キシミ＞
キシミは試料フィルムを巻きつけたときのフィルムの内面と外面の平滑性が高く、また両面間の静摩擦係数が高いときに生じる。この評価法として静摩擦係数を測定した。装置は新東科学製ＨＥＩＤＯＮ−１４型摩擦測定器を用い、以下の基準で評価した。
○ ：０．７以下
× ：０．７〜１．０
××：１．０以上
【０２５８】
＜シワ＞
シワは試料フィルムの熱処理時に、すべり性が悪いために伸張や収縮が不均一に起こり、フィルムに巻きシワが発生し、平面性が悪くなる現象である。目視によってシワの程度を以下の基準で評価した。
○：シワの発生が見られない。
×：シワが見られる。
【０２５９】
＜透明度＞
透明度の指標として透過率を測定し、以下の基準で評価した。
◎ ：透過率９２％以上
○ ：同 ９０〜９２％未満
△ ：同 ８５〜９０％未満
× ：同 ８０〜８５％未満
××：同 ８０％未満
【０２６０】
表６の結果より、本発明に係るセルロースアシレートフィルムは、単層からなるフィルムに比べて、キシミ、シワの発生を防止しつつ、透明度が非常に優れていることがわかる。更に本発明に係る疎水化剤を含有したフィルムは透湿性にも優れることがわかる。
【０２６１】
以下に光学機能層を有する本発明のフィルムについて述べる。
（パーフルオロオレフィン共重合体（１）の合成）
【化３９】

【０２６２】
内容量１００ｍｌのステンレス製撹拌機付オートクレーブに酢酸エチル４０ｍｌ、ヒドロキシエチルビニルエーテル１４．７ｇ及び過酸化ジラウロイル０．５５ｇを仕込み、系内を脱気して窒素ガスで置換した。更にヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）２５ｇをオートクレーブ中に導入して６５℃まで昇温した。オートクレーブ内の温度が６５℃に達した時点の圧力は０．５３Ｍｐａ（５．４ｋｇ／ｃｍ²）であった。該温度を保持し８時間反応を続け、圧力が０．３１ＭＰａ（３．２ｋｇ／ｃｍ²）に達した時点で加熱をやめ放冷した。室温まで内温が下がった時点で未反応のモノマーを追い出し、オートクレーブを開放して反応液を取り出した。得られた反応液を大過剰のヘキサンに投入し、デカンテーションにより溶剤を除去することにより沈殿したポリマーを取り出した。更にこのポリマーを少量の酢酸エチルに溶解してヘキサンから２回再沈殿を行うことによって残存モノマーを完全に除去した。乾燥後ポリマー２８ｇを得た。次に該ポリマーの２０ｇをＮ,Ｎ−ジメチルアセトアミド１００ｍｌに溶解、氷冷下アクリル酸クロライド１１．４ｇを滴下した後、室温で１０時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え水洗、有機層を抽出後濃縮し、得られたポリマーをヘキサンで再沈殿させることによりパーフルオロオレフィン共重合体（１）を１９ｇ得た。得られたポリマーの屈折率は１．４２１であった。
【０２６３】
（オルガノシラン化合物Ａ溶液の調製）
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、メチルエチルケトン１２０部、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−５１０３、信越化学工業（株）製）１００部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート３部を加え混合したのち、イオン交換水３０部を加え、６０℃で４時間反応させたのち、室温まで冷却し、オルガノシラン化合物Ａ溶液を得た。質量平均分子量は１６００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１０００〜２００００の成分は１００％であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。
【０２６４】
（アルミナ分散液ＡＬ−１の調製）
メチルイソブチルケトン６４．０質量部に、市販のアルミナＡＫＰ−Ｇ０１５（住友化学工業（株）３０．０質量部とアロニックスＭ５３００（東亞合成（株）製）６．０質量部を加え良く混錬してスラリー状にしたあと、１mmφのジルコニアビーズを用いてサンドグラインダーで１２時間分散を行って、アルミナ濃度３０％の分散液ＡＬ−１を調製した。このアルミナ分散物の平均粒径は０．１０μmであった。
（帯電防止層用塗布液Ａの調製）
市販の透明帯電防止層用塗料「ペルトロンＣ−４４５６Ｓ−７」（ＡＴＯ含有、固形分濃度４５％、日本ペルノックス（株）製）を帯電防止層用塗布液Ａとして用いた。ＡＴＯ微粒子の平均粒径は０．１５μmであった。この塗布液による塗膜の屈折率は１．６０であった。
【０２６５】
（帯電防止層用塗布液Ｂの調製）
市販の導電性微粒子ＡＴＯ（アンチモンドープ酸化錫Ｔ−１、比表面積８０ｍ²／ｇ、三菱マテリアル（株）製）２０．０質量部に、アニオン性基とメタアクリロイル基を有する分散剤（Ｂ−１）６．０質量部、メチルイソブチルケトン７４質量部を添加して撹拌した。
【０２６６】
【化４０】

【０２６７】
メディア分散機（直径０．１ｍｍのジルコニアビーズ使用）を用いて上記液中のＡＴＯ粒子を分散した。ＡＴＯ微粒子の均粒径は０．０９μmであった。
上記ＡＴＯ分散液１００質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）、６質量部、重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．８質量部を添加して撹拌した。このようにして帯電防止層用塗布液Ｂを調製した。この塗布液による塗膜の屈折率は１．６３であった。
【０２６８】
（光拡散層用塗布液（Ｉ）の調製）
市販の紫外線硬化型樹脂（ＰＥＴＡ、日本化薬製、屈折率：１.５１）５０質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製、商品名：イルガキュア１８４）２．５質量部、第１の透光性粒子として平均粒子径が３.５μｍの架橋アクリル−スチレン粒子（綜研化学製、屈折率：１.５５）を２質量部、第２の透光性粒子として平均粒子径が３.５μｍの架橋ポリスチレン粒子（綜研化学製、屈折率：１.６０）を３質量部、オルガノシラン化合物（ＫＢＭ−５１０３、信越化学工業（株）製）６．１９質量部、フッ素系面状改良剤前記ＦＰ−１４９を０．０５質量部、これらを溶媒（トルエン）５０質量部、シクロヘキサノン６．６質量部とよく混合したあと、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して光拡散層用塗布液（Ｉ）を調製した。この塗布液による塗膜の屈折率は１．５２であった。
なお、光拡散層用塗布液（Ｉ）において、塗料の表面張力は２５ｍＮ／ｍであった０．８であった。
【０２６９】
（光拡散層用塗布液（II）の調製）
ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（DPHA、日本化薬（株）製）２５．６質量部をメチルイソブチルケトン４６．３質量部で希釈した。更に、重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）を１．３質量部添加し、混合攪拌した。続いてフッ素系表面改質剤ＦＰ−１４９を０．０４質量部、シランカップリング剤（ＫＢＭ−５１０３、信越化学工業（株）製）を５．２質量部、分子量４０，０００のセルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ−５３１−１、イーストマンケミカル（株）製）０．５０質量部を加えてエアーディスパーにて１２０分間攪拌して溶質を完全に溶解した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．５２０であった。
最後に、この溶液にポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分間分散した平均粒径３．５μmの架橋ポリ（アクリル−スチレン）粒子（共重合組成比＝５０／５０、屈折率１．５３６）の３０％メチルイソブチルケトン分散液を２１．０質量部加えた後に、更にプロピレングリコール４．８質量部を加え、エアーディスパーにて１０分間攪拌した。
前記混合液を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して光拡散層用塗布液（II）を調製した。
【０２７０】
（光拡散層用塗布液（III）の調製）
酸化ジルコニウム微粒子を含有する透明高屈折率ハードコート材料（デソライトＺ７４０４、ＪＳＲ（株）製）２８５．０質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）８５．０質量部、オルガノシラン化合物（ＫＢＭ−５１０３、信越化学工業（株）製）２８．０質量部、メチルイソブチルケトン６０．０質量部、メチルエチルケトン１７．０質量部を添加して撹拌した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．６１であった。また、酸化ジルコニウム微粒子の分散物としての平均粒径を測定したところ０．０７μmであった。
更にこの溶液にポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで分散した平均粒径３．０μｍの分級を強化した架橋ＰＭＭＡ粒子（屈折率１．４９、ＭＸＳ−３００、綜研化学（株）製）の３０％メチルイソブチルケトン分散液３５．０質量部、ポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで分散した平均粒径１．５μｍのシリカ粒子（屈折率１．４６、シーホスターＫＥ−Ｐ１５０、（株）日本触媒製）の３０％メチルエチルケトン分散液９０．０質量部を添加して撹拌した。
このあと孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して光拡散層用塗布液（III）を調製した。この塗布液による塗膜の屈折率は１．６１であった。なお、光拡散層用塗布液（III）の表面張力は２７ｍＮ／ｍであった。
【０２７１】
（光拡散層用塗布液(IV)の調製）
光拡散層用塗布液（I）に対して、紫外線硬化型樹脂（ＰＥＴＡ、日本化薬（株）製）５０質量部を３０質量部に減らして、カプロラクトン付加した紫外線硬化型樹脂（ＤＰＣＡ-２０、日本化薬（株）製）を２０質量部加えた以外は光拡散層用塗布液（I）と同様にして、光拡散層用塗布液（IV）を調製した。この塗布液による塗膜の屈折率は１．５１であった。
【０２７２】
（光拡散層用塗布液(V)の調製）
光拡散層用塗布液（II）に対して、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（DPHA、日本化薬（株）製）２５．６質量部を１５．４質量部に減らして、代わりにカプロラクトン付加した紫外線硬化型樹脂（ＤＰＣＡ-３０、日本化薬（株）製）を１０．２質量部加えた以外は光拡散層用塗布液（II）と同様にして、光拡散層用塗布液（V）を調製した。この塗布液による塗膜の屈折率は１．５１であった。
【０２７３】
（光拡散層用塗布液(VI)の調製）
光拡散層用塗布液（V）に対して、紫外線硬化型樹脂ＤＰＣＡ-３０をＥＯ付加した紫外線硬化型樹脂ビスコート３６０（大阪有機化学工業（株）製）に同じ質量部置き換えた以外は光拡散層用塗布液（V）と同様にして、光拡散層用塗布液（VI）を調製した。この塗布液による塗膜の屈折率は１．５１であった。
【０２７４】
（光拡散層用塗布液(VIIの調製)
光拡散層用塗布液（II）に対して、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（DPHA、日本化薬（株）製）２５．６質量部を１３．６質量部に減らし、メチルイソブチルケトン４６．３質量部を８．３質量部に減らした。代わりに前記アルミナ分散液ＡＬ−１（アルミナ３０質量％）を５０．０質量部加えた以外は前記光拡散層用塗布液（II）と同様にして光拡散層用塗布液（VII）を調製した。この塗布液による塗膜の屈折率は１．６４であった。
【０２７５】
（光拡散層用塗布液(VIIIの調製)
光拡散層用塗布液（II）に対して、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（DPHA、日本化薬（株）製）２５．６質
量部を９．６質量部に減らし、メチルイソブチルケトン４６．３質量部を１２．３質量部に減らした。代わりに前記透明帯電防止層用塗料「ペルトロンＣ−４４５６Ｓ−７」（ＡＴＯ含有、固形分濃度４５％、日本ペルノックス（株）製）を５０．０質量部加えた以外は前記光拡散層用塗布液（II）と同様にして光拡散層用塗布液（VIII）を調製した。この
塗布液による塗膜の屈折率は１．５９であった。
【０２７６】
（光拡散層用塗布液(IX)の調製)
光拡散層用塗布液（II）に対して、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（DPHA、日本化薬（株）製）２５．６質
量部を１３．６質量部に減らし、メチルイソブチルケトン４６．３質量部をゼロに減らした。代わりに前記の帯電防止層用塗布液Ｂの調製で作製した中間品のＡＴＯが２０％の分散液（分散剤は入っているが、多官能アクリレート等の添加剤を加える前のＡＴＯ分散液）７５．０質量部加えた以外は前記光拡散層用塗布液（II）と同様にして光拡散層用塗布液（IX）を調製した。この塗布液による塗膜の屈折率は１．６３であった。
【０２７７】
（低屈折率層用塗料（ａ）の調製）
屈折率１．４２の熱架橋性でポリシロキサン及び水酸基を含有する含フッ素ポリマー（ＪＮ７２２８Ａ、固形分濃度６％、ＪＳＲ（株）製）１３．０質量部に、シリカ微粒子のＭＥＫ分散液ＭＥＫ−ＳＴの粒径違い品（ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ、平均粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学工業（株）製）１．３質量部、上記オルガノシラン化合物Ａ溶液０．６質量部、及びメチルエチルケトン５．０質量部、シクロヘキサノン０．６質量部を添加して攪拌した。孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗料（ａ）を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．４２であり、水に対する接触角は９６°であった。
【０２７８】
（低屈折率層用塗料（ｂ）の調製）
前記の含フッ素ポリマー（ＪＮ７２２８Ａ、固形分濃度６％、ＪＳＲ（株）製）１５．０質量部に、シリカ微粒子のＭＥＫ分散液（ＭＥＫ−ＳＴ、平均粒径１５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学工業（株）製）０．６質量部、シリカ微粒子のＭＥＫ分散液（ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ、平均粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学工業（株）製）０．８質量部、上記オルガノシラン化合物Ａ溶液０．４質量部、及びメチルエチルケトン３．０質量部、シクロヘキサノン０．６質量部を添加して攪拌した。孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗料（ｂ）を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．４２であった。
【０２７９】
（低屈折率層用塗料（ｃ）の調製）
前記の含フッ素ポリマー（ＪＮ−７２２８Ａ、固形分濃度６％、ＪＳＲ（株）製）１３．０質量部に、中空のシリカ微粒子のＭＥＫ分散液（屈折率１．３１、平均粒径６０ｎｍ、固形分濃度２０％）１．９５質量部、上記オルガノシラン化合物Ａ溶液０．６質量部、及びメチルエチルケトン４．３５質量部、シクロヘキサノン０．６質量部を添加して攪拌した。孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗料（ｃ）を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．４０であった。
【０２８０】
（低屈折率層用塗料（ｄ）の調製）
イソプロピルアルコール／メチルエチルケトン＝１／１（質量比）の混合溶媒に、テトラメトキシシラン１モル、０．１Ｎの塩酸２モルを添加した。室温で２時間撹拌して加水分解反応を行い、テトラメトキシシランの加水分解物の溶液を調整した。
イソプロピルアルコール／メチルエチルケトン＝１／１（質量比）に、テトラメトキシシランの加水分解物９．０質量部、ペンタエリスリトールトリアクリレート１．０質量部、重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．５質量部、固形分濃度が４．５質量％になるように添加して撹拌した。孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗料（ｄ）を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．４５であった。
【０２８１】
（低屈折率層用塗料（ｅ）の調製）
前記のパーフルオロオレフィン共重合体（１）の溶液（固形分濃度３０％）１５．０質量部に、アクリロイル基を有するポリシロキサン化合物（Ｘ−２２−１６４Ｃ，信越化学工業（株）製）０．１５質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．２３質量部、及び、メチルエチルケトン８１．８質量部、シクロヘキサノン２．８質量部を添加して撹拌した。孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗料（ｅ）を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．４３であり、水に対する接触角は９５°であった。
【０２８２】
（低屈折率層用塗料（ｆ）の調製）
前記パーフルオロオレフィン共重合体（１）の溶液（固形分濃度３０％）１０．５質量部に、シリカ微粒子のＭＥＫ分散液（ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ、平均粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学工業（株）製）４．５質量部、アクリロイル基を有するポリシロキサン化合物（Ｘ−２２−１６４Ｃ，信越化学工業（株）製）０．１５質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．２３質量部、前記オルガノシラン化合物Ａ溶液２．０質量部、及びメチルエチルケトン８１．２質量部、シクロヘキサノン２．８質量部を添加して撹拌した。孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗料（ｆ）を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．４４であった。
【０２８３】
（低屈折率層用塗料（ｇ）の調製）
前記パーフルオロオレフィン共重合体（１）の溶液（固形分濃度３０％）１０．５質量部に、中空のシリカ微粒子のＭＥＫ分散液（屈折率１．３１、平均粒径６０ｎｍ、固形分濃度２０％）６．７５質量部、アクリロイル基を有するポリシロキサン化合物（Ｘ−２２−１６４Ｃ，信越化学工業（株）製）０．１５質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．２３質量部、上記オルガノシラン化合物Ａ溶液２．０質量部、及び、メチルエチルケトン８１．２質量部、シクロヘキサノン２．８質量部を添加して撹拌した。孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗料（ｇ）を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．４１であった。
【０２８４】
（低屈折率層用塗料（ｈ）の調製）
前記パーフルオロオレフィン共重合体（１）の溶液（固形分濃度３０％）１３．５質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）０．４５質量部、アクリロイル基を有するポリシロキサン化合物（Ｘ−２２−１６４Ｃ、信越化学工業（株）製）０．１５質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．２３質量部、及び、メチルエチルケトン８１．２質量部、シクロヘキサノン２．８質量部を添加して、撹拌した。孔径１ｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗料（ｈ）を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．４４であった。
【０２８５】
［実施例８］
（１）帯電防止層の塗設
表７に記載のように、前記実施例１のセルロースアシレートフィルムをロール形態で巻き出して、下記の塗布条件で示されるダイコート法によって帯電防止層用塗布液Ａを塗布し、３０℃で１５秒間、９０℃で２０秒間乾燥の後、更に窒素パージ下で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照射量９０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、塗布膜厚が表７に記載になるような帯電防止層を形成し、巻き取った。
【０２８６】
基本条件：スロットダイは、ウェブ進行方向に対してダイの上流側リップランド長が０．５ｍｍ、下流側リップランド長が５０μｍで，スロットの開口部のウェブ走行方向における長さが１５０μｍ、スロットの長さが５０ｍｍのものを使用した。上流側リップランドとウェブの隙間を、下流側リップランドとウェブの隙間よりも５０μｍ長くし（以下、オーバーバイト長さ５０μｍと称する）、下流側リップランドとウェブとの隙間 を５０μｍに設定した。塗布速度は４０m/分とし、それぞれの塗布液の液物性と所望する塗布膜厚に合うように塗布液量を調整した。なお、塗布幅：１３００ｍｍ、有効幅：１２８０ｍｍとした。
（２）光拡散層の塗設
前記帯電防止層を塗布した試料、又は前記実施例１、実施例６、実施例７のセルロースアシレーフィルムをロール形態で巻き出して、乾燥、紫外線照射条件を前記帯電防止層の塗設と同様にして、塗布膜厚が表７に記載になるような光拡散層を形成して巻き取った。
【０２８７】
（３）低屈折率層の塗設
上記光拡散層用塗布液を塗布したセルロースアシレーフィルムをロール形態で巻き出して、前記低屈折率層用塗布液を上記の基本条件で塗布し、１２０℃で１５０秒乾燥の後、更に１４０℃で８分乾燥させてから窒素パージにより酸素濃度０．１％の雰囲気下で２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照射量３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し、厚さ１００ｎｍの低屈折率層を形成し、巻き取った。なお低屈折率層塗布液ｄについては、１２０℃で１５０秒乾燥の後、更に１４０℃で２０分乾燥させた。
（４）反射防止フィルムの鹸化処理
前記低屈折率層の製膜後、前記試料について、以下の処理を行った。
１．５ｍｏｌ／ｌの水酸化ナトリウム水溶液を調製し、５５℃に保温した。０．０１ｍｏｌ／ｌの希硫酸水溶液を調製し、３５℃に保温した。作製した反射防止フィルムを前記の水酸化ナトリウム水溶液に２分間浸漬した後、水に浸漬し水酸化ナトリウム水溶液を十分に洗い流した。次いで、前記の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に試料を１２０℃で十分に乾燥させた。なお、低屈折率層塗布液ｄを塗設した試料については塗設側と反対側の面についてのみ鹸化処理を行った。
このようにして、鹸化処理済みの光学機能フィルムを作製した。
各塗設層の積層の組合せと各塗設層膜厚を表７に示す。なお塗布順は、支持体に対して表７に向かって左側に記載の層（帯電防止層等）から順に積層塗布した。
【０２８８】
【表７】

【０２８９】
（光学機能フィルムの評価）
得られたフィルムについて、以下の項目の評価を行った。結果を表１に示す。
【０２９０】
（１）平均反射率
フィルムの裏面をサンドペーパーで祖面化した後に黒色インクで処理し、裏面反射をなくした状態で、表面側を、分光光度計（日本分光（株）製）を用いて、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における鏡面分光反射率を測定した。結果には４５０〜６５０ｎｍの鏡面反射率の算術平均値を用いた。
【０２９１】
（２）ヘイズ値
ＪＩＳ−Ｋ７１３６に準じてフィルム試料のヘイズ値を測定した。
【０２９２】
（３）防眩性
フィルム試料の機能層塗設側にルーバーなしのむき出し蛍光灯（８０００ｃｄ／ｍ２）を４５度の角度から映し、−４５度の方向から観察した際の反射像のボケの程度を以下の基準で評価した。
蛍光灯の輪郭が全くわからない ：◎
蛍光灯の輪郭がわずかにわかる ：○
蛍光灯の周囲が白くぼけているが、輪郭は識別できる ：△
蛍光灯の周囲がごく僅か白くぼける ：△×
蛍光灯の周囲が全くぼけず、輪郭もクッキリ見える ：×
【０２９３】
（４）鉛筆硬度
耐傷性の指標としてＪＩＳ Ｋ ５４００に記載の鉛筆硬度評価を行った。塗設後のフィルム試料を温度２５℃、湿度６０％ＲＨで２時間調湿した後、ＪＩＳ Ｓ ６００６に規定する３Ｈの試験用鉛筆を用いて、０．５ｋｇの荷重にて塗設層について引っ掻き試験を行い、以下の基準で硬度を評価した。
ｎ＝５の評価において傷が全く認められない ：○
ｎ＝５の評価において傷が１つ ：○〜△
ｎ＝５の評価において傷が２つ ：△
ｎ＝５の評価において傷が３つ以上 ：×
（５）カール値
試料を塗布ロール搬送方向に３０cm、塗布幅方向に２０cmの大きさに切り取り、２５℃２０％ＲＨの環境下、水平作業台の上で光学機能層を有する側を上向きにして２４時間静置した。その後試料の四隅について水平作業台から持ち上がった距離を定規で測定し、その平均をとった。
【０２９４】
（６）表面比抵抗
試料を（２５℃／６０％ＲＨ）の条件下に１時間放置した後、同条件下で低屈折率層を有する側の表面比抵抗を、超絶縁抵抗／微小電流計ＴＲ８６０１（（株）アドバンテスト製）を用いて測定した。
【０２９５】
（７）透湿度
前記実施例１に同じ
【０２９６】
評価結果を表８に示す。
【０２９７】
【表８】

【０２９８】
表８の結果から、塗設層を持たないセルロースアシレートフィルム試料（No.１５３、１５４）は、ヘイズ、カールに優れるものの、反射率が高く、かつ防眩性、鉛筆硬度が悪いことが分かる。これに対して本発明の塗設層を有する光学機能フィルム試料（No.１０１〜１３６）は、反射率、防眩性、鉛筆硬度に優れ、かつ透湿度も低くて好ましいことがわかる。
またフィルム膜厚を薄くした光学機能フィルムはカールが大きくなる傾向を示すが（例えば試料No.１２８に対して１０６、No.１３０に対して１２９）光拡散層に無機微粒子を含有した試料（No.１０７、１１１〜１１３）やアルキレンオキシド類を付加した多官能アクリレート系化合物を用いた試料（No.１０８〜１１０）はカールが小さくなって好ましいことが分かる。、
【０２９９】
セルロースアシレートに含有するシリカフィラーの厚み方向での偏在性を変えたフィルム試料（No.１３３〜１３６、１４４〜１５２）について、光学機能層塗設後のロールの巻取り時の「シワ」の発生を観察した。
その結果、微粒子を含有する試料（No.１３３〜１３６、１４４〜１４９）は、含有しない試料（No.１５０〜１５２）に比べて巻きシワの発生が明らかに少なかった。
【０３００】
［実施例９］
（偏光板の作製）
１．５ｍｏｌ／Ｌ、５５℃のＮａＯＨ水溶液中に２分間浸漬したあと中和、水洗した８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）と、実施例８で作製した光学機能フィルム（鹸化処理済み：実施例８−試料１０１〜１３６）を、ポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ延伸して作製した偏光子の両面にそれぞれ（ＴＤ８０Ｕと実施例８の各試料が対をなすようにした）を接着させて、偏光板を作製した。これらを、実施例９−試料１０１〜１３６とした。
【０３０１】
［実施例１０］
（偏光板の評価）
実施例９で作製した実施例９−試料１０１〜１３６の偏光板を、各液晶テレビの視認側の偏光板の一部を剥がして上記偏光板に貼り換えたものを作製した。得られた表示装置について、以下の項目の評価を行った。
【０３０２】
（１）暗室コントラスト
画像サイズ３２インチのＬＣＤパネル（ＶＡモード）について、表面側の偏光板を、２枚の表面の平滑なＴＡＣフィルムを保護フィルムとして用いた偏光板に貼り換え、暗室にて正面コントラストを目視で測定した。
その結果、本発明の実施例９−１０１〜１３６は、ＴＡＣフィルムを保護フィルムとして貼ったＬＣＤパネルに比べて、コントラストの低下が気にならず、ギラツキと、映り込みが格段に良くなっていた。
【０３０３】
（２）ギラツキ
表中に記載の精細度と画像サイズを有するＬＣＤパネルで緑色のベタ表示をした状態で、Ｂ、Ｇ、Ｒ各画素の部分的な拡大／縮小が不均一に目視される状態（ギラツキ）の程度を以下の基準で目視評価した。
ギラツキが全くわからず、好ましい ：◎
ギラツキがわずかにわかるが、比較的好ましい ：○
ギラツキが若干気になる ：△
ギラツキが目立ち、好ましくない ：×
その結果、本発明の実施例９−１０１〜１３６は、評価ランクが、○〜◎であった。
【０３０４】
（３）映り込み
得られた液晶テレビにルーバーなしのむき出し蛍光灯（８０００ｃｄ／ｍ^２）を４５度の角度から映し、−４５度の方向から観察した際の蛍光灯の映り込みの程度を以下の基準で評価した。
蛍光灯の輪郭が全くわからない程、映り込まない ：◎
蛍光灯の輪郭がわずかにわかるが、殆ど映り込まない ：○
蛍光灯はぼけているが、若干写り込む ：△
蛍光灯が完全に写り込む ：×
その結果、本発明の実施例９−１０１〜１３６は、評価ランクが、△〜◎であり好ましいものであった。
【０３０５】
［実施例１１］
透過型ＴＮ液晶セルの視認側の偏光板の液晶セル側の保護フィルムとして本発明の実施例９−１０１〜１３６を貼り付け、バックライト側の偏光板の液晶セル側の保護フィルムとして、視野角拡大フィルム（ワイドビューフィルムＳＡ １２Ｂ、富士写真フィルム（株）製）を用いたところ、上下左右の視野角が非常に広く、極めて視認性に優れ、表示品位の高い液晶表示装置が得られた。
【０３０６】
［比較例Ａ］
実施例８−１０６の光拡散層及び低屈折率層をバーコート法にて塗布した。光拡散層には１０番バーを用い、低屈折率層には２．９番バーを用いたが、光拡散層では塗布速度が１５ｍ／分以上でスジ状の面状ムラが発生し、低屈折率層では塗布速度が２０ｍ／分以上でスジ状の面状ムラが発生した。
【符号の説明】
【０３０７】
１ 光学機能フィルム（反射防止フィルム）
２ 透明支持体
３ 光拡散層
４ 低屈折率層
５ 透光性微粒子

【特許請求の範囲】
【請求項１】
２５℃８０％ＲＨにおける含水率が２．９質量％以下のセルロースアシレートフィルムであって、下記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される疎水化剤を含むセルロースアシレートフィルム。
一般式（Ｉ）
【化１】

（式中、Ｒ¹、Ｒ²、及びＲ³は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、芳香族環基又は複素環基である。）
一般式（ＩＩ）
【化２】

（式中、Ｘは置換又は未置換のアミノ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、カルボキシル基を表わす。
Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ²¹、Ｒ²²、Ｒ²³、Ｒ²⁴、Ｒ²⁵、Ｒ³¹、Ｒ³²、Ｒ³³、Ｒ³⁴ないしＲ³⁵は水素原子又は置換基を表す。）
【請求項２】
膜厚が１０μm〜７０μmであることを特徴とする請求項１に記載のセルロースアシレートフィルム。
【請求項３】
前記疎水化剤の含有量が、セルロースアシレートに対して１１．７質量％以上２０質量％以下である請求項１又は２に記載のセルロースアシレートフィルム。
【請求項４】
２５℃８０％ＲＨにおける含水率が２．３質量％以下である請求項１〜３のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
【請求項５】
前記疎水化剤のオクタノール−水分配係数（以下ｌｏｇＰ）の質量平均値が４以上１２以下である請求項１〜４のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
【請求項６】
セルロースアシレートの結晶化度が３０００以上１５０００以下である請求項１〜５のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
【請求項７】
２５℃９０％ＲＨ環境下での透湿度が、２０ｇ／m²・２４ｈｒｓ以上２００ｇ／m²・２４ｈｒｓ以下である請求項１〜６のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
【請求項８】
フィルム厚み方向において、基層と少なくとも一層の表層とを有する多層構造からなり、該表層にのみ微粒子が含有されている請求項１〜７のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
【請求項９】
少なくとも一方の面に塗設層を有する請求項１〜８のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルムが偏光膜の２枚の保護フィルムの少なくとも一方に用いられていることを特徴とする偏光板。
【請求項１１】
請求項１〜９のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム又は請求項１０に記載の偏光板が画像表示面に配置されていることを特徴とする画像表示装置。

【図１】

【公開番号】特開２０１０−１５９４２１（Ｐ２０１０−１５９４２１Ａ）
【公開日】平成２２年７月２２日（２０１０．７．２２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−２５９９０（Ｐ２０１０−２５９９０）
【出願日】平成２２年２月８日（２０１０．２．８）
【分割の表示】特願２００５−６４０６４（Ｐ２００５−６４０６４）の分割
【原出願日】平成１７年３月８日（２００５．３．８）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】