【課題】リソグラフィー特性及びパターン形状に優れたレジスト組成物、該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法、該レジスト組成物用の酸発生剤として有用である新規な化合物及び酸発生剤の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分（Ｂ）は、式（ｂ１−１）で表される基をカチオン部に有する酸発生剤（Ｂ１）を含有することを特徴とするレジスト組成物［式中、Ｒ’は炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基、ハロゲン原子、水酸基、−ＣＯＯＲ”、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ”、ヒドロキシアルキル基又はシアノ基であり、Ｒ”は水素原子またはアルキル基であり、ｐは０〜４の整数である。］。

【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、
前記酸発生剤成分（Ｂ）は、下記一般式（ｂ１−１）で表される基をカチオン部に有する酸発生剤（Ｂ１）を含有することを特徴とするレジスト組成物。
【化１】

［式中、Ｒ’は炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基、ハロゲン原子、水酸基、−ＣＯＯＲ”、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ”、ヒドロキシアルキル基又はシアノ基であり、Ｒ”は水素原子またはアルキル基であり、ｐは０〜４の整数である。］
【請求項２】
前記酸発生剤（Ｂ１）が、下記一般式（ｂ１−２）で表される化合物である請求項１に記載のレジスト組成物。
【化２】

［式中、Ｙは、２価の連結基であり、Ｒ^１は置換基を有していてもよいアリーレン基であり、Ｒ^２、Ｒ^３はそれぞれ独立に有機基であり、Ｒ^２、Ｒ^３は相互に結合して式中のイオウ原子と共に環を形成していてもよく、Ｒ’は炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基、ハロゲン原子、水酸基、−ＣＯＯＲ”、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ”、ヒドロキシアルキル基又はシアノ基であり、Ｒ”は水素原子またはアルキル基であり、ｐは０〜４の整数であり、Ｘ⁻は対アニオンである。］
【請求項３】
前記基材成分（Ａ）が、酸の作用により極性が増大する基材成分（Ａ０）である請求項１又は２に記載のレジスト組成物。
【請求項４】
支持体上に、請求項１〜３のいずれか一項に記載のレジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜を露光する工程、及び前記レジスト膜を現像してレジストパターンを形成する工程を含むレジストパターン形成方法。
【請求項５】
下記一般式（ｂ１−２）で表される化合物。
【化３】

［式中、Ｙは、２価の連結基であり、Ｒ^１は置換基を有していてもよいアリーレン基であり、Ｒ^２、Ｒ^３はそれぞれ独立に有機基であり、Ｒ^２、Ｒ^３は相互に結合して式中のイオウ原子と共に環を形成していてもよく、Ｒ’は炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基、ハロゲン原子、水酸基、−ＣＯＯＲ”、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ”、ヒドロキシアルキル基又はシアノ基であり、Ｒ”は水素原子またはアルキル基であり、ｐは０〜４の整数であり、Ｘ⁻は対アニオンである。］
【請求項６】
請求項５に記載の化合物からなる酸発生剤。

【公開番号】特開２０１２−２４２７９９（Ｐ２０１２−２４２７９９Ａ）
【公開日】平成２４年１２月１０日（２０１２．１２．１０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１１６１３１（Ｐ２０１１−１１６１３１）
【出願日】平成２３年５月２４日（２０１１．５．２４）
【出願人】（０００２２０２３９）東京応化工業株式会社 (1,407)
【Ｆターム（参考）】