プラズマディスプレイパネルの製造方法
【課題】積層して形成された層を有する電極にエッジカールが発生することを抑制し、さらに電極の欠け・剥れおよび誘電体絶縁破壊を抑制し、高歩留まりとなるプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、基板上に第１感光性組成物層を形成する工程と、第１感光性組成物層の上に第２感光性組成物層を形成する工程と、第１感光性組成物層をある波長にて第１電極に相当するパターンに露光する工程と、第２感光性組成物層を、第１感光性組成物層を露光した波長と異なる波長にて第２電極に相当するパターンに露光する工程とを有することを特徴とする。
【解決手段】本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、基板上に第１感光性組成物層を形成する工程と、第１感光性組成物層の上に第２感光性組成物層を形成する工程と、第１感光性組成物層をある波長にて第１電極に相当するパターンに露光する工程と、第２感光性組成物層を、第１感光性組成物層を露光した波長と異なる波長にて第２電極に相当するパターンに露光する工程とを有することを特徴とする。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示デバイスなどに用いるプラズマディスプレイパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと呼ぶ）は、高精細化、大画面化の実現が可能であることから、１００インチクラスのテレビなどが製品化されている。近年、ＰＤＰは従来のＮＴＳＣ方式に比べて走査線数が２倍以上のハイディフィニションテレビへの適用が進んでいるとともに、低コスト化が求められている。
【０００３】
ＰＤＰは、基本的には、前面板と背面板とで構成されている。前面板は、フロート法による硼硅酸ナトリウム系ガラスのガラス基板と、その一方の主面上に形成されたストライプ状の透明電極とバス電極とで構成される表示電極と、この表示電極を覆ってコンデンサとしての働きをする誘電体層と、この誘電体層上に形成された酸化マグネシウム（ＭｇＯ）からなる保護層とで構成されている。一方、背面板は、ガラス基板と、その一方の主面上に形成されたストライプ状のアドレス電極と、アドレス電極を覆う下地誘電体層と、下地誘電体層上に形成された隔壁と、各隔壁間に形成された赤色、緑色および青色それぞれに発光する蛍光体層とで構成されている。
【０００４】
前面板と背面板とはその電極形成面側を対向させて気密封着され、隔壁によって仕切られた放電空間にＮｅ−Ｘｅの放電ガスが５３０００Ｐａ〜８００００Ｐａの圧力で封入されている。ＰＤＰは、表示電極に映像信号電圧を選択的に印加することによって放電させ、その放電によって発生した紫外線が各色蛍光体層を励起して赤色、緑色、青色の発光をさせ、カラー画像表示を実現している。
【０００５】
ここで、前面板のバス電極は、高抵抗である透明電極の電気伝導性を補助するために設けられるものであり、銀（Ａｇ）のような電気抵抗値の低い導電性材料を用いて形成されるが、Ａｇのような低抵抗の材料を用いて形成した導電層は略白色であり、この略白色の電極層によって外光反射が起こり、コントラストが悪化する。このため、バス電極を、黒色顔料を含む材料を用いて形成した黒色の第１電極層と低抵抗の材料を用いて形成した略白色の第２電極層とにより構成し、透明電極と略白色の第２電極層との間に略黒色の第１電極層が配置されるようにすることによって外光反射を抑制しコントラストが悪化することを防止している（例えば特許文献１参照）。
【特許文献１】特開平１１−２７３５７８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
一般に黒色の第１電極および略白色の第２電極は、次のようにして形成される。まず、透明電極を形成した前面基板に黒色材料を含んだ感光性ペーストを塗布した後、乾燥して第１感光性組成物層を形成する。その後、低抵抗の材料を含んだ略白色の感光性ペーストを第１感光性組成物層上に塗布し乾燥して第２感光性組成物層を形成する。次に、露光マスクを用いて、第１電極および第２電極に相当するパターンに露光する。そして、現像して未露光部を除去した後、焼成することに固化され、第１電極および第２電極が形成される。
【０００７】
しかし、第１感光性組成物層と第２感光性組成物層を一括して露光したときに上層である第２感光性組成物層よりも下層である第１感光性組成物層の方が、活性光線によって感光されにくく、硬化が弱くなってしまう。このため、続く現像工程において、下層である第１感光性組成物層の現像液による侵食が進み、現像後の形状が露光領域とは異なる状態が生じる。この形状を図３に示す。このように基板１０３上に形成した第１電極１０４の幅は、その上に形成した第２電極１０５の幅よりも狭くなっている。
【０００８】
そして、このような形状で焼成するため、焼成中に発生する内部応力によって、第２感光性組成物層の端部が盛り上がった形状となる（これをエッジカールと称する）。この形状を図４に示す。このように第２電極１０５の端部が湾曲した状態となる。
【０００９】
このようなエッジカールが形成された状態でＰＤＰを作製し、画像表示を行うとエッジカールの大きい電極ではエッジカールの先端における電界が強くなり、電極を覆うように形成された誘電体層の絶縁破壊が発生しやすくなる。またさらに、画像表示側からの見た目が黒色である第１電極に比べて略白色である第２電極の幅が広くなるので、第２電極の両端部において外光反射するようになりコントラストが低下するという課題も生じる。
【００１０】
これに対しては、第１感光性組成物層を形成した後に一旦露光し、その後第２感光性組成物層を形成してさらに露光し、そして現像して未露光部を除去する手法がある。これによれば、いずれの感光性組成物層も活性光線によって十分に硬化され、上記の課題は改善され得る。
【００１１】
しかしながら、上記の手法では複数回の露光を行う必要があるため、それぞれの露光工程での露光マスクと被露光基板とのアライメントのズレが生じることになる。このズレによって、第２電極が第１電極上から面内一部でもはみだした場合には、当該箇所において外光反射によるコントラスト低下部分ができてしまい、画像表示の面内バラツキにつながるという課題が発生する。
【００１２】
また、前記露光のアライメントズレによる課題を回避するために、上層である第２電極の幅を下層である第１電極よりも十分に狭くする手法も考えられる。しかし、この手法では第２電極を所望の抵抗値にて形成することができなかったり、電極幅が細くなりすぎて部分的な欠損（欠け）等のパターン欠陥ができる課題が発生する場合がある。
【００１３】
本発明はこのような課題に鑑みてなされたものであり、上記課題を解決して面内表示バラツキのない信頼性の高いＰＤＰを提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記の課題を解決するために本発明のＰＤＰの製造方法は、基板上に第１感光性組成物層を形成する工程と、第１感光性組成物層の上に第２感光性組成物層を形成する工程と、第１感光性組成物層をある波長にて第１電極に相当するパターンに露光する工程と、第２感光性組成物層を、第１感光性組成物層を露光した波長と異なる波長にて第２電極に相当するパターンに露光する工程とを有することを特徴とする。
【００１５】
また、第１電極が外光反射抑制層であり、第２電極が導電層であってもよく、第２電極が銀を含んでいてもよい。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、高精細表示においても、外光反射によるコントラスト低下を防いで高輝度、高信頼性を確保し、さらに電極パターン不良および誘電体絶縁破壊不良を低減した高歩留まりのＰＤＰの製造を実現することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明の実施の形態におけるＰＤＰについて図面を用いて説明する。
【００１８】
（実施の形態）
図１は本発明の実施の形態におけるＰＤＰの構造を示す斜視図である。本実施の形態のＰＤＰの基本構造は、一般的な交流面放電型ＰＤＰと同様である。図１に示すように、ＰＤＰ１は前面ガラス基板３などよりなる前面板２と、背面ガラス基板１１などよりなる背面板１０とが対向して配置され、その外周部をガラスフリットなどからなる封着材によって気密封着されている。封着されたＰＤＰ１内部の放電空間１６には、ＮｅおよびＸｅなどの放電ガスが５３０００Ｐａ〜８００００Ｐａの圧力で封入されている。
【００１９】
前面板２の前面ガラス基板３上には、走査電極４および維持電極５よりなる一対の帯状の表示電極６とブラックストライプ（遮光層とも言う）７が互いに平行にそれぞれ複数列配置されている。前面ガラス基板３上には表示電極６と遮光層７とを覆うようにコンデンサとしての働きをする誘電体層８が形成され、さらにその表面に酸化マグネシウムなどからなる保護層９が形成されている。
【００２０】
また、背面板１０の背面ガラス基板１１上には、前面板２の走査電極４および維持電極５と直交する方向に、複数の帯状のアドレス電極１２が互いに平行に配置され、これを下地誘電体層１３が被覆している。さらに、アドレス電極１２間の下地誘電体層１３上には放電空間１６を区切る所定の高さの隔壁１４が形成されている。隔壁１４間の溝にアドレス電極１２毎に、紫外線によって赤色、青色および緑色にそれぞれ発光する蛍光体層１５が順次塗布して形成されている。走査電極４および維持電極５とアドレス電極１２とが交差する位置に放電セルが形成され、表示電極６方向に並んだ赤色、青色、緑色の蛍光体層１５を有する放電セルがカラー表示のための画素になる。
【００２１】
図２は、本発明の実施の形態におけるＰＤＰの前面板２の構成を示す断面図である。図２は図１と上下反転させて示している。図２に示すように、フロート法などにより製造された前面ガラス基板３に、走査電極４と維持電極５よりなる表示電極６とブラックストライプ７がパターン形成されている。走査電極４と維持電極５はそれぞれ酸化インジウム（ＩＴＯ）や酸化スズ（ＳｎＯ2）などからなる透明電極４ａ、５ａと、透明電極４ａ、５ａ上に形成された金属バス電極４ｂ、５ｂとにより構成されている。金属バス電極４ｂ、５ｂは透明電極４ａ、５ａの長手方向に導電性を付与する目的として用いられ、銀（Ａｇ）材料を主成分とする導電性材料によって形成されている。さらに、金属バス電極４ｂ、５ｂは黒色の黒色電極４１ｂ、５１ｂと白色の白色電極４２ｂ、５２ｂとで構成されている。
【００２２】
誘電体層８は、前面ガラス基板３上に形成されたこれらの透明電極４ａ、５ａと金属バス電極４ｂ、５ｂとブラックストライプ７を覆って設けさらに誘電体層８上に保護層９を形成している。
【００２３】
（本発明の実施の形態におけるＰＤＰの製造方法について）
次に、本発明の実施の形態におけるＰＤＰ１の製造方法について説明する。まず、前面ガラス基板３上に、走査電極４および維持電極５と遮光層７とを形成する。透明電極４ａ、５ａは薄膜プロセス等によって成膜され、フォトリソグラフィ法等によってパターニングし、形成される。一方、黒色電極４１ｂ、５１ｂおよび白色電極４２ｂ、５２ｂは、導電性黒色粒子あるいは銀（Ａｇ）材料を含むペーストをスクリーン印刷法等によって塗布し、フォトリソグラフィ法等によってパターニングした後、所望の温度で焼成して固化する。なお、この工程については後に詳述する。
【００２４】
また遮光層７は、黒色電極４１ｂ、５１ｂと同様に黒色材料を含むペーストをスクリーン印刷にて塗布した後、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングし、焼成することにより形成される。
【００２５】
次に、走査電極４、維持電極５および遮光層７を覆うように前面ガラス基板３上に誘電体ペーストをダイコート法などにより塗布して誘電体ペースト層（誘電体ガラス層）を形成する。誘電体ペーストを塗布した後、所定の時間放置することによって塗布された誘電体ペースト表面がレベリングされて平坦な表面になる。
【００２６】
その後、誘電体ペースト層を焼成固化することにより、走査電極４、維持電極５および遮光層７を覆う誘電体層８が形成される。なお、誘電体ペーストは粉末の誘電体ガラス、バインダおよび溶剤を含む塗料である。次に、誘電体層８上に酸化マグネシウム（ＭｇＯ）からなる保護層９を真空蒸着法により形成する。以上の工程により、前面ガラス基板３上に所定の構成部材が形成されて前面板２が完成する。
【００２７】
一方、背面板１０は次のようにして形成される。まず、背面ガラス基板１１上に、銀（Ａｇ）材料を含むペーストをスクリーン印刷する方法や、金属膜を全面に形成した後、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングする方法などによりアドレス電極１２用の構成物となる材料層を形成し、それを所望の温度で焼成することによりアドレス電極１２を形成する。
【００２８】
次に、アドレス電極１２が形成された背面ガラス基板１１上にダイコート法などによりアドレス電極１２を覆うように誘電体ペーストを塗布して誘電体ペースト層を形成する。その後、誘電体ペースト層を焼成することにより下地誘電体層１３を形成する。なお、誘電体ペーストは粉末の誘電体ガラスとバインダおよび溶剤を含んだ塗料である。
【００２９】
次に、下地誘電体層１３上に隔壁材料を含む隔壁形成用ペーストを塗布して所定の形状にフォトリソグラフィ法等によって隔壁材料層をパターニングし、その後、焼成することにより隔壁１４を形成する。ここで、下地誘電体層１３上に塗布した隔壁用ペーストをパターニングする方法としては、フォトリソグラフィ法やサンドブラスト法を用いることができる。次に、隣接する隔壁１４間の下地誘電体層１３上および隔壁１４の側面に蛍光体材料を含む蛍光体ペーストを塗布して焼成することにより蛍光体層１５が形成される。以上の工程により、背面ガラス基板１１上に所定の構成部材が形成されて背面板１０が完成する。このようにして所定の構成部材を備えた前面板２と背面板１０とを走査電極４とアドレス電極１２とが直交するように対向配置して、その周囲をガラスフリットで封着し、放電空間１６にＮｅ、Ｘｅなどを含む放電ガスを封入することによりＰＤＰ１が完成する。
【００３０】
（本発明の実施の形態における表示電極の製造方法について）
上述したように本発明のＰＤＰの製造方法は、基板上に第１感光性組成物層を形成する工程と、第１感光性組成物層の上に第２感光性組成物層を形成する工程と、第１感光性組成物層をある波長にて第１電極である黒色電極４１ｂ、５１ｂに相当するパターンに露光する工程と、第２感光性組成物層を、第１感光性組成物層を露光した波長と異なる波長にて第２電極である白色電極４２ｂ、５２ｂに相当するパターンに露光する工程とを有することを特徴とする。
【００３１】
以下、黒色電極４１ｂ、５１ｂおよび白色電極４２ｂ、５２ｂの製造方法について、図５の工程フロー図を用いて詳細に説明する。
【００３２】
まずステップ１（Ｓ１）として、透明電極４ａ、５ａを形成した前面ガラス基板３上に黒色材料を含んだ感光性ペースト（以下、単に黒色ペーストと称する）を印刷法等によって塗布した後、乾燥して第１感光性組成物層２１を形成する。なお、同図においては便宜上、透明電極４ａ、５ａの記載を省略している。
【００３３】
ここで、黒色ペーストとは、黒色材料としてコバルト（Ｃｏ）、ニッケル（Ｎｉ）、銅（Ｃｕ）、マンガン（Ｍｎ）、鉄（Ｆｅ）等の黒色金属微粒子、金属酸化物、金属複合酸化物が５重量％〜４０重量％と、少なくとも酸化ビスマス（Ｂｉ2Ｏ3）を５重量％〜２５重量％含むガラス材料が１０重量％〜４０重量％と、有機成分として、感光性モノマー、感光性オリゴマーもしくはポリマーあるいは場合により高分子バインダおよび光重合開始剤、増感剤、溶剤などを３０重量％〜６０重量％よりなる感光性ペーストである。
【００３４】
また本発明の実施の形態において、黒色ペーストに含まれる光重合開始剤としては、少なくとも４０５ｎｍあるいは４３６ｎｍに吸収特性を有する光重合開始剤を使用する事が特徴である。たとえば、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルフォリニル）フェニル］−ブタン−１−オン、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド、ビス（η５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウム等が挙げられるがこれらに限るものではない。また単独でも２種類以上組み合わせても使用することができる。光重合開始剤は、感光性成分に対して好ましくは０．１〜３０重量％、より好ましくは２〜２０重量％添加する。
【００３５】
次にステップ２（Ｓ２）として低抵抗の材料を含んだ略白色の感光性ペースト（以下、単に白色ペーストと称する）を印刷法などによって第１感光性組成物層２１上に塗布・乾燥し、第２感光性組成物層２２を形成する。ここで、白色ペーストは、少なくとも銀（Ａｇ）粒子が７０重量％〜９０重量％と、少なくとも酸化ビスマス（Ｂｉ2Ｏ3）を５重量％〜２５重量％含むガラス材料が１重量％〜１５重量％と、有機成分として、感光性モノマー、感光性オリゴマーもしくはポリマーあるいは場合により高分子バインダおよび光重合開始剤、増感剤、溶剤などを８重量％〜３０重量％よりなる感光性ペーストである。
【００３６】
また本発明の実施の形態において、白色ペーストの光重合開始剤としては、黒色ペーストに使用した４０５ｎｍあるいは４３６ｎｍに吸収特性を有する光重合開始剤を使用せず、３６５ｎｍ以下の波長に吸収特性を有する光重合開始剤のみを使用する事を特徴とする。たとえば、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オンなどが挙げられるがこれらに限るものではない。また単独でも２種類以上組み合わせても使用することができる。光重合開始剤は、感光性成分に対して好ましくは０．１〜３０重量％、より好ましくは２〜２０重量％添加する。
【００３７】
次にステップ３（Ｓ３）として第１感光性組成物層２１と第２感光性組成物層２２の積層膜に、フォトマスク３０を介して活性光線３１を照射し露光する。
【００３８】
ここで、本発明の実施の形態においては、第１感光性組成物層２１である黒色ペースト中に使用されている４０５ｎｍあるいは４３６ｎｍに吸収特性を有する光重合開始剤が選択的に反応するように、例えば３８０ｎｍ以下の波長領域の光を１０％以下にカットして積層膜に照射されるようにする。
【００３９】
そうすることで、照射した活性光線３１の波長領域に吸収特性を有する第１感光性組成物層２１中の光重合開始剤が選択的に反応しラジカル種を発生させ第１感光性組成物層２１での重合が進行し硬化部２１１を形成する事ができる。
【００４０】
照射される活性光線３１の波長領域を制限する方法としては、フォトマスク３０と活性光線３１の光源の間に所望の波長選択性のある光学フィルター３２を使用したり、フォトマスク３０の透過部の波長透過性を調整する等の手法によって実現可能である。
【００４１】
次にステップ４（Ｓ４）として、第１感光性組成物層２１と第２感光性組成物層２２の積層膜に、フォトマスク４０を介して活性光線４１を照射し露光する。この工程では第２感光性組成物層２２である白色ペースト中に使用されている光重合開始剤が反応するように、３６５ｎｍ以下の波長領域の光を８０％以上照射されるようにする。
【００４２】
そうすることで、照射した活性光線４１の波長領域に吸収特性を有する第２感光性組成物層２２中の光重合開始剤が選択的に反応しラジカル種を発生させ第２感光性組成物層２２における重合が進行し硬化部２２１を形成する事ができる。
【００４３】
照射される活性光線４１の波長領域を制限する方法としては、ステップ３と同様にフォトマスク４０と活性光線４１の光源の間に所望の波長選択性のある光学フィルター４２を使用したり、フォトマスク４０の透過部の波長透過性を調整する等の手法によって実現可能である。
【００４４】
ステップ３とステップ４において光学フィルター３２、４２で活性光線３１、４１の波長領域を制限する方法をとった場合、活性光線３１、４１とフォトマスク３０、４０はステップ３とステップ４で共通に使用することができ、つまり光学フィルター３２、４２の入れ替えをするだけで、フォトマスクの入れ替えで起こるアライメントのズレによる露光パターンのズレを防ぐこともできる。
【００４５】
次にステップ５（Ｓ５）として、第１感光性組成物層２１と第２感光性組成物層２２の未露光部を現像液で除去する。そして本発明の実施の形態では下層である第１感光性組成物層２１の硬化部２１１も十分に硬化しているため、上層よりも下層の侵食が進む事なく図５に示したような幅で形成することができる。
【００４６】
続いてステップ６（Ｓ６）として焼成工程で現像膜中の有機成分が熱分解されて除去される。焼成温度は使用する塩基性無機粉末の種類によっても異なるが、最高温度で５００〜６５０℃の範囲が採用される。以上のように黒色電極４１ｂ、５１ｂおよび白色電極４２ｂ、５２ｂが形成される。
【００４７】
このように本発明の実施の形態における金属バス電極４ｂ、５ｂでは、エッジカールが形成されないため誘電体層８の絶縁破壊が発生しやすくなるという課題もなく、さらには、上層である白色電極４２ｂ、５２ｂの幅が下層である黒色電極４１ｂ、５１ｂの幅より太くなることがないので、表示面側からみたときの外光反射によるコントラスト低下を防ぐことができる。
【００４８】
（実施例）
本発明の実施の形態での効果を確認するため、次のような検討を行った。以下に示した組成の黒色ペーストと白色ペーストを使用して４２インチのハイビジョンテレビの前面板に適合するように電極間隔を６０〜７０μｍとして黒色電極４１ｂ、５１ｂおよび白色電極４２ｂ、５２ｂの金属バス電極４ｂ、５ｂを形成した。
［黒色感光性ペースト］
・メタクリル酸／スチレン／グリシジルメタクリレート共重合体（モル比５０／２５／２５）：５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート：２３重量部
・トリメチロールプロパントリアクリレート：２３重量部
・２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン：１０重量部
・トリプロピレングリコールモノメチルエーテル：１００重量部
・四三酸化コバルト（Ｃｏ3Ｏ4）：９０重量部
・ガラス粉末（Ｂｉ−Ｂ−Ｚｎ−Ｓｉ系）：８０重量部
［白色感光性ペースト］
・メタクリル酸／スチレン／グリシジルメタクリレート共重合体（モル比５０／２５／２５）：５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート：２３重量部
・トリメチロールプロパントリアクリレート：２３重量部
・２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン：１０重量部
・トリプロピレングリコールモノメチルエーテル：１００重量部
・銀粉：４７０重量部
・ガラス粉末（Ｂｉ−Ｂ−Ｚｎ−Ｓｉ系）：３０重量部
・リン酸エステル：１重量部
金属バス電極４ｂ、５ｂの具体的な形成方法は上述した図５の説明と同様である。まず上記黒色ペーストをスクリーン印刷法によりＩＴＯの透明電極４ａ、５ａが形成された前面ガラス基板３上に塗布し１１０℃で乾燥し第１感光性組成物層２１を形成した。
【００４９】
次に白色ペーストをスクリーン印刷法により第１感光性組成物層２１の上に塗布し１１０℃で乾燥して第２感光性組成物層２２を形成した。
【００５０】
次に黒色電極４１ｂ、５１ｂおよび白色電極４２ｂ、５２ｂに相当するパターンを露光する。本実施例では、フォトマスク３０、４０として共通のマスクを使用した。そして光学フィルター３２として、３８０ｎｍ以下の波長の光の透過量を５％以下とするフィルターを、フォトマスク３０と活性光線３１の光源との間に設け、積算露光量５００ｍＪ／ｃｍ2で露光した。
【００５１】
そしてフォトマスクを交換することなく、続いて光学フィルター３２を３８０ｎｍ以上の波長の光の透過量を５％以下とする光学フィルター４２に交換し、積算露光量３００ｍｍＪ／ｃｍ2で露光した。
【００５２】
その後、液温３０℃の０．５％Ｎａ2ＣＯ3水溶液を用いて現像を行って未露光部を除去した。現像したバス電極を観察したところ、黒色電極４１ｂ、５１ｂよりも白色電極４２ｂ、５２ｂが太くなることなく、アンダーカットのない図５のステップ５に示したような断面形状の金属バス電極４ｂ、５ｂを形成することができた。
【００５３】
最後に空気雰囲気下にて５℃／分で昇温し、６００℃で３０分焼成した。焼成したバス電極を観察したところ、図４のように白色電極４２ｂ、５２ｂの両端が盛り上がるエッジカールが形成されず、さらには前面ガラス基板３を膜形成側と反対から観察しても両端から白色電極４２ｂ、５２ｂが出ていないことを確認し、この実施例によって現像後アンダーカットを無くしてエッジカールをなくす本発明の効果が示されたことが判った。
【００５４】
さらにその金属バス電極４ｂ、５ｂを覆うように誘電体層８および保護膜９を形成したのち、適合する背面板と合わせてＰＤＰ１を作成した。
【００５５】
その効果を従来技術との比較検証をしたところ、この実施例で作成したＰＤＰ１では外光反射するようになりコントラストが低下することなく、また寿命試験等により誘電体層の絶縁破壊などの不具合を発生する割合は、従来技術のそれと比較して低く、本実施例によるエッジカールをなくして絶縁破壊をなくす効果が確認された。
【産業上の利用可能性】
【００５６】
以上述べてきたように本発明のＰＤＰは、特性向上に有効であると共に、電極起因による不良を抑制し、大画面ハイディフィニションテレビの製造歩留まり向上に有用である。
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】本発明の実施の形態におけるプラズマディスプレイパネルの構造を示す斜視図
【図２】同パネルの前面板の構成を示す断面図
【図３】従来技術における金属バス電極の現像後の形状を示す断面図
【図４】従来技術における金属バス電極の焼成後の形状を示す断面図
【図５】本発明の実施の形態におけるプラズマディスプレイパネルの金属バス電極を形成する方法を示す図
【符号の説明】
【００５８】
１ プラズマディスプレイパネル
２ 前面板
３ 前面ガラス基板
４ 走査電極
４ａ、５ａ 透明電極
４ｂ、５ｂ 金属バス電極
５ 維持電極
６ 表示電極
７ ブラックストライプ（遮光層）
８ 誘電体層
９ 保護層
１０ 背面板
１１ 背面ガラス基板
１２ アドレス電極
１３ 下地誘電体層
１４ 隔壁
１５ 蛍光体層
１６ 放電空間
２１ 第１黒色感光性組成物層
２２ 第２白色感光性組成物層
３０ フォトマスク
３１ 活性光線
３２ 光学フィルター
４０ フォトマスク
４１ 活性光線
４２ 光学フィルター
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示デバイスなどに用いるプラズマディスプレイパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと呼ぶ）は、高精細化、大画面化の実現が可能であることから、１００インチクラスのテレビなどが製品化されている。近年、ＰＤＰは従来のＮＴＳＣ方式に比べて走査線数が２倍以上のハイディフィニションテレビへの適用が進んでいるとともに、低コスト化が求められている。
【０００３】
ＰＤＰは、基本的には、前面板と背面板とで構成されている。前面板は、フロート法による硼硅酸ナトリウム系ガラスのガラス基板と、その一方の主面上に形成されたストライプ状の透明電極とバス電極とで構成される表示電極と、この表示電極を覆ってコンデンサとしての働きをする誘電体層と、この誘電体層上に形成された酸化マグネシウム（ＭｇＯ）からなる保護層とで構成されている。一方、背面板は、ガラス基板と、その一方の主面上に形成されたストライプ状のアドレス電極と、アドレス電極を覆う下地誘電体層と、下地誘電体層上に形成された隔壁と、各隔壁間に形成された赤色、緑色および青色それぞれに発光する蛍光体層とで構成されている。
【０００４】
前面板と背面板とはその電極形成面側を対向させて気密封着され、隔壁によって仕切られた放電空間にＮｅ−Ｘｅの放電ガスが５３０００Ｐａ〜８００００Ｐａの圧力で封入されている。ＰＤＰは、表示電極に映像信号電圧を選択的に印加することによって放電させ、その放電によって発生した紫外線が各色蛍光体層を励起して赤色、緑色、青色の発光をさせ、カラー画像表示を実現している。
【０００５】
ここで、前面板のバス電極は、高抵抗である透明電極の電気伝導性を補助するために設けられるものであり、銀（Ａｇ）のような電気抵抗値の低い導電性材料を用いて形成されるが、Ａｇのような低抵抗の材料を用いて形成した導電層は略白色であり、この略白色の電極層によって外光反射が起こり、コントラストが悪化する。このため、バス電極を、黒色顔料を含む材料を用いて形成した黒色の第１電極層と低抵抗の材料を用いて形成した略白色の第２電極層とにより構成し、透明電極と略白色の第２電極層との間に略黒色の第１電極層が配置されるようにすることによって外光反射を抑制しコントラストが悪化することを防止している（例えば特許文献１参照）。
【特許文献１】特開平１１−２７３５７８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
一般に黒色の第１電極および略白色の第２電極は、次のようにして形成される。まず、透明電極を形成した前面基板に黒色材料を含んだ感光性ペーストを塗布した後、乾燥して第１感光性組成物層を形成する。その後、低抵抗の材料を含んだ略白色の感光性ペーストを第１感光性組成物層上に塗布し乾燥して第２感光性組成物層を形成する。次に、露光マスクを用いて、第１電極および第２電極に相当するパターンに露光する。そして、現像して未露光部を除去した後、焼成することに固化され、第１電極および第２電極が形成される。
【０００７】
しかし、第１感光性組成物層と第２感光性組成物層を一括して露光したときに上層である第２感光性組成物層よりも下層である第１感光性組成物層の方が、活性光線によって感光されにくく、硬化が弱くなってしまう。このため、続く現像工程において、下層である第１感光性組成物層の現像液による侵食が進み、現像後の形状が露光領域とは異なる状態が生じる。この形状を図３に示す。このように基板１０３上に形成した第１電極１０４の幅は、その上に形成した第２電極１０５の幅よりも狭くなっている。
【０００８】
そして、このような形状で焼成するため、焼成中に発生する内部応力によって、第２感光性組成物層の端部が盛り上がった形状となる（これをエッジカールと称する）。この形状を図４に示す。このように第２電極１０５の端部が湾曲した状態となる。
【０００９】
このようなエッジカールが形成された状態でＰＤＰを作製し、画像表示を行うとエッジカールの大きい電極ではエッジカールの先端における電界が強くなり、電極を覆うように形成された誘電体層の絶縁破壊が発生しやすくなる。またさらに、画像表示側からの見た目が黒色である第１電極に比べて略白色である第２電極の幅が広くなるので、第２電極の両端部において外光反射するようになりコントラストが低下するという課題も生じる。
【００１０】
これに対しては、第１感光性組成物層を形成した後に一旦露光し、その後第２感光性組成物層を形成してさらに露光し、そして現像して未露光部を除去する手法がある。これによれば、いずれの感光性組成物層も活性光線によって十分に硬化され、上記の課題は改善され得る。
【００１１】
しかしながら、上記の手法では複数回の露光を行う必要があるため、それぞれの露光工程での露光マスクと被露光基板とのアライメントのズレが生じることになる。このズレによって、第２電極が第１電極上から面内一部でもはみだした場合には、当該箇所において外光反射によるコントラスト低下部分ができてしまい、画像表示の面内バラツキにつながるという課題が発生する。
【００１２】
また、前記露光のアライメントズレによる課題を回避するために、上層である第２電極の幅を下層である第１電極よりも十分に狭くする手法も考えられる。しかし、この手法では第２電極を所望の抵抗値にて形成することができなかったり、電極幅が細くなりすぎて部分的な欠損（欠け）等のパターン欠陥ができる課題が発生する場合がある。
【００１３】
本発明はこのような課題に鑑みてなされたものであり、上記課題を解決して面内表示バラツキのない信頼性の高いＰＤＰを提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記の課題を解決するために本発明のＰＤＰの製造方法は、基板上に第１感光性組成物層を形成する工程と、第１感光性組成物層の上に第２感光性組成物層を形成する工程と、第１感光性組成物層をある波長にて第１電極に相当するパターンに露光する工程と、第２感光性組成物層を、第１感光性組成物層を露光した波長と異なる波長にて第２電極に相当するパターンに露光する工程とを有することを特徴とする。
【００１５】
また、第１電極が外光反射抑制層であり、第２電極が導電層であってもよく、第２電極が銀を含んでいてもよい。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、高精細表示においても、外光反射によるコントラスト低下を防いで高輝度、高信頼性を確保し、さらに電極パターン不良および誘電体絶縁破壊不良を低減した高歩留まりのＰＤＰの製造を実現することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明の実施の形態におけるＰＤＰについて図面を用いて説明する。
【００１８】
（実施の形態）
図１は本発明の実施の形態におけるＰＤＰの構造を示す斜視図である。本実施の形態のＰＤＰの基本構造は、一般的な交流面放電型ＰＤＰと同様である。図１に示すように、ＰＤＰ１は前面ガラス基板３などよりなる前面板２と、背面ガラス基板１１などよりなる背面板１０とが対向して配置され、その外周部をガラスフリットなどからなる封着材によって気密封着されている。封着されたＰＤＰ１内部の放電空間１６には、ＮｅおよびＸｅなどの放電ガスが５３０００Ｐａ〜８００００Ｐａの圧力で封入されている。
【００１９】
前面板２の前面ガラス基板３上には、走査電極４および維持電極５よりなる一対の帯状の表示電極６とブラックストライプ（遮光層とも言う）７が互いに平行にそれぞれ複数列配置されている。前面ガラス基板３上には表示電極６と遮光層７とを覆うようにコンデンサとしての働きをする誘電体層８が形成され、さらにその表面に酸化マグネシウムなどからなる保護層９が形成されている。
【００２０】
また、背面板１０の背面ガラス基板１１上には、前面板２の走査電極４および維持電極５と直交する方向に、複数の帯状のアドレス電極１２が互いに平行に配置され、これを下地誘電体層１３が被覆している。さらに、アドレス電極１２間の下地誘電体層１３上には放電空間１６を区切る所定の高さの隔壁１４が形成されている。隔壁１４間の溝にアドレス電極１２毎に、紫外線によって赤色、青色および緑色にそれぞれ発光する蛍光体層１５が順次塗布して形成されている。走査電極４および維持電極５とアドレス電極１２とが交差する位置に放電セルが形成され、表示電極６方向に並んだ赤色、青色、緑色の蛍光体層１５を有する放電セルがカラー表示のための画素になる。
【００２１】
図２は、本発明の実施の形態におけるＰＤＰの前面板２の構成を示す断面図である。図２は図１と上下反転させて示している。図２に示すように、フロート法などにより製造された前面ガラス基板３に、走査電極４と維持電極５よりなる表示電極６とブラックストライプ７がパターン形成されている。走査電極４と維持電極５はそれぞれ酸化インジウム（ＩＴＯ）や酸化スズ（ＳｎＯ2）などからなる透明電極４ａ、５ａと、透明電極４ａ、５ａ上に形成された金属バス電極４ｂ、５ｂとにより構成されている。金属バス電極４ｂ、５ｂは透明電極４ａ、５ａの長手方向に導電性を付与する目的として用いられ、銀（Ａｇ）材料を主成分とする導電性材料によって形成されている。さらに、金属バス電極４ｂ、５ｂは黒色の黒色電極４１ｂ、５１ｂと白色の白色電極４２ｂ、５２ｂとで構成されている。
【００２２】
誘電体層８は、前面ガラス基板３上に形成されたこれらの透明電極４ａ、５ａと金属バス電極４ｂ、５ｂとブラックストライプ７を覆って設けさらに誘電体層８上に保護層９を形成している。
【００２３】
（本発明の実施の形態におけるＰＤＰの製造方法について）
次に、本発明の実施の形態におけるＰＤＰ１の製造方法について説明する。まず、前面ガラス基板３上に、走査電極４および維持電極５と遮光層７とを形成する。透明電極４ａ、５ａは薄膜プロセス等によって成膜され、フォトリソグラフィ法等によってパターニングし、形成される。一方、黒色電極４１ｂ、５１ｂおよび白色電極４２ｂ、５２ｂは、導電性黒色粒子あるいは銀（Ａｇ）材料を含むペーストをスクリーン印刷法等によって塗布し、フォトリソグラフィ法等によってパターニングした後、所望の温度で焼成して固化する。なお、この工程については後に詳述する。
【００２４】
また遮光層７は、黒色電極４１ｂ、５１ｂと同様に黒色材料を含むペーストをスクリーン印刷にて塗布した後、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングし、焼成することにより形成される。
【００２５】
次に、走査電極４、維持電極５および遮光層７を覆うように前面ガラス基板３上に誘電体ペーストをダイコート法などにより塗布して誘電体ペースト層（誘電体ガラス層）を形成する。誘電体ペーストを塗布した後、所定の時間放置することによって塗布された誘電体ペースト表面がレベリングされて平坦な表面になる。
【００２６】
その後、誘電体ペースト層を焼成固化することにより、走査電極４、維持電極５および遮光層７を覆う誘電体層８が形成される。なお、誘電体ペーストは粉末の誘電体ガラス、バインダおよび溶剤を含む塗料である。次に、誘電体層８上に酸化マグネシウム（ＭｇＯ）からなる保護層９を真空蒸着法により形成する。以上の工程により、前面ガラス基板３上に所定の構成部材が形成されて前面板２が完成する。
【００２７】
一方、背面板１０は次のようにして形成される。まず、背面ガラス基板１１上に、銀（Ａｇ）材料を含むペーストをスクリーン印刷する方法や、金属膜を全面に形成した後、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングする方法などによりアドレス電極１２用の構成物となる材料層を形成し、それを所望の温度で焼成することによりアドレス電極１２を形成する。
【００２８】
次に、アドレス電極１２が形成された背面ガラス基板１１上にダイコート法などによりアドレス電極１２を覆うように誘電体ペーストを塗布して誘電体ペースト層を形成する。その後、誘電体ペースト層を焼成することにより下地誘電体層１３を形成する。なお、誘電体ペーストは粉末の誘電体ガラスとバインダおよび溶剤を含んだ塗料である。
【００２９】
次に、下地誘電体層１３上に隔壁材料を含む隔壁形成用ペーストを塗布して所定の形状にフォトリソグラフィ法等によって隔壁材料層をパターニングし、その後、焼成することにより隔壁１４を形成する。ここで、下地誘電体層１３上に塗布した隔壁用ペーストをパターニングする方法としては、フォトリソグラフィ法やサンドブラスト法を用いることができる。次に、隣接する隔壁１４間の下地誘電体層１３上および隔壁１４の側面に蛍光体材料を含む蛍光体ペーストを塗布して焼成することにより蛍光体層１５が形成される。以上の工程により、背面ガラス基板１１上に所定の構成部材が形成されて背面板１０が完成する。このようにして所定の構成部材を備えた前面板２と背面板１０とを走査電極４とアドレス電極１２とが直交するように対向配置して、その周囲をガラスフリットで封着し、放電空間１６にＮｅ、Ｘｅなどを含む放電ガスを封入することによりＰＤＰ１が完成する。
【００３０】
（本発明の実施の形態における表示電極の製造方法について）
上述したように本発明のＰＤＰの製造方法は、基板上に第１感光性組成物層を形成する工程と、第１感光性組成物層の上に第２感光性組成物層を形成する工程と、第１感光性組成物層をある波長にて第１電極である黒色電極４１ｂ、５１ｂに相当するパターンに露光する工程と、第２感光性組成物層を、第１感光性組成物層を露光した波長と異なる波長にて第２電極である白色電極４２ｂ、５２ｂに相当するパターンに露光する工程とを有することを特徴とする。
【００３１】
以下、黒色電極４１ｂ、５１ｂおよび白色電極４２ｂ、５２ｂの製造方法について、図５の工程フロー図を用いて詳細に説明する。
【００３２】
まずステップ１（Ｓ１）として、透明電極４ａ、５ａを形成した前面ガラス基板３上に黒色材料を含んだ感光性ペースト（以下、単に黒色ペーストと称する）を印刷法等によって塗布した後、乾燥して第１感光性組成物層２１を形成する。なお、同図においては便宜上、透明電極４ａ、５ａの記載を省略している。
【００３３】
ここで、黒色ペーストとは、黒色材料としてコバルト（Ｃｏ）、ニッケル（Ｎｉ）、銅（Ｃｕ）、マンガン（Ｍｎ）、鉄（Ｆｅ）等の黒色金属微粒子、金属酸化物、金属複合酸化物が５重量％〜４０重量％と、少なくとも酸化ビスマス（Ｂｉ2Ｏ3）を５重量％〜２５重量％含むガラス材料が１０重量％〜４０重量％と、有機成分として、感光性モノマー、感光性オリゴマーもしくはポリマーあるいは場合により高分子バインダおよび光重合開始剤、増感剤、溶剤などを３０重量％〜６０重量％よりなる感光性ペーストである。
【００３４】
また本発明の実施の形態において、黒色ペーストに含まれる光重合開始剤としては、少なくとも４０５ｎｍあるいは４３６ｎｍに吸収特性を有する光重合開始剤を使用する事が特徴である。たとえば、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルフォリニル）フェニル］−ブタン−１−オン、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド、ビス（η５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウム等が挙げられるがこれらに限るものではない。また単独でも２種類以上組み合わせても使用することができる。光重合開始剤は、感光性成分に対して好ましくは０．１〜３０重量％、より好ましくは２〜２０重量％添加する。
【００３５】
次にステップ２（Ｓ２）として低抵抗の材料を含んだ略白色の感光性ペースト（以下、単に白色ペーストと称する）を印刷法などによって第１感光性組成物層２１上に塗布・乾燥し、第２感光性組成物層２２を形成する。ここで、白色ペーストは、少なくとも銀（Ａｇ）粒子が７０重量％〜９０重量％と、少なくとも酸化ビスマス（Ｂｉ2Ｏ3）を５重量％〜２５重量％含むガラス材料が１重量％〜１５重量％と、有機成分として、感光性モノマー、感光性オリゴマーもしくはポリマーあるいは場合により高分子バインダおよび光重合開始剤、増感剤、溶剤などを８重量％〜３０重量％よりなる感光性ペーストである。
【００３６】
また本発明の実施の形態において、白色ペーストの光重合開始剤としては、黒色ペーストに使用した４０５ｎｍあるいは４３６ｎｍに吸収特性を有する光重合開始剤を使用せず、３６５ｎｍ以下の波長に吸収特性を有する光重合開始剤のみを使用する事を特徴とする。たとえば、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オンなどが挙げられるがこれらに限るものではない。また単独でも２種類以上組み合わせても使用することができる。光重合開始剤は、感光性成分に対して好ましくは０．１〜３０重量％、より好ましくは２〜２０重量％添加する。
【００３７】
次にステップ３（Ｓ３）として第１感光性組成物層２１と第２感光性組成物層２２の積層膜に、フォトマスク３０を介して活性光線３１を照射し露光する。
【００３８】
ここで、本発明の実施の形態においては、第１感光性組成物層２１である黒色ペースト中に使用されている４０５ｎｍあるいは４３６ｎｍに吸収特性を有する光重合開始剤が選択的に反応するように、例えば３８０ｎｍ以下の波長領域の光を１０％以下にカットして積層膜に照射されるようにする。
【００３９】
そうすることで、照射した活性光線３１の波長領域に吸収特性を有する第１感光性組成物層２１中の光重合開始剤が選択的に反応しラジカル種を発生させ第１感光性組成物層２１での重合が進行し硬化部２１１を形成する事ができる。
【００４０】
照射される活性光線３１の波長領域を制限する方法としては、フォトマスク３０と活性光線３１の光源の間に所望の波長選択性のある光学フィルター３２を使用したり、フォトマスク３０の透過部の波長透過性を調整する等の手法によって実現可能である。
【００４１】
次にステップ４（Ｓ４）として、第１感光性組成物層２１と第２感光性組成物層２２の積層膜に、フォトマスク４０を介して活性光線４１を照射し露光する。この工程では第２感光性組成物層２２である白色ペースト中に使用されている光重合開始剤が反応するように、３６５ｎｍ以下の波長領域の光を８０％以上照射されるようにする。
【００４２】
そうすることで、照射した活性光線４１の波長領域に吸収特性を有する第２感光性組成物層２２中の光重合開始剤が選択的に反応しラジカル種を発生させ第２感光性組成物層２２における重合が進行し硬化部２２１を形成する事ができる。
【００４３】
照射される活性光線４１の波長領域を制限する方法としては、ステップ３と同様にフォトマスク４０と活性光線４１の光源の間に所望の波長選択性のある光学フィルター４２を使用したり、フォトマスク４０の透過部の波長透過性を調整する等の手法によって実現可能である。
【００４４】
ステップ３とステップ４において光学フィルター３２、４２で活性光線３１、４１の波長領域を制限する方法をとった場合、活性光線３１、４１とフォトマスク３０、４０はステップ３とステップ４で共通に使用することができ、つまり光学フィルター３２、４２の入れ替えをするだけで、フォトマスクの入れ替えで起こるアライメントのズレによる露光パターンのズレを防ぐこともできる。
【００４５】
次にステップ５（Ｓ５）として、第１感光性組成物層２１と第２感光性組成物層２２の未露光部を現像液で除去する。そして本発明の実施の形態では下層である第１感光性組成物層２１の硬化部２１１も十分に硬化しているため、上層よりも下層の侵食が進む事なく図５に示したような幅で形成することができる。
【００４６】
続いてステップ６（Ｓ６）として焼成工程で現像膜中の有機成分が熱分解されて除去される。焼成温度は使用する塩基性無機粉末の種類によっても異なるが、最高温度で５００〜６５０℃の範囲が採用される。以上のように黒色電極４１ｂ、５１ｂおよび白色電極４２ｂ、５２ｂが形成される。
【００４７】
このように本発明の実施の形態における金属バス電極４ｂ、５ｂでは、エッジカールが形成されないため誘電体層８の絶縁破壊が発生しやすくなるという課題もなく、さらには、上層である白色電極４２ｂ、５２ｂの幅が下層である黒色電極４１ｂ、５１ｂの幅より太くなることがないので、表示面側からみたときの外光反射によるコントラスト低下を防ぐことができる。
【００４８】
（実施例）
本発明の実施の形態での効果を確認するため、次のような検討を行った。以下に示した組成の黒色ペーストと白色ペーストを使用して４２インチのハイビジョンテレビの前面板に適合するように電極間隔を６０〜７０μｍとして黒色電極４１ｂ、５１ｂおよび白色電極４２ｂ、５２ｂの金属バス電極４ｂ、５ｂを形成した。
［黒色感光性ペースト］
・メタクリル酸／スチレン／グリシジルメタクリレート共重合体（モル比５０／２５／２５）：５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート：２３重量部
・トリメチロールプロパントリアクリレート：２３重量部
・２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン：１０重量部
・トリプロピレングリコールモノメチルエーテル：１００重量部
・四三酸化コバルト（Ｃｏ3Ｏ4）：９０重量部
・ガラス粉末（Ｂｉ−Ｂ−Ｚｎ−Ｓｉ系）：８０重量部
［白色感光性ペースト］
・メタクリル酸／スチレン／グリシジルメタクリレート共重合体（モル比５０／２５／２５）：５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート：２３重量部
・トリメチロールプロパントリアクリレート：２３重量部
・２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン：１０重量部
・トリプロピレングリコールモノメチルエーテル：１００重量部
・銀粉：４７０重量部
・ガラス粉末（Ｂｉ−Ｂ−Ｚｎ−Ｓｉ系）：３０重量部
・リン酸エステル：１重量部
金属バス電極４ｂ、５ｂの具体的な形成方法は上述した図５の説明と同様である。まず上記黒色ペーストをスクリーン印刷法によりＩＴＯの透明電極４ａ、５ａが形成された前面ガラス基板３上に塗布し１１０℃で乾燥し第１感光性組成物層２１を形成した。
【００４９】
次に白色ペーストをスクリーン印刷法により第１感光性組成物層２１の上に塗布し１１０℃で乾燥して第２感光性組成物層２２を形成した。
【００５０】
次に黒色電極４１ｂ、５１ｂおよび白色電極４２ｂ、５２ｂに相当するパターンを露光する。本実施例では、フォトマスク３０、４０として共通のマスクを使用した。そして光学フィルター３２として、３８０ｎｍ以下の波長の光の透過量を５％以下とするフィルターを、フォトマスク３０と活性光線３１の光源との間に設け、積算露光量５００ｍＪ／ｃｍ2で露光した。
【００５１】
そしてフォトマスクを交換することなく、続いて光学フィルター３２を３８０ｎｍ以上の波長の光の透過量を５％以下とする光学フィルター４２に交換し、積算露光量３００ｍｍＪ／ｃｍ2で露光した。
【００５２】
その後、液温３０℃の０．５％Ｎａ2ＣＯ3水溶液を用いて現像を行って未露光部を除去した。現像したバス電極を観察したところ、黒色電極４１ｂ、５１ｂよりも白色電極４２ｂ、５２ｂが太くなることなく、アンダーカットのない図５のステップ５に示したような断面形状の金属バス電極４ｂ、５ｂを形成することができた。
【００５３】
最後に空気雰囲気下にて５℃／分で昇温し、６００℃で３０分焼成した。焼成したバス電極を観察したところ、図４のように白色電極４２ｂ、５２ｂの両端が盛り上がるエッジカールが形成されず、さらには前面ガラス基板３を膜形成側と反対から観察しても両端から白色電極４２ｂ、５２ｂが出ていないことを確認し、この実施例によって現像後アンダーカットを無くしてエッジカールをなくす本発明の効果が示されたことが判った。
【００５４】
さらにその金属バス電極４ｂ、５ｂを覆うように誘電体層８および保護膜９を形成したのち、適合する背面板と合わせてＰＤＰ１を作成した。
【００５５】
その効果を従来技術との比較検証をしたところ、この実施例で作成したＰＤＰ１では外光反射するようになりコントラストが低下することなく、また寿命試験等により誘電体層の絶縁破壊などの不具合を発生する割合は、従来技術のそれと比較して低く、本実施例によるエッジカールをなくして絶縁破壊をなくす効果が確認された。
【産業上の利用可能性】
【００５６】
以上述べてきたように本発明のＰＤＰは、特性向上に有効であると共に、電極起因による不良を抑制し、大画面ハイディフィニションテレビの製造歩留まり向上に有用である。
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】本発明の実施の形態におけるプラズマディスプレイパネルの構造を示す斜視図
【図２】同パネルの前面板の構成を示す断面図
【図３】従来技術における金属バス電極の現像後の形状を示す断面図
【図４】従来技術における金属バス電極の焼成後の形状を示す断面図
【図５】本発明の実施の形態におけるプラズマディスプレイパネルの金属バス電極を形成する方法を示す図
【符号の説明】
【００５８】
１ プラズマディスプレイパネル
２ 前面板
３ 前面ガラス基板
４ 走査電極
４ａ、５ａ 透明電極
４ｂ、５ｂ 金属バス電極
５ 維持電極
６ 表示電極
７ ブラックストライプ（遮光層）
８ 誘電体層
９ 保護層
１０ 背面板
１１ 背面ガラス基板
１２ アドレス電極
１３ 下地誘電体層
１４ 隔壁
１５ 蛍光体層
１６ 放電空間
２１ 第１黒色感光性組成物層
２２ 第２白色感光性組成物層
３０ フォトマスク
３１ 活性光線
３２ 光学フィルター
４０ フォトマスク
４１ 活性光線
４２ 光学フィルター
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に第１感光性組成物層を形成する工程と、
前記第１感光性組成物層の上に第２感光性組成物層を形成する工程と、
前記第１感光性組成物層をある波長にて第１電極に相当するパターンに露光する工程と、
前記第２感光性組成物層を、前記第１感光性組成物層を露光した波長と異なる波長にて第２電極に相当するパターンに露光する工程とを有することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２】
前記第１電極が外光反射抑制層であり、第２電極が導電層であることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項３】
前記第２電極が銀を含むことを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１】
基板上に第１感光性組成物層を形成する工程と、
前記第１感光性組成物層の上に第２感光性組成物層を形成する工程と、
前記第１感光性組成物層をある波長にて第１電極に相当するパターンに露光する工程と、
前記第２感光性組成物層を、前記第１感光性組成物層を露光した波長と異なる波長にて第２電極に相当するパターンに露光する工程とを有することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２】
前記第１電極が外光反射抑制層であり、第２電極が導電層であることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項３】
前記第２電極が銀を含むことを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【公開番号】特開２０１０−２７３１８（Ｐ２０１０−２７３１８Ａ）
【公開日】平成２２年２月４日（２０１０．２．４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−１８５５４８（Ｐ２００８−１８５５４８）
【出願日】平成２０年７月１７日（２００８．７．１７）
【出願人】（０００００５８２１）パナソニック株式会社 (73,050)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年２月４日（２０１０．２．４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年７月１７日（２００８．７．１７）
【出願人】（０００００５８２１）パナソニック株式会社 (73,050)
【Ｆターム（参考）】
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