【課題】プラズマ発生領域の体積を大きくしたプラズマ発生装置の提供。
【解決手段】大気圧プラズマ発生装置１００であって、長手方向に伸び、プラズマを発生する柱状のプラズマ化領域Ｐを内包する絶縁体から成る筐体１０と、プラズマ化領域Ｐにプラズマ発生ガスを前記長手方向に対して垂直な方向から長手方向に一様に供給するガス導入部１２と、プラズマ化領域Ｐにおいて、前記長手方向に離間して配置された１対の電極２ａ，２ｂと、プラズマ化領域Ｐに接続され、そのプラズマ化領域Ｐで生成された前記プラズマを排出し、プラズマ化領域Ｐの長手方向に沿って配列され、前記プラズマ発生ガスの流れる方向に長く伸びた多数の孔から成る排出部２４とを有する。 （もっと読む）

【課題】プラズマの状態を乱すことなく、粒子密度を正確に測定できるようにすること。
【解決手段】プラズマ雰囲気の原子又は分子密度を吸光分光により測定する粒子密度測定プローブである。プラズマ雰囲気に設けられる円柱状の導光体２０であって、その先端部１３に、導光体を伝搬した光を反射する反射板１４と、その反射板の手前に、導光体の長手方向に垂直な断面において一部の壁面が欠落した部分が長手方向に所定長だけ形成され、この部分を通過する光とプラズマ雰囲気の原子又は分子とが接触可能にしたプラズマ導入部１５を有する。光伝搬体３２は、プラズマ導入部１５の手前に位置し側壁による全反射により光を軸方向に案内する。 （もっと読む）

【課題】試料の光吸収係数を高感度で測定する装置を実現する。
【解決手段】リングダウン分光装置は、波長可変フェムト秒ソリトンパルス光源１を用いる。パルス光は、第１光伝送路４、光切換スイッチ５を介して、ループ状の光ファイバー６に入力する。リングダウンパルス光は、光切換スイッチ５を介して、ホモダイン検波器４０に入力する。一方、第１光伝送路４を伝搬するパルス光は、光方向性結合器８、第１光スイッチ素子１２を介して、第２光伝送路２０を構成する各光伝送路に分岐入力される。この第２光伝送路２０を伝搬するパルス光が参照光として、ホモダイン検波器４０に入力して、同期検波される。第２光伝送路２０を構成する複数の光伝送路の光路長は、光ファイバー６の長さだけ、順次、異なると共に、それぞれの光伝送路は、光路長を微小変動させることができる。 （もっと読む）

【課題】高密度なラジカルを生成することが可能なラジカル源を実現すること。
【解決手段】ラジカル源は、ＳＵＳからなる供給管１０と、供給管１０に接続する熱分解窒化ホウ素（ＰＢＮ）からなる円筒状のプラズマ生成管１１を有している。プラズマ生成管１１の外側には、円筒形のＣＣＰ電極１３が配置されていて、ＣＣＰ電極１３よりも下流側には、プラズマ生成管１１の外周に沿って巻かれたコイル１２を有している。供給管１０とプラズマ生成管１１との接続部における供給管１０の開口には、セラミックからなる寄生プラズマ防止管１５が挿入されている。 （もっと読む）

【課題】ラジカル源によるラジカルの照射によって成膜するＭＢＥ装置において、成膜速度を向上させること。
【解決手段】ＭＢＥ装置は、真空容器１と、真空容器１の内部に設けられ、基板３を保持し、基板３の回転、加熱が可能な基板ステージ２と、基板３表面に分子線（原子線）を照射する分子線セル４Ａ〜Ｃと、基板３表面に窒素ラジカルを供給するラジカル源５と、を備えている。ラジカル源５は、ＳＵＳからなる供給管１０と、供給管１０に接続するプラズマ生成管１１を有している。プラズマ生成管１１の外側には、円筒形のＣＣＰ電極１３が配置されていて、ＣＣＰ電極１３よりも下流側には、プラズマ生成管１１の外周に沿って巻かれたコイル１２を有している。供給管１０とプラズマ生成管１１との接続部における供給管１０の開口には、セラミックからなる寄生プラズマ防止管１５が挿入されている。 （もっと読む）

【課題】カーボンナノウォールの結晶性を容易に制御すること。
【解決手段】まず、ラジカル注入型プラズマＣＶＤ法によって基板上にカーボンナノウォールを形成した。そして、形成後のカーボンナノウォールに酸素ラジカルを照射した。酸素ラジカルの照射により、カーボンナノウォール中のアモルファスカーボンなど結晶性の低い部分が選択的にエッチングされる。そのため、ラジカルの照射時間によってエッチング量を制御することによって、カーボンナノウォールの結晶性を制御することができる。 （もっと読む）

【課題】アトマイゼーションの高効率化を図ること。
【解決手段】アトマイザーは、棒状電極１０と、棒状電極１０の先端部から一定距離隔てて配置された試料電極１１を有している。棒状電極１０の先端部は、軸方向を一致させてセラミックス管１４内に納められている。セラミックス管１４の内壁と棒状電極１０との間には隙間が設けられていて、放電ガスがこの隙間を棒状電極１０の先端側軸方向に流される。試料電極１１は、セラミックス管１５によって覆われていて、セラミックス管１５の先端は外径が拡張されており、すり鉢状の凹部１６を有している。凹部１６底面には、試料電極１１が露出している。この凹部に試料を保持する。棒状電極１０、試料電極１１は高圧パルス電源１８に接続されている。高圧パルス電源１８は、図２のように、正負が交互に反転する矩形パルス電圧を出力する。 （もっと読む）

【目的】電極とワークとの間で放電が起き難くする。
【解決手段】放電空間４２Ｂとプラズマ出力口１６との間に設けられたプラズマ流出通路の構成要素である個別通路８１Ｂに関して、Ｘ部分８１ＢＸ、Ｚ部分８１ＢＺのＸ部分８１ＢＸＸの接続部Ｍより放電空間側の部分８１ＢＺO、Ｘ部分８１ＢＸＸ、拡散器８２Ｂ、スリット８６等により主通路が構成され、Ｚ方向部分８１ＢＺの接続部Ｍより放電空間とは反対側の部分８１ＢＺＰにより分岐通路が構成される。アース板９０は、分岐通路８１ＢＺＰを塞ぐ状態で設けられる。分岐通路８１ＢＺＰと主通路の部分８１ＢＺＯとは同一直線上に位置するため、アース板９０との間で放電が起き、ワークＷとの間では起き難くすることができる。 （もっと読む）

【課題】原子吸光分析装置において、アトマイザーと光源との同期を簡易な構成によって実現すること。
【解決手段】原子吸光分析装置は、アトマイザー１と、光源２と、分析装置３と、電源装置４とによって構成されている。電源装置４は、図３に示すように、交流電源５と、半波整流回路６とによって構成されている。交流電源５は、商用の６０ＨｚのＡＣ電源を昇圧した電源であり、アトマイザー１と交流電源５は直接接続され、光源２は半波整流回路６を介して交流電源５に接続されている。アトマイザー１には、交流電源５からの６０Ｈｚの交流電圧がそのまま印加される。半波整流回路６は、たとえばダイオードなどを用いた回路であり、６０Ｈｚの交流電圧を半波整流して出力する。そして、その半波整流された電圧が光源２に印加される。 （もっと読む）

【課題】自己吸収を利用した新規な原子吸光分析装置の実現。
【解決手段】原子吸光分析装置は、アトマイザー１と、ミラー２と、分光測定器３とで構成されている。アトマイザー１は、原子化した試料を含むプラズマ（アトマイズプラズマ５）を発生させる。ミラー２のない状態でアトマイズプラズマ５の発光強度を測定し、目的元素の共鳴線スペクトルの発光強度Ｉｒ１と、Ａｒの励起線スペクトルの発光強度Ｉｕ１を測定する。また、ミラー２を配置し、ミラー２による光の反射によって、アトマイズプラズマ５のゴースト（ゴーストプラズマ６）を発生させた状態で発光強度を測定し、目的元素の共鳴線スペクトルの発光強度Ｉｒと、Ａｒの励起線スペクトルの発光強度Ｉｕを測定する。これらＩｒ１、Ｉｕ１、Ｉｒ、Ｉｕから、目的元素の自己吸収による吸収率を算出することができる。 （もっと読む）