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Fターム[4G075DA02]の内容

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Fターム[4G075DA02]に分類される特許

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【課題】アーク放電が生じることを抑制しつつ多量のラジカル又は窒素酸化物を生成でき、生成したラジカル又は窒素酸化物を効率良く利用できるラジカル発生装置及び窒素酸化物発生装置を提供する。
【解決手段】高周波電圧を放電電極2に印加して放電を生じさせる放電領域4に空気を供給するファン10を備える。放電領域4に供給される空気の流速値と、ラジカルがファン10によって放電領域2より下流側に供給される供給量との関係において、空気流速値の増加に伴ってラジカル供給量がピーク値から低下して定常状態に移行したときにおけるラジカル供給量及び空気流速値の夫々の値を閾値とする。ファン10によって放電領域4に供給される空気流速値を、空気流速値の閾値よりも小さく、ラジカル供給量がラジカル供給量の閾値よりも高くなるときの空気流速値に設定する。 (もっと読む)


【課題】アーク放電が生じることを抑制しつつ多量の酸性成分を生成でき、しかも安全性に優れ、コストを抑えた酸性成分発生装置を提供する。
【解決手段】放電電極1を備える。放電電極1に対向する対向電極2を備える。放電電極1と対向電極2の夫々に位相のずれた高周波電圧を印加することで、放電を生じさせて酸性成分を発生させる電圧印加手段3を備える。 (もっと読む)


【課題】省エネルギー,省スペース,メンテナンスフリー化を達成し、気体中のサブミクロン粒子を容易に集塵し、かつガス吸収を同時に処理できる大型化の容易な高効率の気液接触装置・放散装置の提供。
【解決手段】気体と液体とを接触・混合させる気液接触方法および気液接触装置であって、気液接触装置1は、筒状の容器2の上流部に螺旋状の羽根体を内設した静止型流体混合器を第1の気液接触部3に配置し、第1の気液接触部3の下流部に螺旋状の羽根体を内設した静止型流体混合器を第2の気液接触部4に配置し、第1および第2の気液接触部3,4の上方に散水ノズル22,23を配置し、容器2の上流部から加圧または減圧された異種物質を含有している気体を導入し、散水ノズル22,23から液体を供給・噴霧し、第1の気液接触部3ではガス速度を20〜150m/s、第2の気液接触部4ではガス空塔速度を0.5〜20m/sで通流させる。 (もっと読む)


【課題】リアクターの内部の状態を知ることができる化学反応装置を提供する。
【解決手段】液状の内容物が、上方に未充填空間を有した状態で水平方向に流れる横型のフロー式のリアクター13と、マイクロ波を発生するマイクロ波発生器14と、マイクロ波発生器14の発生したマイクロ波を、リアクター13の未充填空間に伝送する1以上の導波管15と、リアクター13と接続され、内容物が流通できる管であり、マイクロ波発生器14の発生したマイクロ波の侵入を阻止できる属性を有する管であるマイクロ波侵入阻止管51と、マイクロ波侵入阻止管内の内容物を介して、リアクター内の内容物の液面レベル位置を検出可能な検出部52と、を備えることにより、リアクター13内の液面レベル位置を知ることができる。 (もっと読む)


【課題】2種類以上の性質の異なる表面状態を有する基板およびマイクロチップ並びにそれらの製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に金属パターンまたは金属酸化物パターンが形成され、上記金属パターンまたは上記金属酸化物パターン上に表面処理膜を形成することにより、2種類以上の性質の異なる表面状態を有する基板およびマイクロチップを提供する。 (もっと読む)


【課題】被処理物の品質低下を抑制すること。
【解決手段】相対向する放電電極と対向電極との間に電圧を印加して放電を発生させることにより、前記放電電極と前記対向電極との間に位置する被処理物の表面を改質する表面処理装置であって、前記放電電極と前記被処理物との間に、前記被処理物の表面のうち表面改質しない非処理領域を形成するための、遮蔽物が設けられること、を特徴とする表面処理装置。 (もっと読む)


【課題】超音波の放射面積を十分に確保し、超音波を均一に放射することができる超音波放射体を提供すること。
【解決手段】超音波放射体15は、径方向に軸対称振動をする複数の振動体21を備える。各振動体21は、中心部に貫通孔23を有し、その軸方向から見た平面視で正八角形状に形成されている。超音波放射体15において、振動体21の外面が接続された状態で該各振動体21が複数行及び複数列からなるマトリクス状に規則正しく配列されている。超音波放射体15は、行方向及び列方向において隣り合う振動体21が交互に伸縮を繰り返すことにより各振動体21から超音波を放射する。 (もっと読む)


【課題】液体の前進および停止を任意のタイミングで制御することが可能な、コンパクトな流路チップ100を提供する。
【解決手段】流路チップ100は、第1開放路112、第2開放路113、第1導入路102、第1合流路103、及び、第1交差位置と第2交差位置との間、あるいは、第2交差位置に配設され、第1導入路102および第1合流路103から流路114へ導入される液体の流れを制御するバルブ141を備える。 (もっと読む)


【課題】混合流体に含まれる複数の流体同士の相互作用が生じた後、その混合流体から所望の流体又は生成物を分離する分離作業を簡略化する。
【解決手段】流路構造体では、流通路2は、互いに混合された第1流体と第2流体からなる混合流体が流れる第1混合流体流路28と、第1混合流体流路28の下流側に繋がり、第1混合流体流路28から流入した混合流体が比重の小さい軽質流体とその軽質流体よりも比重の大きい重質流体とに比重差によって分離するような断面形状を有する分離空間30と、分離空間30のうち重質流体が溜まる部分に繋がり、分離空間30から重質流体が流入する重質流路32と、分離空間30のうち軽質流体が溜まる部分に繋がり、分離空間30から軽質流体が流入する軽質流路34とを有する。 (もっと読む)


【課題】濾過時間及び乾燥時間を短縮することができるとともに、多用途に使用することができる濾過乾燥機を提供すること。
【解決手段】被処理物Wを処理する気体を選択的に供給する気体供給源5と、気体供給源5から気体を槽本体2内に導入するために攪拌翼3の背面及び槽本体2の上部にそれぞれ形成された供給口2A、3Aと、槽本体2内及び濾物の排出口20Aから気体を強制的に排出する強制排気手段6、7とを備え、気体供給源5から目詰まり防止用気体を攪拌翼3の背面に形成した供給口3Aを介して濾過手段4の濾過面に向けて噴射しながら気体供給源5から加圧用気体を槽本体2の上部に形成された供給口2Aから供給することにより被処理物Wを濾過した後、強制排気手段6、7によって槽本体2内の気体を排出しながら気体供給源5から乾燥用気体を攪拌翼3の背面に形成した供給口3Aを介して濾物に向けて噴射することにより濾物を乾燥させる。 (もっと読む)


【課題】仮想円筒上に配置された各ランプ保護管に1本又は複数本の紫外線ランプを軸方向にずらして収容してなる直交流型の紫外線照射装置において、紫外線ランプの紫外線強度を精度よく計測して監視できるようにする。
【解決手段】仮想円筒上に配置された各ランプ保護管に1本又は複数本の紫外線ランプを軸方向にずらして収容してなる直交流型の紫外線照射装置であって、監視用紫外線強度計32を強度計保護管31が流路中心面19と交差する中心位置に受光部32aを位置させて挿入し、受光部32aを包囲して遮光筒32cを設け、遮光筒32cの筒壁に軸方向及び周方向に分散させて紫外線を受光部に導く複数の導光孔36を穿設し、各導光孔36は各紫外線ランプ14に設定された受光長から照射される紫外線を、各紫外線ランプ14の位置に応じて受光部32aに導く位置に設けることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】内容物の流通時に短絡を防止できる、横型のフロー式のリアクターを有する化学反応装置を提供する。
【解決手段】内部が複数の仕切り板によって複数の室に仕切られており、液状の内容物が、上方に未充填空間を有した状態で水平方向に流れる横型のフロー式のリアクター13と、マイクロ波を発生するマイクロ波発生器14と、マイクロ波発生器14の発生したマイクロ波を、リアクター13の未充填空間に伝送する1以上の導波管15と、を備え、内容物は、仕切り板の上方をオーバーフローで流れるものであり、各室において、流入側の堰高が、流出側の堰高より、流出側の仕切り板における越流深以上高い。 (もっと読む)


【課題】付加的な外部の支持部無しに、容易に、装置内で圧力を加えられた流体が発生するすべての力に耐えることができる装置を提供する。
【解決手段】流体処理装置は、第1のエンドピース11及び第2のエンドピース12と、第1のエンドピース11と前記第2のエンドピース12との間に配置される少なくとも1つの流体処理ユニット13と、前記第1のエンドピース11と前記第2のエンドピース12との間に延びて、流体処理ユニット13と、前記第1のエンドピース11及び前記第2のエンドピース12とを共に押し付けるように配置されたリテーナー26と、を備える。 (もっと読む)


【課題】内容物の量が変化しても、内容物に効率よくマイクロ波を照射することができる化学反応装置を提供する。
【解決手段】内部が仕切り板によって複数の室に仕切られており、液状の内容物が、上方に未充填空間を有した状態で水平方向に流れる横型のフロー式のリアクター13と、マイクロ波を発生するマイクロ波発生器14と、マイクロ波発生器14の発生したマイクロ波を、リアクター13の未充填空間に伝送する1以上の導波管15と、を備え、リアクター13は、内容物の量の変化に応じて液面の高さが変化しても、液面の面積が不変である形状を有している。 (もっと読む)


【課題】少なくとも1つの液滴を操作するためのマイクロ流体デバイスおよび方法を提供すること。
【解決手段】本デバイスは、平行であり、離間距離(H)だけ相互に離間された、第1のマイクロ流体表面および第2のマイクロ流体表面と、前記第1の表面の上に配置された少なくとも1つの第1の電気変位経路と、前記第2の表面の上に配置された少なくとも1つの第2の電気変位経路とを備える。第1の経路および第2の経路の少なくとも一方は、前記経路に沿って各流体フィンガを形成するように構成され、前記流体フィンガは、毛管作用により少なくとも1つの各液滴を生成することによって破裂する。第1の経路および第2の経路は、前記第1の表面と前記第2の表面との間の離間距離が、一方においては各流体フィンガにより形成される流体厚さよりも大きく、他方においては各液滴により形成される流体厚さよりも小さくなるように構成される。 (もっと読む)


【課題】結晶異方性エッチングにより安定的に流路を形成する流路デバイスの製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明によると、第1の幅を有する第1領域と、第1の幅より広い第2の幅を有する第2領域と、一端が第1領域に接続し、他端が第2領域に接続する接続領域と、を含む流路を備えた流路デバイスの製造方法であって、一主面が{110}面であるシリコン基板を準備し、シリコン基板の一主面上に{110}面と{111}面の交線に沿った第1の端部と、交線に直交し<111>方向に延びる第2の端部と、を含むマスクパターンを形成し、マスクパターンを介して結晶異方性エッチングを行うことにより、シリコン基板の一主面に前記流路を形成すること、を含み、第2領域の両側にそれぞれ配置された第2の端部は、互いに第1領域との距離が異なるように形成されることを特徴とする流路デバイスの製造方法が提供される。 (もっと読む)


【課題】プラズマ発生領域の体積を大きくしたプラズマ発生装置の提供。
【解決手段】大気圧プラズマ発生装置100であって、長手方向に伸び、プラズマを発生する柱状のプラズマ化領域Pを内包する絶縁体から成る筐体10と、プラズマ化領域Pにプラズマ発生ガスを前記長手方向に対して垂直な方向から長手方向に一様に供給するガス導入部12と、プラズマ化領域Pにおいて、前記長手方向に離間して配置された1対の電極2a,2bと、プラズマ化領域Pに接続され、そのプラズマ化領域Pで生成された前記プラズマを排出し、プラズマ化領域Pの長手方向に沿って配列され、前記プラズマ発生ガスの流れる方向に長く伸びた多数の孔から成る排出部24とを有する。 (もっと読む)


【課題】簡便で精度の高い分析を可能とするマイクロチップの提供。
【解決手段】流路において、流路壁の一部が変形することによって、流路内空へ突出して、流路が狭窄又は閉塞される逆流防止構造が形成されるマイクロチップを提供する。逆流防止構造が流路内に形成されることによって、ウェルに充填された溶液の逆流が妨げられ、ウェル間での溶液の通流による汚染が防止され、マイクロチップ内の複数のウェルにおいて、異なる分析を同時に行う場合であっても、精度の高い分析が可能となる。 (もっと読む)


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