ポリオレフィン化合物の選択的酸化による多官能エポキシ化合物
【課題】温和な条件下、ポリオレフィン類と過酸化水素水溶液の反応による安全で容易な多官能エポキシ化合物の新規製造法の提供。
【解決手段】レニウム化合物の存在下、過酸化水素を用いて、少なくとも１個以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物中のシクロオレフィンの２重結合部位を選択的に酸化して、高収率で選択的に多官能エポキシ基含有化合物を生成することにより、エポキシ基および２重結合を分子内に含む多官能エポキシ化合物が高収率で選択的に生成することができる。
【解決手段】レニウム化合物の存在下、過酸化水素を用いて、少なくとも１個以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物中のシクロオレフィンの２重結合部位を選択的に酸化して、高収率で選択的に多官能エポキシ基含有化合物を生成することにより、エポキシ基および２重結合を分子内に含む多官能エポキシ化合物が高収率で選択的に生成することができる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、エポキシ基および２重結合を分子内に含む多官能エポキシ化合物が得られるようにポリオレフィン類をエポキシ化する方法に関する。特に、本発明はトリオレフィン類と過酸化水素水溶液を触媒であるレニウム化合物存在下にて反応させ、１つの２重結合を選択的にエポキシ化させる多官能エポキシ化合物の新規な製造法に関する。本発明により提供される多官能エポキシ化合物は、レジスト材料（特にソルダ−レジスト材料）の原料として、また農薬・医薬の中間体や可塑剤、接着剤、塗料樹脂といった各種ポリマーの原料として化学工業をはじめ、各種の産業分野で幅広く用いられる有用な物質である。
【背景技術】
【０００２】
分子内に２個以上の２重結合を有する化合物（ポリオレフィン類）の１つの２重結合を選択的にエポキシ化させる技術は、低生産性（低反応性、低選択性）であったり、適用性がある種の構造体に制限されたりする場合が多い。
従来、ポリオレフィン類の選択的エポキシ化剤として過ギ酸や過酢酸等の有機過酸を使用する方法が知られているが (例えばＣｈｅｍ．Ｂｅｒ．，１９８５，１１８，１２６７−１２７０ 非特許文献１、欧州特許公開００３３７６３ 特許文献１)、酸化剤由来の酸が当量生成するため装置の腐食などの問題があるほか、酸に反応しやすい基質ではジオールが副成しやすい。
【０００３】
ケトン触媒下におけるオキソンを酸化剤としたジオレフィンの選択的エポキシ化方法 （Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，１９９８，６３，２９４８−２９５３ 非特許文献２）が知られているが、この反応では触媒のケトンが非常に多く必要（ジオレフィン類に対し２０−３０モル％)であるほか、反応中のオキソンの分解を抑制する為に溶液中のｐＨや反応温度等の反応条件を厳密にコントロールする必要があるといった問題点が挙げられる。
【０００４】
一方、過酸化水素は、安価で腐食性がなく、反応後の副生物は皆無又は水であるために環境負荷が小さく、工業的に利用するには優れた酸化剤である。
【０００５】
過酸化水素をエポキシ化剤とするジオレフィン類の選択的エポキシ化に関しては、（１） 式Ｑ３ＸＷ４Ｏ２４（式中、Ｑは７０個までの炭素原子を含む第４級アンモニウムカチオンを表し、ＸはＰまたはＡｓを表す)で示される触媒の存在下、過酸化水素によりジオレフィンをエポキシ化する方法 (特開平４−２７５２８１ 特許文献２)、（２）塩化第４級アンモニウム、リン酸、タングステン化合物の存在下、過酸化水素によりメタクリル酸ユニット有するジオレフィンをエポキシ化する方法 (Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，１９９２，４８，５０９９−５１１０ 非特許文献３)、（３）タングステン化合物および第４級ピリジニウム塩存在下、１, ５, ９-シクロドデカトリエン（ＣＤＴ）をモノエポキシ化する方法（特開２０００−２６４４１ 特許文献３）、（４）タングステンおよびモリブデンのポリオキソメタラート錯体の存在下、過酸化水素により大員環脂肪族化合物を選択的モノエポキシ化する方法 （特開２００２−１５５０６６ 特許文献４）があげられるが、（１）では過酸化水素の量がジオレフィン1当量に対して１当量未満であるために反応収率が非常に悪く (使用したジオレフィンに対して３２〜４８％)、分離・精製過程に時間、コストがかかり生産性に乏しい。（２）の方法はメタクリル酸ユニット有するジオレフィンに限定される。（３）の方法はトリオレフィン１当量に対して１当量未満であるために原料の転化率が非常に悪いほか、（４）の方法では、時間経過とともにモノエポキシ化選択率が大幅に低下するといった問題がある。また、特許文献２、非特許文献３、特許文献３及び特許文献４は、いずれも、少なくとも１つ以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物のエポキシ化については何ら開示していない。
【０００６】
少なくとも１つ以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物の過酸化水素を用いた選択的エポキシ化の例としては（５）アルカリ金属、アルカリ土類金属或いはアンモニウムの水に可溶な塩、リン酸、硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸等の酸性触媒及びギ酸の存在下、過酸化水素によりテトラヒドロフタル酸ジアリルを選択的にエポキシ化し、４，５−エポキシシクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸ジアリルを得る方法（特公昭５０−３９６５９ 特許文献５）が挙げられる。しかしながら、（５）の方法では、収率は６５％程度しか得られず、満足できるものではなかった。
【０００７】
一方、レニウム化合物を触媒に用いた過酸化水素をエポキシ化剤とするポリオレフィン類の選択的エポキシ化に関しては、（６）有機レニウムオキシドを触媒として過酸化水素によりエポキシ化する方法 （特開２００１−２５６６５ 特許文献６、Ｃ．Ｒ．Ａｃａｄ．Ｓｃｉ，Ｓｅｒｉｅｓ ＩＩＣ Ｃｈｅｍ．，Ｖｏｌ．３，２０００，１０，７９３−８０１ 非特許文献４、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，２００５，６１，１０６９−１０７５ 非特許文献５ 等）を挙げることができる。しかしながら、特許文献６、非特許文献４及び非特許文献５は、いずれも、少なくとも１つ以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物のエポキシ化については何ら開示していない。
【０００８】
従って温和な条件下、簡便な操作で安全に、少なくとも１つ以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物から選択的に多官能エポキシ化合物を収率良く、かつ低コストで製造する方法の開発が強く要望されている。
【非特許文献１】Ｃｈｅｍ．Ｂｅｒ．，１１８，１２６７−１２７０（１９８５）
【非特許文献２】Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，６３，２９４８−２９５３（１９９８）
【非特許文献３】Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，４８，５０９９−５１１０（１９９２）
【非特許文献４】Ｃ．Ｒ．Ａｃａｄ．Ｓｃｉ．，Ｓｅｒｉｅｓ ＩＩＣ Ｃｈｅｍ．，Ｖｏｌ．３，１０，７９３−８０１（２０００）
【非特許文献５】Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，，６１，１０６９−１０７５（２００５）
【特許文献１】欧州特許公開００３３７６３号
【特許文献２】特開平４−２７５２８１号公報
【特許文献３】特開２０００−２６４４１号公報
【特許文献４】特開２００２−１５５０６６号公報
【特許文献５】特公昭５０−３９６５９号公報
【特許文献６】特開２００１−２５６６５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、温和な条件下、ポリオレフィン類と過酸化水素水溶液の反応による安全で容易な多官能エポキシ化合物の新規製造法を提供することを課題とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らは、前記課題を解決するために鋭意研究の結果、レニウム化合物の存在下、過酸化水素を用いて、少なくとも１個以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物中のシクロオレフィンの２重結合部位を選択的に酸化して、高収率で選択的に多官能エポキシ基含有化合物を生成することを見いだし、本発明を完成するに至った。
【００１１】
すなわち、本発明は以下の[１]〜[１０]に示されるレニウム化合物の存在下、多官能エポキシ化合物の製造方法に関する。
【００１２】
[１] レニウム化合物の存在下、過酸化水素を用いて、少なくとも１個以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物中のシクロオレフィンの２重結合部位を酸化して、エポキシ基含有化合物を製造することを特徴とする多官能エポキシ化合物の製造方法。
【００１３】
[２] 前記シクロオレフィン構造が炭素６〜８員環であることを特徴とする、前記[１]に記載の方法。
【００１４】
[３] 前記少なくとも１つ以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物が下記一般式（１）〜（１０）から成る群から選ばれることを特徴とする、前記[１]又は[２]に記載の方法：
一般式（１）：
【化１】
（式中、Ｒ１は水素又はメチル基を表し、Ｒ２は炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ３〜Ｒ１０はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ａは０〜３の整数を表し、そしてｂは０〜２の整数を表す。）
一般式（２）：
【化２】
（式中、Ｒ１１は水素又はメチル基を表し、Ｒ１２は炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ１３〜Ｒ２０はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ｃは０〜３の整数を表し、そしてｄは０〜２の整数を表す。）
一般式（３）：
【化３】
（式中、Ｒ２１，Ｒ２２はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表し、Ｒ２３，Ｒ２４はそれぞれ独立に炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ２５〜Ｒ３２はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ｅ、ｇはそれぞれ独立に０〜３の整数を表し、そしてｆ、ｈはそれぞれ独立に０〜２の整数を表す。）
一般式（４）：
【化４】
（式中、Ｒ３３，Ｒ３４はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表し、Ｒ３５，Ｒ３６はそれぞれ独立に炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ３７〜Ｒ４４はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ｉ、ｋはそれぞれ独立に０〜３の整数を表し、そしてｊ、ｌはそれぞれ独立に０〜２の整数を表す。）
一般式（５）：
【化５】
（式中、Ｒ４５は水素又はメチル基を表し、Ｒ４６〜Ｒ５３はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）
一般式（６）：
【化６】
（式中、Ｒ５４は水素又はメチル基を表し、Ｒ５５〜Ｒ６２はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）
一般式（７）：
【化７】
（式中、Ｒ６３，Ｒ６４はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表し、Ｒ６５，Ｒ６６はそれぞれ独立に炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ６７〜Ｒ７３はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ｉ、ｋはそれぞれ独立に０〜３の整数を表し、そしてｊ、ｌはそれぞれ独立に０〜２の整数を表す。）
一般式（８）：
【化８】
（式中、Ｒ７４，Ｒ７５はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表し、Ｒ７６，Ｒ７７はそれぞれ独立に炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ７８〜Ｒ８３はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ｉ、ｋはそれぞれ独立に０〜３の整数を表し、そしてｊ、ｌはそれぞれ独立に０〜２を表す。）
一般式（９）：
【化９】
（式中、Ｒ８４は水素又はメチル基を表し、Ｒ８５〜Ｒ９１はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）
一般式（１０）：
【化１０】
（式中、Ｒ９２は水素又はメチル基を表し、Ｒ９３〜Ｒ９８はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）。
【００１５】
[４] 前記少なくとも１つ以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物が下記一般式（１１）又は下記一般式（１２）で表される化合物であることを特徴とする、前記[１]又は[２]に記載の方法：
一般式（１１）：
【化１１】
(式中、Ｒ９９は水素又はメチル基を表し、Ｒ１００〜Ｒ１０７はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、そしてｖは０〜２の整数を表す。）
一般式（１２）：
【化１２】
(式中、Ｒ１０８は水素又はメチル基を表し、Ｒ１０９〜Ｒ１１６はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、そしてｗは０〜２の整数を表す。）。
【００１６】
[５] 前記少なくとも１つ以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物が下記一般式（５）又は下記一般式（６）で表される化合物であることを特徴とする、前記[１]又は[２]に記載の方法：
一般式（５）：
【化１３】
（式中、Ｒ４５は水素又はメチル基を表し、Ｒ４６〜Ｒ５３はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）
一般式（６）：
【化１４】
（式中、Ｒ５４は水素又はメチル基を表し、Ｒ５５〜Ｒ６２はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）。
【００１７】
[６] 前記少なくとも１つ以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物が下記一般式（１３）又は下記一般式（１４）で表される化合物であることを特徴とする、前記[１]又は[２]に記載の方法：
一般式（１３）：
【化１５】
（式中、Ｒ１１７，Ｒ１１８はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表し、Ｒ１１９〜Ｒ１２６はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）
一般式（１４）：
【化１６】
（式中、Ｒ１２７，Ｒ１２８はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表し、Ｒ１２９〜Ｒ１３６はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）。
【００１８】
[７] 前記末端ビニルまたはビニリデン構造がアリルまたはメタリル構造であることを特徴とする、前記[１]〜[４]のいずれかに記載の方法。
【００１９】
[８] 前記レニウム化合物がメチルトリオキソレニウムであることを特徴とする、前記[１]〜[７]のいずれかに記載の方法。
【００２０】
[９] 前記レニウム化合物に対して有機塩基性化合物を１〜３０倍モル使用することを特徴とする、前記[１]〜[８]のいずれかに記載の方法。
【００２１】
[１０] 前記少なくとも１つ以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物のシクロオレフィン構造中に含まれる２重結合数に対して、過酸化水素を０．８〜１０．０倍含有することを特徴とする、前記[１]〜[９]のいずれかに記載の方法。
【発明の効果】
【００２２】
本発明の方法によれば、レジスト材料（特にソルダ−レジスト材料）の原料として、また農薬・医薬の中間体や可塑剤、接着剤、塗料樹脂といった各種ポリマーの原料として化学工業をはじめ、各種の産業分野で幅広く用いられる有用な物質である多官能エポキシ化合物を、対応するポリオレフィン類と過酸化水素水の反応から簡便な操作で安全に、高い収率で製造できることより、工業的に大きな効果をもたらす。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、本発明を具体的に説明する。
本発明は、レニウム化合物の存在下、過酸化水素を用いて、少なくとも１個以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物中のシクロオレフィンの２重結合部位を酸化して、エポキシ基含有化合物を製造することを特徴とする多官能エポキシ化合物の製造方法である。
【００２４】
まず、本発明の製造方法の原料成分である、少なくとも１個以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物について説明する。
本発明の製造方法の原料成分である、少なくとも１個以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物は、同一分子内に１個以上のシクロオレフィン構造と１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物であれば、特に制限はない。
【００２５】
シクロオレフィン構造の中で、合成の容易さ、或いは入手の容易さを考慮すると、好ましいシクロオレフィン構造としては、炭素６〜８員環構造を有するシクロオレフィン構造である。
【００２６】
少なくとも１個以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物の中で、好ましいものとしては以下の一般式（１）〜一般式（１０）をあげることができる：
【００２７】
一般式（１）：
【化１７】
（式中、Ｒ１は水素又はメチル基を表し、Ｒ２は炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ３〜Ｒ１０はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ａは０〜３の整数を表し、そしてｂは０〜２の整数を表す。）
一般式（２）：
【化１８】
（式中、Ｒ１１は水素又はメチル基を表し、Ｒ１２は炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ１３〜Ｒ２０はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ｃは０〜３の整数を表し、そしてｄは０〜２の整数を表す。）
一般式（３）：
【化１９】
（式中、Ｒ２１，Ｒ２２はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表し、Ｒ２３，Ｒ２４はそれぞれ独立に炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ２５〜Ｒ３２はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ｅ、ｇはそれぞれ独立に０〜３の整数を表し、そしてｆ、ｈはそれぞれ独立に０〜２の整数を表す。）
一般式（４）：
【化２０】
（式中、Ｒ３３，Ｒ３４はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表し、Ｒ３５，Ｒ３６はそれぞれ独立に炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ３７〜Ｒ４４はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ｉ、ｋはそれぞれ独立に０〜３の整数を表し、そしてｊ、ｌはそれぞれ独立に０〜２の整数を表す。）
一般式（５）：
【化２１】
（式中、Ｒ４５は水素又はメチル基を表し、Ｒ４６〜Ｒ５３はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）
一般式（６）：
【化２２】
（式中、Ｒ５４は水素又はメチル基を表し、Ｒ５５〜Ｒ６２はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）
一般式（７）：
【化２３】
（式中、Ｒ６３，Ｒ６４はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表し、Ｒ６５，Ｒ６６はそれぞれ独立に炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ６７〜Ｒ７３はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ｍ、ｐはそれぞれ独立に０〜３の整数を表し、ｎ、ｑはそれぞれ独立に０〜２の整数を表す。）
一般式（８）：
【化２４】
（式中、Ｒ７４，Ｒ７５はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表し、Ｒ７６，Ｒ７７はそれぞれ独立に炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ７８〜Ｒ８３はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ｒ、ｔはそれぞれ独立に０〜３の整数を表し、そしてｓ、ｕはそれぞれ独立に０〜２を表す。）
一般式（９）：
【化２５】
（式中、Ｒ８４は水素又はメチル基を表し、Ｒ８５〜Ｒ９１はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）
一般式（１０）：
【化２６】
（式中、Ｒ９２は水素又はメチル基を表し、Ｒ９３〜Ｒ９８はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）。
【００２８】
まず、一般式（１）で表される化合物について説明する。
一般式（１）：
【化２７】
（式中、Ｒ１は水素又はメチル基を表し、Ｒ２は炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ３〜Ｒ１０はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ａは０〜３の整数を表し、そしてｂは０〜２の整数を表す。）。
【００２９】
一般式（１）中、Ｒ１は水素又はメチル基を表す。Ｒ２は炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、例えば、以下のような残基を挙げることができる。
【化２８】
【化２９】
【化３０】
【化３１】
【化３２】
【化３３】
【化３４】
【化３５】
【化３６】
【化３７】
【化３８】
【００３０】
一般式（１）中、Ｒ３〜Ｒ１０はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。
また、ａは、０〜３の整数を表すが、好ましくは、０又は１であり、更に好ましくは、０である。ｂは、０〜２の整数であるが、好ましくは、ｂ＝１である。
Ｒ３〜Ｒ１０はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。
【００３１】
一般式（１）で表される化合物で、式中のａ＝０場合には、一般式（１１）で表される化合物となる：
一般式（１１）：
【化３９】
(式中、Ｒ９９は水素又はメチル基を表し、Ｒ１００〜Ｒ１０７はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。また、ｖは０〜２の整数を表す。）。
【００３２】
一般式（１１）中、Ｒ９９は水素又はメチル基を表す。また、Ｒ１００〜Ｒ１０７はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。また、ｖは、０〜２の整数であるが、好ましくは、ｖ＝１である。
【００３３】
一般式（１）で表される化合物の具体例としては、例えば、以下の構造を有する化合物を挙げることができる。
【化４０】
【化４１】
【化４２】
【化４３】
【化４４】
【化４５】
【化４６】
【化４７】
【化４８】
【化４９】
【化５０】
【化５１】
【００３４】
次に、一般式（２）で表される化合物について説明する：
一般式（２）：
【化５２】
（式中、Ｒ１１は水素又はメチル基を表し、Ｒ１２は炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ１３〜Ｒ２０はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ｃは０〜３の整数を表し、そしてｄは０〜２の整数を表す。）。
【００３５】
一般式（２）中、Ｒ１１は水素又はメチル基を表す。Ｒ１２は炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、例えば、以下のような残基を挙げることができる。
【化５３】
【化５４】
【化５５】
【化５６】
【化５７】
【化５８】
【化５９】
【化６０】
【化６１】
【化６２】
【化６３】
【００３６】
一般式（２）中、Ｒ１３〜Ｒ２０はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。
また、ｃは、０〜３の整数を表すが、好ましくは、０又は１であり、更に好ましくは、０である。ｄは、０〜２の整数であるが、好ましくは、ｄ＝１である。
Ｒ１３〜Ｒ２０はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。
一般式（２）で表される化合物で、式中のｃ＝０には、一般式（１２）で表される化合物となる：
一般式（１２）：
【化６４】
(式中、Ｒ１０８は水素又はメチル基を表し、Ｒ１０９〜Ｒ１１６はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ｗは０〜２の整数を表す。）。
【００３７】
一般式（１２）中、Ｒ１０８は水素又はメチル基を表す。また、Ｒ１０９〜Ｒ１１６はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ｗは、０〜２の整数であるが、好ましくは、ｗ＝１である。
【００３８】
一般式（２）で表される化合物の具体例としては、例えば、以下の構造を有する化合物を挙げることができる。
【化６５】
【化６６】
【化６７】
【化６８】
【化６９】
【化７０】
【化７１】
【化７２】
【化７３】
【化７４】
【００３９】
次に、一般式（３）で表される化合物について説明する：
一般式（３）：
【化７５】
（式中、Ｒ２１，Ｒ２２はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表す。Ｒ２３，Ｒ２４はそれぞれ独立に炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ２５〜Ｒ３２はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ｅ、ｇはそれぞれ独立に０〜３の整数を表し、そしてｆ、ｈはそれぞれ独立に０〜２の整数を表す。）。
【００４０】
一般式（３）中、Ｒ２１，Ｒ２２はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表す。Ｒ２３，Ｒ２４はそれぞれ独立に炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、例えば、以下のような残基を挙げることができる。
【化７６】
【化７７】
【化７８】
【化７９】
【化８０】
【化８１】
【化８２】
【化８３】
【化８４】
【化８５】
【化８６】
【００４１】
一般式（３）Ｒ２５〜Ｒ３２はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。
また、ｅ、ｇはそれぞれ独立に０〜３の整数を表すが、好ましくは、それぞれ独立に０又は１である。ｆ、ｈはそれぞれ独立に０〜２の整数を表すが、好ましくは、ｆ，ｈともに１である。
一般式（３）で表される化合物で、式中のｅ＝ｇ＝０かつｆ＝ｈ＝１場合には、一般式（１３）で表される化合物となる：
一般式（１３）：
【化８７】
（式中、Ｒ１１７，Ｒ１１８はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表し、Ｒ１１９〜Ｒ１２６はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）。
【００４２】
一般式（１３）中、Ｒ１１７，Ｒ１１８はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表す。また、Ｒ１１９〜Ｒ１２６はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。
【００４３】
一般式（３）で表される化合物の具体例としては、例えば、以下の構造を有する化合物を挙げることができる。
【化８８】
【化８９】
【化９０】
【化９１】
【化９２】
【化９３】
【化９４】
【化９５】
【化９６】
【００４４】
次に、一般式（４）で表される化合物について説明する：
一般式（４）：
【化９７】
（式中、Ｒ３３，Ｒ３４はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表し、Ｒ３５，Ｒ３６はそれぞれ独立に炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ３７〜Ｒ４４はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ｉ、ｋはそれぞれ独立に０〜３の整数を表し、そしてｊ、ｌはそれぞれ独立に０〜２の整数を表す。）。
【００４５】
一般式（４）中、Ｒ３３，Ｒ３４はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表す。Ｒ３５，Ｒ３６はそれぞれ独立に炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、例えば、以下のような残基を挙げることができる。
【化９８】
【化９９】
【化１００】
【化１０１】
【化１０２】
【化１０３】
【化１０４】
【化１０５】
【化１０６】
【化１０７】
【化１０８】
【００４６】
一般式（４）中、Ｒ３７〜Ｒ４４はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。また、ｉ、ｋはそれぞれ独立に０〜３の整数を表すが、好ましくは、それぞれ独立に０又は１である。ｊ、ｌはそれぞれ独立に０〜２の整数を表すが、好ましくは、ｊ，ｌともに１である。
【００４７】
一般式（４）で表される化合物で、式中のｉ＝ｋ＝０かつｊ＝ｌ＝１場合には、一般式（１４）で表される化合物となる：
一般式（１４）：
【化１０９】
（式中、Ｒ１２７，Ｒ１２８はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表し、Ｒ１２９〜Ｒ１３６はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）
【００４８】
一般式（１４）中、Ｒ１２７，Ｒ１２８はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表す。また、Ｒ１２９〜Ｒ１３６はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。
【００４９】
一般式（４）で表される化合物の具体例としては、例えば、以下の構造を有する化合物を挙げることができる。
【化１１０】
【化１１１】
【化１１２】
【化１１３】
【化１１４】
【化１１５】
【化１１６】
【化１１７】
【００５０】
次に、一般式（５）で表される化合物について説明する：
一般式（５）：
【化１１８】
（式中、Ｒ４５は水素又はメチル基を表し、Ｒ４６〜Ｒ５３はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）。
【００５１】
一般式（５）中、Ｒ４５は水素又はメチル基を表す。また、Ｒ４６〜Ｒ５３はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。
【００５２】
一般式（５）で表される化合物の具体例としては、例えば、以下の構造を有する化合物を挙げることができる。
【化１１９】
【化１２０】
【化１２１】
【００５３】
次に、一般式（６）で表される化合物について説明する：
一般式（６）：
【化１２２】
（式中、Ｒ５４は水素又はメチル基を表し、Ｒ５５〜Ｒ６２はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）。
【００５４】
一般式（６）中、Ｒ５４は水素又はメチル基を表す。Ｒ５５〜Ｒ６２はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。
【００５５】
一般式（６）で表される化合物の具体例としては、例えば、以下の構造を有する化合物を挙げることができる。
【化１２３】
【化１２４】
【化１２５】
【００５６】
次に、一般式（７）で表される化合物について説明する：
一般式（７）：
【化１２６】
（式中、Ｒ６３，Ｒ６４はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表し、Ｒ６５，Ｒ６６はそれぞれ独立に炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ６７〜Ｒ７３はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ｍ、ｐはそれぞれ独立に０〜３の整数を表し、そしてｎ、ｑはそれぞれ独立に０〜２の整数を表す。）。
【００５７】
一般式（７）中、Ｒ６３，Ｒ６４はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表す。Ｒ６５，Ｒ６６はそれぞれ独立に炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、例えば、以下のような残基を挙げることができる。
【化１２７】
【化１２８】
【化１２９】
【化１３０】
【化１３１】
【化１３２】
【化１３３】
【化１３４】
【化１３５】
【化１３６】
【化１３７】
【００５８】
一般式（７）中、Ｒ６７〜Ｒ７３はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。また、ｍ、ｐはそれぞれ独立に０〜３の整数を表すが、好ましくは、それぞれ独立に０又は１である。ｎ、ｑはそれぞれ独立に０〜２の整数を表すが、好ましくは、ｎ，ｑともに１である。
【００５９】
一般式（７）で表される化合物の具体例としては、例えば、以下の構造を有する化合物を挙げることができる。
【化１３８】
【化１３９】
【化１４０】
【００６０】
次に、一般式（８）で表される化合物について説明する：
一般式（８）：
【化１４１】
（式中、Ｒ７４，Ｒ７５はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表し、Ｒ７６，Ｒ７７はそれぞれ独立に炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ７８〜Ｒ８３はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ｒ、ｔはそれぞれ独立に０〜３の整数を表し、そしてｓ、ｕはそれぞれ独立に０〜２を表す。）。
【００６１】
一般式（８）中、Ｒ７４，Ｒ７５はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表す。Ｒ７６，Ｒ７７はそれぞれ独立に炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、例えば、以下のような残基を挙げることができる。
【化１４２】
【化１４３】
【化１４４】
【化１４５】
【化１４６】
【化１４７】
【化１４８】
【化１４９】
【化１５０】
【化１５１】
【化１５２】
【００６２】
一般式（８）中、Ｒ７８〜Ｒ８３はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。また、ｒ、ｔはそれぞれ独立に０〜３の整数を表すが、好ましくは、それぞれ独立に０又は１である。ｓ、ｕはそれぞれ独立に０〜２の整数を表すが、好ましくは、ｓ，ｕともに１である。
【００６３】
一般式（８）で表される化合物の具体例としては、例えば、以下の構造を有する化合物を挙げることができる。
【化１５３】
【化１５４】
【化１５５】
【００６４】
次に、一般式（９）で表される化合物について説明する：
一般式（９）：
【化１５６】
（式中、Ｒ８４は水素又はメチル基を表し、Ｒ８５〜Ｒ９１はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）。
【００６５】
一般式（９）中、Ｒ８４は水素又はメチル基を表す。また、Ｒ８５〜Ｒ９１はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。
一般式（９）で表される化合物の具体例としては、例えば、以下の構造を有する化合物を挙げることができる。
【化１５７】
【化１５８】
【化１５９】
【化１６０】
【化１６１】
【００６６】
次に、一般式（１０）で表される化合物について説明する：
一般式（１０）：
【化１６２】
（式中、Ｒ９２は水素又はメチル基を表し、Ｒ９３〜Ｒ９８はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）。
【００６７】
一般式（１０）中、Ｒ９２は水素又はメチル基を表す。また、Ｒ９３〜Ｒ９８はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。
【００６８】
一般式（１０）で表される化合物の具体例としては、例えば、以下の構造を有する化合物を挙げることができる。
【化１６３】
【化１６４】
【化１６５】
【００６９】
次に、本発明の多官能エポキシ化合物の製造方法の必須成分である過酸化水素について説明する。
本発明の製造法において用いられる過酸化水素水溶液中の過酸化水素の濃度に、特に制限はなく、濃度に応じて、少なくとも１個以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物オレフィン化合物への反応は生起するが、一般的には１〜８０％、好ましくは２０〜８０％の範囲から選ばれる。
【００７０】
過酸化水素水溶液の使用量に、特に制限はなく、使用量に応じて、少なくとも１個以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物への反応は生起するが、一般的には、少なくとも１個以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物のシクロオレフィン構造中に含まれる２重結合数に対して、過酸化水素を０．８〜１０．０倍含有することが好ましく、さらに好ましくは１．０〜３．０倍の範囲から選ばれる。
【００７１】
レニウム化合物としては、例えば、メチルトリオキソレニウム、エチルトリオキソレニウム、ｎ−プロピルトリオキソレニウム、シクロヘキシルトリオキソレニウム、ｎ−ブチルトリオキソレニウム、ベンジルトリオキソレニウム等が挙げられるが、メチルトリオキソレニウムが好ましい。これらレニウム化合物は単独で使用しても、２種以上を混合使用してもよい。その使用量は、少なくとも１個以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物に対して０．０００１〜２０モル％の範囲で選ばれることが好ましく、さらに好ましくは０．０１〜１０モル％の範囲である。
【００７２】
なお、有機塩基性化合物を、助触媒として併用することが可能でありかつ好ましい。
【００７３】
有機塩基性化合物としては、ピリジン、ピラジン、ピラゾール、ピリミジン、ピペリジン、２−シアノピリジン、４−シアノピリジン、２−プロピルピリジン、α−ピコリン、β−ピコリン、γ−ピコリン、２，２’−ビピリジン、２−アミノピリジン、２−（メチルアミノ）ピリジン、ピロリジン、ｏ−メトキシピリジン、ｐ−メトキシピリジン、アニリン、８−ヒドロキシキノリン、キヌクリジン、４，４’−ジメチルアミノピリジン、ｏ−フェナントロリン、４−ピペリジノピリジン等の窒素含有有機塩基性化合物を代表例としてあげることができる。
【００７４】
この有機塩基性化合物の使用量としては、特に制限はないが、レニウム化合物に対して、０．１〜１００倍モル用いることが好ましく、さらに好ましくは、１〜３０倍モルである。
【００７５】
本製造方法における反応温度は、通常、０〜１００℃の範囲で行われるが、０〜５０℃の範囲であることが好ましく、更に好ましくは、３〜４０℃の範囲である。
【００７６】
一般式（１）〜一般式（１０）で表されている化合物から得られる多官能エポキシ化合物としては、それぞれ、下記一般式（１５）〜下記一般式（２４）で表される化合物である：
一般式（１５）：
【化１６６】
（式中、Ｒ１は水素又はメチル基を表し、Ｒ２は炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ３〜Ｒ１０はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ａは０〜３の整数を表し、そしてｂは０〜２の整数を表す。）
一般式（１６）：
【化１６７】
（式中、Ｒ１１は水素又はメチル基を表し、Ｒ１２は炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ１３〜Ｒ２０はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ｃは０〜３の整数を表し、そしてｄは０〜２の整数を表す。）
一般式（１７）：
【化１６８】
（式中、Ｒ２１，Ｒ２２はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表し、Ｒ２３，Ｒ２４はそれぞれ独立に炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ２５〜Ｒ３２はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ｅ、ｇはそれぞれ独立に０〜３の整数を表し、そしてｆ、ｈはそれぞれ独立に０〜２の整数を表す。）
一般式（１８）：
【化１６９】
（式中、Ｒ３３，Ｒ３４はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表し、Ｒ３５，Ｒ３６はそれぞれ独立に炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ３７〜Ｒ４４はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ｉ、ｋはそれぞれ独立に０〜３の整数を表し、そしてｊ、ｌはそれぞれ独立に０〜２の整数を表す。）
一般式（１９）：
【化１７０】
（式中、Ｒ４５は水素又はメチル基を表し、Ｒ４６〜Ｒ５３はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）
一般式（２０）：
【化１７１】
（式中、Ｒ５４は水素又はメチル基を表し、Ｒ５５〜Ｒ６２はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）
一般式（２１）：
【化１７２】
（式中、Ｒ６３，Ｒ６４はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表し、Ｒ６５，Ｒ６６はそれぞれ独立に炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ６７〜Ｒ７３はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ｍ、ｐはそれぞれ独立に０〜３の整数を表し、そしてｎ、ｑはそれぞれ独立に０〜２の整数を表す。）
一般式（２２）：
【化１７３】
（式中、Ｒ７４，Ｒ７５はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表し、Ｒ７６，Ｒ７７はそれぞれ独立に炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ７８〜Ｒ８３はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ｒ、ｔはそれぞれ独立に０〜３の整数を表し、そしてｓ、ｕはそれぞれ独立に０〜２を表す。）
一般式（２３）：
【化１７４】
（式中、Ｒ８４は水素又はメチル基を表し、Ｒ８５〜Ｒ９１はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）
一般式（２４）：
【化１７５】
（式中、Ｒ９２は水素又はメチル基を表し、Ｒ９３〜Ｒ９８はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）
【００７７】
かくして生成した目的の多官能エポキシ化合物は、反応終了後の混合液を濃縮後、蒸留、昇華等の通常の方法によって取り出すことができる。
【実施例】
【００７８】
以下、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明は以下の実施例により制限されるものではない。
実施例１
還流冷却器付きの５０ｍｌ三ッ口丸底フラスコに、下記化合物（１）２．５３０ｇ（１０．１ｍｍｏｌ）、メチルトリオキソレニウム２４．９ｍｇ（０．１ｍｍｏｌ）、ピリミジン８０．３ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）及び塩化メチレン５ｍｇを入れた。その後、３０質量％過酸化水素水を１．２４７ｇ（１１．０ｍｍｏｌ）添加し、スターリングバーを入れ、マグネチックスタラーを用いて、室温で６時間攪拌を継続した。その後、ガスクロマトグラフ（以下、ＧＣと記す。）法で分析した結果、化合物（１）の転化率は８５％であり、４, ５−エポキシシクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸ジアリルの収率は８３％であった。
【００７９】
化合物（１）：
【化１７６】
また、４, ５−エポキシシクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸ジアリルには、下記化合物（２）及び下記化合物（３）に２種の異性体が存在するが、上記反応では、４, ５−エポキシシクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸ジアリルのうちの６８％が化合物（２）であり、３２％が化合物（３）であることが、ガスクロマトグラフ（以下、ＧＣと記す。）法により確認された。
【００８０】
化合物（２）：
【化１７７】
【００８１】
化合物（３）：
【化１７８】
なお、そのときのＧＣ法の分析条件は以下の通りである。
使用カラム：Ｊ＆Ｗ サイエンティフィック社製 ＨＰ−１
（長さ３０ｍ、内径０．３２ｍｍ、膜厚０．２５μｍ）
インジェクション温度：３００℃、
検出器温度：３００℃
カラムの温度条件：スタート温度１３０℃で２分間ホールドし、その後２０℃／分の昇温速度で２８０℃まで昇温し、その後、６．５分間２８０℃でホールド
【００８２】
実施例２
化合物（１）２．５３０ｇ（１０．１ｍｍｏｌ）の代わりに化合物（４）１．６７４ｇ（１０．１ｍｍｏｌ）を用いた以外は、実施例１と同様の操作を行った。その結果、化合物（４）の転化率は、９９．５％であり、３，４−エポキシシクロヘキサン−１−カルボン酸アリルの収率は８０％であった。
【００８３】
化合物（４）：
【化１７９】
また、３，４−エポキシシクロヘキサン−１−カルボン酸アリルには、化合物（５）及び化合物（６）に２種の異性体が存在するが、上記反応では、３，４−エポキシシクロヘキサン−１−カルボン酸アリルのうちの６１％が化合物（５）であり、３９％が化合物（６）であることが、ＧＣ法により確認された。
【００８４】
化合物（５）：
【化１８０】
【００８５】
化合物（６）：
【化１８１】
なお、そのときのＧＣ法の分析条件は実施例１と同様であった。
【００８６】
実施例３
化合物（１）２．５３０ｇ（１０．１ｍｍｏｌ）の代わりに化合物（７）１．９１７ｇ（１０．０ｍｍｏｌ）を用いた以外は、実施例１と同様の操作を行った。その結果、化合物（７）の転化率は、９９．５％であり、Ｎ−アリル−４, ５−エポキシシクロヘキサン−１，２−ジカルボキシイミドの収率は７８％であった。
【００８７】
化合物（７）：
【化１８２】
また、Ｎ−アリル−４, ５−エポキシシクロヘキサン−１，２−ジカルボキシイミドには、化合物（８）及び化合物（９）に２種の異性体が存在するが、上記反応では、Ｎ−アリル−４, ５−エポキシシクロヘキサン−１，２−ジカルボキシイミドのうちの１５％が化合物（８）であり、８５％が化合物（９）であることが、ＧＣ法により確認された。
【００８８】
化合物（８）：
【化１８３】
【００８９】
化合物（９）：
【化１８４】
なお、そのときのＧＣ法の分析条件は実施例１と同様であった。
【００９０】
実施例４
５０ｍｌのガラス製容器を用い，化合物（４）（２．０ｇ，１２．０ｍｍｏｌ），メチルトリオキソレニウム（１０．０ｍｇ，０．０４２ｍｍｏｌ），ピラゾール（８２．０ｍｇ，１．２ｍｍｏｌ）の混合物に，室温にて過酸化水素水（３１％，１．４４ｍｌ，１４．４ｍｍｏｌ）を攪拌しながら滴下して加えた。室温で５時間攪拌して反応を行った。亜硫酸ナトリウム水溶液を加えた後，有機溶媒で有機物を抽出し，水で洗浄した後，硫酸マグネシウムで乾燥させた。有機溶媒を減圧下留去させ，収率を１Ｈ−ＮＭＲを用いて計算した結果，出発原料はすべて消失しており，８５％の収率で３，４−エポキシシクロヘキサン−１−カルボン酸アリルが得られた。続いて減圧蒸留（５ｍｍＨｇ，１３５℃）により高純度のエポキシシクロヘキサン−１−カルボン酸アリルを単離した。
【００９１】
実施例５
５０ｍｌのガラス製容器を用い，化合物（４）（６６５ｍｇ，４．０ｍｍｏｌ），メチルトリオキソレニウム（５．０ｍｇ，０．０２１ｍｍｏｌ），ピラゾール（２９．０ｍｇ，０．４２ｍｍｏｌ）を酢酸エチル（２ｍｌ）に溶解させ，室温にて過酸化水素水（３１％，０．５０ｍｌ，５．０ｍｍｏｌ）を攪拌しながら滴下して加えた。室温で６時間攪拌して反応を行った。亜硫酸ナトリウム水溶液を加えた後，有機溶媒で有機物を抽出し，水で洗浄した後，硫酸マグネシウムで乾燥させた。有機溶媒を減圧下留去させ，収率を１Ｈ−ＮＭＲを用いて計算した結果，出発原料はすべて消失しており，８６％の収率で４，５−エポキシシクロヘキサン−１−カルボン酸アリルが得られた。
【００９２】
実施例６
５０ｍｌのガラス製容器を用い，化合物（４）（６６５ｍｇ，４．０ｍｍｏｌ），メチルトリオキソレニウム（４．５ｍｇ，０．０１９ｍｍｏｌ），ピリジン（３３．５ｍｇ，０．４２ｍｍｏｌ）の混合物に，室温にて過酸化水素水（３１％，０．４５ｍｌ，４．５ｍｍｏｌ）を攪拌しながら滴下して加えた。室温で５時間攪拌して反応を行った。亜硫酸ナトリウム水溶液を加えた後，有機溶媒で有機物を抽出し，水で洗浄した後，硫酸マグネシウムで乾燥させた。有機溶媒を減圧下留去させ，収率を１Ｈ−ＮＭＲを用いて計算した結果，出発原料はすべて消失しており，８８％の収率で４，５−エポキシシクロヘキサン−１−カルボン酸アリルが得られた。
【００９３】
比較例１
攪拌機、還流冷却器、温度計、滴下ロートを取り付けた内容量２ｌの四ッ口フラスコに化合物（１）４００ｇ、ベンゼン６００ｇ、９０％ギ酸４１ｇ、４０％リン酸２ｇ及び塩化カルシウム２ｇを仕込み、内容物をかきまぜつつ温度を５０〜６０℃に調節しながら、滴下ロートより５０質量％過酸化水素１３２ｇを３０分間で滴下し、６０℃で５時間反応させた。その後、ＧＣ法により分析した結果、４, ５−エポキシシクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸ジアリルの収率は６５％であった。
なお、そのときのＧＣ法の分析条件は実施例１と同様であった。
なお、本明細書に記載の転化率及び収率は以下のように定義される：
【００９４】
少なくとも１個以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物の転化率（％）＝〔（反応した少なくとも１個以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物のｍｏｌ数）／（反応に供給した少なくとも１個以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物のｍｏｌ数）〕×１００
【００９５】
多官能エポキシ化合物の収率（％）＝〔（少なくとも１個以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物の転化率）×（（生成した多官能エポキシ化合物のｍｏｌ数）／（反応した少なくとも１個以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物のモル数））×１００）〕／１００
【技術分野】
【０００１】
本発明は、エポキシ基および２重結合を分子内に含む多官能エポキシ化合物が得られるようにポリオレフィン類をエポキシ化する方法に関する。特に、本発明はトリオレフィン類と過酸化水素水溶液を触媒であるレニウム化合物存在下にて反応させ、１つの２重結合を選択的にエポキシ化させる多官能エポキシ化合物の新規な製造法に関する。本発明により提供される多官能エポキシ化合物は、レジスト材料（特にソルダ−レジスト材料）の原料として、また農薬・医薬の中間体や可塑剤、接着剤、塗料樹脂といった各種ポリマーの原料として化学工業をはじめ、各種の産業分野で幅広く用いられる有用な物質である。
【背景技術】
【０００２】
分子内に２個以上の２重結合を有する化合物（ポリオレフィン類）の１つの２重結合を選択的にエポキシ化させる技術は、低生産性（低反応性、低選択性）であったり、適用性がある種の構造体に制限されたりする場合が多い。
従来、ポリオレフィン類の選択的エポキシ化剤として過ギ酸や過酢酸等の有機過酸を使用する方法が知られているが (例えばＣｈｅｍ．Ｂｅｒ．，１９８５，１１８，１２６７−１２７０ 非特許文献１、欧州特許公開００３３７６３ 特許文献１)、酸化剤由来の酸が当量生成するため装置の腐食などの問題があるほか、酸に反応しやすい基質ではジオールが副成しやすい。
【０００３】
ケトン触媒下におけるオキソンを酸化剤としたジオレフィンの選択的エポキシ化方法 （Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，１９９８，６３，２９４８−２９５３ 非特許文献２）が知られているが、この反応では触媒のケトンが非常に多く必要（ジオレフィン類に対し２０−３０モル％)であるほか、反応中のオキソンの分解を抑制する為に溶液中のｐＨや反応温度等の反応条件を厳密にコントロールする必要があるといった問題点が挙げられる。
【０００４】
一方、過酸化水素は、安価で腐食性がなく、反応後の副生物は皆無又は水であるために環境負荷が小さく、工業的に利用するには優れた酸化剤である。
【０００５】
過酸化水素をエポキシ化剤とするジオレフィン類の選択的エポキシ化に関しては、（１） 式Ｑ３ＸＷ４Ｏ２４（式中、Ｑは７０個までの炭素原子を含む第４級アンモニウムカチオンを表し、ＸはＰまたはＡｓを表す)で示される触媒の存在下、過酸化水素によりジオレフィンをエポキシ化する方法 (特開平４−２７５２８１ 特許文献２)、（２）塩化第４級アンモニウム、リン酸、タングステン化合物の存在下、過酸化水素によりメタクリル酸ユニット有するジオレフィンをエポキシ化する方法 (Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，１９９２，４８，５０９９−５１１０ 非特許文献３)、（３）タングステン化合物および第４級ピリジニウム塩存在下、１, ５, ９-シクロドデカトリエン（ＣＤＴ）をモノエポキシ化する方法（特開２０００−２６４４１ 特許文献３）、（４）タングステンおよびモリブデンのポリオキソメタラート錯体の存在下、過酸化水素により大員環脂肪族化合物を選択的モノエポキシ化する方法 （特開２００２−１５５０６６ 特許文献４）があげられるが、（１）では過酸化水素の量がジオレフィン1当量に対して１当量未満であるために反応収率が非常に悪く (使用したジオレフィンに対して３２〜４８％)、分離・精製過程に時間、コストがかかり生産性に乏しい。（２）の方法はメタクリル酸ユニット有するジオレフィンに限定される。（３）の方法はトリオレフィン１当量に対して１当量未満であるために原料の転化率が非常に悪いほか、（４）の方法では、時間経過とともにモノエポキシ化選択率が大幅に低下するといった問題がある。また、特許文献２、非特許文献３、特許文献３及び特許文献４は、いずれも、少なくとも１つ以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物のエポキシ化については何ら開示していない。
【０００６】
少なくとも１つ以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物の過酸化水素を用いた選択的エポキシ化の例としては（５）アルカリ金属、アルカリ土類金属或いはアンモニウムの水に可溶な塩、リン酸、硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸等の酸性触媒及びギ酸の存在下、過酸化水素によりテトラヒドロフタル酸ジアリルを選択的にエポキシ化し、４，５−エポキシシクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸ジアリルを得る方法（特公昭５０−３９６５９ 特許文献５）が挙げられる。しかしながら、（５）の方法では、収率は６５％程度しか得られず、満足できるものではなかった。
【０００７】
一方、レニウム化合物を触媒に用いた過酸化水素をエポキシ化剤とするポリオレフィン類の選択的エポキシ化に関しては、（６）有機レニウムオキシドを触媒として過酸化水素によりエポキシ化する方法 （特開２００１−２５６６５ 特許文献６、Ｃ．Ｒ．Ａｃａｄ．Ｓｃｉ，Ｓｅｒｉｅｓ ＩＩＣ Ｃｈｅｍ．，Ｖｏｌ．３，２０００，１０，７９３−８０１ 非特許文献４、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，２００５，６１，１０６９−１０７５ 非特許文献５ 等）を挙げることができる。しかしながら、特許文献６、非特許文献４及び非特許文献５は、いずれも、少なくとも１つ以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物のエポキシ化については何ら開示していない。
【０００８】
従って温和な条件下、簡便な操作で安全に、少なくとも１つ以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物から選択的に多官能エポキシ化合物を収率良く、かつ低コストで製造する方法の開発が強く要望されている。
【非特許文献１】Ｃｈｅｍ．Ｂｅｒ．，１１８，１２６７−１２７０（１９８５）
【非特許文献２】Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，６３，２９４８−２９５３（１９９８）
【非特許文献３】Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，４８，５０９９−５１１０（１９９２）
【非特許文献４】Ｃ．Ｒ．Ａｃａｄ．Ｓｃｉ．，Ｓｅｒｉｅｓ ＩＩＣ Ｃｈｅｍ．，Ｖｏｌ．３，１０，７９３−８０１（２０００）
【非特許文献５】Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，，６１，１０６９−１０７５（２００５）
【特許文献１】欧州特許公開００３３７６３号
【特許文献２】特開平４−２７５２８１号公報
【特許文献３】特開２０００−２６４４１号公報
【特許文献４】特開２００２−１５５０６６号公報
【特許文献５】特公昭５０−３９６５９号公報
【特許文献６】特開２００１−２５６６５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、温和な条件下、ポリオレフィン類と過酸化水素水溶液の反応による安全で容易な多官能エポキシ化合物の新規製造法を提供することを課題とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らは、前記課題を解決するために鋭意研究の結果、レニウム化合物の存在下、過酸化水素を用いて、少なくとも１個以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物中のシクロオレフィンの２重結合部位を選択的に酸化して、高収率で選択的に多官能エポキシ基含有化合物を生成することを見いだし、本発明を完成するに至った。
【００１１】
すなわち、本発明は以下の[１]〜[１０]に示されるレニウム化合物の存在下、多官能エポキシ化合物の製造方法に関する。
【００１２】
[１] レニウム化合物の存在下、過酸化水素を用いて、少なくとも１個以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物中のシクロオレフィンの２重結合部位を酸化して、エポキシ基含有化合物を製造することを特徴とする多官能エポキシ化合物の製造方法。
【００１３】
[２] 前記シクロオレフィン構造が炭素６〜８員環であることを特徴とする、前記[１]に記載の方法。
【００１４】
[３] 前記少なくとも１つ以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物が下記一般式（１）〜（１０）から成る群から選ばれることを特徴とする、前記[１]又は[２]に記載の方法：
一般式（１）：
【化１】
（式中、Ｒ１は水素又はメチル基を表し、Ｒ２は炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ３〜Ｒ１０はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ａは０〜３の整数を表し、そしてｂは０〜２の整数を表す。）
一般式（２）：
【化２】
（式中、Ｒ１１は水素又はメチル基を表し、Ｒ１２は炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ１３〜Ｒ２０はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ｃは０〜３の整数を表し、そしてｄは０〜２の整数を表す。）
一般式（３）：
【化３】
（式中、Ｒ２１，Ｒ２２はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表し、Ｒ２３，Ｒ２４はそれぞれ独立に炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ２５〜Ｒ３２はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ｅ、ｇはそれぞれ独立に０〜３の整数を表し、そしてｆ、ｈはそれぞれ独立に０〜２の整数を表す。）
一般式（４）：
【化４】
（式中、Ｒ３３，Ｒ３４はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表し、Ｒ３５，Ｒ３６はそれぞれ独立に炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ３７〜Ｒ４４はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ｉ、ｋはそれぞれ独立に０〜３の整数を表し、そしてｊ、ｌはそれぞれ独立に０〜２の整数を表す。）
一般式（５）：
【化５】
（式中、Ｒ４５は水素又はメチル基を表し、Ｒ４６〜Ｒ５３はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）
一般式（６）：
【化６】
（式中、Ｒ５４は水素又はメチル基を表し、Ｒ５５〜Ｒ６２はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）
一般式（７）：
【化７】
（式中、Ｒ６３，Ｒ６４はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表し、Ｒ６５，Ｒ６６はそれぞれ独立に炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ６７〜Ｒ７３はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ｉ、ｋはそれぞれ独立に０〜３の整数を表し、そしてｊ、ｌはそれぞれ独立に０〜２の整数を表す。）
一般式（８）：
【化８】
（式中、Ｒ７４，Ｒ７５はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表し、Ｒ７６，Ｒ７７はそれぞれ独立に炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ７８〜Ｒ８３はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ｉ、ｋはそれぞれ独立に０〜３の整数を表し、そしてｊ、ｌはそれぞれ独立に０〜２を表す。）
一般式（９）：
【化９】
（式中、Ｒ８４は水素又はメチル基を表し、Ｒ８５〜Ｒ９１はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）
一般式（１０）：
【化１０】
（式中、Ｒ９２は水素又はメチル基を表し、Ｒ９３〜Ｒ９８はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）。
【００１５】
[４] 前記少なくとも１つ以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物が下記一般式（１１）又は下記一般式（１２）で表される化合物であることを特徴とする、前記[１]又は[２]に記載の方法：
一般式（１１）：
【化１１】
(式中、Ｒ９９は水素又はメチル基を表し、Ｒ１００〜Ｒ１０７はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、そしてｖは０〜２の整数を表す。）
一般式（１２）：
【化１２】
(式中、Ｒ１０８は水素又はメチル基を表し、Ｒ１０９〜Ｒ１１６はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、そしてｗは０〜２の整数を表す。）。
【００１６】
[５] 前記少なくとも１つ以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物が下記一般式（５）又は下記一般式（６）で表される化合物であることを特徴とする、前記[１]又は[２]に記載の方法：
一般式（５）：
【化１３】
（式中、Ｒ４５は水素又はメチル基を表し、Ｒ４６〜Ｒ５３はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）
一般式（６）：
【化１４】
（式中、Ｒ５４は水素又はメチル基を表し、Ｒ５５〜Ｒ６２はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）。
【００１７】
[６] 前記少なくとも１つ以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物が下記一般式（１３）又は下記一般式（１４）で表される化合物であることを特徴とする、前記[１]又は[２]に記載の方法：
一般式（１３）：
【化１５】
（式中、Ｒ１１７，Ｒ１１８はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表し、Ｒ１１９〜Ｒ１２６はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）
一般式（１４）：
【化１６】
（式中、Ｒ１２７，Ｒ１２８はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表し、Ｒ１２９〜Ｒ１３６はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）。
【００１８】
[７] 前記末端ビニルまたはビニリデン構造がアリルまたはメタリル構造であることを特徴とする、前記[１]〜[４]のいずれかに記載の方法。
【００１９】
[８] 前記レニウム化合物がメチルトリオキソレニウムであることを特徴とする、前記[１]〜[７]のいずれかに記載の方法。
【００２０】
[９] 前記レニウム化合物に対して有機塩基性化合物を１〜３０倍モル使用することを特徴とする、前記[１]〜[８]のいずれかに記載の方法。
【００２１】
[１０] 前記少なくとも１つ以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物のシクロオレフィン構造中に含まれる２重結合数に対して、過酸化水素を０．８〜１０．０倍含有することを特徴とする、前記[１]〜[９]のいずれかに記載の方法。
【発明の効果】
【００２２】
本発明の方法によれば、レジスト材料（特にソルダ−レジスト材料）の原料として、また農薬・医薬の中間体や可塑剤、接着剤、塗料樹脂といった各種ポリマーの原料として化学工業をはじめ、各種の産業分野で幅広く用いられる有用な物質である多官能エポキシ化合物を、対応するポリオレフィン類と過酸化水素水の反応から簡便な操作で安全に、高い収率で製造できることより、工業的に大きな効果をもたらす。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、本発明を具体的に説明する。
本発明は、レニウム化合物の存在下、過酸化水素を用いて、少なくとも１個以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物中のシクロオレフィンの２重結合部位を酸化して、エポキシ基含有化合物を製造することを特徴とする多官能エポキシ化合物の製造方法である。
【００２４】
まず、本発明の製造方法の原料成分である、少なくとも１個以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物について説明する。
本発明の製造方法の原料成分である、少なくとも１個以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物は、同一分子内に１個以上のシクロオレフィン構造と１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物であれば、特に制限はない。
【００２５】
シクロオレフィン構造の中で、合成の容易さ、或いは入手の容易さを考慮すると、好ましいシクロオレフィン構造としては、炭素６〜８員環構造を有するシクロオレフィン構造である。
【００２６】
少なくとも１個以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物の中で、好ましいものとしては以下の一般式（１）〜一般式（１０）をあげることができる：
【００２７】
一般式（１）：
【化１７】
（式中、Ｒ１は水素又はメチル基を表し、Ｒ２は炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ３〜Ｒ１０はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ａは０〜３の整数を表し、そしてｂは０〜２の整数を表す。）
一般式（２）：
【化１８】
（式中、Ｒ１１は水素又はメチル基を表し、Ｒ１２は炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ１３〜Ｒ２０はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ｃは０〜３の整数を表し、そしてｄは０〜２の整数を表す。）
一般式（３）：
【化１９】
（式中、Ｒ２１，Ｒ２２はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表し、Ｒ２３，Ｒ２４はそれぞれ独立に炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ２５〜Ｒ３２はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ｅ、ｇはそれぞれ独立に０〜３の整数を表し、そしてｆ、ｈはそれぞれ独立に０〜２の整数を表す。）
一般式（４）：
【化２０】
（式中、Ｒ３３，Ｒ３４はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表し、Ｒ３５，Ｒ３６はそれぞれ独立に炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ３７〜Ｒ４４はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ｉ、ｋはそれぞれ独立に０〜３の整数を表し、そしてｊ、ｌはそれぞれ独立に０〜２の整数を表す。）
一般式（５）：
【化２１】
（式中、Ｒ４５は水素又はメチル基を表し、Ｒ４６〜Ｒ５３はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）
一般式（６）：
【化２２】
（式中、Ｒ５４は水素又はメチル基を表し、Ｒ５５〜Ｒ６２はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）
一般式（７）：
【化２３】
（式中、Ｒ６３，Ｒ６４はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表し、Ｒ６５，Ｒ６６はそれぞれ独立に炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ６７〜Ｒ７３はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ｍ、ｐはそれぞれ独立に０〜３の整数を表し、ｎ、ｑはそれぞれ独立に０〜２の整数を表す。）
一般式（８）：
【化２４】
（式中、Ｒ７４，Ｒ７５はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表し、Ｒ７６，Ｒ７７はそれぞれ独立に炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ７８〜Ｒ８３はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ｒ、ｔはそれぞれ独立に０〜３の整数を表し、そしてｓ、ｕはそれぞれ独立に０〜２を表す。）
一般式（９）：
【化２５】
（式中、Ｒ８４は水素又はメチル基を表し、Ｒ８５〜Ｒ９１はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）
一般式（１０）：
【化２６】
（式中、Ｒ９２は水素又はメチル基を表し、Ｒ９３〜Ｒ９８はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）。
【００２８】
まず、一般式（１）で表される化合物について説明する。
一般式（１）：
【化２７】
（式中、Ｒ１は水素又はメチル基を表し、Ｒ２は炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ３〜Ｒ１０はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ａは０〜３の整数を表し、そしてｂは０〜２の整数を表す。）。
【００２９】
一般式（１）中、Ｒ１は水素又はメチル基を表す。Ｒ２は炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、例えば、以下のような残基を挙げることができる。
【化２８】
【化２９】
【化３０】
【化３１】
【化３２】
【化３３】
【化３４】
【化３５】
【化３６】
【化３７】
【化３８】
【００３０】
一般式（１）中、Ｒ３〜Ｒ１０はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。
また、ａは、０〜３の整数を表すが、好ましくは、０又は１であり、更に好ましくは、０である。ｂは、０〜２の整数であるが、好ましくは、ｂ＝１である。
Ｒ３〜Ｒ１０はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。
【００３１】
一般式（１）で表される化合物で、式中のａ＝０場合には、一般式（１１）で表される化合物となる：
一般式（１１）：
【化３９】
(式中、Ｒ９９は水素又はメチル基を表し、Ｒ１００〜Ｒ１０７はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。また、ｖは０〜２の整数を表す。）。
【００３２】
一般式（１１）中、Ｒ９９は水素又はメチル基を表す。また、Ｒ１００〜Ｒ１０７はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。また、ｖは、０〜２の整数であるが、好ましくは、ｖ＝１である。
【００３３】
一般式（１）で表される化合物の具体例としては、例えば、以下の構造を有する化合物を挙げることができる。
【化４０】
【化４１】
【化４２】
【化４３】
【化４４】
【化４５】
【化４６】
【化４７】
【化４８】
【化４９】
【化５０】
【化５１】
【００３４】
次に、一般式（２）で表される化合物について説明する：
一般式（２）：
【化５２】
（式中、Ｒ１１は水素又はメチル基を表し、Ｒ１２は炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ１３〜Ｒ２０はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ｃは０〜３の整数を表し、そしてｄは０〜２の整数を表す。）。
【００３５】
一般式（２）中、Ｒ１１は水素又はメチル基を表す。Ｒ１２は炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、例えば、以下のような残基を挙げることができる。
【化５３】
【化５４】
【化５５】
【化５６】
【化５７】
【化５８】
【化５９】
【化６０】
【化６１】
【化６２】
【化６３】
【００３６】
一般式（２）中、Ｒ１３〜Ｒ２０はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。
また、ｃは、０〜３の整数を表すが、好ましくは、０又は１であり、更に好ましくは、０である。ｄは、０〜２の整数であるが、好ましくは、ｄ＝１である。
Ｒ１３〜Ｒ２０はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。
一般式（２）で表される化合物で、式中のｃ＝０には、一般式（１２）で表される化合物となる：
一般式（１２）：
【化６４】
(式中、Ｒ１０８は水素又はメチル基を表し、Ｒ１０９〜Ｒ１１６はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ｗは０〜２の整数を表す。）。
【００３７】
一般式（１２）中、Ｒ１０８は水素又はメチル基を表す。また、Ｒ１０９〜Ｒ１１６はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ｗは、０〜２の整数であるが、好ましくは、ｗ＝１である。
【００３８】
一般式（２）で表される化合物の具体例としては、例えば、以下の構造を有する化合物を挙げることができる。
【化６５】
【化６６】
【化６７】
【化６８】
【化６９】
【化７０】
【化７１】
【化７２】
【化７３】
【化７４】
【００３９】
次に、一般式（３）で表される化合物について説明する：
一般式（３）：
【化７５】
（式中、Ｒ２１，Ｒ２２はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表す。Ｒ２３，Ｒ２４はそれぞれ独立に炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ２５〜Ｒ３２はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ｅ、ｇはそれぞれ独立に０〜３の整数を表し、そしてｆ、ｈはそれぞれ独立に０〜２の整数を表す。）。
【００４０】
一般式（３）中、Ｒ２１，Ｒ２２はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表す。Ｒ２３，Ｒ２４はそれぞれ独立に炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、例えば、以下のような残基を挙げることができる。
【化７６】
【化７７】
【化７８】
【化７９】
【化８０】
【化８１】
【化８２】
【化８３】
【化８４】
【化８５】
【化８６】
【００４１】
一般式（３）Ｒ２５〜Ｒ３２はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。
また、ｅ、ｇはそれぞれ独立に０〜３の整数を表すが、好ましくは、それぞれ独立に０又は１である。ｆ、ｈはそれぞれ独立に０〜２の整数を表すが、好ましくは、ｆ，ｈともに１である。
一般式（３）で表される化合物で、式中のｅ＝ｇ＝０かつｆ＝ｈ＝１場合には、一般式（１３）で表される化合物となる：
一般式（１３）：
【化８７】
（式中、Ｒ１１７，Ｒ１１８はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表し、Ｒ１１９〜Ｒ１２６はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）。
【００４２】
一般式（１３）中、Ｒ１１７，Ｒ１１８はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表す。また、Ｒ１１９〜Ｒ１２６はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。
【００４３】
一般式（３）で表される化合物の具体例としては、例えば、以下の構造を有する化合物を挙げることができる。
【化８８】
【化８９】
【化９０】
【化９１】
【化９２】
【化９３】
【化９４】
【化９５】
【化９６】
【００４４】
次に、一般式（４）で表される化合物について説明する：
一般式（４）：
【化９７】
（式中、Ｒ３３，Ｒ３４はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表し、Ｒ３５，Ｒ３６はそれぞれ独立に炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ３７〜Ｒ４４はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ｉ、ｋはそれぞれ独立に０〜３の整数を表し、そしてｊ、ｌはそれぞれ独立に０〜２の整数を表す。）。
【００４５】
一般式（４）中、Ｒ３３，Ｒ３４はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表す。Ｒ３５，Ｒ３６はそれぞれ独立に炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、例えば、以下のような残基を挙げることができる。
【化９８】
【化９９】
【化１００】
【化１０１】
【化１０２】
【化１０３】
【化１０４】
【化１０５】
【化１０６】
【化１０７】
【化１０８】
【００４６】
一般式（４）中、Ｒ３７〜Ｒ４４はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。また、ｉ、ｋはそれぞれ独立に０〜３の整数を表すが、好ましくは、それぞれ独立に０又は１である。ｊ、ｌはそれぞれ独立に０〜２の整数を表すが、好ましくは、ｊ，ｌともに１である。
【００４７】
一般式（４）で表される化合物で、式中のｉ＝ｋ＝０かつｊ＝ｌ＝１場合には、一般式（１４）で表される化合物となる：
一般式（１４）：
【化１０９】
（式中、Ｒ１２７，Ｒ１２８はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表し、Ｒ１２９〜Ｒ１３６はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）
【００４８】
一般式（１４）中、Ｒ１２７，Ｒ１２８はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表す。また、Ｒ１２９〜Ｒ１３６はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。
【００４９】
一般式（４）で表される化合物の具体例としては、例えば、以下の構造を有する化合物を挙げることができる。
【化１１０】
【化１１１】
【化１１２】
【化１１３】
【化１１４】
【化１１５】
【化１１６】
【化１１７】
【００５０】
次に、一般式（５）で表される化合物について説明する：
一般式（５）：
【化１１８】
（式中、Ｒ４５は水素又はメチル基を表し、Ｒ４６〜Ｒ５３はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）。
【００５１】
一般式（５）中、Ｒ４５は水素又はメチル基を表す。また、Ｒ４６〜Ｒ５３はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。
【００５２】
一般式（５）で表される化合物の具体例としては、例えば、以下の構造を有する化合物を挙げることができる。
【化１１９】
【化１２０】
【化１２１】
【００５３】
次に、一般式（６）で表される化合物について説明する：
一般式（６）：
【化１２２】
（式中、Ｒ５４は水素又はメチル基を表し、Ｒ５５〜Ｒ６２はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）。
【００５４】
一般式（６）中、Ｒ５４は水素又はメチル基を表す。Ｒ５５〜Ｒ６２はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。
【００５５】
一般式（６）で表される化合物の具体例としては、例えば、以下の構造を有する化合物を挙げることができる。
【化１２３】
【化１２４】
【化１２５】
【００５６】
次に、一般式（７）で表される化合物について説明する：
一般式（７）：
【化１２６】
（式中、Ｒ６３，Ｒ６４はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表し、Ｒ６５，Ｒ６６はそれぞれ独立に炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ６７〜Ｒ７３はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ｍ、ｐはそれぞれ独立に０〜３の整数を表し、そしてｎ、ｑはそれぞれ独立に０〜２の整数を表す。）。
【００５７】
一般式（７）中、Ｒ６３，Ｒ６４はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表す。Ｒ６５，Ｒ６６はそれぞれ独立に炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、例えば、以下のような残基を挙げることができる。
【化１２７】
【化１２８】
【化１２９】
【化１３０】
【化１３１】
【化１３２】
【化１３３】
【化１３４】
【化１３５】
【化１３６】
【化１３７】
【００５８】
一般式（７）中、Ｒ６７〜Ｒ７３はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。また、ｍ、ｐはそれぞれ独立に０〜３の整数を表すが、好ましくは、それぞれ独立に０又は１である。ｎ、ｑはそれぞれ独立に０〜２の整数を表すが、好ましくは、ｎ，ｑともに１である。
【００５９】
一般式（７）で表される化合物の具体例としては、例えば、以下の構造を有する化合物を挙げることができる。
【化１３８】
【化１３９】
【化１４０】
【００６０】
次に、一般式（８）で表される化合物について説明する：
一般式（８）：
【化１４１】
（式中、Ｒ７４，Ｒ７５はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表し、Ｒ７６，Ｒ７７はそれぞれ独立に炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ７８〜Ｒ８３はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ｒ、ｔはそれぞれ独立に０〜３の整数を表し、そしてｓ、ｕはそれぞれ独立に０〜２を表す。）。
【００６１】
一般式（８）中、Ｒ７４，Ｒ７５はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表す。Ｒ７６，Ｒ７７はそれぞれ独立に炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、例えば、以下のような残基を挙げることができる。
【化１４２】
【化１４３】
【化１４４】
【化１４５】
【化１４６】
【化１４７】
【化１４８】
【化１４９】
【化１５０】
【化１５１】
【化１５２】
【００６２】
一般式（８）中、Ｒ７８〜Ｒ８３はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。また、ｒ、ｔはそれぞれ独立に０〜３の整数を表すが、好ましくは、それぞれ独立に０又は１である。ｓ、ｕはそれぞれ独立に０〜２の整数を表すが、好ましくは、ｓ，ｕともに１である。
【００６３】
一般式（８）で表される化合物の具体例としては、例えば、以下の構造を有する化合物を挙げることができる。
【化１５３】
【化１５４】
【化１５５】
【００６４】
次に、一般式（９）で表される化合物について説明する：
一般式（９）：
【化１５６】
（式中、Ｒ８４は水素又はメチル基を表し、Ｒ８５〜Ｒ９１はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）。
【００６５】
一般式（９）中、Ｒ８４は水素又はメチル基を表す。また、Ｒ８５〜Ｒ９１はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。
一般式（９）で表される化合物の具体例としては、例えば、以下の構造を有する化合物を挙げることができる。
【化１５７】
【化１５８】
【化１５９】
【化１６０】
【化１６１】
【００６６】
次に、一般式（１０）で表される化合物について説明する：
一般式（１０）：
【化１６２】
（式中、Ｒ９２は水素又はメチル基を表し、Ｒ９３〜Ｒ９８はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）。
【００６７】
一般式（１０）中、Ｒ９２は水素又はメチル基を表す。また、Ｒ９３〜Ｒ９８はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。
【００６８】
一般式（１０）で表される化合物の具体例としては、例えば、以下の構造を有する化合物を挙げることができる。
【化１６３】
【化１６４】
【化１６５】
【００６９】
次に、本発明の多官能エポキシ化合物の製造方法の必須成分である過酸化水素について説明する。
本発明の製造法において用いられる過酸化水素水溶液中の過酸化水素の濃度に、特に制限はなく、濃度に応じて、少なくとも１個以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物オレフィン化合物への反応は生起するが、一般的には１〜８０％、好ましくは２０〜８０％の範囲から選ばれる。
【００７０】
過酸化水素水溶液の使用量に、特に制限はなく、使用量に応じて、少なくとも１個以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物への反応は生起するが、一般的には、少なくとも１個以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物のシクロオレフィン構造中に含まれる２重結合数に対して、過酸化水素を０．８〜１０．０倍含有することが好ましく、さらに好ましくは１．０〜３．０倍の範囲から選ばれる。
【００７１】
レニウム化合物としては、例えば、メチルトリオキソレニウム、エチルトリオキソレニウム、ｎ−プロピルトリオキソレニウム、シクロヘキシルトリオキソレニウム、ｎ−ブチルトリオキソレニウム、ベンジルトリオキソレニウム等が挙げられるが、メチルトリオキソレニウムが好ましい。これらレニウム化合物は単独で使用しても、２種以上を混合使用してもよい。その使用量は、少なくとも１個以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物に対して０．０００１〜２０モル％の範囲で選ばれることが好ましく、さらに好ましくは０．０１〜１０モル％の範囲である。
【００７２】
なお、有機塩基性化合物を、助触媒として併用することが可能でありかつ好ましい。
【００７３】
有機塩基性化合物としては、ピリジン、ピラジン、ピラゾール、ピリミジン、ピペリジン、２−シアノピリジン、４−シアノピリジン、２−プロピルピリジン、α−ピコリン、β−ピコリン、γ−ピコリン、２，２’−ビピリジン、２−アミノピリジン、２−（メチルアミノ）ピリジン、ピロリジン、ｏ−メトキシピリジン、ｐ−メトキシピリジン、アニリン、８−ヒドロキシキノリン、キヌクリジン、４，４’−ジメチルアミノピリジン、ｏ−フェナントロリン、４−ピペリジノピリジン等の窒素含有有機塩基性化合物を代表例としてあげることができる。
【００７４】
この有機塩基性化合物の使用量としては、特に制限はないが、レニウム化合物に対して、０．１〜１００倍モル用いることが好ましく、さらに好ましくは、１〜３０倍モルである。
【００７５】
本製造方法における反応温度は、通常、０〜１００℃の範囲で行われるが、０〜５０℃の範囲であることが好ましく、更に好ましくは、３〜４０℃の範囲である。
【００７６】
一般式（１）〜一般式（１０）で表されている化合物から得られる多官能エポキシ化合物としては、それぞれ、下記一般式（１５）〜下記一般式（２４）で表される化合物である：
一般式（１５）：
【化１６６】
（式中、Ｒ１は水素又はメチル基を表し、Ｒ２は炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ３〜Ｒ１０はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ａは０〜３の整数を表し、そしてｂは０〜２の整数を表す。）
一般式（１６）：
【化１６７】
（式中、Ｒ１１は水素又はメチル基を表し、Ｒ１２は炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ１３〜Ｒ２０はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ｃは０〜３の整数を表し、そしてｄは０〜２の整数を表す。）
一般式（１７）：
【化１６８】
（式中、Ｒ２１，Ｒ２２はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表し、Ｒ２３，Ｒ２４はそれぞれ独立に炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ２５〜Ｒ３２はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ｅ、ｇはそれぞれ独立に０〜３の整数を表し、そしてｆ、ｈはそれぞれ独立に０〜２の整数を表す。）
一般式（１８）：
【化１６９】
（式中、Ｒ３３，Ｒ３４はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表し、Ｒ３５，Ｒ３６はそれぞれ独立に炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ３７〜Ｒ４４はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ｉ、ｋはそれぞれ独立に０〜３の整数を表し、そしてｊ、ｌはそれぞれ独立に０〜２の整数を表す。）
一般式（１９）：
【化１７０】
（式中、Ｒ４５は水素又はメチル基を表し、Ｒ４６〜Ｒ５３はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）
一般式（２０）：
【化１７１】
（式中、Ｒ５４は水素又はメチル基を表し、Ｒ５５〜Ｒ６２はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）
一般式（２１）：
【化１７２】
（式中、Ｒ６３，Ｒ６４はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表し、Ｒ６５，Ｒ６６はそれぞれ独立に炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ６７〜Ｒ７３はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ｍ、ｐはそれぞれ独立に０〜３の整数を表し、そしてｎ、ｑはそれぞれ独立に０〜２の整数を表す。）
一般式（２２）：
【化１７３】
（式中、Ｒ７４，Ｒ７５はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表し、Ｒ７６，Ｒ７７はそれぞれ独立に炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ７８〜Ｒ８３はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ｒ、ｔはそれぞれ独立に０〜３の整数を表し、そしてｓ、ｕはそれぞれ独立に０〜２を表す。）
一般式（２３）：
【化１７４】
（式中、Ｒ８４は水素又はメチル基を表し、Ｒ８５〜Ｒ９１はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）
一般式（２４）：
【化１７５】
（式中、Ｒ９２は水素又はメチル基を表し、Ｒ９３〜Ｒ９８はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）
【００７７】
かくして生成した目的の多官能エポキシ化合物は、反応終了後の混合液を濃縮後、蒸留、昇華等の通常の方法によって取り出すことができる。
【実施例】
【００７８】
以下、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明は以下の実施例により制限されるものではない。
実施例１
還流冷却器付きの５０ｍｌ三ッ口丸底フラスコに、下記化合物（１）２．５３０ｇ（１０．１ｍｍｏｌ）、メチルトリオキソレニウム２４．９ｍｇ（０．１ｍｍｏｌ）、ピリミジン８０．３ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）及び塩化メチレン５ｍｇを入れた。その後、３０質量％過酸化水素水を１．２４７ｇ（１１．０ｍｍｏｌ）添加し、スターリングバーを入れ、マグネチックスタラーを用いて、室温で６時間攪拌を継続した。その後、ガスクロマトグラフ（以下、ＧＣと記す。）法で分析した結果、化合物（１）の転化率は８５％であり、４, ５−エポキシシクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸ジアリルの収率は８３％であった。
【００７９】
化合物（１）：
【化１７６】
また、４, ５−エポキシシクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸ジアリルには、下記化合物（２）及び下記化合物（３）に２種の異性体が存在するが、上記反応では、４, ５−エポキシシクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸ジアリルのうちの６８％が化合物（２）であり、３２％が化合物（３）であることが、ガスクロマトグラフ（以下、ＧＣと記す。）法により確認された。
【００８０】
化合物（２）：
【化１７７】
【００８１】
化合物（３）：
【化１７８】
なお、そのときのＧＣ法の分析条件は以下の通りである。
使用カラム：Ｊ＆Ｗ サイエンティフィック社製 ＨＰ−１
（長さ３０ｍ、内径０．３２ｍｍ、膜厚０．２５μｍ）
インジェクション温度：３００℃、
検出器温度：３００℃
カラムの温度条件：スタート温度１３０℃で２分間ホールドし、その後２０℃／分の昇温速度で２８０℃まで昇温し、その後、６．５分間２８０℃でホールド
【００８２】
実施例２
化合物（１）２．５３０ｇ（１０．１ｍｍｏｌ）の代わりに化合物（４）１．６７４ｇ（１０．１ｍｍｏｌ）を用いた以外は、実施例１と同様の操作を行った。その結果、化合物（４）の転化率は、９９．５％であり、３，４−エポキシシクロヘキサン−１−カルボン酸アリルの収率は８０％であった。
【００８３】
化合物（４）：
【化１７９】
また、３，４−エポキシシクロヘキサン−１−カルボン酸アリルには、化合物（５）及び化合物（６）に２種の異性体が存在するが、上記反応では、３，４−エポキシシクロヘキサン−１−カルボン酸アリルのうちの６１％が化合物（５）であり、３９％が化合物（６）であることが、ＧＣ法により確認された。
【００８４】
化合物（５）：
【化１８０】
【００８５】
化合物（６）：
【化１８１】
なお、そのときのＧＣ法の分析条件は実施例１と同様であった。
【００８６】
実施例３
化合物（１）２．５３０ｇ（１０．１ｍｍｏｌ）の代わりに化合物（７）１．９１７ｇ（１０．０ｍｍｏｌ）を用いた以外は、実施例１と同様の操作を行った。その結果、化合物（７）の転化率は、９９．５％であり、Ｎ−アリル−４, ５−エポキシシクロヘキサン−１，２−ジカルボキシイミドの収率は７８％であった。
【００８７】
化合物（７）：
【化１８２】
また、Ｎ−アリル−４, ５−エポキシシクロヘキサン−１，２−ジカルボキシイミドには、化合物（８）及び化合物（９）に２種の異性体が存在するが、上記反応では、Ｎ−アリル−４, ５−エポキシシクロヘキサン−１，２−ジカルボキシイミドのうちの１５％が化合物（８）であり、８５％が化合物（９）であることが、ＧＣ法により確認された。
【００８８】
化合物（８）：
【化１８３】
【００８９】
化合物（９）：
【化１８４】
なお、そのときのＧＣ法の分析条件は実施例１と同様であった。
【００９０】
実施例４
５０ｍｌのガラス製容器を用い，化合物（４）（２．０ｇ，１２．０ｍｍｏｌ），メチルトリオキソレニウム（１０．０ｍｇ，０．０４２ｍｍｏｌ），ピラゾール（８２．０ｍｇ，１．２ｍｍｏｌ）の混合物に，室温にて過酸化水素水（３１％，１．４４ｍｌ，１４．４ｍｍｏｌ）を攪拌しながら滴下して加えた。室温で５時間攪拌して反応を行った。亜硫酸ナトリウム水溶液を加えた後，有機溶媒で有機物を抽出し，水で洗浄した後，硫酸マグネシウムで乾燥させた。有機溶媒を減圧下留去させ，収率を１Ｈ−ＮＭＲを用いて計算した結果，出発原料はすべて消失しており，８５％の収率で３，４−エポキシシクロヘキサン−１−カルボン酸アリルが得られた。続いて減圧蒸留（５ｍｍＨｇ，１３５℃）により高純度のエポキシシクロヘキサン−１−カルボン酸アリルを単離した。
【００９１】
実施例５
５０ｍｌのガラス製容器を用い，化合物（４）（６６５ｍｇ，４．０ｍｍｏｌ），メチルトリオキソレニウム（５．０ｍｇ，０．０２１ｍｍｏｌ），ピラゾール（２９．０ｍｇ，０．４２ｍｍｏｌ）を酢酸エチル（２ｍｌ）に溶解させ，室温にて過酸化水素水（３１％，０．５０ｍｌ，５．０ｍｍｏｌ）を攪拌しながら滴下して加えた。室温で６時間攪拌して反応を行った。亜硫酸ナトリウム水溶液を加えた後，有機溶媒で有機物を抽出し，水で洗浄した後，硫酸マグネシウムで乾燥させた。有機溶媒を減圧下留去させ，収率を１Ｈ−ＮＭＲを用いて計算した結果，出発原料はすべて消失しており，８６％の収率で４，５−エポキシシクロヘキサン−１−カルボン酸アリルが得られた。
【００９２】
実施例６
５０ｍｌのガラス製容器を用い，化合物（４）（６６５ｍｇ，４．０ｍｍｏｌ），メチルトリオキソレニウム（４．５ｍｇ，０．０１９ｍｍｏｌ），ピリジン（３３．５ｍｇ，０．４２ｍｍｏｌ）の混合物に，室温にて過酸化水素水（３１％，０．４５ｍｌ，４．５ｍｍｏｌ）を攪拌しながら滴下して加えた。室温で５時間攪拌して反応を行った。亜硫酸ナトリウム水溶液を加えた後，有機溶媒で有機物を抽出し，水で洗浄した後，硫酸マグネシウムで乾燥させた。有機溶媒を減圧下留去させ，収率を１Ｈ−ＮＭＲを用いて計算した結果，出発原料はすべて消失しており，８８％の収率で４，５−エポキシシクロヘキサン−１−カルボン酸アリルが得られた。
【００９３】
比較例１
攪拌機、還流冷却器、温度計、滴下ロートを取り付けた内容量２ｌの四ッ口フラスコに化合物（１）４００ｇ、ベンゼン６００ｇ、９０％ギ酸４１ｇ、４０％リン酸２ｇ及び塩化カルシウム２ｇを仕込み、内容物をかきまぜつつ温度を５０〜６０℃に調節しながら、滴下ロートより５０質量％過酸化水素１３２ｇを３０分間で滴下し、６０℃で５時間反応させた。その後、ＧＣ法により分析した結果、４, ５−エポキシシクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸ジアリルの収率は６５％であった。
なお、そのときのＧＣ法の分析条件は実施例１と同様であった。
なお、本明細書に記載の転化率及び収率は以下のように定義される：
【００９４】
少なくとも１個以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物の転化率（％）＝〔（反応した少なくとも１個以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物のｍｏｌ数）／（反応に供給した少なくとも１個以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物のｍｏｌ数）〕×１００
【００９５】
多官能エポキシ化合物の収率（％）＝〔（少なくとも１個以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物の転化率）×（（生成した多官能エポキシ化合物のｍｏｌ数）／（反応した少なくとも１個以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物のモル数））×１００）〕／１００
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レニウム化合物の存在下、過酸化水素を用いて、少なくとも１個以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物中のシクロオレフィンの２重結合部位を酸化して、エポキシ基含有化合物を製造することを特徴とする多官能エポキシ化合物の製造方法。
【請求項２】
前記シクロオレフィン構造が炭素６〜８員環であることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記少なくとも１つ以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物が、下記一般式（１）〜（１０）：
一般式（１）：
【化１】
（式中、Ｒ１は水素又はメチル基を表し、Ｒ２は炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ３〜Ｒ１０はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ａは０〜３の整数を表し、そしてｂは０〜２の整数を表す。）
一般式（２）：
【化２】
（式中、Ｒ１１は水素又はメチル基を表し、Ｒ１２は炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ１３〜Ｒ２０はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ｃは０〜３の整数を表し、そしてｄは０〜２の整数を表す。）
一般式（３）：
【化３】
（式中、Ｒ２１，Ｒ２２はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表し、Ｒ２３，Ｒ２４はそれぞれ独立に炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ２５〜Ｒ３２はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ｅ、ｇはそれぞれ独立に０〜３の整数を表し、そしてｆ，ｈはそれぞれ独立に０〜２の整数を表す。）
一般式（４）：
【化４】
（式中、Ｒ３３，Ｒ３４はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表し、Ｒ３５，Ｒ３６はそれぞれ独立に炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ３７〜Ｒ４４はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ｉ、ｋはそれぞれ独立に０〜３の整数を表し、そしてｊ，ｌはそれぞれ独立に０〜２の整数を表す。）
一般式（５）：
【化５】
（式中、Ｒ４５は水素又はメチル基を表し、Ｒ４６〜Ｒ５３はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）
一般式（６）：
【化６】
（式中、Ｒ５４は水素又はメチル基を表し、Ｒ５５〜Ｒ６２はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）
一般式（７）：
【化７】
（式中、Ｒ６３，Ｒ６４はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表し、Ｒ６５，Ｒ６６はそれぞれ独立に炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ６７〜Ｒ７３はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ｍ、ｐはそれぞれ独立に０〜３の整数を表し、そしてｎ、ｑはそれぞれ独立に０〜２の整数を表す。）
一般式（８）：
【化８】
（式中、Ｒ７４，Ｒ７５はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表し、Ｒ７６，Ｒ７７はそれぞれ独立に炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ７８〜Ｒ８３はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ｒ、ｔはそれぞれ独立に０〜３の整数を表し、そしてｓ、ｕはそれぞれ独立に０〜２を表す。）
一般式（９）：
【化９】
（式中、Ｒ８４は水素又はメチル基を表し、Ｒ８５〜Ｒ９１はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）
一般式（１０）：
【化１０】
（式中、Ｒ９２は水素又はメチル基を表し、Ｒ９３〜Ｒ９８はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）
から成る群から選ばれることを特徴とする、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記少なくとも１つ以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物が下記一般式（１１）又は一般式（１２）：
一般式（１１）
【化１１】
(式中、Ｒ９９は水素又はメチル基を表し、Ｒ１００〜Ｒ１０７はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、そしてｖは０〜２の整数を表す。）
一般式（１２）：
【化１２】
(式中、Ｒ１０８は水素又はメチル基を表し、Ｒ１０９〜Ｒ１１６はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、そしてｗは０〜２の整数を表す。）で表される化合物であることを特徴とする、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項５】
前記少なくとも１つ以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物が下記一般式（５）又は下記一般式（６）：
一般式（５）：
【化１３】
（式中、Ｒ４５は水素又はメチル基を表し、Ｒ４６〜Ｒ５３はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）
一般式（６）：
【化１４】
（式中、Ｒ５４は水素又はメチル基を表し、Ｒ５５〜Ｒ６２はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）
で表される化合物であることを特徴とする、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項６】
前記少なくとも１つ以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物が下記一般式（１３）又は下記一般式（１４）：
一般式（１３）：
【化１５】
（式中、Ｒ１１７，Ｒ１１８はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表し、Ｒ１１９〜Ｒ１２６はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）
一般式（１４）：
【化１６】
（式中、Ｒ１２７，Ｒ１２８はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表し、Ｒ１２９〜Ｒ１３６はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）
で表される化合物であることを特徴とする、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項７】
前記末端ビニルまたはビニリデン構造がアリルまたはメタリル構造であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
前記レニウム化合物がメチルトリオキソレニウムであることを特徴とする、請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
前記レニウム化合物に対して有機塩基性化合物を１〜３０倍モル使用することを特徴とする、請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
前記少なくとも１つ以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物のシクロオレフィン構造中に含まれる２重結合数に対して、過酸化水素を０．８〜１０．０倍含有することを特徴とする、請求項１〜９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１】
レニウム化合物の存在下、過酸化水素を用いて、少なくとも１個以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物中のシクロオレフィンの２重結合部位を酸化して、エポキシ基含有化合物を製造することを特徴とする多官能エポキシ化合物の製造方法。
【請求項２】
前記シクロオレフィン構造が炭素６〜８員環であることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記少なくとも１つ以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物が、下記一般式（１）〜（１０）：
一般式（１）：
【化１】
（式中、Ｒ１は水素又はメチル基を表し、Ｒ２は炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ３〜Ｒ１０はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ａは０〜３の整数を表し、そしてｂは０〜２の整数を表す。）
一般式（２）：
【化２】
（式中、Ｒ１１は水素又はメチル基を表し、Ｒ１２は炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ１３〜Ｒ２０はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ｃは０〜３の整数を表し、そしてｄは０〜２の整数を表す。）
一般式（３）：
【化３】
（式中、Ｒ２１，Ｒ２２はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表し、Ｒ２３，Ｒ２４はそれぞれ独立に炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ２５〜Ｒ３２はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ｅ、ｇはそれぞれ独立に０〜３の整数を表し、そしてｆ，ｈはそれぞれ独立に０〜２の整数を表す。）
一般式（４）：
【化４】
（式中、Ｒ３３，Ｒ３４はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表し、Ｒ３５，Ｒ３６はそれぞれ独立に炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ３７〜Ｒ４４はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ｉ、ｋはそれぞれ独立に０〜３の整数を表し、そしてｊ，ｌはそれぞれ独立に０〜２の整数を表す。）
一般式（５）：
【化５】
（式中、Ｒ４５は水素又はメチル基を表し、Ｒ４６〜Ｒ５３はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）
一般式（６）：
【化６】
（式中、Ｒ５４は水素又はメチル基を表し、Ｒ５５〜Ｒ６２はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）
一般式（７）：
【化７】
（式中、Ｒ６３，Ｒ６４はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表し、Ｒ６５，Ｒ６６はそれぞれ独立に炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ６７〜Ｒ７３はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ｍ、ｐはそれぞれ独立に０〜３の整数を表し、そしてｎ、ｑはそれぞれ独立に０〜２の整数を表す。）
一般式（８）：
【化８】
（式中、Ｒ７４，Ｒ７５はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表し、Ｒ７６，Ｒ７７はそれぞれ独立に炭素数２〜８から選ばれる２価の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素残基を表し、Ｒ７８〜Ｒ８３はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、ｒ、ｔはそれぞれ独立に０〜３の整数を表し、そしてｓ、ｕはそれぞれ独立に０〜２を表す。）
一般式（９）：
【化９】
（式中、Ｒ８４は水素又はメチル基を表し、Ｒ８５〜Ｒ９１はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）
一般式（１０）：
【化１０】
（式中、Ｒ９２は水素又はメチル基を表し、Ｒ９３〜Ｒ９８はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）
から成る群から選ばれることを特徴とする、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記少なくとも１つ以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物が下記一般式（１１）又は一般式（１２）：
一般式（１１）
【化１１】
(式中、Ｒ９９は水素又はメチル基を表し、Ｒ１００〜Ｒ１０７はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、そしてｖは０〜２の整数を表す。）
一般式（１２）：
【化１２】
(式中、Ｒ１０８は水素又はメチル基を表し、Ｒ１０９〜Ｒ１１６はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表し、そしてｗは０〜２の整数を表す。）で表される化合物であることを特徴とする、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項５】
前記少なくとも１つ以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物が下記一般式（５）又は下記一般式（６）：
一般式（５）：
【化１３】
（式中、Ｒ４５は水素又はメチル基を表し、Ｒ４６〜Ｒ５３はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）
一般式（６）：
【化１４】
（式中、Ｒ５４は水素又はメチル基を表し、Ｒ５５〜Ｒ６２はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）
で表される化合物であることを特徴とする、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項６】
前記少なくとも１つ以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物が下記一般式（１３）又は下記一般式（１４）：
一般式（１３）：
【化１５】
（式中、Ｒ１１７，Ｒ１１８はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表し、Ｒ１１９〜Ｒ１２６はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）
一般式（１４）：
【化１６】
（式中、Ｒ１２７，Ｒ１２８はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表し、Ｒ１２９〜Ｒ１３６はそれぞれ独立に水素、メチル基、エチル基または塩素から選ばれる原子団を表す。）
で表される化合物であることを特徴とする、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項７】
前記末端ビニルまたはビニリデン構造がアリルまたはメタリル構造であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
前記レニウム化合物がメチルトリオキソレニウムであることを特徴とする、請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
前記レニウム化合物に対して有機塩基性化合物を１〜３０倍モル使用することを特徴とする、請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
前記少なくとも１つ以上のシクロオレフィン構造と少なくとも１個以上の末端ビニルまたはビニリデン構造を有する化合物のシクロオレフィン構造中に含まれる２重結合数に対して、過酸化水素を０．８〜１０．０倍含有することを特徴とする、請求項１〜９のいずれか１項に記載の方法。
【公開番号】特開２００８−１０６０１６（Ｐ２００８−１０６０１６Ａ）
【公開日】平成２０年５月８日（２００８．５．８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−２９２０３４（Ｐ２００６−２９２０３４）
【出願日】平成１８年１０月２７日（２００６．１０．２７）
【国等の委託研究の成果に係る記載事項】（出願人による申告）国等の委託研究の成果に係る特許出願（平成１８年度独立行政法人新エネルギー・産業技術総合開発機構「有害化学物質リスク削減基盤技術研究開発（非フェノール系樹脂原料を用いたレジスト材料の開発）」に係る委託研究、産業活力再生特別措置法第３０条の適用を受ける特許出願）
【出願人】（０００００２００４）昭和電工株式会社 (3,251)
【出願人】（３０１０２１５３３）独立行政法人産業技術総合研究所 (6,529)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年５月８日（２００８．５．８）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年１０月２７日（２００６．１０．２７）
【国等の委託研究の成果に係る記載事項】（出願人による申告）国等の委託研究の成果に係る特許出願（平成１８年度独立行政法人新エネルギー・産業技術総合開発機構「有害化学物質リスク削減基盤技術研究開発（非フェノール系樹脂原料を用いたレジスト材料の開発）」に係る委託研究、産業活力再生特別措置法第３０条の適用を受ける特許出願）
【出願人】（０００００２００４）昭和電工株式会社 (3,251)
【出願人】（３０１０２１５３３）独立行政法人産業技術総合研究所 (6,529)
【Ｆターム（参考）】
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