マスター体、マスター体の生産方法および磁気記録媒体
【課題】マスター体からスレーブ体に斜線パターンを複製する際の斜線パターンの精度劣化を防ぐこと。
【解決手段】斜線パターン境界部１０の隙間を特殊パターンで埋める。特殊パターンとしては、垂直線３０を用いる。なお、斜線２０を斜線パターン境界部１０の中央まで延長する、斜線２０を斜線パターン境界部１０の中央を越えて対向する斜線２０と接する直前まで延長する、あるいは、斜線２０を斜線パターン境界部１０の中央まで延長した後に隣接する斜線２０と接する直前まで短垂線で延長する、などによって特殊パターンを形成することもできる。
【解決手段】斜線パターン境界部１０の隙間を特殊パターンで埋める。特殊パターンとしては、垂直線３０を用いる。なお、斜線２０を斜線パターン境界部１０の中央まで延長する、斜線２０を斜線パターン境界部１０の中央を越えて対向する斜線２０と接する直前まで延長する、あるいは、斜線２０を斜線パターン境界部１０の中央まで延長した後に隣接する斜線２０と接する直前まで短垂線で延長する、などによって特殊パターンを形成することもできる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、対向する斜線から構成される斜線パターンが記録され、磁気記録媒体に接近させて磁界を与えることにより斜線パターンが磁気記録媒体に複製されるマスター体、マスター体の生産方法およびマスター体から斜線パターンが複製される磁気記録媒体に関し、特に、磁気記録媒体に複製される斜線パターンの精度劣化を防ぐことができるマスター体、マスター体の生産方法および磁気記録媒体に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
磁気ディスク装置は大容量化のため年々記録密度が上昇し、ヘッドを位置決めするための位置決め情報を専用の装置を用いて高い精度で作成することが困難になってきている。また、製造コストを押さえるためにも、高精度の位置決め情報を簡単に作成する方法が必要となっている。
【０００３】
そこで、磁性体部分がパターンニングされたマスター体を用いて、これを磁気記録媒体（スレーブ体）に密着・磁界印加することにより、位置決め情報のパターンをマスター体からスレーブ体に複製する方法が開発されている。
【０００４】
なお、マスター体の作成方法については、特許文献１などに記載されているが、フォトレジストが塗布された円板に所定のパターンを電子露光する工程、フォトレジストを現像処理してフォトレジストによる凹凸を有する原盤を得る工程、原盤にメッキ処理して凹凸パターンを有する金属盤を作成する工程、原盤から金属盤を剥離する工程などを経てマスター体が作成される。
【０００５】
位置決め情報のパターンの複製では、位相パターンを精度良く複製することが特に重要となる。ここで、位相パターンとは、位置決め情報のパターンのうち位置決め信号として利用されるパターンである。図５は、位置決め情報および位相パターンを示す図である。同図（ａ）に示すように、磁気記録媒体には、回転中心から半径方向に線状に延びる位置決め情報が磁気パターンとして記録される。
【０００６】
また、同図（ｂ）に示すように、各セクターの位置決め情報は、同期パターン、インデックス、アドレスおよび位相パターンから構成される。同期パターンは、クロックの同期をとるためのパターンであり、インデックスは、位置決め情報の先頭を特定するための情報である。アドレスは、シリンダー番号やセクター番号などを示す情報であり、位相パターンは、トラック内での位置決めに用いられるパターンである。なお、位相パターンは、対向する斜線から構成されるため斜線パターンとも呼ばれる。
【０００７】
図６は、斜線パターンとしての理想パターンを示す図である。斜線パターンをヘッドで書き込む方法では、図６に示すように、斜線パターン境界部１０ぎりぎりまでパターンを書き込むことが容易であった。
【０００８】
しかし、パターンニングされたマスター体を用いる方法では、マスター体を作成する際に、斜線パターンをフォトレジストに電子露光する工程があり、電子露光ではビーム径等の制約によりパターン端部がある程度の大きさを持たざるをえないため、図６に示したような理想的な斜線パターンを描くことができず、また、斜線パターン境界部１０は信号が読まれることがないことから、斜線パターン境界部１０ではパターンを作成していなかった。
【０００９】
図７は、マスター体を用いる場合の従来の斜線パターンを示す図である。同図に示すように、マスター体を用いる場合には、従来は、斜線パターン境界部１０に不感帯領域となる隙間を設けていた。なお、同図に示す最大隙間幅は、磁気ヘッドのトラック内の位置決めに用いられる。
【００１０】
【特許文献１】特開２００１−２５６６４４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかしながら、斜線パターン境界部１０に不感帯領域となる隙間を設けると、この隙間の影響により、複製された斜線パターンの信号領域の精度が劣化するという問題があった。
【００１２】
この発明は、上述した従来技術による問題点を解消するためになされたものであり、磁気記録媒体に複製される斜線パターンの精度劣化を防ぐことができるマスター体、マスター体の生産方法および磁気記録媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上述した課題を解決し、目的を達成するため、請求項１の発明に係るマスター体は、対向する斜線から構成される斜線パターンが記録され、磁気記録媒体に接近させて磁界を与えることにより該斜線パターンが磁気記録媒体に複製されるマスター体であって、前記斜線パターンを露光する際に該斜線パターンの境界部分に生じる隙間に特定のパターンが埋められていることを特徴とする。
【００１４】
この請求項１の発明によれば、斜線パターンを露光する際に斜線パターンの境界部分に生じる隙間に特定のパターンが埋められているよう構成したので、斜線パターンを複製する際に隙間が与える悪影響をなくすことができる。
【００１５】
また、請求項２の発明に係るマスター体は、請求項１の発明において、前記特定のパターンは、前記隙間を埋める垂直線であることを特徴とする。
【００１６】
この請求項２の発明によれば、特定のパターンは、隙間を埋める垂直線であるよう構成したので、特定のパターンの先端の形状に幅を持たせることができる。
【００１７】
また、請求項３の発明に係るマスター体は、請求項１の発明において、前記特定のパターンは、前記斜線パターンを構成する斜線を前記境界部分の中央まで延長することによって形成されるパターンであることを特徴とする。
【００１８】
この請求項３の発明によれば、特定のパターンは、斜線パターンを構成する斜線を境界部分の中央まで延長することによって形成されるパターンであるよう構成したので、特定のパターンの先端の形状に幅を持たせるとともに、斜線同士が重なることを防ぐことができる。
【００１９】
また、請求項４の発明に係るマスター体の生産方法は、対向する斜線から構成される斜線パターンが記録され、磁気記録媒体に接近させて磁界を与えることにより該斜線パターンが磁気記録媒体に複製されるマスター体の生産方法であって、前記斜線パターンを露光するとともに、露光によって該斜線パターンの境界部分に生じる隙間に特定のパターンを露光して該隙間を埋める露光工程を含んだことを特徴とする。
【００２０】
この請求項４の発明によれば、斜線パターンを露光するとともに、露光によって斜線パターンの境界部分に生じる隙間に特定のパターンを露光して隙間を埋めるよう構成したので、斜線パターンを複製する際に隙間が与える悪影響をなくすことができる。
【００２１】
また、請求項５の発明に係る磁気記録媒体は、対向する斜線から構成される斜線パターンが記録されたマスター体に接近させて磁界を与えることにより該斜線パターンが複製される磁気記録媒体であって、前記斜線パターンを露光する際に該斜線パターンの境界部分に生じる隙間に特定のパターンが埋められたマスター体から複製され、複製された斜線パターンの境界部分の隙間に特定のパターンが埋められていることを特徴とする。
【００２２】
この請求項５の発明によれば、斜線パターンを露光する際に斜線パターンの境界部分に生じる隙間に特定のパターンが埋められたマスター体から複製され、複製された斜線パターンの境界部分の隙間に特定のパターンが埋められているよう構成したので、斜線パターンを複製する際に隙間が与える悪影響をなくすことができる。
【発明の効果】
【００２３】
請求項１、４および５の発明によれば、斜線パターンを複製する際に隙間が与える悪影響をなくすので、磁気記録媒体に複製される斜線パターンの精度劣化を防ぐことができるという効果を奏する。
【００２４】
また、請求項２の発明によれば、特定のパターンの先端の形状に幅を持たせるので、ビーム径等の制約を受けることなく容易に電子露光することができるという効果を奏する。
【００２５】
また、請求項３の発明によれば、特定のパターンの先端の形状に幅を持たせるとともに、斜線同士が重なることを防ぐので、ビーム径等の制約を受けることなく、また露光量の調整が不要であり、容易に電子露光することができるという効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下に添付図面を参照して、この発明に係るマスター体、マスター体の生産方法および磁気記録媒体の好適な実施例を詳細に説明する。
【実施例】
【００２７】
本実施例では、マスター体の斜線パターン境界部１０の隙間に特定の特殊パターンを埋めることによって、パターン複製時に隙間が与える悪影響を防ぐこととしている。そこで、本実施例に係るマスター体において斜線パターン境界部１０の隙間に埋められる特殊パターンについて説明する。図１は、本実施例に係るマスター体において斜線パターン境界部１０の隙間に埋められる特殊パターンを示す図である。
【００２８】
同図に示すように、このマスター体では、斜線パターン境界部１０の中央に斜線２０に重ならないように垂直線３０を特殊パターンとして入れる。すなわち、本実施例では、マスター体を作成する際の露光工程において、斜線パターンを露光するとともに、斜線パターン境界部１０の隙間に斜線２０に重ならないような垂直線３０を露光する。
【００２９】
このように、本実施例に係るマスター体では、斜線パターン境界部１０の中央に垂直線３０を入れることによって、斜線パターン境界部１０の隙間による悪影響をなくし、マスター体の斜線パターンを高精度にスレーブ体に複製することができる。
【００３０】
また、斜線パターン境界部１０の隙間を埋める特殊パターンの形状を直線とすることによって、ビーム径等に制約されることなく容易に電子露光を行うことができる。さらに、垂直線３０を斜線２０と重ならないようにすることによって、露光量の調整を不要とし、電子露光を容易にすることができる。
【００３１】
次に、斜線パターン境界部１０の隙間を埋める垂直線以外の特殊パターンについて図２〜図４を用いて説明する。図２は、斜線２０を斜線パターン境界部１０の中央まで延長することによって形成される特殊パターンを示す図である。同図に示すように、この特殊パターンは、斜線２０が斜線パターン境界部１０の中央まで延長されて形成される。
【００３２】
このように、斜線２０を斜線パターン境界部１０の中央まで延長することによって、斜線パターン境界部１０の隙間による悪影響をなくし、マスター体の斜線パターンを高精度にスレーブ体に複製することができる。
【００３３】
また、延長した部分の先端の形状に幅を持たせることによって、ビーム径等に制約されることなく容易に電子露光を行うことができる。さらに、斜線２０同士が重ならない範囲で延長することによって、露光量の調整を不要とし、電子露光を容易にすることができる。
【００３４】
図３は、斜線２０を斜線パターン境界部１０の中央を越えて対向する斜線と接する直前まで延長することによって形成される特殊パターンを示す図である。同図に示すように、この特殊パターンは、斜線２０が斜線パターン境界部１０の中央を越えて対向する斜線と接する直前まで延長されて形成される。
【００３５】
このように、斜線２０を斜線パターン境界部１０の中央を越えて対向する斜線と接する直前まで延長することによって、斜線パターン境界部１０の隙間による悪影響をなくし、マスター体の斜線パターンを高精度にスレーブ体に複製することができる。
【００３６】
図４は、斜線２０を斜線パターン境界部１０の中央まで延長し、その後、隣接する斜線２０に接する直前まで短垂線で延長することによって形成される特殊パターンを示す図である。同図に示すように、この特殊パターンは、斜線２０が斜線パターン境界部１０の中央まで延長され、その後、隣接する斜線２０に接する直前まで短垂線で延長されて形成される。
【００３７】
このように、斜線２０を斜線パターン境界部１０の中央まで延長し、その後、隣接する斜線２０に接する直前まで短垂線で延長することによって、斜線パターン境界部１０の隙間による悪影響をなくし、マスター体の斜線パターンを高精度にスレーブ体に複製することができる。
【００３８】
上述してきたように、本実施例では、マスター体の斜線パターン境界部１０の隙間に特殊パターンを埋めることとしたので、複製される磁気パターンの精度劣化を防ぎ、高精度なパターン複製を行うことができる。
【００３９】
また、特殊パターンの先端の形状に幅を持たせることによって、ビーム径等に制約されることなく容易に電子露光を行うことができる。さらに、特殊パターンが斜線２０と重ならないようにすることによって、露光量の調整を不要とし、電子露光を容易にすることができる。
【００４０】
なお、本実施例では、マスター体の斜線パターン境界部１０の隙間を埋める四つの特殊パターンについて説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、斜線２０と重なることなく、先端の形状に幅を持たせる任意のパターンを特殊パターンとして用いることができる。
【００４１】
また、本実施例では、位置決め情報を構成する斜線パターンを複製する場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、対向する斜線から構成される任意の斜線パターンを複製する場合にも同様に適用することができる。
【００４２】
また、本実施例では、特殊パターンを斜線パターンとともに露光する場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、マスター体を作成する任意の工程で斜線パターン境界部１０の隙間に特殊パターンを埋める場合にも同様に適用することができる。
【００４３】
（付記１）対向する斜線から構成される斜線パターンが記録され、磁気記録媒体に接近させて磁界を与えることにより該斜線パターンが磁気記録媒体に複製されるマスター体であって、
前記斜線パターンを露光する際に該斜線パターンの境界部分に生じる隙間に特定のパターンが埋められていることを特徴とするマスター体。
【００４４】
（付記２）前記特定のパターンは、前記隙間を埋める垂直線であることを特徴とする付記１に記載のマスター体。
【００４５】
（付記３）前記特定のパターンは、前記斜線パターンを構成する斜線を前記境界部分の中央まで延長することによって形成されるパターンであることを特徴とする付記１に記載のマスター体。
【００４６】
（付記４）前記特定のパターンは、前記斜線パターンを構成する斜線を対向する斜線に接する直前まで延長することによって形成されるパターンであることを特徴とする付記１に記載のマスター体。
【００４７】
（付記５）前記特定のパターンは、前記斜線パターンを構成する斜線を前記境界部分の中央まで延長した後、垂直線を隣接斜線に接する直前まで延長することによって形成されるパターンであることを特徴とする付記１に記載のマスター体。
【００４８】
（付記６）対向する斜線から構成される斜線パターンが記録され、磁気記録媒体に接近させて磁界を与えることにより該斜線パターンが磁気記録媒体に複製されるマスター体の生産方法であって、
前記斜線パターンを露光するとともに、露光によって該斜線パターンの境界部分に生じる隙間に特定のパターンを露光して該隙間を埋める露光工程
を含んだことを特徴とするマスター体の生産方法。
【００４９】
（付記７）前記露光工程により露光される特定のパターンは、前記隙間を埋める垂直線であることを特徴とする付記６に記載のマスター体の生産方法。
【００５０】
（付記８）前記露光工程により露光される特定のパターンは、前記斜線パターンを構成する斜線を前記境界部分の中央まで延長することによって形成されるパターンであることを特徴とする付記６に記載のマスター体の生産方法。
【００５１】
（付記９）前記露光工程により露光される特定のパターンは、前記斜線パターンを構成する斜線を対向する斜線に接する直前まで延長することによって形成されるパターンであることを特徴とする付記６に記載のマスター体の生産方法。
【００５２】
（付記１０）前記露光工程により露光される特定のパターンは、前記斜線パターンを構成する斜線を前記境界部分の中央まで延長した後、垂直線を隣接斜線に接する直前まで延長することによって形成されるパターンであることを特徴とする付記６に記載のマスター体の生産方法。
【００５３】
（付記１１）対向する斜線から構成される斜線パターンが記録されたマスター体に接近させて磁界を与えることにより該斜線パターンが複製される磁気記録媒体であって、
前記斜線パターンを露光する際に該斜線パターンの境界部分に生じる隙間に特定のパターンが埋められたマスター体から複製され、複製された斜線パターンの境界部分の隙間に特定のパターンが埋められていることを特徴とする磁気記録媒体。
【産業上の利用可能性】
【００５４】
以上のように、本発明に係るマスター体、マスター体の生産方法および磁気記録媒体は、磁気ディスク装置などの磁気記録装置に有用であり、特に、記録密度が高い磁気記録装置に適している。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】本実施例に係るマスター体において斜線パターン境界部の隙間に埋められる特殊パターンを示す図である。
【図２】斜線を斜線パターン境界部の中央まで延長することによって形成される特殊パターンを示す図である。
【図３】斜線を斜線パターン境界部の中央を越えて対向する斜線と接する直前まで延長することによって形成される特殊パターンを示す図である。
【図４】斜線を斜線パターン境界部の中央まで延長し、その後、隣接する斜線に接する直前まで短垂線で延長することによって形成される特殊パターンを示す図である。
【図５】位置決め情報および位相パターンを示す図である。
【図６】斜線パターンとしての理想パターンを示す図である。
【図７】マスター体を用いる場合の従来の斜線パターンを示す図である。
【符号の説明】
【００５６】
１０ 斜線パターン境界部
２０ 斜線
３０ 垂直線
【技術分野】
【０００１】
この発明は、対向する斜線から構成される斜線パターンが記録され、磁気記録媒体に接近させて磁界を与えることにより斜線パターンが磁気記録媒体に複製されるマスター体、マスター体の生産方法およびマスター体から斜線パターンが複製される磁気記録媒体に関し、特に、磁気記録媒体に複製される斜線パターンの精度劣化を防ぐことができるマスター体、マスター体の生産方法および磁気記録媒体に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
磁気ディスク装置は大容量化のため年々記録密度が上昇し、ヘッドを位置決めするための位置決め情報を専用の装置を用いて高い精度で作成することが困難になってきている。また、製造コストを押さえるためにも、高精度の位置決め情報を簡単に作成する方法が必要となっている。
【０００３】
そこで、磁性体部分がパターンニングされたマスター体を用いて、これを磁気記録媒体（スレーブ体）に密着・磁界印加することにより、位置決め情報のパターンをマスター体からスレーブ体に複製する方法が開発されている。
【０００４】
なお、マスター体の作成方法については、特許文献１などに記載されているが、フォトレジストが塗布された円板に所定のパターンを電子露光する工程、フォトレジストを現像処理してフォトレジストによる凹凸を有する原盤を得る工程、原盤にメッキ処理して凹凸パターンを有する金属盤を作成する工程、原盤から金属盤を剥離する工程などを経てマスター体が作成される。
【０００５】
位置決め情報のパターンの複製では、位相パターンを精度良く複製することが特に重要となる。ここで、位相パターンとは、位置決め情報のパターンのうち位置決め信号として利用されるパターンである。図５は、位置決め情報および位相パターンを示す図である。同図（ａ）に示すように、磁気記録媒体には、回転中心から半径方向に線状に延びる位置決め情報が磁気パターンとして記録される。
【０００６】
また、同図（ｂ）に示すように、各セクターの位置決め情報は、同期パターン、インデックス、アドレスおよび位相パターンから構成される。同期パターンは、クロックの同期をとるためのパターンであり、インデックスは、位置決め情報の先頭を特定するための情報である。アドレスは、シリンダー番号やセクター番号などを示す情報であり、位相パターンは、トラック内での位置決めに用いられるパターンである。なお、位相パターンは、対向する斜線から構成されるため斜線パターンとも呼ばれる。
【０００７】
図６は、斜線パターンとしての理想パターンを示す図である。斜線パターンをヘッドで書き込む方法では、図６に示すように、斜線パターン境界部１０ぎりぎりまでパターンを書き込むことが容易であった。
【０００８】
しかし、パターンニングされたマスター体を用いる方法では、マスター体を作成する際に、斜線パターンをフォトレジストに電子露光する工程があり、電子露光ではビーム径等の制約によりパターン端部がある程度の大きさを持たざるをえないため、図６に示したような理想的な斜線パターンを描くことができず、また、斜線パターン境界部１０は信号が読まれることがないことから、斜線パターン境界部１０ではパターンを作成していなかった。
【０００９】
図７は、マスター体を用いる場合の従来の斜線パターンを示す図である。同図に示すように、マスター体を用いる場合には、従来は、斜線パターン境界部１０に不感帯領域となる隙間を設けていた。なお、同図に示す最大隙間幅は、磁気ヘッドのトラック内の位置決めに用いられる。
【００１０】
【特許文献１】特開２００１−２５６６４４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかしながら、斜線パターン境界部１０に不感帯領域となる隙間を設けると、この隙間の影響により、複製された斜線パターンの信号領域の精度が劣化するという問題があった。
【００１２】
この発明は、上述した従来技術による問題点を解消するためになされたものであり、磁気記録媒体に複製される斜線パターンの精度劣化を防ぐことができるマスター体、マスター体の生産方法および磁気記録媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上述した課題を解決し、目的を達成するため、請求項１の発明に係るマスター体は、対向する斜線から構成される斜線パターンが記録され、磁気記録媒体に接近させて磁界を与えることにより該斜線パターンが磁気記録媒体に複製されるマスター体であって、前記斜線パターンを露光する際に該斜線パターンの境界部分に生じる隙間に特定のパターンが埋められていることを特徴とする。
【００１４】
この請求項１の発明によれば、斜線パターンを露光する際に斜線パターンの境界部分に生じる隙間に特定のパターンが埋められているよう構成したので、斜線パターンを複製する際に隙間が与える悪影響をなくすことができる。
【００１５】
また、請求項２の発明に係るマスター体は、請求項１の発明において、前記特定のパターンは、前記隙間を埋める垂直線であることを特徴とする。
【００１６】
この請求項２の発明によれば、特定のパターンは、隙間を埋める垂直線であるよう構成したので、特定のパターンの先端の形状に幅を持たせることができる。
【００１７】
また、請求項３の発明に係るマスター体は、請求項１の発明において、前記特定のパターンは、前記斜線パターンを構成する斜線を前記境界部分の中央まで延長することによって形成されるパターンであることを特徴とする。
【００１８】
この請求項３の発明によれば、特定のパターンは、斜線パターンを構成する斜線を境界部分の中央まで延長することによって形成されるパターンであるよう構成したので、特定のパターンの先端の形状に幅を持たせるとともに、斜線同士が重なることを防ぐことができる。
【００１９】
また、請求項４の発明に係るマスター体の生産方法は、対向する斜線から構成される斜線パターンが記録され、磁気記録媒体に接近させて磁界を与えることにより該斜線パターンが磁気記録媒体に複製されるマスター体の生産方法であって、前記斜線パターンを露光するとともに、露光によって該斜線パターンの境界部分に生じる隙間に特定のパターンを露光して該隙間を埋める露光工程を含んだことを特徴とする。
【００２０】
この請求項４の発明によれば、斜線パターンを露光するとともに、露光によって斜線パターンの境界部分に生じる隙間に特定のパターンを露光して隙間を埋めるよう構成したので、斜線パターンを複製する際に隙間が与える悪影響をなくすことができる。
【００２１】
また、請求項５の発明に係る磁気記録媒体は、対向する斜線から構成される斜線パターンが記録されたマスター体に接近させて磁界を与えることにより該斜線パターンが複製される磁気記録媒体であって、前記斜線パターンを露光する際に該斜線パターンの境界部分に生じる隙間に特定のパターンが埋められたマスター体から複製され、複製された斜線パターンの境界部分の隙間に特定のパターンが埋められていることを特徴とする。
【００２２】
この請求項５の発明によれば、斜線パターンを露光する際に斜線パターンの境界部分に生じる隙間に特定のパターンが埋められたマスター体から複製され、複製された斜線パターンの境界部分の隙間に特定のパターンが埋められているよう構成したので、斜線パターンを複製する際に隙間が与える悪影響をなくすことができる。
【発明の効果】
【００２３】
請求項１、４および５の発明によれば、斜線パターンを複製する際に隙間が与える悪影響をなくすので、磁気記録媒体に複製される斜線パターンの精度劣化を防ぐことができるという効果を奏する。
【００２４】
また、請求項２の発明によれば、特定のパターンの先端の形状に幅を持たせるので、ビーム径等の制約を受けることなく容易に電子露光することができるという効果を奏する。
【００２５】
また、請求項３の発明によれば、特定のパターンの先端の形状に幅を持たせるとともに、斜線同士が重なることを防ぐので、ビーム径等の制約を受けることなく、また露光量の調整が不要であり、容易に電子露光することができるという効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下に添付図面を参照して、この発明に係るマスター体、マスター体の生産方法および磁気記録媒体の好適な実施例を詳細に説明する。
【実施例】
【００２７】
本実施例では、マスター体の斜線パターン境界部１０の隙間に特定の特殊パターンを埋めることによって、パターン複製時に隙間が与える悪影響を防ぐこととしている。そこで、本実施例に係るマスター体において斜線パターン境界部１０の隙間に埋められる特殊パターンについて説明する。図１は、本実施例に係るマスター体において斜線パターン境界部１０の隙間に埋められる特殊パターンを示す図である。
【００２８】
同図に示すように、このマスター体では、斜線パターン境界部１０の中央に斜線２０に重ならないように垂直線３０を特殊パターンとして入れる。すなわち、本実施例では、マスター体を作成する際の露光工程において、斜線パターンを露光するとともに、斜線パターン境界部１０の隙間に斜線２０に重ならないような垂直線３０を露光する。
【００２９】
このように、本実施例に係るマスター体では、斜線パターン境界部１０の中央に垂直線３０を入れることによって、斜線パターン境界部１０の隙間による悪影響をなくし、マスター体の斜線パターンを高精度にスレーブ体に複製することができる。
【００３０】
また、斜線パターン境界部１０の隙間を埋める特殊パターンの形状を直線とすることによって、ビーム径等に制約されることなく容易に電子露光を行うことができる。さらに、垂直線３０を斜線２０と重ならないようにすることによって、露光量の調整を不要とし、電子露光を容易にすることができる。
【００３１】
次に、斜線パターン境界部１０の隙間を埋める垂直線以外の特殊パターンについて図２〜図４を用いて説明する。図２は、斜線２０を斜線パターン境界部１０の中央まで延長することによって形成される特殊パターンを示す図である。同図に示すように、この特殊パターンは、斜線２０が斜線パターン境界部１０の中央まで延長されて形成される。
【００３２】
このように、斜線２０を斜線パターン境界部１０の中央まで延長することによって、斜線パターン境界部１０の隙間による悪影響をなくし、マスター体の斜線パターンを高精度にスレーブ体に複製することができる。
【００３３】
また、延長した部分の先端の形状に幅を持たせることによって、ビーム径等に制約されることなく容易に電子露光を行うことができる。さらに、斜線２０同士が重ならない範囲で延長することによって、露光量の調整を不要とし、電子露光を容易にすることができる。
【００３４】
図３は、斜線２０を斜線パターン境界部１０の中央を越えて対向する斜線と接する直前まで延長することによって形成される特殊パターンを示す図である。同図に示すように、この特殊パターンは、斜線２０が斜線パターン境界部１０の中央を越えて対向する斜線と接する直前まで延長されて形成される。
【００３５】
このように、斜線２０を斜線パターン境界部１０の中央を越えて対向する斜線と接する直前まで延長することによって、斜線パターン境界部１０の隙間による悪影響をなくし、マスター体の斜線パターンを高精度にスレーブ体に複製することができる。
【００３６】
図４は、斜線２０を斜線パターン境界部１０の中央まで延長し、その後、隣接する斜線２０に接する直前まで短垂線で延長することによって形成される特殊パターンを示す図である。同図に示すように、この特殊パターンは、斜線２０が斜線パターン境界部１０の中央まで延長され、その後、隣接する斜線２０に接する直前まで短垂線で延長されて形成される。
【００３７】
このように、斜線２０を斜線パターン境界部１０の中央まで延長し、その後、隣接する斜線２０に接する直前まで短垂線で延長することによって、斜線パターン境界部１０の隙間による悪影響をなくし、マスター体の斜線パターンを高精度にスレーブ体に複製することができる。
【００３８】
上述してきたように、本実施例では、マスター体の斜線パターン境界部１０の隙間に特殊パターンを埋めることとしたので、複製される磁気パターンの精度劣化を防ぎ、高精度なパターン複製を行うことができる。
【００３９】
また、特殊パターンの先端の形状に幅を持たせることによって、ビーム径等に制約されることなく容易に電子露光を行うことができる。さらに、特殊パターンが斜線２０と重ならないようにすることによって、露光量の調整を不要とし、電子露光を容易にすることができる。
【００４０】
なお、本実施例では、マスター体の斜線パターン境界部１０の隙間を埋める四つの特殊パターンについて説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、斜線２０と重なることなく、先端の形状に幅を持たせる任意のパターンを特殊パターンとして用いることができる。
【００４１】
また、本実施例では、位置決め情報を構成する斜線パターンを複製する場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、対向する斜線から構成される任意の斜線パターンを複製する場合にも同様に適用することができる。
【００４２】
また、本実施例では、特殊パターンを斜線パターンとともに露光する場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、マスター体を作成する任意の工程で斜線パターン境界部１０の隙間に特殊パターンを埋める場合にも同様に適用することができる。
【００４３】
（付記１）対向する斜線から構成される斜線パターンが記録され、磁気記録媒体に接近させて磁界を与えることにより該斜線パターンが磁気記録媒体に複製されるマスター体であって、
前記斜線パターンを露光する際に該斜線パターンの境界部分に生じる隙間に特定のパターンが埋められていることを特徴とするマスター体。
【００４４】
（付記２）前記特定のパターンは、前記隙間を埋める垂直線であることを特徴とする付記１に記載のマスター体。
【００４５】
（付記３）前記特定のパターンは、前記斜線パターンを構成する斜線を前記境界部分の中央まで延長することによって形成されるパターンであることを特徴とする付記１に記載のマスター体。
【００４６】
（付記４）前記特定のパターンは、前記斜線パターンを構成する斜線を対向する斜線に接する直前まで延長することによって形成されるパターンであることを特徴とする付記１に記載のマスター体。
【００４７】
（付記５）前記特定のパターンは、前記斜線パターンを構成する斜線を前記境界部分の中央まで延長した後、垂直線を隣接斜線に接する直前まで延長することによって形成されるパターンであることを特徴とする付記１に記載のマスター体。
【００４８】
（付記６）対向する斜線から構成される斜線パターンが記録され、磁気記録媒体に接近させて磁界を与えることにより該斜線パターンが磁気記録媒体に複製されるマスター体の生産方法であって、
前記斜線パターンを露光するとともに、露光によって該斜線パターンの境界部分に生じる隙間に特定のパターンを露光して該隙間を埋める露光工程
を含んだことを特徴とするマスター体の生産方法。
【００４９】
（付記７）前記露光工程により露光される特定のパターンは、前記隙間を埋める垂直線であることを特徴とする付記６に記載のマスター体の生産方法。
【００５０】
（付記８）前記露光工程により露光される特定のパターンは、前記斜線パターンを構成する斜線を前記境界部分の中央まで延長することによって形成されるパターンであることを特徴とする付記６に記載のマスター体の生産方法。
【００５１】
（付記９）前記露光工程により露光される特定のパターンは、前記斜線パターンを構成する斜線を対向する斜線に接する直前まで延長することによって形成されるパターンであることを特徴とする付記６に記載のマスター体の生産方法。
【００５２】
（付記１０）前記露光工程により露光される特定のパターンは、前記斜線パターンを構成する斜線を前記境界部分の中央まで延長した後、垂直線を隣接斜線に接する直前まで延長することによって形成されるパターンであることを特徴とする付記６に記載のマスター体の生産方法。
【００５３】
（付記１１）対向する斜線から構成される斜線パターンが記録されたマスター体に接近させて磁界を与えることにより該斜線パターンが複製される磁気記録媒体であって、
前記斜線パターンを露光する際に該斜線パターンの境界部分に生じる隙間に特定のパターンが埋められたマスター体から複製され、複製された斜線パターンの境界部分の隙間に特定のパターンが埋められていることを特徴とする磁気記録媒体。
【産業上の利用可能性】
【００５４】
以上のように、本発明に係るマスター体、マスター体の生産方法および磁気記録媒体は、磁気ディスク装置などの磁気記録装置に有用であり、特に、記録密度が高い磁気記録装置に適している。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】本実施例に係るマスター体において斜線パターン境界部の隙間に埋められる特殊パターンを示す図である。
【図２】斜線を斜線パターン境界部の中央まで延長することによって形成される特殊パターンを示す図である。
【図３】斜線を斜線パターン境界部の中央を越えて対向する斜線と接する直前まで延長することによって形成される特殊パターンを示す図である。
【図４】斜線を斜線パターン境界部の中央まで延長し、その後、隣接する斜線に接する直前まで短垂線で延長することによって形成される特殊パターンを示す図である。
【図５】位置決め情報および位相パターンを示す図である。
【図６】斜線パターンとしての理想パターンを示す図である。
【図７】マスター体を用いる場合の従来の斜線パターンを示す図である。
【符号の説明】
【００５６】
１０ 斜線パターン境界部
２０ 斜線
３０ 垂直線
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対向する斜線から構成される斜線パターンが記録され、磁気記録媒体に接近させて磁界を与えることにより該斜線パターンが磁気記録媒体に複製されるマスター体であって、
前記斜線パターンを露光する際に該斜線パターンの境界部分に生じる隙間に特定のパターンが埋められていることを特徴とするマスター体。
【請求項２】
前記特定のパターンは、前記隙間を埋める垂直線であることを特徴とする請求項１に記載のマスター体。
【請求項３】
前記特定のパターンは、前記斜線パターンを構成する斜線を前記境界部分の中央まで延長することによって形成されるパターンであることを特徴とする請求項１に記載のマスター体。
【請求項４】
対向する斜線から構成される斜線パターンが記録され、磁気記録媒体に接近させて磁界を与えることにより該斜線パターンが磁気記録媒体に複製されるマスター体の生産方法であって、
前記斜線パターンを露光するとともに、露光によって該斜線パターンの境界部分に生じる隙間に特定のパターンを露光して該隙間を埋める露光工程
を含んだことを特徴とするマスター体の生産方法。
【請求項５】
対向する斜線から構成される斜線パターンが記録されたマスター体に接近させて磁界を与えることにより該斜線パターンが複製される磁気記録媒体であって、
前記斜線パターンを露光する際に該斜線パターンの境界部分に生じる隙間に特定のパターンが埋められたマスター体から複製され、複製された斜線パターンの境界部分の隙間に特定のパターンが埋められていることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項１】
対向する斜線から構成される斜線パターンが記録され、磁気記録媒体に接近させて磁界を与えることにより該斜線パターンが磁気記録媒体に複製されるマスター体であって、
前記斜線パターンを露光する際に該斜線パターンの境界部分に生じる隙間に特定のパターンが埋められていることを特徴とするマスター体。
【請求項２】
前記特定のパターンは、前記隙間を埋める垂直線であることを特徴とする請求項１に記載のマスター体。
【請求項３】
前記特定のパターンは、前記斜線パターンを構成する斜線を前記境界部分の中央まで延長することによって形成されるパターンであることを特徴とする請求項１に記載のマスター体。
【請求項４】
対向する斜線から構成される斜線パターンが記録され、磁気記録媒体に接近させて磁界を与えることにより該斜線パターンが磁気記録媒体に複製されるマスター体の生産方法であって、
前記斜線パターンを露光するとともに、露光によって該斜線パターンの境界部分に生じる隙間に特定のパターンを露光して該隙間を埋める露光工程
を含んだことを特徴とするマスター体の生産方法。
【請求項５】
対向する斜線から構成される斜線パターンが記録されたマスター体に接近させて磁界を与えることにより該斜線パターンが複製される磁気記録媒体であって、
前記斜線パターンを露光する際に該斜線パターンの境界部分に生じる隙間に特定のパターンが埋められたマスター体から複製され、複製された斜線パターンの境界部分の隙間に特定のパターンが埋められていることを特徴とする磁気記録媒体。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【公開番号】特開２００７−３５１９１（Ｐ２００７−３５１９１Ａ）
【公開日】平成１９年２月８日（２００７．２．８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−２１９４４８（Ｐ２００５−２１９４４８）
【出願日】平成１７年７月２８日（２００５．７．２８）
【出願人】（０００００５２２３）富士通株式会社 (25,993)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年２月８日（２００７．２．８）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年７月２８日（２００５．７．２８）
【出願人】（０００００５２２３）富士通株式会社 (25,993)
【Ｆターム（参考）】
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