リアクタ
【課題】装置の低コスト化を図ることができ、且つ第１被反応液と第２被反応液との反応により析出した析出物が滞留することをほぼ完全に無くすことのできるリアクタを提供すること。
【解決手段】少なくとも２種類の第１被反応液（Ｌ１）と第２被反応液（Ｌ２）とを反応させその反応により生成した生成物（Ｌ３）を導出部（３３０）から導出するように構成されたリアクタ（１０）であって、前記導出部（３３０）に向けて第１被反応液（Ｌ１）を流通させるための流路（３３）と、前記流路（３３）に第１被反応液（Ｌ１）を導入する第１被反応液供給手段（４０）と、前記流路（３３）を流通している第１被反応液（Ｌ１）に向けて第２被反応液（Ｌ２）を前記流路（３３）の上方から噴霧状の液体ミスト（Ｍ）として噴射する液体ミスト噴射手段（６０）とを備えることを特徴とする。
【解決手段】少なくとも２種類の第１被反応液（Ｌ１）と第２被反応液（Ｌ２）とを反応させその反応により生成した生成物（Ｌ３）を導出部（３３０）から導出するように構成されたリアクタ（１０）であって、前記導出部（３３０）に向けて第１被反応液（Ｌ１）を流通させるための流路（３３）と、前記流路（３３）に第１被反応液（Ｌ１）を導入する第１被反応液供給手段（４０）と、前記流路（３３）を流通している第１被反応液（Ｌ１）に向けて第２被反応液（Ｌ２）を前記流路（３３）の上方から噴霧状の液体ミスト（Ｍ）として噴射する液体ミスト噴射手段（６０）とを備えることを特徴とする。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はリアクタに関する。より詳しくは、導入した少なくとも２種類以上の液体を反応させその反応により生成した生成物を導出するように構成されたリアクタに関する。
【背景技術】
【０００２】
この手の装置発明として、本発明者らは以前に特許文献１を特許出願した。図９は特許文献１に記載された従来のリアクタの断面斜視図である。図９に示すように従来のリアクタ９０は、スリット状の縦長円環形状に形成された第１スリット状流路Ｒ１と、スリット状の扁平円環形状に形成された第２スリット状流路Ｒ２と、スリット状の略逆円錐台形状に形成された第３スリット状流路Ｒ３と、スリット状の略逆円錐形状に形成された第４スリット状流路Ｒ４とを備える。これら第１スリット状流路Ｒ１、第２スリット状流路Ｒ２、第３スリット状流路Ｒ３及び第４スリット状流路Ｒ４は共通の中心軸Ｊを有する。
【０００３】
従来のリアクタ９０では、第１スリット状流路Ｒ１に連通する第１導入ポートＰ１に第１被反応液Ｌ１を第１液入口Ｑ１から所定の高圧で導入し、第２スリット状流路Ｒ２に連通する第２導入ポートＰ２に第２被反応液Ｌ２を第２液入口Ｑ２から所定の高圧で導入し、第３スリット状流路Ｒ３に連通する第３導入ポートＰ３に第１被反応液Ｌ１と第２被反応液Ｌ２との反応に関与しない不関与液Ｌ３０を第３液入口Ｑ３から所定の高圧で導入する。
【０００４】
第１スリット状流路Ｒ１から出た第１被反応液Ｌ１と第２スリット状流路Ｒ２から出た第２被反応液Ｌ２とは、互いに平行でない高速流れで合流して衝突し合う形となる。これにより、衝突が生じた部分では乱流が発生し、例えば両被反応液Ｌ１，Ｌ２が平行に合流する場合に生じ得る「層流現象」が極めて起こり難い。従って、瞬時に反応を生起することが可能となり、短い反応時間で反応を進行させることができる。また、第３スリット状流路Ｒ３から、不関与液Ｌ３０を所定の高圧で第４スリット状流路Ｒ４に導入することにより、第１被反応液Ｌ１と第２被反応液Ｌ２との反応で生じた析出物が合流部Ｄに滞留することの防止を図っている。
【特許文献１】特願２００６−１５４２９９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上述した従来のリアクタ９０では、第１スリット状流路Ｒ１〜第４スリット状流路Ｒ４はそれぞれ流路幅が数十から数百ミクロンオーダーのいわゆるマイクロ流路とされ、このような微少空間を形成するために、部品点数が多くなったり、各部品の加工精度を高めたりする必要があり、装置のコストアップを招いた。また、不関与液Ｌ３０を第４スリット状流路Ｒ４に導入したにも拘わらず、実際には、第１被反応液（Ｌ１）と第２被反応液（Ｌ２）との反応により析出した析出物が合流部Ｄに滞留することがあった。
【０００６】
本発明は上述の問題に鑑みてなされたものであり、装置の低コスト化を図ることができ、且つ第１被反応液と第２被反応液との反応により析出した析出物が滞留することをほぼ完全に無くすことのできるリアクタを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上述の目的を達成するために、本発明に係るリアクタ（１０）は、少なくとも２種類の第１被反応液（Ｌ１）と第２被反応液（Ｌ２）とを反応させその反応により生成した生成物（Ｌ３）を導出部（３３０）から導出するように構成されたリアクタ（１０）であって、前記導出部（３３０）に向けて第１被反応液（Ｌ１）を流通させるための流路（３３）と、前記流路（３３）に第１被反応液（Ｌ１）を導入する第１被反応液供給手段（４０）と、前記流路（３３）を流通している第１被反応液（Ｌ１）に向けて第２被反応液（Ｌ２）を前記流路（３３）の上方から噴霧状の液体ミスト（Ｍ）として噴射する液体ミスト噴射手段（６０）とを備えることを特徴とする。
【０００８】
本発明に係るリアクタ（１０）によると、第１被反応液（Ｌ１）は、流路（３３）において薄膜状の流れとされ、第２被反応液（Ｌ２）は、この薄膜状の流れの表面に向けて液体ミスト（Ｍ）として噴射される。第２被反応液（Ｌ２）の微粒子体である液体ミスト（Ｍ）を、薄膜状の流れとされた第１被反応液（Ｌ１）に衝突させて反応を進行させる。反応により生成した生成物（Ｌ３）は導出部（３３０）から導出される。つまり従来とは異なり、流路幅が数十から数百ミクロンオーダーのいわゆるマイクロ流路を用いるのではない。従って、部品点数が多くなったり、各部品の加工精度を高めたりする必要が無く、装置の低コスト化を図ることができる。また、第１被反応液（Ｌ１）と第２被反応液（Ｌ２）との反応により析出した析出物が滞留することをほぼ完全に無くすことができる。
【０００９】
なお、特許請求の範囲及び課題を解決するための手段の欄で記載した各手段の括弧内の符号は、後述する実施形態に記載の具体的手段との対応関係を示すものである。
【発明の効果】
【００１０】
本発明のリアクタによると、装置の低コスト化を図ることができ、且つ第１被反応液と第２被反応液との反応により析出した析出物が滞留することをほぼ完全に無くすことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、添付図面を参照して、本発明を実施するための最良の形態について説明する。図１は本発明に係るリアクタの正面一部断面図、図２は本発明に係るリアクタの平面図、図３は図１のＩ−Ｉ線矢視図、図４（Ａ），図４（Ｂ）はそれぞれ上カバーの正面一部断面図及び平面図、図５はスぺーサの正面一部断面図、図６（Ａ），図６（Ｂ）はそれぞれ下カバーの正面一部断面図及び図６（Ａ）のＩＩ−ＩＩ線矢視図、図７（Ａ），図７（Ｂ）はそれぞれミスト噴射ノズル固定部の正面一部断面図及び平面図である。
【００１２】
図１，２に示すように、本発明に係るリアクタ１０は、チャンバー２０、第１被反応液供給部４０及び第２被反応液供給部６０からなる。
【００１３】
チャンバー２０は、上カバー１、スぺーサ２、下カバー３、Ｏリング４ａ、Ｏリング４ｂ及び第１ボルト５ａを備える。
【００１４】
上カバー１は、図４に示すように、平面視が軸Ｊ１を中心とした円形を呈する略皿状体であり、第１ボルト挿通穴１１、第２ボルト締結穴１２、ミスト噴射ノズル固定穴１３及び排気継手締結穴１４を備える。上カバー１は、鉄、アルミニウム、ステンレス鋼、チタンまたは真鍮等の金属から構成される。
【００１５】
上カバー１における第１ボルト挿通穴１１は、上記略皿状体の同一円周上における等間隔６箇所に軸Ｊ１方向に穿設された貫通穴である。第２ボルト締結穴１２は、第１ボルト挿通穴１１よりも半径方向内側において略皿状体における等間隔２箇所に軸Ｊ１方向に穿設された有底雌ねじ穴である。ミスト噴射ノズル固定穴１３は、略皿状体の中央部に軸Ｊ１方向に段状に穿設された貫通穴である。排気継手締結穴１４は、略皿状体の上部端面において軸Ｊ１方向に対して傾斜して穿設された貫通雌ねじ穴である。
【００１６】
スぺーサ２は、図５に示すように、上カバー１の外径と同一の外径を有する略円筒形状体であり、第１ボルト挿通穴２１及びＯリング溝２２を備える。第１ボルト挿通穴２１は、上記略円筒形状体の同一円周上における等間隔６箇所に軸Ｊ１方向に穿設された貫通穴である。Ｏリング溝２２は、第１ボルト挿通穴２１よりも半径方向内側において略円筒形状体の上部端面に、略円筒形状体の外径と同心に形成された円環状溝である。スぺーサ２は、鉄、アルミニウム、ステンレス鋼、チタン若しくは真鍮等の金属またはアクリル樹脂若しくはプラスチック等の合成樹脂から構成される。
【００１７】
下カバー３は、図６に示すように、上カバー１の外径と同一の外径を有する中空の略鍋蓋状体であり、上半部３Ａと下半部３Ｂとに分けられる。上半部３Ａの内周面は、上部から下部に向かって断面積が一定の円柱側面形状部３２となっている。下半部３Ｂの内周面は、上部から下部に向かって断面積が減少する円錐側面形状部３３となっている。即ち、円錐側面形状部３３は、軸Ｊ１を中心とした回転体の側面で形成され且つ軸Ｊ１の下方に向かうに連れて軸Ｊ１に略直交する平面で切断したときの断面面積が漸次減少する形状とされている。円錐側面形状部３３の広がり角θは９０度〜１６０度であることが好ましい。円錐側面形状部３３の表面は、プラズマ処理、コロナ放電処理またはスパッタ処理などにより親水化処理が施されている。下カバー３の上半部３Ａには第１ボルト締結穴３１、第１継手締結穴３１０、第２継手締結穴３２０、及びＯリング溝３４を備え、下カバー３の下半部３Ｂには導出口３３０を備える。下カバー３は上カバー１と同様な材料で構成される。
【００１８】
下カバー３における第１ボルト締結穴３１は、上記略鍋蓋状体の同一円周上における等間隔６箇所に軸Ｊ１方向に穿設された有底雌ねじ穴である。第１継手締結穴３１０は、略鍋蓋状体における上半部３Ａの外周面から内周面に向けて穿設された貫通穴である。なお第１継手締結穴３１０は、上半部３Ａの外周面側に雌ねじが形成され、内周面側は細孔状とされる。第２継手締結穴３２０は、第１継手締結穴３１０と同様な貫通穴である。第１継手締結穴３１０と第２継手締結穴３２０とは、下カバー３の軸Ｊ１を中心として対象位置に穿設される。導出口３３０は、円錐側面形状部３３の中央部に軸Ｊ１方向に穿設された貫通穴である。なお導出口３３０は、円錐側面形状部３３の上側が直径３ｍｍ〜５ｍｍ程度の細孔状とされ、下側には継手締結用の雌ねじが形成される。Ｏリング溝３４は、第１ボルト締結穴３１よりも半径方向内側において略鍋蓋状体の上端面に形成された円環状溝である。
【００１９】
第１被反応液供給部４０は、第１継手４１及び第２継手４２にそれぞれ挿設された第１ノズル４１Ｎ及び第２ノズル４２Ｎを備える。
【００２０】
第１ノズル４１Ｎはステンレス製のパイプからなり、その先端近傍が略Ｌ字形に折り曲げられている。第１ノズル４１Ｎは、第１継手４１を第１継手締結穴３１０に締結することで下カバー３に固設される。ステンレス製としたのは、多くの被反応液について耐腐食性に優れるためである。このとき、第１ノズル４１Ｎの噴出口が下カバー３の半径方向に直交する方向となるように横向きに取り付けられる。第２ノズル４２Ｎは、第１ノズル４１Ｎと同様な構成とされ、第１ノズル４１Ｎの場合と同様に、第２継手４２を第２継手締結穴３２０に締結することで下カバー３に固設される。なお、第２ノズル４２Ｎの噴出口は、第１ノズル４１Ｎの噴出口と反対向きとなるように横向きに取り付けられる。つまり、第１ノズル４１Ｎと第２ノズル４２Ｎとは、第１被反応液Ｌ１の旋回流を生じさせるために、それぞれの噴出口を流路３３の周方向（略鍋蓋状体の周方向）における同一方向に向けている。
【００２１】
第２被反応液供給部６０は、ミスト噴射ノズル固定部６１、ミスト噴射ノズル７０、Ｏリング４ｃ及び第２ボルト５ｂを備える。
【００２２】
ミスト噴射ノズル固定部６１は、図７に示すように、平面視が円環状を呈し正面視がＵ字状の開口６２を備えるキャップ状体である。その上面には、２つの第２ボルト挿通穴６３を備える。ミスト噴射ノズル固定部６１は上カバー１と同様な材料で構成される。
【００２３】
ミスト噴射ノズル７０は、図１に戻って、高圧の気体と高圧の液体とを混合して液体ミストＭを形成する気液混合部７１、気液混合部７１に高圧の気体を導入する気体導入部７２、及び気液混合部７１に高圧の液体を導入する液体導入部７３を備え、気液混合部７１から噴出口７４に至る流通路を内部に有する２流体ノズルである。そして、第２被反応液Ｌ２の噴霧状の液体ミストＭを噴出口７４から下カバー３の円錐側面形状部３３に向けて噴出するように構成される。
【００２４】
ミスト噴射ノズル７０は、次のようにして上カバー１に固定される。まず、ミスト噴射ノズル固定穴１３における段状部１５にＯリング４ｃを嵌め込む。次いで、この段状部１５にミスト噴射ノズル７０を着座させる。次いで、ミスト噴射ノズル固定部６１をミスト噴射ノズル７０の上から被せる。このとき、ミスト噴射ノズル固定部６１における第２ボルト挿通穴６３と上カバー１における第２ボルト締結穴１２とを一致させる。最後に、第２ボルト５ｂを第２ボルト挿通穴６３に挿通させ、第２ボルト締結穴１２に締結することで固定する。
【００２５】
ミスト噴射ノズル７０を取り付けた上カバー１と、スぺーサ２と、第１ノズル４１Ｎ及び第２ノズル４２Ｎを取り付けた下カバー３とは、次のようにして一体ものに組み立てられる。まず、下カバー３のＯリング溝３４にＯリング４ａを嵌め込む。次いで、この下カバー３の上にスぺーサ２を重ね合わせる。このとき、下カバー３における第１ボルト締結穴３１とスぺーサ２における第１ボルト挿通穴２１とを一致させる。次いで、スぺーサ２のＯリング溝２２にＯリング４ｂを嵌め込む。次いで、このスぺーサ２の上に上カバー１を重ね合わせる。このとき、スぺーサ２における第１ボルト挿通穴２１と上カバー１における第１ボルト挿通穴１１とを一致させる。最後に、第１ボルト５ａを上カバー１における第１ボルト挿通穴１１及びスぺーサ２における第１ボルト挿通穴２１に挿通させ、下カバー３における第１ボルト締結穴３１に締結して固定する。
【００２６】
以上のようにして構成されたリアクタ１０は、図８に示すように反応システム８０に組み込んで使用される。図８は本発明に係るリアクタを用いた反応システムを示す図である。図８に示すように、反応システム８０は、リアクタ１０、第１液供給タンク８１、第２液供給タンク８２、圧縮気体供給タンク８３、排気貯留タンク８４及び生成物貯留タンク８５を備える。
【００２７】
第１液供給タンク８１は、第１被反応液Ｌ１を所定の圧力で貯留しており、配管及び流量制御バルブ８１Ｖを介してリアクタ１０における第１ノズル４１Ｎ及び第２ノズル４２Ｎに接続される。第２液供給タンク８２は、第２被反応液Ｌ２を所定の圧力で貯留しており、配管、継ぎ手及び流量制御バルブ８２Ｖを介してリアクタ１０における液体導入部７３に接続される。圧縮気体供給タンク８３は、空気または窒素ガスを所定の圧力で貯留しており、配管、継ぎ手及び流量制御バルブ８３Ｖを介してリアクタ１０における気体導入部７２に接続される。排気貯留タンク８４は、配管、継ぎ手及び開閉バルブ８４Ｖを介して排気継手締結穴１４に接続される。開閉バルブ８４Ｖはチャンバー２０内が所定の圧力となったときに開放状態となるように構成される。生成物貯留タンク８５は、配管及び継ぎ手を介して導出口３３０に接続される。
【００２８】
次に、反応システム８０の動作と共にリアクタ１０の作用効果について説明する。第１液供給タンク８１から、配管を介して第１被反応液Ｌ１が第１ノズル４１Ｎ及び第２ノズル４２Ｎに圧送される。これにより第１ノズル４１Ｎ及び第２ノズル４２Ｎから第１被反応液Ｌ１が噴出する。第１被反応液Ｌ１の噴出方向は、第１ノズル４１Ｎ及び第２ノズル４２Ｎともに下カバーの半径方向と直交する横方向である。第１ノズル４１Ｎから噴出した第１被反応液Ｌ１は、噴出直後に下カバー３の上半部３Ａにおける円柱側面形状部３２に衝突する。その後、下半部３Ｂにおける円錐側面形状部３３を円周方向に沿って螺旋状に流れる（図３の矢印Ｗ１参照）。
【００２９】
第２ノズル４２Ｎから噴出した第１被反応液Ｌ１は、第１ノズル４１Ｎから噴出した第１被反応液Ｌ１と同様に、円錐側面形状部３３を円周方向に沿って螺旋状に流れる（図３の矢印Ｗ２参照）。このように第１ノズル４１Ｎ及び第２ノズル４２Ｎから噴出した第１被反応液Ｌ１は旋回流となる。その旋回流は厚さが数十から数百ミクロンオーダーの薄膜状の流れとなっている。ここで、円錐側面形状部３３の表面は親水化処理が施されているため、第１被反応液Ｌ１がその表面張力によって円錐側面形状部３３の表面に疎らに分布することなく、円錐側面形状部３３の全体に亘って一様な膜厚の薄膜状となる。
【００３０】
一方、ミスト噴射ノズル７０において、圧縮気体供給タンク８３から高圧の空気または窒素ガスが配管を介して気体導入部７２に圧送される。それと同時に、第２液供給タンク８２から第２被反応液Ｌ２が配管を介して液体導入部７３に圧送される。気液混合部７１では、高圧の空気または窒素ガスと高圧の第２被反応液Ｌ２とを混合して液体ミストＭ、即ち第２被反応液Ｌ２の噴霧状体を形成する。そして、噴出口７４からこの液体ミストＭを噴出させ、円錐側面形状部３３の表面を螺旋状に薄膜状態で流れている第１被反応液Ｌ１に衝突させる。液体ミストＭ一滴あたりの直径は、ザウター平均が９μｍ〜１５μｍ程度であることが好ましい。空気または窒素ガスを導入するときの圧力は０．０５〜０．８ＭＰａ、流量特性は１５〜１１６Ｌ／ｍｉｎであることが好ましい。噴霧量は５〜１００ｍＬ／ｍｉｎであることが好ましい。
【００３１】
上記衝突により第１被反応液Ｌ１と第２被反応液Ｌ２との反応が進行する。円錐側面形状部３３は導出口３３０に向けて下り勾配をなしているので、液体ミストＭを浴びた第１被反応液Ｌ１は、反応を進行させながら螺旋を描いて導出口３３０に向けて流れていく。反応によってできた生成物（析出物を含む）Ｌ３は、導出口３３０から導出される。
【００３２】
このように本発明に係るリアクタ１０によると、第１被反応液Ｌ１は、下り勾配をなした円錐側面形状部３３において薄膜状の流れとされ、第２被反応液Ｌ２は、この薄膜状の流れの表面に向けて液体ミストＭとして噴射される。第２被反応液Ｌ２の微粒子体である液体ミストＭを、薄膜状の流れとされた第１被反応液Ｌ１に衝突させて反応を進行させる。反応により生成した生成物Ｌ３は導出部３３０から導出される。つまり従来とは異なり、流路幅が数十から数百ミクロンオーダーのいわゆるマイクロ流路を用いるのではない。従って、部品点数が多くなったり、各部品の加工精度を高めたりする必要が無く、装置の低コスト化を図ることができる。また、第１被反応液Ｌ１と第２被反応液Ｌ２との反応により析出した析出物が滞留することをほぼ完全に無くすことができる。
【００３３】
また、スぺーサ２は、上カバー１と下カバー３とから着脱自在に設けられているため、互いに高さの異なるものを複数個用意しておくことで、目的の反応に応じたものを選択可能となり、融通性に優れる。また、スぺーサ２を透明な合成樹脂とすることでチャンバー２０内における第１被反応液Ｌ１及び第２被反応液Ｌ２の状態を視認できるようになる。また、チャンバー２０内が所定の圧力以上になった場合は、開閉バルブ８４Ｖが開状態となり排気されるので、安全性に優れる。
【００３４】
以上、本発明の実施の形態について説明を行ったが、上に開示した実施の形態は、あくまで例示であって、本発明の範囲はこの実施の形態に限定されるものではない。本発明の範囲は、特許請求の範囲の記載によって示され、更に特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内でのすべての変更を含むことが意図される。
【００３５】
例えば、上述の実施形態では、第１ノズル４１Ｎ及び第２ノズル４２Ｎの取付角度は、それぞれ半径方向から９０度であったが、この形態に限らず０度よりも大きく且つ９０度未満の角度としてよい。また、上述の実施形態では、第１ノズル４１Ｎ及び第２ノズル４２Ｎは、円錐側面形状部３３の周方向に等間隔に合計２つであったが、配置角度を１２０度として配置個数を３つとしたり、配置角度を９０度として配置個数を４つとしたりしてもよい。
【００３６】
また、上述の実施形態では、ミスト噴射ノズル７０は、高圧の気体と高圧の液体とをノズル内部で混合して液体ミストＭを形成する、いわゆる内部混合型の液加圧方式としたが、高圧の気体と高圧の液体とをノズル外部で混合して液体ミストＭを形成する、いわゆる外部混合型の液加圧方式としてもよい。また、高圧の気体の力で第２被反応液Ｌ２を吸い上げる、いわゆるサクション方式としてもよい。また、２流体ノズルに限らず、１流体ノズルとしてもよい。特に１流体ノズルは２流体ノズルに比べて、噴射圧を低くすることができ、スペーサ２の厚みが小さくて済み（スペーサ２の厚みが小さすぎると、円錐側面形状部３３を流通している第１被反応液Ｌ１が、高圧の液体ミストＭにより跳ね飛ばされてしまうことがあるが、これを防ぐことができる）、装置をより一層コンパクトにできる。
【図面の簡単な説明】
【００３７】
【図１】本発明に係るリアクタの正面一部断面図である。
【図２】本発明に係るリアクタの平面図である。
【図３】図１のＩ−Ｉ線矢視図である。
【図４】上カバーの正面一部断面図及び平面図である。
【図５】スぺーサの正面一部断面図である。
【図６】下カバーの正面一部断面図及び図６（Ａ）のＩＩ−ＩＩ線矢視図である。
【図７】ミスト噴射ノズル固定部の正面一部断面図及び平面図である。
【図８】本発明に係るリアクタを用いた反応システムを示す図である。
【図９】従来のリアクタの断面斜視図である。
【符号の説明】
【００３８】
１０ リアクタ
２０ チャンバー
３３ 円錐側面形状部（流路）
４０ 第１被反応液供給部（第１被反応液供給手段）
４１Ｎ 第１ノズル
４２Ｎ 第２ノズル
６０ 第２被反応液供給部（液体ミスト噴射手段）
８４Ｖ 開閉バルブ
３３０ 導出口（導出部）
Ｊ１ 軸（鉛直軸）
Ｌ１ 第１被反応液
Ｌ２ 第２被反応液
Ｌ３ 生成物
Ｍ 液体ミスト
【技術分野】
【０００１】
本発明はリアクタに関する。より詳しくは、導入した少なくとも２種類以上の液体を反応させその反応により生成した生成物を導出するように構成されたリアクタに関する。
【背景技術】
【０００２】
この手の装置発明として、本発明者らは以前に特許文献１を特許出願した。図９は特許文献１に記載された従来のリアクタの断面斜視図である。図９に示すように従来のリアクタ９０は、スリット状の縦長円環形状に形成された第１スリット状流路Ｒ１と、スリット状の扁平円環形状に形成された第２スリット状流路Ｒ２と、スリット状の略逆円錐台形状に形成された第３スリット状流路Ｒ３と、スリット状の略逆円錐形状に形成された第４スリット状流路Ｒ４とを備える。これら第１スリット状流路Ｒ１、第２スリット状流路Ｒ２、第３スリット状流路Ｒ３及び第４スリット状流路Ｒ４は共通の中心軸Ｊを有する。
【０００３】
従来のリアクタ９０では、第１スリット状流路Ｒ１に連通する第１導入ポートＰ１に第１被反応液Ｌ１を第１液入口Ｑ１から所定の高圧で導入し、第２スリット状流路Ｒ２に連通する第２導入ポートＰ２に第２被反応液Ｌ２を第２液入口Ｑ２から所定の高圧で導入し、第３スリット状流路Ｒ３に連通する第３導入ポートＰ３に第１被反応液Ｌ１と第２被反応液Ｌ２との反応に関与しない不関与液Ｌ３０を第３液入口Ｑ３から所定の高圧で導入する。
【０００４】
第１スリット状流路Ｒ１から出た第１被反応液Ｌ１と第２スリット状流路Ｒ２から出た第２被反応液Ｌ２とは、互いに平行でない高速流れで合流して衝突し合う形となる。これにより、衝突が生じた部分では乱流が発生し、例えば両被反応液Ｌ１，Ｌ２が平行に合流する場合に生じ得る「層流現象」が極めて起こり難い。従って、瞬時に反応を生起することが可能となり、短い反応時間で反応を進行させることができる。また、第３スリット状流路Ｒ３から、不関与液Ｌ３０を所定の高圧で第４スリット状流路Ｒ４に導入することにより、第１被反応液Ｌ１と第２被反応液Ｌ２との反応で生じた析出物が合流部Ｄに滞留することの防止を図っている。
【特許文献１】特願２００６−１５４２９９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上述した従来のリアクタ９０では、第１スリット状流路Ｒ１〜第４スリット状流路Ｒ４はそれぞれ流路幅が数十から数百ミクロンオーダーのいわゆるマイクロ流路とされ、このような微少空間を形成するために、部品点数が多くなったり、各部品の加工精度を高めたりする必要があり、装置のコストアップを招いた。また、不関与液Ｌ３０を第４スリット状流路Ｒ４に導入したにも拘わらず、実際には、第１被反応液（Ｌ１）と第２被反応液（Ｌ２）との反応により析出した析出物が合流部Ｄに滞留することがあった。
【０００６】
本発明は上述の問題に鑑みてなされたものであり、装置の低コスト化を図ることができ、且つ第１被反応液と第２被反応液との反応により析出した析出物が滞留することをほぼ完全に無くすことのできるリアクタを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上述の目的を達成するために、本発明に係るリアクタ（１０）は、少なくとも２種類の第１被反応液（Ｌ１）と第２被反応液（Ｌ２）とを反応させその反応により生成した生成物（Ｌ３）を導出部（３３０）から導出するように構成されたリアクタ（１０）であって、前記導出部（３３０）に向けて第１被反応液（Ｌ１）を流通させるための流路（３３）と、前記流路（３３）に第１被反応液（Ｌ１）を導入する第１被反応液供給手段（４０）と、前記流路（３３）を流通している第１被反応液（Ｌ１）に向けて第２被反応液（Ｌ２）を前記流路（３３）の上方から噴霧状の液体ミスト（Ｍ）として噴射する液体ミスト噴射手段（６０）とを備えることを特徴とする。
【０００８】
本発明に係るリアクタ（１０）によると、第１被反応液（Ｌ１）は、流路（３３）において薄膜状の流れとされ、第２被反応液（Ｌ２）は、この薄膜状の流れの表面に向けて液体ミスト（Ｍ）として噴射される。第２被反応液（Ｌ２）の微粒子体である液体ミスト（Ｍ）を、薄膜状の流れとされた第１被反応液（Ｌ１）に衝突させて反応を進行させる。反応により生成した生成物（Ｌ３）は導出部（３３０）から導出される。つまり従来とは異なり、流路幅が数十から数百ミクロンオーダーのいわゆるマイクロ流路を用いるのではない。従って、部品点数が多くなったり、各部品の加工精度を高めたりする必要が無く、装置の低コスト化を図ることができる。また、第１被反応液（Ｌ１）と第２被反応液（Ｌ２）との反応により析出した析出物が滞留することをほぼ完全に無くすことができる。
【０００９】
なお、特許請求の範囲及び課題を解決するための手段の欄で記載した各手段の括弧内の符号は、後述する実施形態に記載の具体的手段との対応関係を示すものである。
【発明の効果】
【００１０】
本発明のリアクタによると、装置の低コスト化を図ることができ、且つ第１被反応液と第２被反応液との反応により析出した析出物が滞留することをほぼ完全に無くすことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、添付図面を参照して、本発明を実施するための最良の形態について説明する。図１は本発明に係るリアクタの正面一部断面図、図２は本発明に係るリアクタの平面図、図３は図１のＩ−Ｉ線矢視図、図４（Ａ），図４（Ｂ）はそれぞれ上カバーの正面一部断面図及び平面図、図５はスぺーサの正面一部断面図、図６（Ａ），図６（Ｂ）はそれぞれ下カバーの正面一部断面図及び図６（Ａ）のＩＩ−ＩＩ線矢視図、図７（Ａ），図７（Ｂ）はそれぞれミスト噴射ノズル固定部の正面一部断面図及び平面図である。
【００１２】
図１，２に示すように、本発明に係るリアクタ１０は、チャンバー２０、第１被反応液供給部４０及び第２被反応液供給部６０からなる。
【００１３】
チャンバー２０は、上カバー１、スぺーサ２、下カバー３、Ｏリング４ａ、Ｏリング４ｂ及び第１ボルト５ａを備える。
【００１４】
上カバー１は、図４に示すように、平面視が軸Ｊ１を中心とした円形を呈する略皿状体であり、第１ボルト挿通穴１１、第２ボルト締結穴１２、ミスト噴射ノズル固定穴１３及び排気継手締結穴１４を備える。上カバー１は、鉄、アルミニウム、ステンレス鋼、チタンまたは真鍮等の金属から構成される。
【００１５】
上カバー１における第１ボルト挿通穴１１は、上記略皿状体の同一円周上における等間隔６箇所に軸Ｊ１方向に穿設された貫通穴である。第２ボルト締結穴１２は、第１ボルト挿通穴１１よりも半径方向内側において略皿状体における等間隔２箇所に軸Ｊ１方向に穿設された有底雌ねじ穴である。ミスト噴射ノズル固定穴１３は、略皿状体の中央部に軸Ｊ１方向に段状に穿設された貫通穴である。排気継手締結穴１４は、略皿状体の上部端面において軸Ｊ１方向に対して傾斜して穿設された貫通雌ねじ穴である。
【００１６】
スぺーサ２は、図５に示すように、上カバー１の外径と同一の外径を有する略円筒形状体であり、第１ボルト挿通穴２１及びＯリング溝２２を備える。第１ボルト挿通穴２１は、上記略円筒形状体の同一円周上における等間隔６箇所に軸Ｊ１方向に穿設された貫通穴である。Ｏリング溝２２は、第１ボルト挿通穴２１よりも半径方向内側において略円筒形状体の上部端面に、略円筒形状体の外径と同心に形成された円環状溝である。スぺーサ２は、鉄、アルミニウム、ステンレス鋼、チタン若しくは真鍮等の金属またはアクリル樹脂若しくはプラスチック等の合成樹脂から構成される。
【００１７】
下カバー３は、図６に示すように、上カバー１の外径と同一の外径を有する中空の略鍋蓋状体であり、上半部３Ａと下半部３Ｂとに分けられる。上半部３Ａの内周面は、上部から下部に向かって断面積が一定の円柱側面形状部３２となっている。下半部３Ｂの内周面は、上部から下部に向かって断面積が減少する円錐側面形状部３３となっている。即ち、円錐側面形状部３３は、軸Ｊ１を中心とした回転体の側面で形成され且つ軸Ｊ１の下方に向かうに連れて軸Ｊ１に略直交する平面で切断したときの断面面積が漸次減少する形状とされている。円錐側面形状部３３の広がり角θは９０度〜１６０度であることが好ましい。円錐側面形状部３３の表面は、プラズマ処理、コロナ放電処理またはスパッタ処理などにより親水化処理が施されている。下カバー３の上半部３Ａには第１ボルト締結穴３１、第１継手締結穴３１０、第２継手締結穴３２０、及びＯリング溝３４を備え、下カバー３の下半部３Ｂには導出口３３０を備える。下カバー３は上カバー１と同様な材料で構成される。
【００１８】
下カバー３における第１ボルト締結穴３１は、上記略鍋蓋状体の同一円周上における等間隔６箇所に軸Ｊ１方向に穿設された有底雌ねじ穴である。第１継手締結穴３１０は、略鍋蓋状体における上半部３Ａの外周面から内周面に向けて穿設された貫通穴である。なお第１継手締結穴３１０は、上半部３Ａの外周面側に雌ねじが形成され、内周面側は細孔状とされる。第２継手締結穴３２０は、第１継手締結穴３１０と同様な貫通穴である。第１継手締結穴３１０と第２継手締結穴３２０とは、下カバー３の軸Ｊ１を中心として対象位置に穿設される。導出口３３０は、円錐側面形状部３３の中央部に軸Ｊ１方向に穿設された貫通穴である。なお導出口３３０は、円錐側面形状部３３の上側が直径３ｍｍ〜５ｍｍ程度の細孔状とされ、下側には継手締結用の雌ねじが形成される。Ｏリング溝３４は、第１ボルト締結穴３１よりも半径方向内側において略鍋蓋状体の上端面に形成された円環状溝である。
【００１９】
第１被反応液供給部４０は、第１継手４１及び第２継手４２にそれぞれ挿設された第１ノズル４１Ｎ及び第２ノズル４２Ｎを備える。
【００２０】
第１ノズル４１Ｎはステンレス製のパイプからなり、その先端近傍が略Ｌ字形に折り曲げられている。第１ノズル４１Ｎは、第１継手４１を第１継手締結穴３１０に締結することで下カバー３に固設される。ステンレス製としたのは、多くの被反応液について耐腐食性に優れるためである。このとき、第１ノズル４１Ｎの噴出口が下カバー３の半径方向に直交する方向となるように横向きに取り付けられる。第２ノズル４２Ｎは、第１ノズル４１Ｎと同様な構成とされ、第１ノズル４１Ｎの場合と同様に、第２継手４２を第２継手締結穴３２０に締結することで下カバー３に固設される。なお、第２ノズル４２Ｎの噴出口は、第１ノズル４１Ｎの噴出口と反対向きとなるように横向きに取り付けられる。つまり、第１ノズル４１Ｎと第２ノズル４２Ｎとは、第１被反応液Ｌ１の旋回流を生じさせるために、それぞれの噴出口を流路３３の周方向（略鍋蓋状体の周方向）における同一方向に向けている。
【００２１】
第２被反応液供給部６０は、ミスト噴射ノズル固定部６１、ミスト噴射ノズル７０、Ｏリング４ｃ及び第２ボルト５ｂを備える。
【００２２】
ミスト噴射ノズル固定部６１は、図７に示すように、平面視が円環状を呈し正面視がＵ字状の開口６２を備えるキャップ状体である。その上面には、２つの第２ボルト挿通穴６３を備える。ミスト噴射ノズル固定部６１は上カバー１と同様な材料で構成される。
【００２３】
ミスト噴射ノズル７０は、図１に戻って、高圧の気体と高圧の液体とを混合して液体ミストＭを形成する気液混合部７１、気液混合部７１に高圧の気体を導入する気体導入部７２、及び気液混合部７１に高圧の液体を導入する液体導入部７３を備え、気液混合部７１から噴出口７４に至る流通路を内部に有する２流体ノズルである。そして、第２被反応液Ｌ２の噴霧状の液体ミストＭを噴出口７４から下カバー３の円錐側面形状部３３に向けて噴出するように構成される。
【００２４】
ミスト噴射ノズル７０は、次のようにして上カバー１に固定される。まず、ミスト噴射ノズル固定穴１３における段状部１５にＯリング４ｃを嵌め込む。次いで、この段状部１５にミスト噴射ノズル７０を着座させる。次いで、ミスト噴射ノズル固定部６１をミスト噴射ノズル７０の上から被せる。このとき、ミスト噴射ノズル固定部６１における第２ボルト挿通穴６３と上カバー１における第２ボルト締結穴１２とを一致させる。最後に、第２ボルト５ｂを第２ボルト挿通穴６３に挿通させ、第２ボルト締結穴１２に締結することで固定する。
【００２５】
ミスト噴射ノズル７０を取り付けた上カバー１と、スぺーサ２と、第１ノズル４１Ｎ及び第２ノズル４２Ｎを取り付けた下カバー３とは、次のようにして一体ものに組み立てられる。まず、下カバー３のＯリング溝３４にＯリング４ａを嵌め込む。次いで、この下カバー３の上にスぺーサ２を重ね合わせる。このとき、下カバー３における第１ボルト締結穴３１とスぺーサ２における第１ボルト挿通穴２１とを一致させる。次いで、スぺーサ２のＯリング溝２２にＯリング４ｂを嵌め込む。次いで、このスぺーサ２の上に上カバー１を重ね合わせる。このとき、スぺーサ２における第１ボルト挿通穴２１と上カバー１における第１ボルト挿通穴１１とを一致させる。最後に、第１ボルト５ａを上カバー１における第１ボルト挿通穴１１及びスぺーサ２における第１ボルト挿通穴２１に挿通させ、下カバー３における第１ボルト締結穴３１に締結して固定する。
【００２６】
以上のようにして構成されたリアクタ１０は、図８に示すように反応システム８０に組み込んで使用される。図８は本発明に係るリアクタを用いた反応システムを示す図である。図８に示すように、反応システム８０は、リアクタ１０、第１液供給タンク８１、第２液供給タンク８２、圧縮気体供給タンク８３、排気貯留タンク８４及び生成物貯留タンク８５を備える。
【００２７】
第１液供給タンク８１は、第１被反応液Ｌ１を所定の圧力で貯留しており、配管及び流量制御バルブ８１Ｖを介してリアクタ１０における第１ノズル４１Ｎ及び第２ノズル４２Ｎに接続される。第２液供給タンク８２は、第２被反応液Ｌ２を所定の圧力で貯留しており、配管、継ぎ手及び流量制御バルブ８２Ｖを介してリアクタ１０における液体導入部７３に接続される。圧縮気体供給タンク８３は、空気または窒素ガスを所定の圧力で貯留しており、配管、継ぎ手及び流量制御バルブ８３Ｖを介してリアクタ１０における気体導入部７２に接続される。排気貯留タンク８４は、配管、継ぎ手及び開閉バルブ８４Ｖを介して排気継手締結穴１４に接続される。開閉バルブ８４Ｖはチャンバー２０内が所定の圧力となったときに開放状態となるように構成される。生成物貯留タンク８５は、配管及び継ぎ手を介して導出口３３０に接続される。
【００２８】
次に、反応システム８０の動作と共にリアクタ１０の作用効果について説明する。第１液供給タンク８１から、配管を介して第１被反応液Ｌ１が第１ノズル４１Ｎ及び第２ノズル４２Ｎに圧送される。これにより第１ノズル４１Ｎ及び第２ノズル４２Ｎから第１被反応液Ｌ１が噴出する。第１被反応液Ｌ１の噴出方向は、第１ノズル４１Ｎ及び第２ノズル４２Ｎともに下カバーの半径方向と直交する横方向である。第１ノズル４１Ｎから噴出した第１被反応液Ｌ１は、噴出直後に下カバー３の上半部３Ａにおける円柱側面形状部３２に衝突する。その後、下半部３Ｂにおける円錐側面形状部３３を円周方向に沿って螺旋状に流れる（図３の矢印Ｗ１参照）。
【００２９】
第２ノズル４２Ｎから噴出した第１被反応液Ｌ１は、第１ノズル４１Ｎから噴出した第１被反応液Ｌ１と同様に、円錐側面形状部３３を円周方向に沿って螺旋状に流れる（図３の矢印Ｗ２参照）。このように第１ノズル４１Ｎ及び第２ノズル４２Ｎから噴出した第１被反応液Ｌ１は旋回流となる。その旋回流は厚さが数十から数百ミクロンオーダーの薄膜状の流れとなっている。ここで、円錐側面形状部３３の表面は親水化処理が施されているため、第１被反応液Ｌ１がその表面張力によって円錐側面形状部３３の表面に疎らに分布することなく、円錐側面形状部３３の全体に亘って一様な膜厚の薄膜状となる。
【００３０】
一方、ミスト噴射ノズル７０において、圧縮気体供給タンク８３から高圧の空気または窒素ガスが配管を介して気体導入部７２に圧送される。それと同時に、第２液供給タンク８２から第２被反応液Ｌ２が配管を介して液体導入部７３に圧送される。気液混合部７１では、高圧の空気または窒素ガスと高圧の第２被反応液Ｌ２とを混合して液体ミストＭ、即ち第２被反応液Ｌ２の噴霧状体を形成する。そして、噴出口７４からこの液体ミストＭを噴出させ、円錐側面形状部３３の表面を螺旋状に薄膜状態で流れている第１被反応液Ｌ１に衝突させる。液体ミストＭ一滴あたりの直径は、ザウター平均が９μｍ〜１５μｍ程度であることが好ましい。空気または窒素ガスを導入するときの圧力は０．０５〜０．８ＭＰａ、流量特性は１５〜１１６Ｌ／ｍｉｎであることが好ましい。噴霧量は５〜１００ｍＬ／ｍｉｎであることが好ましい。
【００３１】
上記衝突により第１被反応液Ｌ１と第２被反応液Ｌ２との反応が進行する。円錐側面形状部３３は導出口３３０に向けて下り勾配をなしているので、液体ミストＭを浴びた第１被反応液Ｌ１は、反応を進行させながら螺旋を描いて導出口３３０に向けて流れていく。反応によってできた生成物（析出物を含む）Ｌ３は、導出口３３０から導出される。
【００３２】
このように本発明に係るリアクタ１０によると、第１被反応液Ｌ１は、下り勾配をなした円錐側面形状部３３において薄膜状の流れとされ、第２被反応液Ｌ２は、この薄膜状の流れの表面に向けて液体ミストＭとして噴射される。第２被反応液Ｌ２の微粒子体である液体ミストＭを、薄膜状の流れとされた第１被反応液Ｌ１に衝突させて反応を進行させる。反応により生成した生成物Ｌ３は導出部３３０から導出される。つまり従来とは異なり、流路幅が数十から数百ミクロンオーダーのいわゆるマイクロ流路を用いるのではない。従って、部品点数が多くなったり、各部品の加工精度を高めたりする必要が無く、装置の低コスト化を図ることができる。また、第１被反応液Ｌ１と第２被反応液Ｌ２との反応により析出した析出物が滞留することをほぼ完全に無くすことができる。
【００３３】
また、スぺーサ２は、上カバー１と下カバー３とから着脱自在に設けられているため、互いに高さの異なるものを複数個用意しておくことで、目的の反応に応じたものを選択可能となり、融通性に優れる。また、スぺーサ２を透明な合成樹脂とすることでチャンバー２０内における第１被反応液Ｌ１及び第２被反応液Ｌ２の状態を視認できるようになる。また、チャンバー２０内が所定の圧力以上になった場合は、開閉バルブ８４Ｖが開状態となり排気されるので、安全性に優れる。
【００３４】
以上、本発明の実施の形態について説明を行ったが、上に開示した実施の形態は、あくまで例示であって、本発明の範囲はこの実施の形態に限定されるものではない。本発明の範囲は、特許請求の範囲の記載によって示され、更に特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内でのすべての変更を含むことが意図される。
【００３５】
例えば、上述の実施形態では、第１ノズル４１Ｎ及び第２ノズル４２Ｎの取付角度は、それぞれ半径方向から９０度であったが、この形態に限らず０度よりも大きく且つ９０度未満の角度としてよい。また、上述の実施形態では、第１ノズル４１Ｎ及び第２ノズル４２Ｎは、円錐側面形状部３３の周方向に等間隔に合計２つであったが、配置角度を１２０度として配置個数を３つとしたり、配置角度を９０度として配置個数を４つとしたりしてもよい。
【００３６】
また、上述の実施形態では、ミスト噴射ノズル７０は、高圧の気体と高圧の液体とをノズル内部で混合して液体ミストＭを形成する、いわゆる内部混合型の液加圧方式としたが、高圧の気体と高圧の液体とをノズル外部で混合して液体ミストＭを形成する、いわゆる外部混合型の液加圧方式としてもよい。また、高圧の気体の力で第２被反応液Ｌ２を吸い上げる、いわゆるサクション方式としてもよい。また、２流体ノズルに限らず、１流体ノズルとしてもよい。特に１流体ノズルは２流体ノズルに比べて、噴射圧を低くすることができ、スペーサ２の厚みが小さくて済み（スペーサ２の厚みが小さすぎると、円錐側面形状部３３を流通している第１被反応液Ｌ１が、高圧の液体ミストＭにより跳ね飛ばされてしまうことがあるが、これを防ぐことができる）、装置をより一層コンパクトにできる。
【図面の簡単な説明】
【００３７】
【図１】本発明に係るリアクタの正面一部断面図である。
【図２】本発明に係るリアクタの平面図である。
【図３】図１のＩ−Ｉ線矢視図である。
【図４】上カバーの正面一部断面図及び平面図である。
【図５】スぺーサの正面一部断面図である。
【図６】下カバーの正面一部断面図及び図６（Ａ）のＩＩ−ＩＩ線矢視図である。
【図７】ミスト噴射ノズル固定部の正面一部断面図及び平面図である。
【図８】本発明に係るリアクタを用いた反応システムを示す図である。
【図９】従来のリアクタの断面斜視図である。
【符号の説明】
【００３８】
１０ リアクタ
２０ チャンバー
３３ 円錐側面形状部（流路）
４０ 第１被反応液供給部（第１被反応液供給手段）
４１Ｎ 第１ノズル
４２Ｎ 第２ノズル
６０ 第２被反応液供給部（液体ミスト噴射手段）
８４Ｖ 開閉バルブ
３３０ 導出口（導出部）
Ｊ１ 軸（鉛直軸）
Ｌ１ 第１被反応液
Ｌ２ 第２被反応液
Ｌ３ 生成物
Ｍ 液体ミスト
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも２種類の第１被反応液（Ｌ１）と第２被反応液（Ｌ２）とを反応させその反応により生成した生成物（Ｌ３）を導出部（３３０）から導出するように構成されたリアクタ（１０）であって、前記導出部（３３０）に向けて第１被反応液（Ｌ１）を流通させるための流路（３３）と、前記流路（３３）に第１被反応液（Ｌ１）を導入する第１被反応液供給手段（４０）と、前記流路（３３）を流通している第１被反応液（Ｌ１）に向けて第２被反応液（Ｌ２）を前記流路（３３）の上方から噴霧状の液体ミスト（Ｍ）として噴射する液体ミスト噴射手段（６０）とを備えることを特徴とするリアクタ。
【請求項２】
前記流路（３３）は、鉛直軸（Ｊ１）を中心とした回転体の側面で形成され且つ鉛直軸（Ｊ１）の下方に向かうに連れて鉛直軸（Ｊ１）に略直交する平面で切断したときの断面面積が漸次減少する形状とされ、前記導出部（３３０）は、当該流路（３３）の最下部に設けられた請求項１に記載のリアクタ。
【請求項３】
第１被反応液供給手段（４０）は、噴出口が前記流路（３３）の半径方向から所定角度偏角した方向となるように設けられた第１ノズル（４１Ｎ）と、噴出口が前記流路（３３）の半径方向から所定角度偏角した方向となるように設けられた第２ノズル（４２Ｎ）とを備え、これら第１ノズル（４１Ｎ）と第２ノズル（４２Ｎ）とが、前記流路（３３）の周方向に等間隔に少なくとも２つ以上設けられた請求項２に記載のリアクタ。
【請求項４】
前記流路（３３）の表面は親水化処理が施されている請求項１から請求項３のいずれかに記載のリアクタ。
【請求項５】
前記流路（３３）と前記液体ミスト噴射手段（６０）とを密封配置するチャンバー（２０）を備える請求項１から請求項４のいずれかに記載のリアクタ。
【請求項６】
前記チャンバー（２０）内が所定の圧力となったときに開放状態となる開閉バルブ（８４Ｖ）を備える請求項５に記載のリアクタ。
【請求項１】
少なくとも２種類の第１被反応液（Ｌ１）と第２被反応液（Ｌ２）とを反応させその反応により生成した生成物（Ｌ３）を導出部（３３０）から導出するように構成されたリアクタ（１０）であって、前記導出部（３３０）に向けて第１被反応液（Ｌ１）を流通させるための流路（３３）と、前記流路（３３）に第１被反応液（Ｌ１）を導入する第１被反応液供給手段（４０）と、前記流路（３３）を流通している第１被反応液（Ｌ１）に向けて第２被反応液（Ｌ２）を前記流路（３３）の上方から噴霧状の液体ミスト（Ｍ）として噴射する液体ミスト噴射手段（６０）とを備えることを特徴とするリアクタ。
【請求項２】
前記流路（３３）は、鉛直軸（Ｊ１）を中心とした回転体の側面で形成され且つ鉛直軸（Ｊ１）の下方に向かうに連れて鉛直軸（Ｊ１）に略直交する平面で切断したときの断面面積が漸次減少する形状とされ、前記導出部（３３０）は、当該流路（３３）の最下部に設けられた請求項１に記載のリアクタ。
【請求項３】
第１被反応液供給手段（４０）は、噴出口が前記流路（３３）の半径方向から所定角度偏角した方向となるように設けられた第１ノズル（４１Ｎ）と、噴出口が前記流路（３３）の半径方向から所定角度偏角した方向となるように設けられた第２ノズル（４２Ｎ）とを備え、これら第１ノズル（４１Ｎ）と第２ノズル（４２Ｎ）とが、前記流路（３３）の周方向に等間隔に少なくとも２つ以上設けられた請求項２に記載のリアクタ。
【請求項４】
前記流路（３３）の表面は親水化処理が施されている請求項１から請求項３のいずれかに記載のリアクタ。
【請求項５】
前記流路（３３）と前記液体ミスト噴射手段（６０）とを密封配置するチャンバー（２０）を備える請求項１から請求項４のいずれかに記載のリアクタ。
【請求項６】
前記チャンバー（２０）内が所定の圧力となったときに開放状態となる開閉バルブ（８４Ｖ）を備える請求項５に記載のリアクタ。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【公開番号】特開２００８−１００１８９（Ｐ２００８−１００１８９Ａ）
【公開日】平成２０年５月１日（２００８．５．１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−２８６００３（Ｐ２００６−２８６００３）
【出願日】平成１８年１０月２０日（２００６．１０．２０）
【出願人】（０００２１９３１４）東レエンジニアリング株式会社 (505)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年５月１日（２００８．５．１）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年１０月２０日（２００６．１０．２０）
【出願人】（０００２１９３１４）東レエンジニアリング株式会社 (505)
【Ｆターム（参考）】
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