モノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法
【課題】モノヒドロキシモノエーテル化合物を高い生産性で製造する方法を提供。
【解決手段】脱離基Ｘを有するＲ１−ＣＨ２−Ｘ（１）なる炭化水素化合物（１）と、式（２）
（式中、Ｒ2は置換基を有していてもよい２価の炭化水素基、又は２価の炭化水素基の２以上がエーテル結合を介して連結された連結基を示す）で表されるジオールとをアルカリ金属を含む塩基の存在下、溶液中で反応させることにより、式（３）
（式中、Ｒ2は前記に同じ）で表されるモノヒドロキシモノエーテル化合物を生成させる方法であって、式（２）で表されるジオールを含む溶液に対し、アルカリ金属を含む塩基を逐次添加し、生成させたモノアルコキシドを化合物（１）と逐次的に反応させることを特徴とするモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法。
【解決手段】脱離基Ｘを有するＲ１−ＣＨ２−Ｘ（１）なる炭化水素化合物（１）と、式（２）
（式中、Ｒ2は置換基を有していてもよい２価の炭化水素基、又は２価の炭化水素基の２以上がエーテル結合を介して連結された連結基を示す）で表されるジオールとをアルカリ金属を含む塩基の存在下、溶液中で反応させることにより、式（３）
（式中、Ｒ2は前記に同じ）で表されるモノヒドロキシモノエーテル化合物を生成させる方法であって、式（２）で表されるジオールを含む溶液に対し、アルカリ金属を含む塩基を逐次添加し、生成させたモノアルコキシドを化合物（１）と逐次的に反応させることを特徴とするモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ジオールの一方のヒドロキシル基をエーテル化することによって得られるモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
２つのヒドロキシル基（水酸基）を有するジオールの、一方のヒドロキシル基のみをエーテル化して得られるモノヒドロキシモノエーテル化合物は、各種化合物や材料（例えば、樹脂材料）及びこれらの原料（中間体）等として広く利用されている。具体的には、例えば、光カチオン硬化型樹脂のモノマー成分として、アルキレングリコールの一方のヒドロキシル基のみをオキセタン環を有するアルキル基によりエーテル化した構造を有する化合物（オキセタン環含有アルコール）が知られている（特許文献１、２参照）。
【０００３】
上記モノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法としては、例えば、アルキレングリコール、水酸化ナトリウム、及びテトラブチルアンモニウムブロマイドのトルエン溶液を調製し、次いで、該溶液に対して、エーテル化剤としての３−エチル−３−メタンスルホニルオキシメチルオキセタンを滴下することによって、オキセタン環含有アルコールを合成する方法が知られている（特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００１−１６３９６１号公報
【特許文献２】国際公開第２００７／１４５３０９号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記製造方法においては、副生成物として、ジオール（アルキレングリコール）の２つのヒドロキシル基がともにエーテル化されたビスオキセタンエーテル化合物が比較的多く生成し、目的物であるモノヒドロキシモノエーテル化合物（オキセタン環含有アルコール）の選択性及び単離収率を向上させることが難しいという問題があった。
【０００６】
また、上記製造方法においては、上記原料を含む溶液がゲル化して、反応中に攪拌が困難となる問題が生じることが判明した。このため、溶液中で効率的に反応を進行させることができず、モノヒドロキシモノエーテル化合物（オキセタン環含有アルコール）の選択性及び単離収率が低下する問題が生じていた。一方で、このようなゲル化の問題に対しては、大量の溶媒の使用により対応することが可能であったが、このような解決策はコスト面で好ましいものではなかった。
【０００７】
さらに、上記製造方法においては、ジオールと反応させるエーテル化剤（３−エチル−３−メタンスルホニルオキシメチルオキセタン）が、溶液中に存在する水によって加水分解することによっても、モノヒドロキシモノエーテル化合物の選択性及び単離収率が低下する問題が生じていた。
【０００８】
従って、本発明の目的は、ジオールの一方のヒドロキシル基のみをエーテル化したモノヒドロキシモノエーテル化合物を高選択率かつ高収率で（即ち、高い生産性で）製造する方法（モノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法）を提供することにある。
本発明の他の目的は、カチオン重合部位であるオキセタン環とラジカル重合部位である（メタ）アクリロイル基をともに有する異種反応性モノマーの前駆体として特に有用な、オキセタン環含有アルコールを高選択率かつ高収率で（即ち、高い生産性で）製造する方法（オキセタン環含有アルコールの製造方法）を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、脱離性基を有する特定構造の化合物と特定構造のジオールとをアルカリ金属を含む塩基の存在下で反応させる際に、上記ジオールを含む溶液に対して上記アルカリ金属を含む塩基を逐次添加し、生成させたモノアルコキシドを上記脱離性基を有する化合物と逐次的に反応させることによって、目的物としてのモノヒドロキシモノエーテル化合物を高選択率かつ高収率で製造できることを見出し、本発明を完成させた。
【００１０】
すなわち、本発明は、下記式（１）
【化１】
（式中、Ｒ1は置換基を有していてもよい炭化水素基を示し、Ｘは脱離性基を示す）で表される化合物と、下記式（２）
【化２】
（式中、Ｒ2は置換基を有していてもよい２価の炭化水素基、又は前記２価の炭化水素基の２以上がエーテル結合を介して連結された連結基を示す）で表されるジオールとをアルカリ金属を含む塩基の存在下で反応させることにより、
下記式（３）
【化３】
（式中、Ｒ1、Ｒ2は前記に同じ）で表されるモノヒドロキシモノエーテル化合物を生成させる方法であって、前記式（２）で表されるジオールを含む溶液に対し、前記アルカリ金属を含む塩基を逐次添加し、生成させたモノアルコキシドを前記式（１）で表される化合物と逐次的に反応させることを特徴とするモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法を提供する。
【００１１】
さらに、式（１）におけるＲ1が、オキセタニル基を有する炭化水素基である前記のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法を提供する。
【００１２】
さらに、式（１）で表される化合物が、下記式（４）
【化４】
（式中、Ｒ4は置換基を有していてもよい炭化水素基を示し、Ｘは前記に同じ）で表されるオキセタン誘導体であり、下記式（５）
【化５】
（式中、Ｒ2、Ｒ4は、前記に同じ）で表されるモノヒドロキシモノエーテル化合物を生成させる前記のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法を提供する。
【００１３】
さらに、式（１）における脱離性基Ｘが、メタンスルホニルオキシ基である前記のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法を提供する。
【００１４】
さらに、前記アルカリ金属を含む塩基が、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムである前記のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法を提供する。
【発明の効果】
【００１５】
本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法は上記構成を有するため、ジオールの一方のヒドロキシル基のみをエーテル化したモノヒドロキシモノエーテル化合物を高選択率かつ高収率で（即ち、高い生産性で）製造できる。さらに、特定構造の原料を使用することにより、特に、異種反応性モノマーの前駆体として有用なオキセタン環含有アルコールを、高選択率かつ高収率で（即ち、高い生産性で）製造できる。また、反応溶液がゲル化しにくいため、使用する溶媒の量を低減することができ、コスト面で有利である。このため、本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法は生産性に優れ、工業的に適した方法である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法は、下記式（１）
【化６】
（式中、Ｒ1は置換基を有していてもよい炭化水素基を示し、Ｘは脱離性基を示す）で表される化合物と、下記式（２）
【化７】
（式中、Ｒ2は置換基を有していてもよい２価の炭化水素基、又は前記２価の炭化水素基の２以上がエーテル結合を介して連結された連結基を示す）で表されるジオールとをアルカリ金属を含む塩基の存在下、溶液中で反応させることにより、下記式（３）
【化８】
（式中、Ｒ1、Ｒ2は前記に同じ）で表されるモノヒドロキシモノエーテル化合物を生成させる方法である。なお、上記「アルカリ金属を含む塩基の存在下」とは、反応のいずれかの時点でアルカリ金属を含む塩基が存在することを意味し、上記反応中、アルカリ金属を含む塩基が常に存在している必要はない。
【００１７】
［式（１）で表される化合物］
式（１）で表される化合物は、本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法における原料（反応物）として使用される。
【００１８】
式（１）で表される化合物におけるＲ1は、置換基を有していてもよい炭化水素基である。上記Ｒ1における炭化水素基としては、特に限定されないが、例えば、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基、これらが２以上結合した炭化水素基などが挙げられる。上記脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基等の炭素数１〜２０のアルキル基（好ましくは、炭素数１〜１０のアルキル基）；ビニル基、１−プロペニル基等の炭素数２〜２０のアルケニル基（好ましくは、炭素数２〜１０のアルケニル基）などが挙げられる。上記脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基；シクロヘキセニル基等のシクロアルケニル基；アダマンチル基、ノルボルニル基等の橋かけ環式基などが挙げられる。上記芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基などが挙げられる。また、これらの炭化水素基が２以上結合した基としては、例えば、ベンジル基、２−フェニルエチル基等のアラルキル基；メチルフェニル基等のアルキル基置換フェニル基などが挙げられる。
【００１９】
上記Ｒ1における置換基（上記炭化水素基が有していてもよい置換基）としては、特に限定されないが、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子；メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基等の炭素数１〜４のアルコキシ基；メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等の炭素数２〜５のアルコキシカルボニル基；アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等の炭素数１〜１０のアシル基；シアノ基；ニトロ基；エポキシ基（オキシラニル基）、オキセタニル基、オキソラニル基などの複素環基などが挙げられる。なお、上記複素環基の環構造は、上記炭化水素基を構成する１又は２以上の炭素原子を含んで（共有して）形成されていてもよい。中でも、上記Ｒ1としては、カチオン重合性を少なくとも有するモノマー（又は該モノマーの前駆体）として使用できる点で、エポキシ基を有する炭化水素基、オキセタニル基を有する炭化水素基が好ましく、より好ましくはオキセタニル基を有する炭化水素基である。
【００２０】
式（１）で表される化合物におけるＸは、脱離性基である。上記脱離性基Ｘとしては、特に限定されないが、例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子；メタンスルホニルオキシ基、トルエンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基等のスルホニルオキシ基；アセチルオキシ基等のアシルオキシ基などの脱離性の高い基が挙げられる。上記の中でも、反応収率及び反応時間の観点で、塩素原子、メタンスルホニルオキシ基が好ましく、より好ましくはメタンスルホニルオキシ基である。
【００２１】
特に、式（１）で表される化合物としては、少なくともカチオン重合性を有するモノマー（又は該モノマーの前駆体）として使用できる点で、下記式（４）で表される化合物（オキセタン誘導体）が好ましい。
【化９】
（式（４）中、Ｒ4は置換基を有していてもよい炭化水素基を示し、Ｘは前記に同じ）
【００２２】
式（４）で表される化合物におけるＲ4としては、特に限定されないが、例えば、Ｒ1で例示したものと同様の炭化水素基（置換基を有していてもよい炭化水素基）を例示することができる。中でも、原料入手の観点で、メチル基、エチル基、ヒドロキシメチル基が好ましい。
【００２３】
上記式（４）で表される化合物の代表的な例としては、例えば、以下の化合物を挙げることができる。
【化１０】
【００２４】
式（４）で表される化合物は、周知慣用の方法で製造することができ、例えば、トリエチルアミン及びトルエンの存在下、３−アルキル−３−オキセタンメタノールとハロゲン化メタンスルホニルとを反応させたり、３−アルキル−３−オキセタンメタノールをハロゲン化することにより合成することができる。
【００２５】
［式（２）で表されるジオール］
式（２）で表されるジオールは、本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法における原料（反応物）として使用される。
【００２６】
式（２）で表されるジオールにおけるＲ2は、１つ以上（２つ以上でも良い）置換基を有していてもよい２価の炭化水素基、又は上記２価の炭化水素基の２以上がエーテル結合を介して連結された連結基である。
【００２７】
上記Ｒ2における２価の炭化水素基としては、特に限定されないが、例えば、２価の脂肪族炭化水素基、２価の脂環式炭化水素基、２価の芳香族炭化水素基、これらが２以上結合した２価の炭化水素基などが挙げられる。上記２価の脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチレン基、メチルメチレン基、ジメチルメチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、ブチレン基、ペンチレン基等の炭素数が１〜１８の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基などが挙げられる。上記２価の脂環式炭化水素基としては、例えば、１，２−シクロペンチレン、１，３−シクロペンチレン、シクロペンチリデン、１，２−シクロヘキシレン、１，３−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキシレン、シクロヘキシリデン基等の２価のシクロアルキレン基（シクロアルキリデン基を含む）などが挙げられる。上記２価の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニレン基などが挙げられる。
【００２８】
上記Ｒ2における置換基（上記２価の炭化水素基が有していてもよい置換基）としては、特に限定されないが、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子；メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基等の炭素数１〜４のアルコキシ基；メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等の炭素数２〜５のアルコキシカルボニル基；アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等の炭素数１〜１０のアシル基；シアノ基；ニトロ基；エポキシ基（オキシラニル基）、オキセタニル基、オキソラニル基などの複素環基などが挙げられる。
【００２９】
上記Ｒ2における連結基（上記２価の炭化水素基の２以上がエーテル結合を介して連結された連結基）としては、特に限定されないが、上記２価の炭化水素基の２つが１つのエーテル結合を介して連結された連結基（例えば、エチレンオキシエチレン基［−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2−］等のアルキレンオキシアルキレン基、フェニレンオキシフェニレン基など）；上記２価の炭化水素基の３以上が２以上のエーテル結合を介して連結された連結基（例えば、アルキレンポリ（オキシアルキレン）基など）が挙げられる。なお、上記連結基における２価の炭化水素基は、上記置換基を有していてもよい。
【００３０】
上記式（２）で表されるジオールの代表的な例としては、入手容易の観点から、以下の化合物（２ａ）（＝ネオペンチルグリコール）、化合物（２ｂ）（＝１，３−プロパンジオール）、化合物（２ｃ）（＝１，４−ブタンジオール）等を挙げることができる。
【化１１】
【００３１】
［アルカリ金属を含む塩基］
アルカリ金属を含む塩基は、本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法における原料（反応物）として使用される。
【００３２】
上記アルカリ金属を含む塩基（アルカリ金属塩基）は、アルカリ金属を含み、かつ塩基性を示す物質（化合物）であればよく、特に限定されないが、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属の水酸化物；水素化ナトリウム、水素化カリウムなどのアルカリ金属の水素化物；炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウムなどのアルカリ金属の炭酸塩；メチルリチウム、エチルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、ｓ−ブチルリチウム、ｔ−ブチルリチウム等のアルキルリチウム化合物などの有機リチウム化合物等が挙げられる。アルカリ金属を含む塩基は単独で、又は２種以上を組み合わせて使用することができる。上記の中でも、アルカリ金属を含む塩基としては、溶媒への溶解性に優れる点で、アルカリ金属の水酸化物が好ましく、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが特に好ましい。
【００３３】
本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法においては、上述の式（１）で表される化合物、式（２）で表される化合物、アルカリ金属を含む塩基以外にも、溶解性向上、反応収率向上を目的として、各種添加剤を用いてもよい。上記添加剤としては、例えば、相間移動触媒、界面活性剤等が挙げられる。上記添加剤は単独で、又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００３４】
［本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法］
本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法は、式（１）で表される化合物と、式（２）で表されるジオールとをアルカリ金属を含む塩基の存在下、溶液中で反応させることにより、式（３）で表されるモノヒドロキシモノエーテル化合物を生成させる方法である。上記反応は、溶液中で行われるものであれば特に限定されず、液相一相系（液相が一相のみの系）であってもよいし、液相が二相以上存在する系であってもよい。なお、上記反応における溶液中には、固体が含まれていてもよい。
【００３５】
本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法においては、特に限定されないが、上記反応を溶液中で実施するために、通常、溶媒を使用することが好ましい。上記溶媒としては、式（１）で表される化合物と、式（２）で表されるジオールの両方を溶解することができるものであればよく、具体的には、例えば、ヘキサン、オクタン等の脂肪族炭化水素；シクロヘキサン、シクロオクタン等の脂環式炭化水素；ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素；テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、イソプロピルエーテル（ＩＰＥ）等のエーテル；ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）等の含硫黄系溶媒；ジメチルホルムアミド等の含窒素系溶媒などが挙げられる。中でも、水を共沸して留去しやすい点で、トルエン、ベンゼン等の芳香族炭化水素が好ましく、又は、水溶性が低く精製時の分液性を向上させやすい点で、イソプロピルエーテル等のエーテルが好ましい。
【００３６】
式（１）で表される化合物と式（２）で表されるジオールとのアルカリ金属を含む塩基の存在下での反応は、例えば、これらの化合物を上記溶媒中で共存させることにより行うことができる。より具体的には、例えば、式（２）で表されるジオールを上記溶媒に溶解させた溶液中に、アルカリ金属を含む塩基、及び式（１）で表される化合物をそれぞれ滴下することにより上記反応を行うことができる。なお、式（２）で表されるジオールは、特に限定されないが、アルカリ金属を含む塩基、式（１）で表される化合物を滴下する前の溶液に対してあらかじめ全使用量を仕込んでおいてもよいし、全使用量の一部を上記溶液に仕込み、残りを適切な時期に適宜分割して溶液中に追加してもよい。
【００３７】
式（２）で表されるジオールの使用量（全使用量）は、特に限定されないが、例えば、上記式（１）で表される化合物に対して、１．８〜１０モル倍が好ましく、より好ましくは２〜６モル倍、さらに好ましくは２．５〜４モル倍である。上記使用量が１．８モル倍未満であると、ジアルコキシドの生成量が増加することによって、ジエーテル体が多く生成する傾向がある。一方、上記使用量が１０モル倍を超えると、精製時に原料のジオール残存量が増加する。また、ジオールの残存量の増加により、除去工程が増えるためにモノヒドロキシモノエーテル化合物の収率が低下する傾向がある。
【００３８】
上記アルカリ金属を含む塩基の使用量（全使用量）は、該アルカリ金属を含む塩基の塩基強度によっても異なり、特に限定されないが、例えば、上記式（１）で表される化合物に対して、１．０〜１．８モル倍が好ましく、より好ましくは１．０〜１．４モル倍、さらに好ましくは１．１〜１．３モル倍である。上記使用量が１．０モル倍未満であると、未反応原料が多くなる傾向がある。一方、上記使用量が１．８モル倍を超えると、副生成物である式（２）で表されるジオールの２つのヒドロキシル基がともにエーテル化された化合物（ジエーテル体）が多く生成する傾向がある。また、反応溶液中の残存アルコキシド量も増加するので、ゲル化を起こす可能性が高くなる。
【００３９】
上記溶媒の使用量（全使用量）は、溶媒の粘度や反応物の溶解度等によっても異なり、特に限定されないが、例えば、上記（１）で表される化合物（１００重量部）に対して、４００〜２０００重量部が好ましく、より好ましくは５００〜１８００重量部、さらに好ましくは６００〜１５００重量部である。溶媒の使用量が４００重量部未満であると、反応溶液がゲル化しやすく、攪拌が困難となってモノヒドロキシモノエーテル化合物の生産性（反応収率）が低下する場合がある。一方、溶媒の使用量が２０００重量部を超えると、コスト面で不利となったり、生産性が低下する場合がある。
【００４０】
本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法における反応温度は、上記式（１）で表される化合物の滴下速度等により適宜調整することができ、特に限定されないが、例えば、３０〜１５０℃が好ましく、より好ましくは４０〜１２０℃である。反応温度が３０℃未満であると、未反応原料が多くなる傾向がある。一方、反応温度が１５０℃を超えると、副生成物である式（２）で表されるジオールの２つのヒドロキシル基がともにエーテル化された化合物（ジエーテル体）が多く生成する傾向がある。
【００４１】
本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法は、上記反応（式（１）で表される化合物と式（２）で表されるジオールのアルカリ金属を含む塩基の存在下での反応）に際し、上記ジオールを少なくとも含む溶液に対し、上記アルカリ金属を含む塩基を逐次添加し、生成させたモノアルコキシドを上記式（１）で表される化合物と逐次的に（順次）反応させることを特徴としている。なお、本明細書において、「逐次添加」とは、連続的に添加、又は、間欠的に添加することを意味し、一括添加ではないという意味である。
【００４２】
上記モノアルコキシドとは、式（２）で表されるジオールの一方のヒドロキシル基のみがアルカリ金属を含む塩基と反応した金属アルコキシド（モノ金属アルコキシド）を意味する。また、本明細書においては、式（２）で表されるジオールの両方のヒドロキシル基がともにアルカリ金属を含む塩基と反応した金属アルコキシドを、「ジアルコキシド」と称する場合がある。
【００４３】
本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法においては、式（２）で表されるジオールを含む溶液に対し、上記アルカリ金属を含む塩基を逐次添加することによって、上記モノアルコキシドを逐次的に生成させ、該モノアルコキシドを逐次的に（順次）上記式（１）で表される化合物と反応させる。即ち、本発明の要点は、上記ジオールにアルカリ金属を含む塩基を反応させてモノアルコキシドを生成させるたびに、該モノアルコキシドを式（１）で表される化合物と順次反応させ、これを連続的又は間欠的に繰り返すことにある。
【００４４】
式（２）で表されるジオールを含む溶液に対して上記アルカリ金属を含む塩基を逐次添加するに際しては、アルカリ金属を含む塩基の最初の添加を開始してから、アルカリ金属を含む塩基の全使用量の添加が完了するまでの時間（全使用量の添加時間）を、３０分以上（例えば、６０〜３６０分）とすることが好ましく、より好ましくは１２０〜２４０分である。上記全使用量の添加時間が３０分未満であると、アルカリ金属を含む塩基を逐次添加することによる効果が得られにくい。
【００４５】
モノアルコキシドを逐次的に（順次）式（１）で表される化合物と反応させる方法としては、特に限定されないが、モノアルコキシドを生成させた溶液に対し、式（１）で表される化合物を逐次添加する方法が挙げられる。即ち、本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法は、式（２）で表されるジオールを含む溶液に対し、アルカリ金属を含む塩基と、式（１）で表される化合物をそれぞれ逐次添加する方法であることが好ましい。なお、アルカリ金属を含む塩基と式（１）で表される化合物のそれぞれの添加回数の上限は、特に限定されないが、式（１）で表される化合物、式（２）で表されるジオール、及びアルカリ金属を含む塩基のそれぞれの使用量（全使用量）が上述の範囲内となるように適宜調整することが好ましい。
【００４６】
式（２）で表されるジオールを少なくとも含む溶液に対する、上記アルカリ金属を含む塩基の１回の添加量は、特に限定されないが、仕込みのジオール（溶液中に仕込んだ式（２）で表されるジオールの量）に対して、０．００１〜０．２モル倍が好ましく、より好ましくは０．００２〜０．１９モル倍、さらに好ましくは０．００３〜０．１８モル倍である。上記添加量（１回の添加量）が仕込みのジオールに対して０．２モル倍を超えると、ジエーテル体が生成しやすく、モノヒドロキシモノエーテル化合物の選択率や収率が低下する場合がある。なお、上記アルカリ金属を含む塩基を添加する際には、該塩基を適当な溶媒に溶解又は分散させた溶液又は分散液を使用してもよい。
【００４７】
また、式（２）で表されるジオールを少なくとも含む溶液に対する、上記アルカリ金属を含む塩基の１回の添加量は、特に限定されないが、溶液中に存在する上記ジオールの量に対して、０．００１〜０．２モル倍が好ましく、より好ましくは０．００２〜０．１９モル倍、さらに好ましくは０．００３〜０．１８モル倍である。上記添加量（１回の添加量）が溶液に存在する上記ジオールに対して０．２モル倍を超えると、ジエーテル体が生成しやすく、モノヒドロキシモノエーテル化合物の選択率や収率が低下する場合がある。
【００４８】
式（２）で表されるジオールを少なくとも含む溶液に対する、式（１）で表される化合物の１回の添加量は、特に限定されないが、仕込みのジオール（溶液中に仕込んだ式（２）で表されるジオールの量）に対して、０．００１〜０．２モル倍が好ましく、より好ましくは０．００２〜０．１９モル倍、さらに好ましくは０．００３〜０．１８モル倍である。また、式（２）で表されるジオールを少なくとも含む溶液に対する、式（１）で表される化合物の１回の添加量は、上記アルカリ金属を含む塩基の１回の添加量に対して、０．５５〜１．０モル倍が好ましく、より好ましくは０．６６〜１．０モル倍、さらに好ましくは０．７７〜１．０モル倍である。上記添加量（式（１）で表される化合物の１回の添加量）が仕込みのジオールに対して０．２モル倍（又は、アルカリ金属を含む塩基の１回の添加量に対して１．０モル倍）を超えると、式（１）で表される化合物の加水分解物が生成しやすくなる場合がある。一方、上記添加量（式（１）で表される化合物の１回の添加量）がアルカリ金属を含む塩基の１回の添加量に対して０．５５モル倍未満であると、ジエーテル体が生成しやすく、モノヒドロキシモノエーテル化合物の選択率や収率が低下する場合がある。また、反応溶液のゲル化が起こりやすくなる場合がある。なお、上記式（１）で表される化合物を添加する際には、該化合物を適当な溶媒に溶解又は分散させた溶液又は分散液を使用してもよい。
【００４９】
本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法においては、アルカリ金属を含む塩基を添加する際に、式（１）で表される化合物と式（２）で表されるジオールとを反応させる溶液中の、ジオールに対するモノアルコキシドの割合（「モノアルコキシド（ｍｏｌ）／ジオール（ｍｏｌ）」）が、アルカリ金属を含む塩基の全添加回数の少なくとも半数において、０．２モル倍以下となるように制御することが好ましく、より好ましくは０．１９モル倍以下、さらに好ましくは０．１８モル倍以下である。上記ジオールに対するモノアルコキシドの割合が０．２モル倍を超えると、ジアルコキシドの生成が促進されたり、溶液がゲル化することによって、式（３）で表されるモノヒドロキシモノエーテル化合物の選択率及び収率が低下する場合がある。
【００５０】
上記ジオールに対するモノアルコキシドの割合は、式（１）で表される化合物と式（２）で表されるジオールとを反応させる溶液中に存在するモノアルコキシドの量（存在量）を、上記溶液中に存在する上記ジオールの量（存在量）で除することによって算出される。上記ジオール及びモノアルコキシドの存在量としては、上記ジオールとアルカリ金属を含む塩基とが定量的に反応してモノアルコキシドのみが生成するとの仮定の下、下記式により算出される理論値を採用するものとする。
・［モノアルコキシドの存在量（ｍｏｌ）］＝［溶液に添加されたアルカリ金属を含む塩基の総量（ｍｏｌ）］−［溶液に添加された式（１）で表される化合物の総量（ｍｏｌ）］
・［式（２）で表されるジオールの存在量（ｍｏｌ）］＝［溶液に仕込んだジオールの総量（ｍｏｌ）］−［溶液に添加されたアルカリ金属を含む塩基の総量（ｍｏｌ）］
【００５１】
中でも、本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法においては、式（２）で表されるジオールを含む溶液に対して、アルカリ金属を含む塩基を上記添加量（１回の添加量）の範囲で添加し、次いで、式（１）で表される化合物を上記添加量（１回の添加量）の範囲で添加し、その後さらに、これらの添加を少なくとも１回以上繰り返すことが好ましい。即ち、アルカリ金属を含む塩基の添加と式（１）で表される化合物の添加は、交互にそれぞれ２回以上繰り返すことが好ましい。これにより、溶液中に存在する上記モノアルコキシドの割合を上記範囲に制御しやすく、式（３）で表されるモノヒドロキシモノエーテル化合物の選択率及び収率を向上させることができる。
【００５２】
本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法においては、上記のように、式（２）で表されるジオールを含む溶液に対して上記アルカリ金属を含む塩基を逐次添加し、生成させたモノアルコキシドを式（１）で表される化合物と逐次的に反応させることによって、式（３）で表されるモノヒドロキシモノエーテル化合物を高選択率かつ高収率（高単離収率）で得ることができる。このような効果は、式（２）で表されるジオールとアルカリ金属を含む塩基とを反応させて得られるモノアルコキシドを逐次的に生成させ、なおかつ該モノアルコキシドを逐次的に式（１）で表される化合物と反応させて順次消滅させ、反応溶液中に存在するモノアルコキシドの量を上記ジオールに対して低いレベルに維持することによって、モノアルコキシドによる溶液のゲル化、及びジアルコキシドの生成によるジエーテル体の副生が抑制されたことによるものと推測される。
【００５３】
本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法においては、式（２）で表されるジオールを含む溶液に対して、アルカリ金属を含む塩基と式（１）で表される化合物をそれぞれ逐次添加すること、並びに、アルカリ金属を含む塩基の１回の添加量、式（１）で表される化合物の１回の添加量、及び溶液中に存在する式（２）で表されるジオールに対するモノアルコキシドの割合を上述の範囲に制御すること等によって、式（３）で表されるモノヒドロキシモノエーテル化合物の選択率及び収率を特に高くすることができる。
【００５４】
これに対して、従来のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法は、ジオールに対して反応させるアルカリ金属を含む塩基（水酸化ナトリウム）の全使用量を、反応前にジオールとともに反応容器に仕込むか、反応初期にジオールを含む溶液に一括で添加するものである（即ち、逐次添加するものではない）。このため、ジアルコキシドの大量の生成によるジエーテル体の副生、及び、溶液のゲル化が顕著であり、目的物であるモノヒドロキシモノエーテルを生産性良く製造することができなかった。
【００５５】
さらに、本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法においては、主に、式（２）で表されるジオールとアルカリ金属を含む塩基の反応により生成する水を随時取り除く（脱水する）ことが好ましい。溶液（反応溶液）中の水を取り除くことにより、式（１）で表される化合物の加水分解が抑制される（即ち、式（１）で表される化合物におけるＸがヒドロキシル基に置き換わった加水分解物の生成が抑制される）ため、モノヒドロキシモノエーテル化合物をより効率よく（高選択率かつ高収率で）得ることができる。上記脱水の方法としては、周知慣用の方法を利用することができ、特に限定されないが、例えば、反応の溶媒としてトルエンを使用し、該トルエンが還流する反応温度（例えば、１００〜１１５℃）で反応させる方法等を利用できる。また、減圧して反応温度を下げることによって脱水することも可能である。
【００５６】
本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法により、上記式（３）で表されるモノヒドロキシモノエーテル化合物が得られる。
【００５７】
特に、式（１）で表される化合物として、式（４）で表されるオキセタン誘導体を用いた場合には、本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法により、下記式（５）で表されるモノヒドロキシモノエーテル化合物（オキセタン環含有アルコール）が得られる。
【化１２】
（式（５）中、Ｒ2、Ｒ4は前記に同じ）
【００５８】
式（５）で表されるオキセタン環含有アルコールは、カチオン重合部位であるオキセタン環を有するため、樹脂のモノマー又は該モノマーの前駆体として好ましく利用できる。具体的には、例えば、式（５）で表されるオキセタン環含有アルコールのヒドロキシル基を公知乃至慣用の方法により（メタ）アクリル化することによって、カチオン重合部位であるオキセタン環とラジカル重合部位である（メタ）アクリロイル基を有する化合物（異種反応性モノマー）を得ることができる。このような化合物を重合（カチオン重合及び／又はラジカル重合）させることにより得られる硬化物は、優れた耐熱性を発揮することができる。
【００５９】
本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法によると、副生成物であるジエーテル体の生成率を２．５％未満（好ましくは２．０％以下、特に好ましくは１．５％以下）に抑制することができる。これにより、式（３）で表されるモノヒドロキシモノエーテル化合物（特に、式（５）で表されるオキセタン含有アルコール）を選択的に合成することができ、これを高い収率（単離収率）（例えば、７０％以上、好ましくは７５％以上、特に好ましくは８０％以上）で得ることができる。なお、上記生成率は、例えば、ガスクロマトグラフィーにより算出することができる。
【００６０】
なお、本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法により生成した式（１）で表されるモノヒドロキシモノエーテル化合物（特に、式（５）で表されるオキセタン環含有アルコール）は、慣用の分離精製手段、例えば、濃縮、抽出、晶析、再結晶、蒸留、カラムクロマトグラフィーなど、又はこれらの組み合わせにより分離精製することができる。
【実施例】
【００６１】
以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。
【００６２】
製造例［３−エチル−３−メタンスルホニルオキシメチルオキセタンの合成］
攪拌装置、温度計、滴下漏斗を備えた内容量２０００ｍＬのガラス製セパラブルフラスコに、３−エチル−３−オキセタンメタノール１００ｇ（０．８５ｍｏｌ）、トリエチルアミン１１３．２ｇ（１．１２ｍｏｌ）、及びトルエン４００ｇを加えて攪拌した後、氷浴にて液温を５℃まで冷却した。次いで、メタンスルホニルクロライド１０８．５ｇ（０．９５ｍｏｌ）を２時間かけて滴下し、滴下の間は液温を５〜１５℃に保持した。その後、液温１５℃でさらに２時間保持して熟成を行った。熟成後、水を４００ｍＬ加えて反応をクエンチし、分液させて有機層（トルエン層）を分取し、３−エチル−３−メタンスルホニルオキシメチルオキセタンの濃度が２５重量％のトルエン溶液５６５ｇ（３−エチル−３−メタンスルホニルオキシメチルオキセタンが１５０ｇ（０．８ｍｏｌ）含まれる）を得た。なお、上記反応における３−エチル−３−メタンスルホニルオキシメチルオキセタンの収率は、原料の３−エチル−３−オキセタンメタノール基準で９０％であった。
【００６３】
実施例１
攪拌装置、温度計、滴下漏斗、還流冷却器、及び脱水器を備えた内容量３０００ｍＬのガラス製セパラブルフラスコに、ネオペンチルグリコール２３０．３ｇ（２．２１ｍｏｌ）及びトルエン４６６ｇを加え、設定温度９０℃にて加熱しながら攪拌した。
トルエンの温度が８０℃付近でネオペンチルグリコールがトルエンに溶解したことを確認後、加熱を停止し、純度９６％の水酸化ナトリウムを５．１５ｇ（０．１３ｍｏｌ）加えた。再度加熱して、溶液の温度が１１０℃付近に到達してトルエンの還流が開始したところで、３−エチル−３−メタンスルホニルオキシメチルオキセタンのトルエン溶液（濃度：２５％）７９．３ｇ（３−エチル−３−メタンスルホニルオキシメチルオキセタンが０．１０ｍｏｌ）を２０分かけてゆっくり滴下した。次いで、冷却（放冷）して還流を停止させた後、先ほどと同量の水酸化ナトリウム（０．１３ｍｏｌ）を加え、再度１１０℃付近まで加熱してトルエンの還流が開始したところで、３−エチル−３−メタンスルホニルオキシメチルオキセタンのトルエン溶液（濃度：２５％）７９．３ｇ（３−エチル−３−メタンスルホニルオキシメチルオキセタンが０．１０ｍｏｌ）を２０分かけてゆっくり滴下した。この作業を繰り返し合計３時間３０分かけて７回行い、水酸化ナトリウム及び３−エチル−３−メタンスルホニルオキシメチルオキセタンの逐次添加（添加回数：それぞれ７回）を行った。
また、反応系中で生成した水は、脱水器にて随時抜き取った。水酸化ナトリウムの全量（０．９１ｍｏｌ）及び３−エチル−３−メタンスルホニルオキシメチルオキセタンの全量を仕込んだ後、さらに２時間トルエンを還流させて反応溶液を熟成させた。反応溶液の熟成の終了後、加熱を停止し、自然冷却を行った。
熟成の終了時点（反応開始（３−エチル−３−メタンスルホニルオキシメチルオキセタン滴下開始）から５時間３０分後）の加熱状態で、反応溶液のＧＣ分析を行ったところ、転化率は１００％、目的物である３−エチル−３−（３−ヒドロキシ−２，２−ジメチルプロピルオキシメチル）オキセタンの収率（反応収率）は９４％（３−エチル−３−メタンスルホニルオキシメチルオキセタン基準）であった。また、生成した２量体（ビスオキセタンエーテル化合物）は１．１％（対３−エチル−３−（３−ヒドロキシ−２，２−ジメチルプロピルオキシメチル）オキセタンのＧＣ面積％）であった。
反応溶液の液温が８０℃となった時点で、水を３２２ｇ加えて攪拌抽出し、水浴にて液温が室温（３０℃以下）となるまで冷却した後、ｎ−ヘキサンを３９３．８ｇ加え、１５分間攪拌抽出を行った。その後、分液した有機層に水を９９９ｇ加えて１５分間攪拌抽出し、分液した有機層に再度水を同量加えて、攪拌抽出を行った。分液した有機層から、エバポレーターを用いて８０℃、３００ｍｍＨｇの条件でトルエンを留去し、さらに３時間フルバキューム（８０℃）して脱トルエンを行い、３−エチル−３−（３−ヒドロキシ−２，２−ジメチルプロピルオキシメチル）オキセタンを１１８ｇ得た（純度：９７％、２量体濃度：１．１％）。なお、３−エチル−３−（３−ヒドロキシ−２，２−ジメチルプロピルオキシメチル）オキセタンの収率（単離収率）は、３−エチル−３−メタンスルホニルオキシメチルオキセタン基準で８０％であった。表１に結果を示した。
【００６４】
実施例２
トルエンの仕込み量を４６６ｇから１６６５ｇに変更した以外は、実施例１と同様にして、３−エチル−３−（３−ヒドロキシ−２，２−ジメチルプロピルオキシメチル）オキセタンを合成した。なお、熟成終了後の反応溶液のＧＣ分析によると、目的物である３−エチル−３−（３−ヒドロキシ−２，２−ジメチルプロピルオキシメチル）オキセタンの収率（反応収率）は９５％（３−エチル−３−メタンスルホニルオキシメチルオキセタン基準）であった。また、生成した２量体（ビスオキセタンエーテル化合物）は１．０％（対３−エチル−３−（３−ヒドロキシ−２，２−ジメチルプロピルオキシメチル）オキセタンのＧＣ面積％）とごく微量であった。
また、実施例１と同様の単離作業を行った結果、３−エチル−３−（３−ヒドロキシ−２，２−ジメチルプロピルオキシメチル）オキセタンの収率（単離収率）は、３−エチル−３−メタンスルホニルオキシメチルオキセタン基準で８０％であった。表１に結果を示した。
【００６５】
比較例１
攪拌装置、温度計、滴下漏斗、還流冷却器、及び脱水器を備えた内容量３０００ｍＬのガラス製セパラブルフラスコに、ネオペンチルグリコール４６０．３ｇ（４．４２ｍｏｌ）、トルエン８５０ｇ、及び純度９６％の水酸化ナトリウム３６．１０ｇ（０．９０ｍｏｌ）を加え、常圧でトルエンの還流が開始するまで攪拌しながら加熱した。
水酸化ナトリウムが溶解してしばらくすると、反応溶液が液状からゲル状になり、中心部のみが攪拌された状態となった。この状態で、３−エチル−３−メタンスルホニルオキシメチルオキセタンのトルエン溶液（濃度：９０％）１５９ｇ（３−エチル−３−メタンスルホニルオキシメチルオキセタン０．７３ｍｏｌ）の滴下を開始した。
３−エチル−３−メタンスルホニルオキシメチルオキセタンの滴下開始から５時間３０分間、トルエン還流状態で加熱して反応させた後、反応溶液にトルエンとほぼ同量の水８５０ｇを加えてゲルを溶解し、分離した２層（トルエン層、水層）の分析を行った結果、転化率９８％、目的物である３−エチル−３−（３−ヒドロキシ−２，２−ジメチルプロピルオキシメチル）オキセタンの収率（反応収率）は、３−エチル−３−メタンスルホニルオキシメチルオキセタン基準で７０．８％であった。表１に結果を示した。
【００６６】
比較例２
攪拌装置、温度計、滴下漏斗、及び還流冷却器を備えた内容積３０００ｍＬのガラス製フラスコに、ネオペンチルグリコール７２０．３ｇ（６．９２ｍｏｌ）、及びトルエン２８０ｇを加え、攪拌しながら６０℃まで加温した後、テトラブチルアンモニウムブロマイド３８．７ｇ（０．２１ｍｏｌ）、及び９６％水酸化ナトリウム１８４ｇ（４．４ｍｏｌ）を加え、攪拌しながら７５℃まで加温した。
次いで、純度９５％の３−エチル−３−メタンスルホニルオキシメチルオキセタン７７７ｇ（３．８ｍｏｌ）を、液温を７５〜８５℃に保ちながらゆるやかに滴下した。
しかしながら、ネオペンチルグリコールが固体のまま完全に溶解せず、さらに、一部溶解した反応溶液もゲル化したため、生成物の収率等のデータを取得できなかった。
【００６７】
比較例３
攪拌装置、温度計、滴下漏斗、還流冷却器、及び脱水器を備えた内容量３０００ｍＬのセパラブルフラスコに、ネオペンチルグリコールを１２９ｇ（１．２４ｍｏｌ）、トルエン４７２ｇ、及び純度９６％の水酸化ナトリウム２０．６３ｇ（０．５２ｍｏｌ）を加えて常圧でトルエンの還流が開始するまで加熱した。トルエンの還流開始後、３−エチル−３−メタンスルホニルオキシメチルオキセタンのトルエン溶液（濃度：９０％）８８．９ｇ（０．４１ｍｏｌ）の滴下を開始した。
３−エチル−３−メタンスルホニルオキシメチルオキセタン滴下開始から５時間３０分間、トルエン還流状態で加熱して反応させた後、比較例１と同様にして反応溶液の分析を行った。表１に結果を示した。
比較例３では反応溶液のゲル化は抑制されたが、表１に示すように、反応収率が６８．６％と低く、３−エチル−３−メタンスルホニルオキシメチルオキセタンの加水分解物である３−エチル−３−オキセタンメタノールの収率が２２．３％と高くなった。
【００６８】
比較例４
表１に示すように、原料の仕込み量を変えたこと以外は、比較例３と同様に反応を行った。表１に結果を示した。
【００６９】
比較例５
攪拌装置、温度計、滴下漏斗、及び還流冷却器を備えた内容積２０００ｍＬのガラス製フラスコに、１，４−ブタンジオール（ＢＤ）７２１ｇ（８．０ｍｏｌ）、及びトルエン３５０ｍＬを加え、攪拌しながら６０℃まで加温した後、テトラブチルアンモニウムブロマイド３８．７ｇ（０．２１ｍｏｌ）、及び９６％水酸化ナトリウム１８４ｇ（４．４ｍｏｌ）を加え、攪拌しながら７５℃まで加温した。次いで、純度９５％の３−エチル−３−メタンスルホニルオキシメチルオキセタン７７７ｇ（３．８ｍｏｌ）を、液温を７５〜８５℃に保ちながらゆるやかに滴下し、同温度で２時間反応させた。反応終了後、反応溶液に水８００ｍＬを加え、有機層を分液した。得られた有機層にトルエン８００ｍＬ及び水４００ｍＬを加え、攪拌しながら酢酸を加えてｐＨを９．５に調整した。分液後、水層をトルエン４００ｍＬで２回抽出した。抽出液（トルエン層）と有機層を混合し、減圧下で濃縮した。得られた濃縮物を減圧下で蒸留（１５７〜１５９℃、１．９ｋＰａ）し、無色液体として、純度９６％（ガスクロマトグラフィーによる分析値）の３−エチル−（４−ヒドロキシブチルオキシメチル）オキセタンを４９７ｇ得た（３−エチル−３−メタンスルホニルオキシメチルオキセタン基準の単離収率：６７％）。表１に結果を示した。
【００７０】
【表１】
【００７１】
表１に示すように、本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法によると、目的物であるモノヒドロキシモノエーテル化合物を高選択率かつ高収率で得ることができた（実施例）。
一方、本発明の規定を満たさない製造方法による場合（比較例）には、副生成物であるジエーテル体の生成が多かったり、反応中に溶液のゲル化が生じる等により、目的物であるモノヒドロキシモノエーテル化合物を高い収率で得ることはできなかった。
【符号の説明】
【００７２】
ＮＰＧ ： ネオペンチルグリコール
ＢＤ ： １，４−ブタンジオール
ＮａＯＨ ： 水酸化ナトリウム
Ｍｓ体 ： ３−エチル−３−メタンスルホニルオキシメチルオキセタン
ＮＰＯＨ体 ： ３−エチル−３−（３−ヒドロキシ−２，２−ジメチルプロピルオキシメチル）オキセタン（但し、比較例５の場合は、３−エチル−３−（４−ヒドロキシブチルオキシメチル）オキセタンである）
ＭｅＯＨ体 ： ３−エチル−３−オキセタンメタノール
２量体（ジエーテル体） ： ビスオキセタンエーテル化合物
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ジオールの一方のヒドロキシル基をエーテル化することによって得られるモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
２つのヒドロキシル基（水酸基）を有するジオールの、一方のヒドロキシル基のみをエーテル化して得られるモノヒドロキシモノエーテル化合物は、各種化合物や材料（例えば、樹脂材料）及びこれらの原料（中間体）等として広く利用されている。具体的には、例えば、光カチオン硬化型樹脂のモノマー成分として、アルキレングリコールの一方のヒドロキシル基のみをオキセタン環を有するアルキル基によりエーテル化した構造を有する化合物（オキセタン環含有アルコール）が知られている（特許文献１、２参照）。
【０００３】
上記モノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法としては、例えば、アルキレングリコール、水酸化ナトリウム、及びテトラブチルアンモニウムブロマイドのトルエン溶液を調製し、次いで、該溶液に対して、エーテル化剤としての３−エチル−３−メタンスルホニルオキシメチルオキセタンを滴下することによって、オキセタン環含有アルコールを合成する方法が知られている（特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００１−１６３９６１号公報
【特許文献２】国際公開第２００７／１４５３０９号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記製造方法においては、副生成物として、ジオール（アルキレングリコール）の２つのヒドロキシル基がともにエーテル化されたビスオキセタンエーテル化合物が比較的多く生成し、目的物であるモノヒドロキシモノエーテル化合物（オキセタン環含有アルコール）の選択性及び単離収率を向上させることが難しいという問題があった。
【０００６】
また、上記製造方法においては、上記原料を含む溶液がゲル化して、反応中に攪拌が困難となる問題が生じることが判明した。このため、溶液中で効率的に反応を進行させることができず、モノヒドロキシモノエーテル化合物（オキセタン環含有アルコール）の選択性及び単離収率が低下する問題が生じていた。一方で、このようなゲル化の問題に対しては、大量の溶媒の使用により対応することが可能であったが、このような解決策はコスト面で好ましいものではなかった。
【０００７】
さらに、上記製造方法においては、ジオールと反応させるエーテル化剤（３−エチル−３−メタンスルホニルオキシメチルオキセタン）が、溶液中に存在する水によって加水分解することによっても、モノヒドロキシモノエーテル化合物の選択性及び単離収率が低下する問題が生じていた。
【０００８】
従って、本発明の目的は、ジオールの一方のヒドロキシル基のみをエーテル化したモノヒドロキシモノエーテル化合物を高選択率かつ高収率で（即ち、高い生産性で）製造する方法（モノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法）を提供することにある。
本発明の他の目的は、カチオン重合部位であるオキセタン環とラジカル重合部位である（メタ）アクリロイル基をともに有する異種反応性モノマーの前駆体として特に有用な、オキセタン環含有アルコールを高選択率かつ高収率で（即ち、高い生産性で）製造する方法（オキセタン環含有アルコールの製造方法）を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、脱離性基を有する特定構造の化合物と特定構造のジオールとをアルカリ金属を含む塩基の存在下で反応させる際に、上記ジオールを含む溶液に対して上記アルカリ金属を含む塩基を逐次添加し、生成させたモノアルコキシドを上記脱離性基を有する化合物と逐次的に反応させることによって、目的物としてのモノヒドロキシモノエーテル化合物を高選択率かつ高収率で製造できることを見出し、本発明を完成させた。
【００１０】
すなわち、本発明は、下記式（１）
【化１】
（式中、Ｒ1は置換基を有していてもよい炭化水素基を示し、Ｘは脱離性基を示す）で表される化合物と、下記式（２）
【化２】
（式中、Ｒ2は置換基を有していてもよい２価の炭化水素基、又は前記２価の炭化水素基の２以上がエーテル結合を介して連結された連結基を示す）で表されるジオールとをアルカリ金属を含む塩基の存在下で反応させることにより、
下記式（３）
【化３】
（式中、Ｒ1、Ｒ2は前記に同じ）で表されるモノヒドロキシモノエーテル化合物を生成させる方法であって、前記式（２）で表されるジオールを含む溶液に対し、前記アルカリ金属を含む塩基を逐次添加し、生成させたモノアルコキシドを前記式（１）で表される化合物と逐次的に反応させることを特徴とするモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法を提供する。
【００１１】
さらに、式（１）におけるＲ1が、オキセタニル基を有する炭化水素基である前記のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法を提供する。
【００１２】
さらに、式（１）で表される化合物が、下記式（４）
【化４】
（式中、Ｒ4は置換基を有していてもよい炭化水素基を示し、Ｘは前記に同じ）で表されるオキセタン誘導体であり、下記式（５）
【化５】
（式中、Ｒ2、Ｒ4は、前記に同じ）で表されるモノヒドロキシモノエーテル化合物を生成させる前記のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法を提供する。
【００１３】
さらに、式（１）における脱離性基Ｘが、メタンスルホニルオキシ基である前記のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法を提供する。
【００１４】
さらに、前記アルカリ金属を含む塩基が、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムである前記のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法を提供する。
【発明の効果】
【００１５】
本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法は上記構成を有するため、ジオールの一方のヒドロキシル基のみをエーテル化したモノヒドロキシモノエーテル化合物を高選択率かつ高収率で（即ち、高い生産性で）製造できる。さらに、特定構造の原料を使用することにより、特に、異種反応性モノマーの前駆体として有用なオキセタン環含有アルコールを、高選択率かつ高収率で（即ち、高い生産性で）製造できる。また、反応溶液がゲル化しにくいため、使用する溶媒の量を低減することができ、コスト面で有利である。このため、本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法は生産性に優れ、工業的に適した方法である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法は、下記式（１）
【化６】
（式中、Ｒ1は置換基を有していてもよい炭化水素基を示し、Ｘは脱離性基を示す）で表される化合物と、下記式（２）
【化７】
（式中、Ｒ2は置換基を有していてもよい２価の炭化水素基、又は前記２価の炭化水素基の２以上がエーテル結合を介して連結された連結基を示す）で表されるジオールとをアルカリ金属を含む塩基の存在下、溶液中で反応させることにより、下記式（３）
【化８】
（式中、Ｒ1、Ｒ2は前記に同じ）で表されるモノヒドロキシモノエーテル化合物を生成させる方法である。なお、上記「アルカリ金属を含む塩基の存在下」とは、反応のいずれかの時点でアルカリ金属を含む塩基が存在することを意味し、上記反応中、アルカリ金属を含む塩基が常に存在している必要はない。
【００１７】
［式（１）で表される化合物］
式（１）で表される化合物は、本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法における原料（反応物）として使用される。
【００１８】
式（１）で表される化合物におけるＲ1は、置換基を有していてもよい炭化水素基である。上記Ｒ1における炭化水素基としては、特に限定されないが、例えば、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基、これらが２以上結合した炭化水素基などが挙げられる。上記脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基等の炭素数１〜２０のアルキル基（好ましくは、炭素数１〜１０のアルキル基）；ビニル基、１−プロペニル基等の炭素数２〜２０のアルケニル基（好ましくは、炭素数２〜１０のアルケニル基）などが挙げられる。上記脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基；シクロヘキセニル基等のシクロアルケニル基；アダマンチル基、ノルボルニル基等の橋かけ環式基などが挙げられる。上記芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基などが挙げられる。また、これらの炭化水素基が２以上結合した基としては、例えば、ベンジル基、２−フェニルエチル基等のアラルキル基；メチルフェニル基等のアルキル基置換フェニル基などが挙げられる。
【００１９】
上記Ｒ1における置換基（上記炭化水素基が有していてもよい置換基）としては、特に限定されないが、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子；メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基等の炭素数１〜４のアルコキシ基；メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等の炭素数２〜５のアルコキシカルボニル基；アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等の炭素数１〜１０のアシル基；シアノ基；ニトロ基；エポキシ基（オキシラニル基）、オキセタニル基、オキソラニル基などの複素環基などが挙げられる。なお、上記複素環基の環構造は、上記炭化水素基を構成する１又は２以上の炭素原子を含んで（共有して）形成されていてもよい。中でも、上記Ｒ1としては、カチオン重合性を少なくとも有するモノマー（又は該モノマーの前駆体）として使用できる点で、エポキシ基を有する炭化水素基、オキセタニル基を有する炭化水素基が好ましく、より好ましくはオキセタニル基を有する炭化水素基である。
【００２０】
式（１）で表される化合物におけるＸは、脱離性基である。上記脱離性基Ｘとしては、特に限定されないが、例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子；メタンスルホニルオキシ基、トルエンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基等のスルホニルオキシ基；アセチルオキシ基等のアシルオキシ基などの脱離性の高い基が挙げられる。上記の中でも、反応収率及び反応時間の観点で、塩素原子、メタンスルホニルオキシ基が好ましく、より好ましくはメタンスルホニルオキシ基である。
【００２１】
特に、式（１）で表される化合物としては、少なくともカチオン重合性を有するモノマー（又は該モノマーの前駆体）として使用できる点で、下記式（４）で表される化合物（オキセタン誘導体）が好ましい。
【化９】
（式（４）中、Ｒ4は置換基を有していてもよい炭化水素基を示し、Ｘは前記に同じ）
【００２２】
式（４）で表される化合物におけるＲ4としては、特に限定されないが、例えば、Ｒ1で例示したものと同様の炭化水素基（置換基を有していてもよい炭化水素基）を例示することができる。中でも、原料入手の観点で、メチル基、エチル基、ヒドロキシメチル基が好ましい。
【００２３】
上記式（４）で表される化合物の代表的な例としては、例えば、以下の化合物を挙げることができる。
【化１０】
【００２４】
式（４）で表される化合物は、周知慣用の方法で製造することができ、例えば、トリエチルアミン及びトルエンの存在下、３−アルキル−３−オキセタンメタノールとハロゲン化メタンスルホニルとを反応させたり、３−アルキル−３−オキセタンメタノールをハロゲン化することにより合成することができる。
【００２５】
［式（２）で表されるジオール］
式（２）で表されるジオールは、本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法における原料（反応物）として使用される。
【００２６】
式（２）で表されるジオールにおけるＲ2は、１つ以上（２つ以上でも良い）置換基を有していてもよい２価の炭化水素基、又は上記２価の炭化水素基の２以上がエーテル結合を介して連結された連結基である。
【００２７】
上記Ｒ2における２価の炭化水素基としては、特に限定されないが、例えば、２価の脂肪族炭化水素基、２価の脂環式炭化水素基、２価の芳香族炭化水素基、これらが２以上結合した２価の炭化水素基などが挙げられる。上記２価の脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチレン基、メチルメチレン基、ジメチルメチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、ブチレン基、ペンチレン基等の炭素数が１〜１８の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基などが挙げられる。上記２価の脂環式炭化水素基としては、例えば、１，２−シクロペンチレン、１，３−シクロペンチレン、シクロペンチリデン、１，２−シクロヘキシレン、１，３−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキシレン、シクロヘキシリデン基等の２価のシクロアルキレン基（シクロアルキリデン基を含む）などが挙げられる。上記２価の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニレン基などが挙げられる。
【００２８】
上記Ｒ2における置換基（上記２価の炭化水素基が有していてもよい置換基）としては、特に限定されないが、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子；メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基等の炭素数１〜４のアルコキシ基；メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等の炭素数２〜５のアルコキシカルボニル基；アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等の炭素数１〜１０のアシル基；シアノ基；ニトロ基；エポキシ基（オキシラニル基）、オキセタニル基、オキソラニル基などの複素環基などが挙げられる。
【００２９】
上記Ｒ2における連結基（上記２価の炭化水素基の２以上がエーテル結合を介して連結された連結基）としては、特に限定されないが、上記２価の炭化水素基の２つが１つのエーテル結合を介して連結された連結基（例えば、エチレンオキシエチレン基［−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2−］等のアルキレンオキシアルキレン基、フェニレンオキシフェニレン基など）；上記２価の炭化水素基の３以上が２以上のエーテル結合を介して連結された連結基（例えば、アルキレンポリ（オキシアルキレン）基など）が挙げられる。なお、上記連結基における２価の炭化水素基は、上記置換基を有していてもよい。
【００３０】
上記式（２）で表されるジオールの代表的な例としては、入手容易の観点から、以下の化合物（２ａ）（＝ネオペンチルグリコール）、化合物（２ｂ）（＝１，３−プロパンジオール）、化合物（２ｃ）（＝１，４−ブタンジオール）等を挙げることができる。
【化１１】
【００３１】
［アルカリ金属を含む塩基］
アルカリ金属を含む塩基は、本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法における原料（反応物）として使用される。
【００３２】
上記アルカリ金属を含む塩基（アルカリ金属塩基）は、アルカリ金属を含み、かつ塩基性を示す物質（化合物）であればよく、特に限定されないが、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属の水酸化物；水素化ナトリウム、水素化カリウムなどのアルカリ金属の水素化物；炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウムなどのアルカリ金属の炭酸塩；メチルリチウム、エチルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、ｓ−ブチルリチウム、ｔ−ブチルリチウム等のアルキルリチウム化合物などの有機リチウム化合物等が挙げられる。アルカリ金属を含む塩基は単独で、又は２種以上を組み合わせて使用することができる。上記の中でも、アルカリ金属を含む塩基としては、溶媒への溶解性に優れる点で、アルカリ金属の水酸化物が好ましく、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが特に好ましい。
【００３３】
本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法においては、上述の式（１）で表される化合物、式（２）で表される化合物、アルカリ金属を含む塩基以外にも、溶解性向上、反応収率向上を目的として、各種添加剤を用いてもよい。上記添加剤としては、例えば、相間移動触媒、界面活性剤等が挙げられる。上記添加剤は単独で、又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００３４】
［本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法］
本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法は、式（１）で表される化合物と、式（２）で表されるジオールとをアルカリ金属を含む塩基の存在下、溶液中で反応させることにより、式（３）で表されるモノヒドロキシモノエーテル化合物を生成させる方法である。上記反応は、溶液中で行われるものであれば特に限定されず、液相一相系（液相が一相のみの系）であってもよいし、液相が二相以上存在する系であってもよい。なお、上記反応における溶液中には、固体が含まれていてもよい。
【００３５】
本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法においては、特に限定されないが、上記反応を溶液中で実施するために、通常、溶媒を使用することが好ましい。上記溶媒としては、式（１）で表される化合物と、式（２）で表されるジオールの両方を溶解することができるものであればよく、具体的には、例えば、ヘキサン、オクタン等の脂肪族炭化水素；シクロヘキサン、シクロオクタン等の脂環式炭化水素；ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素；テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、イソプロピルエーテル（ＩＰＥ）等のエーテル；ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）等の含硫黄系溶媒；ジメチルホルムアミド等の含窒素系溶媒などが挙げられる。中でも、水を共沸して留去しやすい点で、トルエン、ベンゼン等の芳香族炭化水素が好ましく、又は、水溶性が低く精製時の分液性を向上させやすい点で、イソプロピルエーテル等のエーテルが好ましい。
【００３６】
式（１）で表される化合物と式（２）で表されるジオールとのアルカリ金属を含む塩基の存在下での反応は、例えば、これらの化合物を上記溶媒中で共存させることにより行うことができる。より具体的には、例えば、式（２）で表されるジオールを上記溶媒に溶解させた溶液中に、アルカリ金属を含む塩基、及び式（１）で表される化合物をそれぞれ滴下することにより上記反応を行うことができる。なお、式（２）で表されるジオールは、特に限定されないが、アルカリ金属を含む塩基、式（１）で表される化合物を滴下する前の溶液に対してあらかじめ全使用量を仕込んでおいてもよいし、全使用量の一部を上記溶液に仕込み、残りを適切な時期に適宜分割して溶液中に追加してもよい。
【００３７】
式（２）で表されるジオールの使用量（全使用量）は、特に限定されないが、例えば、上記式（１）で表される化合物に対して、１．８〜１０モル倍が好ましく、より好ましくは２〜６モル倍、さらに好ましくは２．５〜４モル倍である。上記使用量が１．８モル倍未満であると、ジアルコキシドの生成量が増加することによって、ジエーテル体が多く生成する傾向がある。一方、上記使用量が１０モル倍を超えると、精製時に原料のジオール残存量が増加する。また、ジオールの残存量の増加により、除去工程が増えるためにモノヒドロキシモノエーテル化合物の収率が低下する傾向がある。
【００３８】
上記アルカリ金属を含む塩基の使用量（全使用量）は、該アルカリ金属を含む塩基の塩基強度によっても異なり、特に限定されないが、例えば、上記式（１）で表される化合物に対して、１．０〜１．８モル倍が好ましく、より好ましくは１．０〜１．４モル倍、さらに好ましくは１．１〜１．３モル倍である。上記使用量が１．０モル倍未満であると、未反応原料が多くなる傾向がある。一方、上記使用量が１．８モル倍を超えると、副生成物である式（２）で表されるジオールの２つのヒドロキシル基がともにエーテル化された化合物（ジエーテル体）が多く生成する傾向がある。また、反応溶液中の残存アルコキシド量も増加するので、ゲル化を起こす可能性が高くなる。
【００３９】
上記溶媒の使用量（全使用量）は、溶媒の粘度や反応物の溶解度等によっても異なり、特に限定されないが、例えば、上記（１）で表される化合物（１００重量部）に対して、４００〜２０００重量部が好ましく、より好ましくは５００〜１８００重量部、さらに好ましくは６００〜１５００重量部である。溶媒の使用量が４００重量部未満であると、反応溶液がゲル化しやすく、攪拌が困難となってモノヒドロキシモノエーテル化合物の生産性（反応収率）が低下する場合がある。一方、溶媒の使用量が２０００重量部を超えると、コスト面で不利となったり、生産性が低下する場合がある。
【００４０】
本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法における反応温度は、上記式（１）で表される化合物の滴下速度等により適宜調整することができ、特に限定されないが、例えば、３０〜１５０℃が好ましく、より好ましくは４０〜１２０℃である。反応温度が３０℃未満であると、未反応原料が多くなる傾向がある。一方、反応温度が１５０℃を超えると、副生成物である式（２）で表されるジオールの２つのヒドロキシル基がともにエーテル化された化合物（ジエーテル体）が多く生成する傾向がある。
【００４１】
本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法は、上記反応（式（１）で表される化合物と式（２）で表されるジオールのアルカリ金属を含む塩基の存在下での反応）に際し、上記ジオールを少なくとも含む溶液に対し、上記アルカリ金属を含む塩基を逐次添加し、生成させたモノアルコキシドを上記式（１）で表される化合物と逐次的に（順次）反応させることを特徴としている。なお、本明細書において、「逐次添加」とは、連続的に添加、又は、間欠的に添加することを意味し、一括添加ではないという意味である。
【００４２】
上記モノアルコキシドとは、式（２）で表されるジオールの一方のヒドロキシル基のみがアルカリ金属を含む塩基と反応した金属アルコキシド（モノ金属アルコキシド）を意味する。また、本明細書においては、式（２）で表されるジオールの両方のヒドロキシル基がともにアルカリ金属を含む塩基と反応した金属アルコキシドを、「ジアルコキシド」と称する場合がある。
【００４３】
本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法においては、式（２）で表されるジオールを含む溶液に対し、上記アルカリ金属を含む塩基を逐次添加することによって、上記モノアルコキシドを逐次的に生成させ、該モノアルコキシドを逐次的に（順次）上記式（１）で表される化合物と反応させる。即ち、本発明の要点は、上記ジオールにアルカリ金属を含む塩基を反応させてモノアルコキシドを生成させるたびに、該モノアルコキシドを式（１）で表される化合物と順次反応させ、これを連続的又は間欠的に繰り返すことにある。
【００４４】
式（２）で表されるジオールを含む溶液に対して上記アルカリ金属を含む塩基を逐次添加するに際しては、アルカリ金属を含む塩基の最初の添加を開始してから、アルカリ金属を含む塩基の全使用量の添加が完了するまでの時間（全使用量の添加時間）を、３０分以上（例えば、６０〜３６０分）とすることが好ましく、より好ましくは１２０〜２４０分である。上記全使用量の添加時間が３０分未満であると、アルカリ金属を含む塩基を逐次添加することによる効果が得られにくい。
【００４５】
モノアルコキシドを逐次的に（順次）式（１）で表される化合物と反応させる方法としては、特に限定されないが、モノアルコキシドを生成させた溶液に対し、式（１）で表される化合物を逐次添加する方法が挙げられる。即ち、本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法は、式（２）で表されるジオールを含む溶液に対し、アルカリ金属を含む塩基と、式（１）で表される化合物をそれぞれ逐次添加する方法であることが好ましい。なお、アルカリ金属を含む塩基と式（１）で表される化合物のそれぞれの添加回数の上限は、特に限定されないが、式（１）で表される化合物、式（２）で表されるジオール、及びアルカリ金属を含む塩基のそれぞれの使用量（全使用量）が上述の範囲内となるように適宜調整することが好ましい。
【００４６】
式（２）で表されるジオールを少なくとも含む溶液に対する、上記アルカリ金属を含む塩基の１回の添加量は、特に限定されないが、仕込みのジオール（溶液中に仕込んだ式（２）で表されるジオールの量）に対して、０．００１〜０．２モル倍が好ましく、より好ましくは０．００２〜０．１９モル倍、さらに好ましくは０．００３〜０．１８モル倍である。上記添加量（１回の添加量）が仕込みのジオールに対して０．２モル倍を超えると、ジエーテル体が生成しやすく、モノヒドロキシモノエーテル化合物の選択率や収率が低下する場合がある。なお、上記アルカリ金属を含む塩基を添加する際には、該塩基を適当な溶媒に溶解又は分散させた溶液又は分散液を使用してもよい。
【００４７】
また、式（２）で表されるジオールを少なくとも含む溶液に対する、上記アルカリ金属を含む塩基の１回の添加量は、特に限定されないが、溶液中に存在する上記ジオールの量に対して、０．００１〜０．２モル倍が好ましく、より好ましくは０．００２〜０．１９モル倍、さらに好ましくは０．００３〜０．１８モル倍である。上記添加量（１回の添加量）が溶液に存在する上記ジオールに対して０．２モル倍を超えると、ジエーテル体が生成しやすく、モノヒドロキシモノエーテル化合物の選択率や収率が低下する場合がある。
【００４８】
式（２）で表されるジオールを少なくとも含む溶液に対する、式（１）で表される化合物の１回の添加量は、特に限定されないが、仕込みのジオール（溶液中に仕込んだ式（２）で表されるジオールの量）に対して、０．００１〜０．２モル倍が好ましく、より好ましくは０．００２〜０．１９モル倍、さらに好ましくは０．００３〜０．１８モル倍である。また、式（２）で表されるジオールを少なくとも含む溶液に対する、式（１）で表される化合物の１回の添加量は、上記アルカリ金属を含む塩基の１回の添加量に対して、０．５５〜１．０モル倍が好ましく、より好ましくは０．６６〜１．０モル倍、さらに好ましくは０．７７〜１．０モル倍である。上記添加量（式（１）で表される化合物の１回の添加量）が仕込みのジオールに対して０．２モル倍（又は、アルカリ金属を含む塩基の１回の添加量に対して１．０モル倍）を超えると、式（１）で表される化合物の加水分解物が生成しやすくなる場合がある。一方、上記添加量（式（１）で表される化合物の１回の添加量）がアルカリ金属を含む塩基の１回の添加量に対して０．５５モル倍未満であると、ジエーテル体が生成しやすく、モノヒドロキシモノエーテル化合物の選択率や収率が低下する場合がある。また、反応溶液のゲル化が起こりやすくなる場合がある。なお、上記式（１）で表される化合物を添加する際には、該化合物を適当な溶媒に溶解又は分散させた溶液又は分散液を使用してもよい。
【００４９】
本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法においては、アルカリ金属を含む塩基を添加する際に、式（１）で表される化合物と式（２）で表されるジオールとを反応させる溶液中の、ジオールに対するモノアルコキシドの割合（「モノアルコキシド（ｍｏｌ）／ジオール（ｍｏｌ）」）が、アルカリ金属を含む塩基の全添加回数の少なくとも半数において、０．２モル倍以下となるように制御することが好ましく、より好ましくは０．１９モル倍以下、さらに好ましくは０．１８モル倍以下である。上記ジオールに対するモノアルコキシドの割合が０．２モル倍を超えると、ジアルコキシドの生成が促進されたり、溶液がゲル化することによって、式（３）で表されるモノヒドロキシモノエーテル化合物の選択率及び収率が低下する場合がある。
【００５０】
上記ジオールに対するモノアルコキシドの割合は、式（１）で表される化合物と式（２）で表されるジオールとを反応させる溶液中に存在するモノアルコキシドの量（存在量）を、上記溶液中に存在する上記ジオールの量（存在量）で除することによって算出される。上記ジオール及びモノアルコキシドの存在量としては、上記ジオールとアルカリ金属を含む塩基とが定量的に反応してモノアルコキシドのみが生成するとの仮定の下、下記式により算出される理論値を採用するものとする。
・［モノアルコキシドの存在量（ｍｏｌ）］＝［溶液に添加されたアルカリ金属を含む塩基の総量（ｍｏｌ）］−［溶液に添加された式（１）で表される化合物の総量（ｍｏｌ）］
・［式（２）で表されるジオールの存在量（ｍｏｌ）］＝［溶液に仕込んだジオールの総量（ｍｏｌ）］−［溶液に添加されたアルカリ金属を含む塩基の総量（ｍｏｌ）］
【００５１】
中でも、本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法においては、式（２）で表されるジオールを含む溶液に対して、アルカリ金属を含む塩基を上記添加量（１回の添加量）の範囲で添加し、次いで、式（１）で表される化合物を上記添加量（１回の添加量）の範囲で添加し、その後さらに、これらの添加を少なくとも１回以上繰り返すことが好ましい。即ち、アルカリ金属を含む塩基の添加と式（１）で表される化合物の添加は、交互にそれぞれ２回以上繰り返すことが好ましい。これにより、溶液中に存在する上記モノアルコキシドの割合を上記範囲に制御しやすく、式（３）で表されるモノヒドロキシモノエーテル化合物の選択率及び収率を向上させることができる。
【００５２】
本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法においては、上記のように、式（２）で表されるジオールを含む溶液に対して上記アルカリ金属を含む塩基を逐次添加し、生成させたモノアルコキシドを式（１）で表される化合物と逐次的に反応させることによって、式（３）で表されるモノヒドロキシモノエーテル化合物を高選択率かつ高収率（高単離収率）で得ることができる。このような効果は、式（２）で表されるジオールとアルカリ金属を含む塩基とを反応させて得られるモノアルコキシドを逐次的に生成させ、なおかつ該モノアルコキシドを逐次的に式（１）で表される化合物と反応させて順次消滅させ、反応溶液中に存在するモノアルコキシドの量を上記ジオールに対して低いレベルに維持することによって、モノアルコキシドによる溶液のゲル化、及びジアルコキシドの生成によるジエーテル体の副生が抑制されたことによるものと推測される。
【００５３】
本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法においては、式（２）で表されるジオールを含む溶液に対して、アルカリ金属を含む塩基と式（１）で表される化合物をそれぞれ逐次添加すること、並びに、アルカリ金属を含む塩基の１回の添加量、式（１）で表される化合物の１回の添加量、及び溶液中に存在する式（２）で表されるジオールに対するモノアルコキシドの割合を上述の範囲に制御すること等によって、式（３）で表されるモノヒドロキシモノエーテル化合物の選択率及び収率を特に高くすることができる。
【００５４】
これに対して、従来のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法は、ジオールに対して反応させるアルカリ金属を含む塩基（水酸化ナトリウム）の全使用量を、反応前にジオールとともに反応容器に仕込むか、反応初期にジオールを含む溶液に一括で添加するものである（即ち、逐次添加するものではない）。このため、ジアルコキシドの大量の生成によるジエーテル体の副生、及び、溶液のゲル化が顕著であり、目的物であるモノヒドロキシモノエーテルを生産性良く製造することができなかった。
【００５５】
さらに、本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法においては、主に、式（２）で表されるジオールとアルカリ金属を含む塩基の反応により生成する水を随時取り除く（脱水する）ことが好ましい。溶液（反応溶液）中の水を取り除くことにより、式（１）で表される化合物の加水分解が抑制される（即ち、式（１）で表される化合物におけるＸがヒドロキシル基に置き換わった加水分解物の生成が抑制される）ため、モノヒドロキシモノエーテル化合物をより効率よく（高選択率かつ高収率で）得ることができる。上記脱水の方法としては、周知慣用の方法を利用することができ、特に限定されないが、例えば、反応の溶媒としてトルエンを使用し、該トルエンが還流する反応温度（例えば、１００〜１１５℃）で反応させる方法等を利用できる。また、減圧して反応温度を下げることによって脱水することも可能である。
【００５６】
本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法により、上記式（３）で表されるモノヒドロキシモノエーテル化合物が得られる。
【００５７】
特に、式（１）で表される化合物として、式（４）で表されるオキセタン誘導体を用いた場合には、本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法により、下記式（５）で表されるモノヒドロキシモノエーテル化合物（オキセタン環含有アルコール）が得られる。
【化１２】
（式（５）中、Ｒ2、Ｒ4は前記に同じ）
【００５８】
式（５）で表されるオキセタン環含有アルコールは、カチオン重合部位であるオキセタン環を有するため、樹脂のモノマー又は該モノマーの前駆体として好ましく利用できる。具体的には、例えば、式（５）で表されるオキセタン環含有アルコールのヒドロキシル基を公知乃至慣用の方法により（メタ）アクリル化することによって、カチオン重合部位であるオキセタン環とラジカル重合部位である（メタ）アクリロイル基を有する化合物（異種反応性モノマー）を得ることができる。このような化合物を重合（カチオン重合及び／又はラジカル重合）させることにより得られる硬化物は、優れた耐熱性を発揮することができる。
【００５９】
本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法によると、副生成物であるジエーテル体の生成率を２．５％未満（好ましくは２．０％以下、特に好ましくは１．５％以下）に抑制することができる。これにより、式（３）で表されるモノヒドロキシモノエーテル化合物（特に、式（５）で表されるオキセタン含有アルコール）を選択的に合成することができ、これを高い収率（単離収率）（例えば、７０％以上、好ましくは７５％以上、特に好ましくは８０％以上）で得ることができる。なお、上記生成率は、例えば、ガスクロマトグラフィーにより算出することができる。
【００６０】
なお、本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法により生成した式（１）で表されるモノヒドロキシモノエーテル化合物（特に、式（５）で表されるオキセタン環含有アルコール）は、慣用の分離精製手段、例えば、濃縮、抽出、晶析、再結晶、蒸留、カラムクロマトグラフィーなど、又はこれらの組み合わせにより分離精製することができる。
【実施例】
【００６１】
以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。
【００６２】
製造例［３−エチル−３−メタンスルホニルオキシメチルオキセタンの合成］
攪拌装置、温度計、滴下漏斗を備えた内容量２０００ｍＬのガラス製セパラブルフラスコに、３−エチル−３−オキセタンメタノール１００ｇ（０．８５ｍｏｌ）、トリエチルアミン１１３．２ｇ（１．１２ｍｏｌ）、及びトルエン４００ｇを加えて攪拌した後、氷浴にて液温を５℃まで冷却した。次いで、メタンスルホニルクロライド１０８．５ｇ（０．９５ｍｏｌ）を２時間かけて滴下し、滴下の間は液温を５〜１５℃に保持した。その後、液温１５℃でさらに２時間保持して熟成を行った。熟成後、水を４００ｍＬ加えて反応をクエンチし、分液させて有機層（トルエン層）を分取し、３−エチル−３−メタンスルホニルオキシメチルオキセタンの濃度が２５重量％のトルエン溶液５６５ｇ（３−エチル−３−メタンスルホニルオキシメチルオキセタンが１５０ｇ（０．８ｍｏｌ）含まれる）を得た。なお、上記反応における３−エチル−３−メタンスルホニルオキシメチルオキセタンの収率は、原料の３−エチル−３−オキセタンメタノール基準で９０％であった。
【００６３】
実施例１
攪拌装置、温度計、滴下漏斗、還流冷却器、及び脱水器を備えた内容量３０００ｍＬのガラス製セパラブルフラスコに、ネオペンチルグリコール２３０．３ｇ（２．２１ｍｏｌ）及びトルエン４６６ｇを加え、設定温度９０℃にて加熱しながら攪拌した。
トルエンの温度が８０℃付近でネオペンチルグリコールがトルエンに溶解したことを確認後、加熱を停止し、純度９６％の水酸化ナトリウムを５．１５ｇ（０．１３ｍｏｌ）加えた。再度加熱して、溶液の温度が１１０℃付近に到達してトルエンの還流が開始したところで、３−エチル−３−メタンスルホニルオキシメチルオキセタンのトルエン溶液（濃度：２５％）７９．３ｇ（３−エチル−３−メタンスルホニルオキシメチルオキセタンが０．１０ｍｏｌ）を２０分かけてゆっくり滴下した。次いで、冷却（放冷）して還流を停止させた後、先ほどと同量の水酸化ナトリウム（０．１３ｍｏｌ）を加え、再度１１０℃付近まで加熱してトルエンの還流が開始したところで、３−エチル−３−メタンスルホニルオキシメチルオキセタンのトルエン溶液（濃度：２５％）７９．３ｇ（３−エチル−３−メタンスルホニルオキシメチルオキセタンが０．１０ｍｏｌ）を２０分かけてゆっくり滴下した。この作業を繰り返し合計３時間３０分かけて７回行い、水酸化ナトリウム及び３−エチル−３−メタンスルホニルオキシメチルオキセタンの逐次添加（添加回数：それぞれ７回）を行った。
また、反応系中で生成した水は、脱水器にて随時抜き取った。水酸化ナトリウムの全量（０．９１ｍｏｌ）及び３−エチル−３−メタンスルホニルオキシメチルオキセタンの全量を仕込んだ後、さらに２時間トルエンを還流させて反応溶液を熟成させた。反応溶液の熟成の終了後、加熱を停止し、自然冷却を行った。
熟成の終了時点（反応開始（３−エチル−３−メタンスルホニルオキシメチルオキセタン滴下開始）から５時間３０分後）の加熱状態で、反応溶液のＧＣ分析を行ったところ、転化率は１００％、目的物である３−エチル−３−（３−ヒドロキシ−２，２−ジメチルプロピルオキシメチル）オキセタンの収率（反応収率）は９４％（３−エチル−３−メタンスルホニルオキシメチルオキセタン基準）であった。また、生成した２量体（ビスオキセタンエーテル化合物）は１．１％（対３−エチル−３−（３−ヒドロキシ−２，２−ジメチルプロピルオキシメチル）オキセタンのＧＣ面積％）であった。
反応溶液の液温が８０℃となった時点で、水を３２２ｇ加えて攪拌抽出し、水浴にて液温が室温（３０℃以下）となるまで冷却した後、ｎ−ヘキサンを３９３．８ｇ加え、１５分間攪拌抽出を行った。その後、分液した有機層に水を９９９ｇ加えて１５分間攪拌抽出し、分液した有機層に再度水を同量加えて、攪拌抽出を行った。分液した有機層から、エバポレーターを用いて８０℃、３００ｍｍＨｇの条件でトルエンを留去し、さらに３時間フルバキューム（８０℃）して脱トルエンを行い、３−エチル−３−（３−ヒドロキシ−２，２−ジメチルプロピルオキシメチル）オキセタンを１１８ｇ得た（純度：９７％、２量体濃度：１．１％）。なお、３−エチル−３−（３−ヒドロキシ−２，２−ジメチルプロピルオキシメチル）オキセタンの収率（単離収率）は、３−エチル−３−メタンスルホニルオキシメチルオキセタン基準で８０％であった。表１に結果を示した。
【００６４】
実施例２
トルエンの仕込み量を４６６ｇから１６６５ｇに変更した以外は、実施例１と同様にして、３−エチル−３−（３−ヒドロキシ−２，２−ジメチルプロピルオキシメチル）オキセタンを合成した。なお、熟成終了後の反応溶液のＧＣ分析によると、目的物である３−エチル−３−（３−ヒドロキシ−２，２−ジメチルプロピルオキシメチル）オキセタンの収率（反応収率）は９５％（３−エチル−３−メタンスルホニルオキシメチルオキセタン基準）であった。また、生成した２量体（ビスオキセタンエーテル化合物）は１．０％（対３−エチル−３−（３−ヒドロキシ−２，２−ジメチルプロピルオキシメチル）オキセタンのＧＣ面積％）とごく微量であった。
また、実施例１と同様の単離作業を行った結果、３−エチル−３−（３−ヒドロキシ−２，２−ジメチルプロピルオキシメチル）オキセタンの収率（単離収率）は、３−エチル−３−メタンスルホニルオキシメチルオキセタン基準で８０％であった。表１に結果を示した。
【００６５】
比較例１
攪拌装置、温度計、滴下漏斗、還流冷却器、及び脱水器を備えた内容量３０００ｍＬのガラス製セパラブルフラスコに、ネオペンチルグリコール４６０．３ｇ（４．４２ｍｏｌ）、トルエン８５０ｇ、及び純度９６％の水酸化ナトリウム３６．１０ｇ（０．９０ｍｏｌ）を加え、常圧でトルエンの還流が開始するまで攪拌しながら加熱した。
水酸化ナトリウムが溶解してしばらくすると、反応溶液が液状からゲル状になり、中心部のみが攪拌された状態となった。この状態で、３−エチル−３−メタンスルホニルオキシメチルオキセタンのトルエン溶液（濃度：９０％）１５９ｇ（３−エチル−３−メタンスルホニルオキシメチルオキセタン０．７３ｍｏｌ）の滴下を開始した。
３−エチル−３−メタンスルホニルオキシメチルオキセタンの滴下開始から５時間３０分間、トルエン還流状態で加熱して反応させた後、反応溶液にトルエンとほぼ同量の水８５０ｇを加えてゲルを溶解し、分離した２層（トルエン層、水層）の分析を行った結果、転化率９８％、目的物である３−エチル−３−（３−ヒドロキシ−２，２−ジメチルプロピルオキシメチル）オキセタンの収率（反応収率）は、３−エチル−３−メタンスルホニルオキシメチルオキセタン基準で７０．８％であった。表１に結果を示した。
【００６６】
比較例２
攪拌装置、温度計、滴下漏斗、及び還流冷却器を備えた内容積３０００ｍＬのガラス製フラスコに、ネオペンチルグリコール７２０．３ｇ（６．９２ｍｏｌ）、及びトルエン２８０ｇを加え、攪拌しながら６０℃まで加温した後、テトラブチルアンモニウムブロマイド３８．７ｇ（０．２１ｍｏｌ）、及び９６％水酸化ナトリウム１８４ｇ（４．４ｍｏｌ）を加え、攪拌しながら７５℃まで加温した。
次いで、純度９５％の３−エチル−３−メタンスルホニルオキシメチルオキセタン７７７ｇ（３．８ｍｏｌ）を、液温を７５〜８５℃に保ちながらゆるやかに滴下した。
しかしながら、ネオペンチルグリコールが固体のまま完全に溶解せず、さらに、一部溶解した反応溶液もゲル化したため、生成物の収率等のデータを取得できなかった。
【００６７】
比較例３
攪拌装置、温度計、滴下漏斗、還流冷却器、及び脱水器を備えた内容量３０００ｍＬのセパラブルフラスコに、ネオペンチルグリコールを１２９ｇ（１．２４ｍｏｌ）、トルエン４７２ｇ、及び純度９６％の水酸化ナトリウム２０．６３ｇ（０．５２ｍｏｌ）を加えて常圧でトルエンの還流が開始するまで加熱した。トルエンの還流開始後、３−エチル−３−メタンスルホニルオキシメチルオキセタンのトルエン溶液（濃度：９０％）８８．９ｇ（０．４１ｍｏｌ）の滴下を開始した。
３−エチル−３−メタンスルホニルオキシメチルオキセタン滴下開始から５時間３０分間、トルエン還流状態で加熱して反応させた後、比較例１と同様にして反応溶液の分析を行った。表１に結果を示した。
比較例３では反応溶液のゲル化は抑制されたが、表１に示すように、反応収率が６８．６％と低く、３−エチル−３−メタンスルホニルオキシメチルオキセタンの加水分解物である３−エチル−３−オキセタンメタノールの収率が２２．３％と高くなった。
【００６８】
比較例４
表１に示すように、原料の仕込み量を変えたこと以外は、比較例３と同様に反応を行った。表１に結果を示した。
【００６９】
比較例５
攪拌装置、温度計、滴下漏斗、及び還流冷却器を備えた内容積２０００ｍＬのガラス製フラスコに、１，４−ブタンジオール（ＢＤ）７２１ｇ（８．０ｍｏｌ）、及びトルエン３５０ｍＬを加え、攪拌しながら６０℃まで加温した後、テトラブチルアンモニウムブロマイド３８．７ｇ（０．２１ｍｏｌ）、及び９６％水酸化ナトリウム１８４ｇ（４．４ｍｏｌ）を加え、攪拌しながら７５℃まで加温した。次いで、純度９５％の３−エチル−３−メタンスルホニルオキシメチルオキセタン７７７ｇ（３．８ｍｏｌ）を、液温を７５〜８５℃に保ちながらゆるやかに滴下し、同温度で２時間反応させた。反応終了後、反応溶液に水８００ｍＬを加え、有機層を分液した。得られた有機層にトルエン８００ｍＬ及び水４００ｍＬを加え、攪拌しながら酢酸を加えてｐＨを９．５に調整した。分液後、水層をトルエン４００ｍＬで２回抽出した。抽出液（トルエン層）と有機層を混合し、減圧下で濃縮した。得られた濃縮物を減圧下で蒸留（１５７〜１５９℃、１．９ｋＰａ）し、無色液体として、純度９６％（ガスクロマトグラフィーによる分析値）の３−エチル−（４−ヒドロキシブチルオキシメチル）オキセタンを４９７ｇ得た（３−エチル−３−メタンスルホニルオキシメチルオキセタン基準の単離収率：６７％）。表１に結果を示した。
【００７０】
【表１】
【００７１】
表１に示すように、本発明のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法によると、目的物であるモノヒドロキシモノエーテル化合物を高選択率かつ高収率で得ることができた（実施例）。
一方、本発明の規定を満たさない製造方法による場合（比較例）には、副生成物であるジエーテル体の生成が多かったり、反応中に溶液のゲル化が生じる等により、目的物であるモノヒドロキシモノエーテル化合物を高い収率で得ることはできなかった。
【符号の説明】
【００７２】
ＮＰＧ ： ネオペンチルグリコール
ＢＤ ： １，４−ブタンジオール
ＮａＯＨ ： 水酸化ナトリウム
Ｍｓ体 ： ３−エチル−３−メタンスルホニルオキシメチルオキセタン
ＮＰＯＨ体 ： ３−エチル−３−（３−ヒドロキシ−２，２−ジメチルプロピルオキシメチル）オキセタン（但し、比較例５の場合は、３−エチル−３−（４−ヒドロキシブチルオキシメチル）オキセタンである）
ＭｅＯＨ体 ： ３−エチル−３−オキセタンメタノール
２量体（ジエーテル体） ： ビスオキセタンエーテル化合物
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（１）
【化１】
（式中、Ｒ1は置換基を有していてもよい炭化水素基を示し、Ｘは脱離性基を示す）
で表される化合物と、下記式（２）
【化２】
（式中、Ｒ2は置換基を有していてもよい２価の炭化水素基、又は前記２価の炭化水素基の２以上がエーテル結合を介して連結された連結基を示す）
で表されるジオールとをアルカリ金属を含む塩基の存在下、溶液中で反応させることにより、
下記式（３）
【化３】
（式中、Ｒ1、Ｒ2は前記に同じ）
で表されるモノヒドロキシモノエーテル化合物を生成させる方法であって、
前記式（２）で表されるジオールを含む溶液に対し、前記アルカリ金属を含む塩基を逐次添加し、生成させたモノアルコキシドを前記式（１）で表される化合物と逐次的に反応させることを特徴とするモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法。
【請求項２】
式（１）におけるＲ1が、オキセタニル基を有する炭化水素基である請求項１に記載のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法。
【請求項３】
式（１）で表される化合物が、下記式（４）
【化４】
（式中、Ｒ4は置換基を有していてもよい炭化水素基を示し、Ｘは前記に同じ）
で表されるオキセタン誘導体であり、下記式（５）
【化５】
（式中、Ｒ2、Ｒ4は、前記に同じ）
で表されるモノヒドロキシモノエーテル化合物を生成させる請求項１又は２に記載のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法。
【請求項４】
式（１）における脱離性基Ｘが、メタンスルホニルオキシ基である請求項１〜３のいずれか１項に記載のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法。
【請求項５】
前記アルカリ金属を含む塩基が、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムである請求項１〜４のいずれか１項に記載のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法。
【請求項１】
下記式（１）
【化１】
（式中、Ｒ1は置換基を有していてもよい炭化水素基を示し、Ｘは脱離性基を示す）
で表される化合物と、下記式（２）
【化２】
（式中、Ｒ2は置換基を有していてもよい２価の炭化水素基、又は前記２価の炭化水素基の２以上がエーテル結合を介して連結された連結基を示す）
で表されるジオールとをアルカリ金属を含む塩基の存在下、溶液中で反応させることにより、
下記式（３）
【化３】
（式中、Ｒ1、Ｒ2は前記に同じ）
で表されるモノヒドロキシモノエーテル化合物を生成させる方法であって、
前記式（２）で表されるジオールを含む溶液に対し、前記アルカリ金属を含む塩基を逐次添加し、生成させたモノアルコキシドを前記式（１）で表される化合物と逐次的に反応させることを特徴とするモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法。
【請求項２】
式（１）におけるＲ1が、オキセタニル基を有する炭化水素基である請求項１に記載のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法。
【請求項３】
式（１）で表される化合物が、下記式（４）
【化４】
（式中、Ｒ4は置換基を有していてもよい炭化水素基を示し、Ｘは前記に同じ）
で表されるオキセタン誘導体であり、下記式（５）
【化５】
（式中、Ｒ2、Ｒ4は、前記に同じ）
で表されるモノヒドロキシモノエーテル化合物を生成させる請求項１又は２に記載のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法。
【請求項４】
式（１）における脱離性基Ｘが、メタンスルホニルオキシ基である請求項１〜３のいずれか１項に記載のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法。
【請求項５】
前記アルカリ金属を含む塩基が、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムである請求項１〜４のいずれか１項に記載のモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法。
【公開番号】特開２０１２−２１４４２４（Ｐ２０１２−２１４４２４Ａ）
【公開日】平成２４年１１月８日（２０１２．１１．８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−８２２１４（Ｐ２０１１−８２２１４）
【出願日】平成２３年４月１日（２０１１．４．１）
【出願人】（０００００２９０１）株式会社ダイセル (1,236)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年１１月８日（２０１２．１１．８）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年４月１日（２０１１．４．１）
【出願人】（０００００２９０１）株式会社ダイセル (1,236)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]