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ミスト発生装置
説明

ミスト発生装置

【課題】イオンを安定して発生させるとともに発生させたイオンをミストに帯電させることができるミスト発生装置を提供する。
【解決手段】ミスト発生装置は、ミストを発生させるヒータと、ミストを吐出するミストノズル9と、マイナスイオンを発生させるコロナ放電部10と、マイナスイオンを吐出するイオンノズル14とを備えた。そして、ミストノズル9は、ミストが吐出されるミスト吐出口9bの開口面積をミストノズル9内にミストが供給されるミスト供給口9aの開口面積よりも小さくした。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、使用者の肌にミストによる刺激を与えるミスト発生装置に関する。
【背景技術】
【0002】
従来、使用者の肌にハリや潤いを与える目的で、マイナスイオンをミストに帯電させつつ、使用者に向けて吐出するミスト発生装置が使用されている。このようなミスト発生装置として、ヒータにより水を沸騰させて発生させたミスト(スチーム)と、コロナ放電により発生させたマイナスイオンとを使用者に向けて放出可能なミスト発生装置が提案されている(例えば、特許文献1)。特許文献1のミスト発生装置では、ミストを吐出させるミストノズルと、マイナスイオンを吐出させるイオンノズルが並設されているとともに、ミストノズルのミスト吐出口と、イオンノズルのイオン吐出口とが近接するように配置されている。そして、特許文献1では、ミストノズルの近傍に配設されたイオン吐出口からマイナスイオンを吐出することで、マイナスイオンとミストを混合し、マイナスイオンをミストに帯電させるようになっている。
【特許文献1】特開2003−159305号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0003】
一般に、電極にマイナスの高電圧を印加してマイナスイオンを発生させる場合、湿度が高くなると電極間におけるコロナ放電が不安定となり、マイナスイオンの発生量が減少することが知られている。このため、ミスト吐出口から吐出されるミストによってイオン吐出口近傍の湿度が上昇することを抑制し、電極間のコロナ放電を安定させることが望まれている。しかしながら、引用文献1のミスト発生装置では、ミストノズルとイオンノズルを並設することで、マイナスイオンをミストに帯電させやすくできる反面、吐出されるミストがイオン吐出口近傍まで接近する可能性があった。
【0004】
この発明は、このような従来の技術に存在する問題点に着目してなされたものであり、その目的は、イオンを安定して発生させるとともに発生させたイオンをミストに帯電させることができるミスト発生装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0005】
上記課題を解決するために、請求項1に記載の発明は、ミストを発生させるミスト発生手段と、前記ミスト発生手段により発生されたミストを吐出するミストノズルと、コロナ放電によりイオンを発生させるイオン発生手段と、前記ミストノズルの近傍に配設され前記イオンを吐出するためのイオンノズルと、を備えたミスト発生装置において、前記ミストノズルは、前記ミストが吐出される吐出側の開口面積が該ミストノズル内に前記ミストが供給される供給側の開口面積よりも小さくされたことを要旨とする。
【0006】
これによれば、ミストノズルからミストを吐出させつつ、ミストノズルの近傍に配設されたイオンノズルからイオンを吐出させることで、イオンとミストを混合し、イオンをミストに帯電させることができる。そして、ミストノズルは、ミストの吐出側の開口面積が、ミストの供給側の開口面積よりも小さく形成されているため、ミストノズルから吐出されるミストの流速が大きくなる。そのため、ミストノズルから吐出されたミストの拡散が抑制され、ミストノズルから吐出されるミストがイオンノズルからイオン発生手段に流入することにより、イオン発生手段付近の湿度が高くなることを抑制できる。従って、イオン発生手段における湿度の上昇を抑制し、安定してコロナ放電を行うことができる。そして、イオンを安定して発生させるとともにイオンをミストに帯電させることができる。
【0007】
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載のミスト発生装置において、前記ミストノズルにおける前記ミストの吐出側の開口径を、前記ミストの供給側の開口径よりも小さく形成したことを要旨とする。
【0008】
これによれば、ミストノズルにおける吐出側の開口径が供給側の開口径よりも小さく形成されているため、ミストノズルにおいてミストの圧力が高まり、該ミストノズルから吐出されるミストの流速が大きくなる。また、ミストの吐出側の開口径を供給側の開口径よりも小さくすればよいため、例えばミストノズルの先端に複数の貫通孔が形成された蓋部材を設けることで開口面積を小さくする場合に比べ、ミストノズルを容易に製造することができる。
【0009】
請求項3に記載の発明は、請求項2に記載のミスト発生装置において、前記ミストノズルには、前記ミストの吐出側に向かうほど内径が小さくなるテーパ部が設けられたことを要旨とする。
【0010】
これによれば、テーパ部において徐々にミストの流速が大きくなってミストが吐出されるため、安定してミストの流速を大きくすることができる。そのため、ミストノズルから吐出されたミストの拡散を安定して抑制することができる。
【0011】
請求項4に記載の発明は、請求項1〜3のうちの何れか一項に記載のミスト発生装置において、前記ミストノズルには、該ミストノズルにおける前記ミストの吐出側の開口径を変更可能な絞り機構が設けられたことを要旨とする。
【0012】
これによれば、ミストノズルにおける吐出側の開口径(開口面積)を変更することで、吐出させるミストの流速を調整することができる。このため、例えば湿度の高い環境でミスト発生装置を使用する場合には、吐出側の開口径を小さくし吐出されるミストの拡散を抑制することで、吐出されるミストによりイオンノズル近傍の湿度が上昇することを防止できる。この結果、周辺環境によらず安定してイオンを発生させることができる。
【0013】
請求項5に記載の発明は、請求項4に記載のミスト発生装置において、前記絞り機構を制御し、前記ミストノズルにおける前記ミストの吐出側の開口径を所定時間毎に変更する絞り制御手段を備えたことを要旨とする。
【0014】
これによれば、所定時間毎にミストノズルにおける吐出側の開口径を変更することで拡散されるミストの量を調整できるため、ミストを吐出させる範囲を広くしつつ、イオン発生装置近傍の湿度が高くなることを防止し安定してイオンを発生させることができる。
【発明の効果】
【0015】
本発明によれば、イオンを安定して発生させるとともに発生させたイオンをミストに帯電させることが可能なミスト発生装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0016】
(第1の実施形態)
以下、本発明を具体化した一実施形態を図面に従って説明する。
図1に示すように、ミスト発生装置1の本体ケース2には、タンクホルダ3が設けられている。該タンクホルダ3には水などの液体を供給するタンク4が着脱可能に設けられている。タンク4は、図示しない止水ピンが設けられた蓋部4aにより給水用の開口部が閉止されるとともに、その蓋部4a(開口部)が下側となるように配設されている。タンクホルダ3には、止水ピンに対応する形状の図示しない突出ピンが設けられている。タンク4は液体が注入された状態でタンクホルダ3に配設されることで、止水ピンが突出ピンにより押し込まれて水密性が解除されタンク4内の液体が流出されるものであり、タンクホルダ3の下部にはタンク4から流出した液体が貯留される。
【0017】
タンクホルダ3は、液体供給路5を介して、本体ケース2内の下部に形成された液体溜
り部6と接続されている。液体溜り部6には、液体供給路5を介してタンクホルダ3の液体が供給され、貯留されるようになっている。液体溜り部6の左右側面には、液体溜り部6に貯留された液体を加熱して沸騰させるミスト発生手段としてのヒータ7が設けられている。液体溜り部6の上部には、本体ケース2の上下方向に沿って延びる筒状のミスト流路8が形成されている。
【0018】
ミスト流路8の上部には、ミストを吐出(放出)するミストノズル9が配設されている。前記ヒータ7により液体溜り部6内の液体が加熱され、沸騰されることでミストノズル9からミストが吐出されるようになっている。なお、ヒータ7に印加する電圧値を変更することにより、吐出させるミスト量を制御することが可能となっている。また、ヒータ7へ電圧を印加し続けた場合、タンク4内の液体がなくなり、液体溜り部6への液体供給が途絶えることとなる。この場合、液体溜り部6の水位が低下することにより、液体溜り部6内に設けられたフロースイッチが動作して、ヒータ7への電圧の印加が停止されるようになっている。
【0019】
図2に示すように、ミストノズル9は、その軸方向に沿って内径が同一となる円筒形状に形成されている。そして、ミストノズル9は、基端側(図2における左側)がミスト流路8に固定されている。従って、ミストノズル9には基端側のミスト供給口9aからミストが供給され、先端側(図2における右側)のミスト吐出口9bからミストを吐出するようになっている。即ち、本実施形態では、基端側がミストの供給側であり、先端側がミストの吐出側となっている。
【0020】
そして、ミストノズル9の先端側は径方向内側に屈曲され、ミスト吐出口9bの開口径がミスト供給口9aの開口径(内径)よりも小径になっている。これにより、ミストノズル9は、吐出側での開口径(開口面積)がミストノズル9における供給側での開口径(開口面積)よりも小さく形成されている。
【0021】
ミスト発生装置1の本体ケース2内のミスト流路8の上部には、マイナスイオンを発生させるイオン発生手段としてのコロナ放電部10が設けられている。このコロナ放電部10は、高圧電源回路11と針状の放電針12とグランドに接続された半円筒形状のグランド電極13とで構成されている。
【0022】
放電針12及びグランド電極13は、ミストノズル9の上部に設けられた円筒形状のイオンノズル14内に配置されている。具体的には、放電針12は、イオンノズル14内に固定された支持部12aに支持され、同イオンノズル14内の略中央に配置されている。また、グランド電極13は、イオンノズル14のイオン吐出口14a側(図2における右側)に固定され、放電針12と対向するように配置されている。
【0023】
コロナ放電部10は、高圧電源回路11により放電針12とグランド電極13との間に高電圧を印加することでコロナ放電を発生させマイナスイオンが生成されるようになっている。従って、本実施形態では、放電針12及びグランド電極13により電極部が構成されている。
【0024】
そして、コロナ放電部10により生成されたマイナスイオンは、イオンノズル14の先端側から吐出されるようになっている。この吐出されたマイナスイオンは、ミストノズル9から吐出されたミストと混合されることで、ミストがマイナス帯電されるようになっている。
【0025】
このイオンノズル14(イオン吐出口14a)は、ミストノズル9(ミスト吐出口9b)から所定範囲(1.5cm〜3cm)内の距離(本実施形態では2cm)離れた位置に配置されている。即ち、イオン吐出口14aは、ミスト吐出口9bの近傍(付近)に配置されている。また、イオン吐出口14a及びミスト吐出口9bは、上下方向に沿って並設されているとともに、イオンノズル14(イオン吐出口14a)が上方に、ミストノズル9(ミスト吐出口9b)が下方に配置されている。
【0026】
図1に示すように、高圧電源回路11には、制御部21が接続されている。そして、制御部21は、高圧電源回路11を制御してコロナ放電を発生させ、マイナスイオンを発生させるようになっている。また、制御部21は、ヒータ7に接続されている。そして、制御部21は、ヒータ7を制御して液体溜り部6内の液体を加熱し、ミストを発生させるようになっている。
【0027】
次に、上述したミスト発生装置1の動作を説明する。
先ず、タンク4内に水などの液体を注入してタンクホルダ3に設置すると、タンクホルダ3に設けられた突出ピンによってタンク4の蓋部4aの止水ピンがタンク4の内側に押し込まれる。これにより、蓋部4aの水密性が解除され、タンク4内の液体がタンクホルダ3に貯留される。そして、タンクホルダ3に貯留された液体が液体供給路5に通水されて液体溜り部6に液体が貯留される。
【0028】
この状態で、ヒータ7を作動させ、液体溜り部6内の液体を加熱させる。これにより、水蒸気が発生する。この水蒸気は、ミスト流路8を通過する際にミストとなり、ミストノズル9から吐出される。このとき、ミストノズル9のミスト吐出口9bの開口面積がミスト供給口9aの開口面積よりも小さくなっているため、ミストノズル9から吐出されるミストの流速が大きくなる。従って、ミストノズル9から吐出されたミストの拡散が抑制される。
【0029】
一方、コロナ放電部10により生成されたマイナスイオンは、ミストノズル9の上部に設けられたイオンノズル14(イオン吐出口14a)から吐出される。そして、吐出されたマイナスイオンは、ミストノズル9から吐出されたミストと混合されることで、ミストがマイナス帯電される。
【0030】
次に、マイナスイオンを帯電させたミストによる使用者の皮膚(肌)への効果について説明する。
一般に人間の表皮は、基底層、有棘層、顆粒層、及び角質層から構成されており、角質層が皮膚の最も外層側を構成している。角質層は、角質細胞と、この角質細胞の間を埋めるセラミドを主成分とした細胞間脂質により構成されている。十分な量のセラミド(細胞間脂質)によって角質細胞間が満たされている場合、角質層は、バリア性を発揮して皮膚からの水分の蒸散を抑制できるとともに、水分を保持することができる。その一方で、セラミドが不足すると、バリア性が低下して皮膚から水分が蒸散しやすくなるとともに、水分の保持量が低下する。
【0031】
マイナスイオンを帯電させたミストが使用者の肌に接触すると、使用者の皮膚の表面がマイナス帯電されるとともに、ミストにより水分が補給される。そして、皮膚表面がマイナス帯電されると、皮膚表面の微弱なマイナス電位を感知して顆粒層からセラミドの前駆体が角質層に向けて放出されるとともに、最終的にセラミドとなって角質細胞間を埋める。これにより、角質層において細胞間脂質量を増加させ、肌のバリア機能を改善(向上)するとともに、肌の水分保持量を増加(保湿力を向上)させることができる。そして、使用者の肌の肌理(キメ)を改善することができる。
【0032】
以上のことから、肌のバリア機能を改善するとともに保湿力を向上させるためには、より多くのマイナスイオンをミストに帯電させ、使用者の肌に付着させることが望ましい。このため、ミスト吐出口9bとイオン吐出口14aとをできるだけ相互に近接した位置に配設し、マイナスイオンをミストに帯電させ易くすることが好ましい。その一方で、ミスト吐出口9bとイオン吐出口14aとを近接させすぎることで、ミスト吐出口9bからミストが流入してコロナ放電部10付近の湿度が上昇し、ミストによるリーク電流が生じてコロナ放電部10におけるマイナスイオンの生成量が減少するという問題が生じ得る。
【0033】
この点、本実施形態によれば、ミストノズル9から吐出されるミストの流速が大きくすることで、ミストノズル9から吐出されるミストの拡散が抑制される。これにより、ミスト吐出口9bからミストが流入してコロナ放電部10付近の湿度がミストによって上昇することを抑制し、安定してコロナ放電をさせることでマイナスイオンの生成量が減少しないようになっている。従って、ミスト発生装置1は、マイナスイオンを安定して発生させるとともに発生させたマイナスイオンをミストに帯電させることができる。そして、マイナスイオンが帯電したミストを使用者の肌に付着させることで、肌のバリア機能を改善するとともに保湿力を向上させることができる。
【0034】
以上記述したように、本実施形態によれば、以下の作用・効果を奏する。
(1)ミスト発生装置1は、ミストを発生させるヒータ7と、ミストを吐出するミストノズル9と、マイナスイオンを発生させるコロナ放電部10と、マイナスイオンを吐出するイオンノズル14とを備えた。そして、ミストノズル9は、ミストが吐出されるミスト吐出口9bの開口面積をミストノズル9内にミストが供給されるミスト供給口9aの開口面積よりも小さくした。そのため、ミストノズル9から吐出されるミストの流速が大きくなり、ミストノズル9から吐出されたミストの拡散が抑制され、ミストノズル9から吐出されるミストがイオンノズル14内に流入することにより、コロナ放電部10近傍の湿度が高くなることを抑制できる。従って、コロナ放電部10における湿度の上昇を抑制し、安定してコロナ放電を行うことができる。そして、イオンを安定して発生させるとともにイオンをミストに帯電させることができる。
【0035】
(2)ミストノズル9をその軸方向に沿って内径が同一となる円筒形状に形成し、その先端側を径方向内側に屈曲して、ミスト吐出口9bの開口径がミスト供給口9aの開口径(内径)よりも小径になるようにした。そのため、例えばミストノズル9の先端に複数の貫通孔が形成された蓋部材を設けることで開口面積を小さくする場合に比べ、ミストノズル9を容易に製造することができる。
【0036】
(第2の実施形態)
次に、本発明を具体化した第2の実施形態を説明する。なお、以下に説明する実施形態では、既に説明した第1の実施形態と同様の構成は、同じ符号を付すなどして重複する詳細な説明及び図面は省略又は簡略する。
【0037】
図3に示すように、ミストノズル9の先端側(吐出側)には、該ミストノズル9の先端側の開口径を変更可能な絞り機構31がミスト吐出口9bに隣接して設けられている。
図4(a),(b)に示すように、絞り機構31は、円環状に配列された複数枚の羽根32を備えている。そして、絞り機構31は、各羽根32がそれぞれ回動することで、各羽根32により構成された開口部33の開口径が変更するように構成されている。
【0038】
詳述すると、各羽根32は、ミストノズル9の先端部に固定された支持軸34を中心としてそれぞれ回動可能に設けられている。また、各羽根32には、長孔35がそれぞれ形成されており、各長孔35には、基板36に固定されたピン37がそれぞれ挿入されている。基板36は、ミスト吐出口9bとの間に各羽根32を挟んで配置されるとともに、ミスト吐出口9bと同径の貫通孔を有する円環状に形成されている。そして、基板36が回転することで、該各ピン37が各長孔35内を移動し、各羽根32が支持軸34を中心に回動して、開口部33の開口径が変更するようになっている。なお、開口部33の開口径は、図4(a)に示す最大の状態でミストノズル9のミスト吐出口9bと同じ開口径となっている。
【0039】
具体的には、図4(a)に示すように、絞り機構31は、開口部33の開口径が最大の状態から基板36が時計回りに回転することで、図4(b)に示すように、開口部33の開口径が最小の状態になる。また、図4(b)に示すように、絞り機構31は、開口部33の開口径が最小の状態から基板36が反時計回りに回転することで、図4(a)に示すように、開口部33の開口径が最大の状態になる。
【0040】
図3に示すように、絞り機構31には、基板36(各ピン37)を回転させるためのモータ41が連結されている。また、モータ41には、絞り制御手段としての制御部21が接続されている。なお、制御部21には、上記第1実施形態と同様に、ヒータ7及び高圧電源回路11に接続されている。制御部21は、タイマ42を備えている。そして、制御部21は、モータ41の駆動を制御して、所定時間毎に開口部33の開口径を変更する、即ちミストノズル9の吐出側の開口径を変更ようになっている。
【0041】
具体的には、制御部21は、ミスト及びマイナスイオンの発生を開始した時点から、第1所定時間T1経過後に、開口部33の開口径を最大(図4(a)参照)にする。また、ミスト及びマイナスイオンの発生を開始時点から、第2所定時間T2経過後に、開口部33の開口径を最小(図4(b)参照)にする。
【0042】
続いて、制御部21は、開口部33の開口径を最小にした後に、第1所定時間T1が経過すると、再び開口部33の開口径を最大にし、その後第2所定時間T2が経過すると、再び開口部33の開口径を最小にする。そして、制御部21は、開口部33の開口径が最小になった後の経過時間に基づいて、同様に開口部33の開口径の変更を繰り返す。なお、本実施形態では、ミスト及びマイナスイオンの発生を開始時点では、開口部33の開口径は最大となっている。
【0043】
次に、絞り機構31の開口径変更制御の処理手順について図5に示すフローチャートに従って説明する。
先ず、制御部21は、ヒータ7を作動させて液体溜り部6内の液体を加熱させ、ミストの発生を開始し(ステップ1)、高圧電源回路11を駆動してマイナスイオンの発生を開始する(ステップ2)。
【0044】
続いて、制御部21は、タイマ42の計測時間をリセットし(ステップ3:T=0)、タイマ42での計測時間Tが第1所定時間T1を経過したか否かを判定する(ステップ4)。そして、計測時間Tが第1所定時間T1を経過した場合(ステップ4:YES)には、開口部33の開口径を最大にする(ステップ5)。一方、計測時間Tが第1所定時間T1経過していない場合(ステップ4:NO)には、計測時間Tが第1所定時間T1よりも大きくなるまで、ステップ4の判定処理を繰り返す。
【0045】
開口部33の開口径を最大にした後、制御部21は、計測時間Tが第2所定時間T2を経過したか否かを判定し(ステップ6)、計測時間Tが第2所定時間T2を経過した場合(ステップ6:YES)には、開口部33の開口径を最小にする(ステップ7)。そして、制御部21は、ステップ3に移行してタイマをリセットし、ステップ4〜7の処理を繰り返す。なお、制御部21は、計測時間Tが第2所定時間T2経過していない場合(ステップ6:NO)には、計測時間Tが第2所定時間T2よりも大きくなるまで、ステップ6の判定処理を繰り返す。
【0046】
以上記述したように、本実施形態によれば、上記第1の実施形態における(1),(2)と同様の作用・効果に加えて、以下の作用・効果を奏する。
(3)ミストノズル9には、該ミストノズル9におけるミストの吐出側の開口径を変更可能な絞り機構31を設けた。そのため、ミストノズル9におけるミストの吐出側の開口径(開口面積)を変更することで、吐出させるミストの流速を調整することができる。このため、例えば湿度の高い環境でミスト発生装置1を使用する場合には、絞り機構31の開口部33の開口径を小さくし吐出されるミストの拡散を抑制することで、吐出されるミストがイオンノズル14内に流入し、コロナ放電部10近傍の湿度が高くなることを防止できる。この結果、周辺環境によらず安定してマイナスイオンを発生させることができる。
【0047】
(4)絞り機構31を制御し、ミストノズル9における先端側の開口径を所定時間毎に変更する制御部21を備えた。従って、拡散されるミストの量を調整できるため、ミストを吐出させる範囲を広くしつつ、コロナ放電部10近傍の湿度が高くなることを防止して安定してマイナスイオンを発生させることができる。
【0048】
なお、本実施形態は、以下の態様で実施してもよい。
○ 上記第1実施形態では、ミストノズル9の先端部を屈曲してミスト吐出口9bの開口面積をミスト供給口9aの開口面積よりも小さくしたが、これに限らない。例えば、図6に示すように、ミストノズル9に、ミストの吐出側に向かうほど内径が小さくなるテーパ部9cを形成してもよい。このようにすることで、テーパ部9c内で徐々にミストの流速が大きくなってミストが吐出されるため、安定してミストの流速を大きくすることができる。そのため、ミストノズル9から吐出されたミストの拡散を安定して抑制できる。
【0049】
○ 上記第1実施形態では、ミストノズル9の先端部を屈曲してミスト吐出口9bの開口径をミスト供給口9aの開口径よりも小さくしたが、これに限らない。例えばミスト供給口9aの開口径よりも小さな径を有する貫通孔が形成された蓋部材をミストノズル9の先端に固定してもよい。また、蓋部材に複数の貫通孔を形成してもよい。
【0050】
○ 上記第2実施形態では、絞り機構31は複数の羽根32を備えて構成したが、これに限らず、開口部33の開口径を変更できれば、どのように構成してもよい。
○ 上記第2実施形態では、絞り機構31を、ミストノズル9の先端部を屈曲形成したミスト吐出口9bと隣接して設けたが、これに限らず、ミストノズル9の先端部を屈曲させずに絞り機構31を設けてもよい。
【0051】
○ 上記第2実施形態では、制御部21は、ミストの発生を開始した後に、マイナスイオンの発生を開始したが、これに限らず、マイナスイオンの発生を開始した後に、ミストの発生を開始してもよい。
【0052】
○ 上記第2実施形態では、制御部21は、開口部33の開口径を最大又は最小としたが、最大又は最小でなくともよく、例えば最大の開口径と最小の開口径と間の開口径又は最大の開口径としてもよい。また、制御部21が開口部33の開口径を最小にした後の経過時間とともに、連続的に絞り機構31の開口径を変更するようにしてもよい。
【0053】
○ 上記第2実施形態では、ミスト及びマイナスイオンの発生を開始した時点では、開口部33の開口径を最小としたが、ミスト及びマイナスイオンの発生を開始時点で開口部33の開口径を最大とし、第1所定時間T1経過後に開口部33の開口径を最小にし、第2所定時間T2経過後に開口部33の開口径を最大にしてもよい。
【0054】
○ 上記各実施形態では、ミスト吐出口9b及びイオン吐出口14aを上下方向に並設したが、これに限らず、ミスト吐出口9b及びイオン吐出口14aを左右方向に並設してもよく、また、本体ケース2の上方や側方に向けて開口するように配置してもよい。
【0055】
○ 上記各実施形態では、ミスト発生手段としてのヒータ7により液体溜り部6内の液体を加熱沸騰する方法を採用しているが、これに限らず液体を超音波にて霧化させる方法や、霧吹きなどの原理で知られるベンチュリ効果を用いた方法などにてミストを発生させてもよい。
【0056】
○ 上記各実施形態では、コロナ放電部10がマイナスイオンを発生可能に構成したが、プラスイオンを発生可能に構成してもよい。この場合、放電針12及びグランド電極13間にプラスの高電圧を印加する。このように構成しても、コロナ放電部10において、イオンを発生させることができる。
【図面の簡単な説明】
【0057】
【図1】ミスト発生装置の概略図。
【図2】ミストノズル及びコロナ放電部の拡大断面図。
【図3】第2実施形態のミストノズルを示す概略図。
【図4】(a)開口部の開口径が最大の状態の絞り機構を示す正面図、(b)開口部の開口径が最小の状態の絞り機構を示す正面図。
【図5】絞り機構の開口径変更制御の処理手順を示すフローチャート。
【図6】別のミストノズルの拡大断面図。
【符号の説明】
【0058】
1…ミスト発生装置、7…ヒータ、9…ミストノズル、9c…テーパ部、10…コロナ放電部、12…放電針、13…グランド電極、14…イオンノズル、21…制御部、31…絞り機構。

【特許請求の範囲】
【請求項1】
ミストを発生させるミスト発生手段と、
前記ミスト発生手段により発生されたミストを吐出するミストノズルと、
コロナ放電によりイオンを発生させるイオン発生手段と、
前記ミストノズルの近傍に配設され前記イオンを吐出するためのイオンノズルと、を備えたミスト発生装置において、
前記ミストノズルは、前記ミストが吐出される吐出側の開口面積が該ミストノズル内に前記ミストが供給される供給側の開口面積よりも小さくされたことを特徴とするミスト発生装置。
【請求項2】
前記ミストノズルにおける前記ミストの吐出側の開口径を、前記ミストの供給側の開口径よりも小さく形成したことを特徴とする請求項1に記載のミスト発生装置。
【請求項3】
前記ミストノズルには、前記ミストの吐出側に向かうほど内径が小さくなるテーパ部が設けられたことを特徴とする請求項2に記載のミスト発生装置。
【請求項4】
前記ミストノズルには、該ミストノズルにおける前記ミストの吐出側の開口径を変更可能な絞り機構が設けられたことを特徴とする請求項1〜3のうちの何れか一項に記載のミスト発生装置。
【請求項5】
前記絞り機構を制御し、前記ミストノズルにおける前記ミストの吐出側の開口径を所定時間毎に変更する絞り制御手段を備えたことを特徴とする請求項4に記載のミスト発生装置。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【図6】
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【公開番号】特開2010−46414(P2010−46414A)
【公開日】平成22年3月4日(2010.3.4)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2008−215627(P2008−215627)
【出願日】平成20年8月25日(2008.8.25)
【出願人】(000005832)パナソニック電工株式会社 (17,916)
【Fターム(参考)】