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Fターム[4G075DA02]の内容

物理的、化学的プロセス及び装置 (50,066) | プラント (4,942) | フローシート、プラント系統図あり (3,588) | レイアウトあり (3,020)

Fターム[4G075DA02]に分類される特許

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【課題】結晶異方性エッチングにより安定的に流路を形成する流路デバイスの製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明によると、第1の幅を有する第1領域と、第1の幅より広い第2の幅を有する第2領域と、一端が第1領域に接続し、他端が第2領域に接続する接続領域と、を含む流路を備えた流路デバイスの製造方法であって、一主面が{110}面であるシリコン基板を準備し、シリコン基板の一主面上に{110}面と{111}面の交線に沿った第1の端部と、交線に直交し<111>方向に延びる第2の端部と、を含むマスクパターンを形成し、マスクパターンを介して結晶異方性エッチングを行うことにより、シリコン基板の一主面に前記流路を形成すること、を含み、第2領域の両側にそれぞれ配置された第2の端部は、互いに第1領域との距離が異なるように形成されることを特徴とする流路デバイスの製造方法が提供される。 (もっと読む)


【課題】放射導体の先端から筒長方向に沿って延びる状態でプラズマを発生させる。
【解決手段】一方の端部が閉塞板11bによって閉塞されると共に他方の端部に噴出口25が形成された筒体11aを有する筐体11と、閉塞板11bの内面に筐体11の筒長方向に沿って延出するように立設されると共に入力した高周波信号S1を放射する棒状の放射器14とを備え、ガス供給部4によって筐体11内に放電用ガスGが供給され、かつ放射器14が高周波信号S1を放射している状態において、放射器14の先端近傍から噴出口25を介して筐体11の外方に延びるプラズマPを発生させるプラズマ処理装置1であって、筐体11の内面には、ガス供給部4から供給される放電用ガスGを筐体11内に互いに異なる方向で放出するガス放出口22が複数形成されている。 (もっと読む)


【課題】 本発明が解決しようとする課題は、基板処理部の端部領域における紫外線照度の低下を抑制することで、照射エリアの大面積化を図ることが可能な紫外線照射装置を提供する。
【解決手段】 実施形態の紫外線照射装置は、紫外線処理される基板Aが配置される基板処理部1と、基板処理部1と面するように格子状に配置された複数の紫外線照射ユニット21を有する紫外線照射部2と、を具備する紫外線照射装置において、紫外線照射部2は、第1の紫外線照射ユニット21Aと、前記第1の紫外線照射ユニット21Aに対して基板処理部1の位置における紫外線照度のピーク値Pが高く、かつ、ピーク値Pの50%の値以上を照射する照射面積Sが狭い第2の紫外線照射ユニット21Bとを備え、紫外線照射部2の配列の少なくとも一部の行または列においてその中央領域に第1の紫外線照射ユニット21Aを、その端部領域に第2の紫外線照射ユニット21Bを配列する。 (もっと読む)


【課題】従来の酸素濃縮装置は、磁石を筒の中に設置したりしていたが、これでは空気中の酸素を有効に取り込めなかった。更には、酸素を簡単かつ大量にしかも安価に濃縮することが難しかった。
【解決手段】三相交流コイル14等の電磁石18で構成される回転磁界装置3と、永久磁石4と、回転軸8と、モーター11からなり、前記永久磁石4のN極5とS極6の中間に前記回転軸9を設け、前記回転軸9に回転を与える前記モーター11を設けた回転磁界装置3の、どちらか一の回転磁界装置3を、非磁性体気体流路17の一端に近接設置したことを特徴とする。好ましくは、前記非磁性体気体流路17にファン10を加えて設けるのが望ましい。更に好ましくは、前記非磁性体気体流路17が、非磁性体パイプ9などであることが望ましい。 (もっと読む)


【課題】体格の小型化を図りつつ、製造コストを低減することができる反応器を提供する。
【解決手段】未反応物を反応させて水素と窒素を生成する反応部32a、32bと、水素および窒素から窒素を選択的に吸蔵することにより、窒素を分離除去する除去部33a、33bとを備え、除去部33a、33bは、窒素を選択的に吸蔵する際に熱を放出する吸収剤330a、330bと、吸収剤330a、330bが放出する熱を除去する冷却手段35a、35bとを有する。 (もっと読む)


【課題】
紫外線照射による熱影響の少ない光照射装置および印刷装置を提供することを目的とする。
【解決手段】
本発明の光照射装置は、紫外線硬化型インクまたは紫外線硬化型樹脂を被着させた光透過性を有するフィルム状の対象物に対して紫外線を含む光を照射するための光照射装置であって、前記対象物の一方主面に対向するように配置された光照射デバイスと、前記対象物の前記光照射デバイスに対する移動方向の前記光照射デバイスよりも下流側に位置し、前記対象物の他方主面側に当接して下方に反転させて、反転した前記対象物の他方主面が上方に位置する前記対象物を介して前記光照射デバイスに対向するように前記対象物の移動方向を反転させる第1のリターンローラとを備えているため、紫外線硬化を十分に行ないつつ、発光素子からの熱影響が比較的少ない小型化された光照射装置が実現される。 (もっと読む)


【課題】 金属細片を半導体表面にパターン化しなくとも、光照射により発生したキャリアを効率的に利用する手段の提供。
【解決手段】 第一の半導体と第二の半導体とが接合し、第一の半導体側の接合界面に二次元ホールガス層が形成されたヘテロ接合半導体を含むデバイスであって、第二の半導体の厚さが30nm以下であるエネルギー変換デバイス。 (もっと読む)


【課題】安全性を確保しつつ粉体を均一に処理することが可能な粉体攪拌装置を提供する。
【解決手段】粉体攪拌装置20は、反応容器100および回転駆動装置200を含む。反応容器100は、円筒形状の外周壁110および一対の端面壁111を有する。外周壁110の一端および他端にそれぞれ端面壁111が設けられる。反応容器100は、外周壁110の軸心が水平方向に平行になるように断熱カバー400内に配置される。外周壁110は、その軸心に関して回転対称な内周面を有する。粉体処理時には、反応容器100内に粉体が収容され、反応容器100が回転駆動装置200により外周壁110の軸心を通る回転軸R1の周りで回転される。この状態で、反応容器100内に処理ガスが供給される。また、反応容器100内の処理ガスが排出される。 (もっと読む)


【課題】少なくとも1つのパケットに対して汚染なしに化学的または物理的処理を行うためのマイクロ流体デバイスおよび方法を提供する。
【解決手段】マイクロ流体デバイス1において、該デバイスが、軸Xを有するマイクロチャネル2、および下記の少なくとも1つを含むパケット操作手段を含むところのデバイス、発電ユニット9、および上記発電ユニット9に連結されかつ、上記マイクロチャネルの少なくとも一部分の内部に、上記マイクロチャネルの軸Xと実質的に共線的である電場を作るように構成された電極アッセンブリ3、ここで、上記発電ユニット9は、マイクロチャネルにおいて少なくとも1つのパケットを変形させるまたは少なくとも2つのパケットを互いの方に移動させるような振幅および周波数を有する電場を発生させることができる。 (もっと読む)


【課題】安価でコンパクトな紫外線照射装置と、そのような紫外線照射装置を用いて低コストで実施できる光硬化性塗布物の硬化処理方法を提供する。
【解決手段】紫外線を一方向へ照射する紫外線照射部と、前記紫外線照射部の紫外光照射側に該紫外線照射部と離間しかつ該紫外線照射部に対向して設けられた、前記紫外線を反射して該紫外線発光部との間に集光させる反射集光部と、を有している紫外線照射装置。 (もっと読む)


【課題】分解過程のガス濃度の変化に対応して、最適な配合割合の触媒を採用させることにより、ガスの分解効率を高めたガス分解装置を提供する。
【解決手段】固体電解質層101と、この固体電解質層の一側に設けられる第1の電極層102と、他側に設けられる第2の電極層105とを備える複数のガス分解素子100a,100b,100cを含んで構成されるガス分解装置であって、上記第1の電極層又は/及び第2の電極層に含まれる触媒の組成が、上記ガス分解素子によって異なるように構成されているとともに、上記複数のガス分解素子に、ガスを順次作用させて分解するように構成されている。 (もっと読む)


【課題】放電空間におけるプラズマの分布及び流れを好適化できるプラズマ発生体を提供する。
【解決手段】誘電体3の貫通孔9は、放電空間9aと、放電空間9aとは反対側を拡径させる傾斜面3eを内周面の一部とする導入空間9bとを含む。第1対向電極5Aは、z方向の正側から放電空間9aに面し、放電空間9a側が誘電体3により覆われている。第2対向電極5Bは、第1対向電極5Aと放電空間9aを挟んで対向している。第1イオン風用電極7Aは、第1対向電極5A側の傾斜面3eに位置している。プラズマ発生体1は、第1対向電極5A及び第2対向電極5Bの間に電圧が印加されることにより放電空間9aにプラズマを発生可能であり、第1対向電極5A及び第1イオン風用電極7Aの間に電圧が印加されることにより導入空間9bから放電空間9aへ流れるイオン風を発生可能である。 (もっと読む)


【課題】本発明は、プラズマを用いてシランガスを効果的に分解するための手段を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、プラズマを用いたシランガス除去装置に関する。本発明の一実施形態によるシランガス除去装置は、既設定された周波数の電磁波を発振する電磁波供給部と、前記電磁波供給部から供給された前記電磁波及び渦流ガスからプラズマを発生させる放電管と、前記放電管に前記渦流ガスを供給する渦流ガス供給部と、前記放電管で発生された前記プラズマとシランガスとの反応により二酸化珪素及び水が生成される反応炉と、前記放電管内に前記プラズマの発生のための初期電子を供給する点火部と、前記反応炉の上端に形成され、前記反応炉内部の前記プラズマに前記シランガスを供給するシランガス供給部と、前記反応炉で生成された前記二酸化珪素及び水を排出するガス排出部とを備える。 (もっと読む)


【課題】
マイクロメータスケールの微小物質を基板の任意な位置に確実に堆積させる方法を提供する。
【解決手段】
内部に電極が挿入され、且つ、微小物質を溶剤に溶かした溶融液、或いは、溶剤に分散させて得られた微小物質を含む分散液が充填されているマイクロピペットを傾けて配置させ、その先端部が基板表面に近接するように位置決めし、適切な電圧を印加することで分散液のメニスカスを成長させ、基板表面に接触移動させることによって、マイクロメータスケールの微小物質を確実に堆積させる方法。 (もっと読む)


【課題】2軸連続式の処理装置において、その回転軸に装着された装着部材のケーシング内面との接触に起因する不具合を防止する。
【解決手段】ケーシング本体部1cの排出口8の近傍で回転軸2の外周に装着され、外周面の平坦な頂部5aでケーシング本体部1cの内周に嵌め込んだブッシュ13の内面に摺接するとともに、各回転軸2の同一軸方向位置に装着されたものどうしでセルフクリーニングを行う排出スクリュ5を、ガラス繊維を25wt%分散させたポリテトラフルオロエチレン(PTFE)で形成することにより、装着部材としての強度を確保しながら、排出スクリュ5とブッシュ13の摺接部および排出スクリュ5どうしの間で金属粉の発生や被処理物の固着が生じないようにしたのである。 (もっと読む)


【課題】 プラズマ放電部を複数並べて任意の大きさの試料に対応できるように放電面積を拡大する場合であっても、単位あたりの電力コストを増加することなく、均一なプラズマ生成が可能なプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】 高周波信号回路13及び高周波電力回路11を有する高周波電源と筐体21と放電電極2とを備えたプラズマ処理装置において、筐体21内に設置された放電電極2と高周波電力回路11とでプラズマモジュールを構成し、複数個並列接続されたプラズマモジュールに高周波信号回路13からの周波数信号を入力する。 (もっと読む)


【課題】より実用的な噴霧熱分解装置用の粒子捕集装置を提供する。
【解決手段】噴霧熱分解法で合成された粒子を含む粒子含有ガスからの前記粒子の捕集装置であって、前記粒子含有ガスを導入及び排出が可能に形成された、所定の空間部を有する捕集部と、前記空間部中の前記粒子含有ガスに液滴を供給する液滴供給部と、を備えるようにする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、工程チャンバと真空ポンプの間に位置し、低圧プラズマを生成して工程チャンバから排出される汚染物質を除去するプラズマ反応器を提供する。
【解決手段】プラズマ反応器310は、内部にプラズマ生成空間を形成する少なくとも1つの誘電体30と、誘電体30の少なくとも一端に連結する接地電極41,42と、誘電体30の外周面に固定され、交流電源部60と連結して交流駆動電圧が印加される少なくとも1つの駆動電極50と、を含み、接地電極41,42は、プラズマ反応器310の長さ方向に沿って非均一直径を有する。 (もっと読む)


【課題】回転ディスクが高速で回転した場合であっても、振動や回転軸のブレが生じることがなく、軸受部の温度上昇を防止する一方で反応室内の温度低下を防ぎ、反応室の掃除や保守管理が容易で被処理液の連続処理が可能な液体廃棄物処理装置を提供する。
【解決手段】中心部に冷却通路を有し、冷却手段を具える上部軸受部および下部軸受部に軸支され、該下部軸受部よりも下方に延伸する部分を有する回転軸の延伸部分が、正八角形の壁面を有する気密空間の反応室に囲繞され、さらに該反応室が蒸気貯留室に囲繞され、該反応室には該回転軸に固定されて高速回転する複数の有孔回転ディスクと該反応室に固定される複数の邪魔板とが相互に配置され、該反応室にナトリウムが混入された被処理液が送り込まれて該反応室内で無害化処理され、無害化処理された処理済液が該蒸気貯留室に送出された後、外部に排出するようにした。 (もっと読む)


【課題】安全で多様な用途に利用可能な電子放射装置を提供する。
【解決手段】電子放射電極は、ノズル2の断面のセンターとノズルの筒の内側面の中央にある。電源7は交流・直流を問わず高圧・低圧印加を問わない。電子放射装置は、ノズルの途中に電子やイオンが通過可能な空間を有し、そこに金属や成分に金属含む粉末・その他の安全な素材の粉末や液体を含む軟質体等・あらゆる元素の応用物質の中から目的により選択した素材を容器に入れて設置する。液体は薄いフィルムで包み、粉末は網状や表面穴あき状に構成した出入り口付のカートリッジ5に粉末が漏れ出ない設けるか、樹脂等に混合して固化し、ノズルの途中に設置する。 (もっと読む)


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