二軸配向熱可塑性樹脂積層フィルムおよびその製造方法
【構成】 フィルムの一方の面（Ａ面）の表面粗さ（Ｒａ）が３ｎｍ未満かつそのピーク個数（ＲＭＳ−ｎ）が４０以上であり、反対側の面（Ｂ面）の表面粗さ（Ｒａ）が３〜５０ｎｍであり、かつ、Ａ面、Ｂ面の表面全反射ラマン結晶化指数が２０ｃｍ-1以下である二軸配向熱可塑性樹脂積層フィルム。
【効果】 蒸着テープとして時に高Ｓ／Ｎと面耐久性とを有し、蒸着面、走行面ともに滑り性に極めて優れたフィルムが得られた。
【効果】 蒸着テープとして時に高Ｓ／Ｎと面耐久性とを有し、蒸着面、走行面ともに滑り性に極めて優れたフィルムが得られた。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、二軸配向熱可塑性樹脂積層フィルム、その製造方法及びそれを用いた金属薄膜型磁気記録媒体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】金属薄膜型磁気記録媒体としては、ポリエステルフィルムに金属薄膜型磁性層を設けてなる磁気記録媒体が知られている（たとえば特開昭５８−６８２２５号公報）。また、磁気記録のハード、ソフトの高性能化に伴い、磁気記録テープの磁性体も酸化物塗布、メタル塗布、そして蒸着へと移行してきた。こうした磁気記録の変化にあわせて磁気記録テープの基材フィルムにも数多くの改良が加えられてきた。従来の２層積層の二軸配向熱可塑性樹脂フィルムにおいて、片面について平滑性（磁気テープにした時のＳ／Ｎ（シグナル／ノイズ比）の高さに関与）と滑り性（磁気テープの走行性に関与）、面耐久性の３者を満足させたものがある（たとえば特開平２−７７４３１号公報）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記のような従来のフィルムでは、蒸着面に関して平滑性と滑り性、面耐久性を満足させることができないという問題があった。
【０００４】本発明は、かかる問題点を解決し、蒸着テープに用いた時にも高いＳ／Ｎを有し、しかも両面の滑り性、面耐久性が良好な二軸配向熱可塑性樹脂積層フィルム、その製造方法及びそれを用いた磁気記録媒体を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の二軸配向熱可塑性樹脂積層フィルムは、少なくとも２層の共押出による積層フィルムであって、フィルムの一方の面（Ａ面）の表面粗さが中心線平均粗さ（Ｒａ）で３ｎｍ未満かつそのピーク個数（ＲＭＳ−ｎ）が４０以上であり、反対側の面（Ｂ面）の表面粗さ（Ｒａ）が３〜５０ｎｍであり、かつ、Ａ面の表面全反射ラマン結晶化指数が２０ｃｍ-1以下であるものからなる。
【０００６】ここで、Ｂ面となるフィルム（フィルムＢとする）の厚さ（ｔB ）とフィルムＢに含まれる不活性粒子の粒径（ｄB ）が以下の関係を満たすことが好ましい。
０．１≦ｔB ／ｄB ≦３
【０００７】また、Ａ面となるフィルム（フィルムＡとする）がフィルムＢを構成する熱可塑性樹脂より融点が４０℃以上低い熱可塑性樹脂を主成分とし、その中に含有される不活性粒子の粒径が５〜５０ｎｍ未満であり、フィルムＡの厚さ（ｔA ）とフィルムＡに含まれる不活性粒子の粒径（ｄA ）が以下の関係を満たすことが好ましい。
０．１≦ｔA ／ｄA ≦３さらに、Ａ面に存在する突起の数密度が８００万個／ｍｍ2 以上であって、その突起径が４０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましい。
【０００８】また、フィルムＢ中に含有される不活性粒子の粒径が５０〜４００ｎｍであって、Ｂ面に存在する突起の数密度が２０〜５００万個／ｍｍ2 、その突起径が２００ｎｍ以上１５００ｎｍ以下であることが好ましい。
【０００９】このようなフィルムを製造するに際しては、二軸延伸した後、フィルムＡの融点以上、フィルムＢの融点以下の温度で熱処理するとよい。
【００１０】さらに、上記のような二軸配向熱可塑性樹脂フィルムを基材とし、該基材のＡ面に金属薄膜層を設けることにより、前述の問題を解消した磁気記録媒体が得られる。
【００１１】本発明を構成する熱可塑性樹脂は、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリフェニレンスルフィド等フィルム成形性を有するものであれば特に限定されないが、特にポリエステル、なかでもエチレンテレフタレート、エチレン−α，β−ビス（２−クロロフェノキシ）エタン−４，４’−ジカルボキシレート、エチレン−２，６−ナフタレート単位から選ばれた少なくとも一種の構造単位を主要構成成分とするのが望ましい。
【００１２】本発明のフィルムは、上記組成物を主要成分とするが、本発明の目的を阻害しない範囲内で、他種ポリマをブレンドしてもよいし、酸化防止剤、熱安定剤、滑剤、紫外線吸収剤、核生成剤等の無機または有機添加剤が添加されていてもよい。
【００１３】本発明のフィルムは上記組成物を二軸配向せしめたフィルムであって、その配向の程度を示す厚さ方向の屈折率比は特に限定されないが、例えばエチレンテレフタレートを主要な成分とするポリエステルの場合には０．９３５〜０．９７０の範囲である場合に、Ｓ／Ｎ、滑り性、面耐久性がより一層良好となるので特に望ましい。
【００１４】本発明のフィルムは、Ａ面の表面粗さが中心線平均粗さ（Ｒａ）にて３ｎｍ未満である。より好ましくは０．３〜２．５ｎｍ、さらに好ましくは０．５〜１．５ｎｍであることが望ましい。この範囲より小さいと滑り性、面耐久性が悪化し、この範囲より大きいとＳ／Ｎが低下するので好ましくない。また、Ｂ面の表面粗さ（Ｒａ）は、３〜５０ｎｍである。より好ましくは８〜４０ｎｍ、さらに好ましくは１２〜３０ｎｍであることが望ましい。この範囲より小さいと滑り性が悪化し、この範囲より大きいと出力特性が不良となるので好ましくない。また、ＲＭＳ−ｎが４０未満であるとＡ面のすべり性が悪化するので好ましくない。
【００１５】Ａ面の表面全反射ラマン結晶化指数は、２０ｃｍ-1以下とすることにより、耐久性がより一層良好となり、ハンドリング性も良好となる。
【００１６】本発明のフィルムは、フィルムＢの厚さ（ｔB ）、及び、フィルムＢに含まれる粒径（ｄB ）の間に、０．１≦ｔB ／ｄB ≦３という関係があることが好ましい。より好ましくは０．２以上２以下、さらに好ましくは０．５以上１．５以下である。この範囲より小さいと滑り性が悪化するので好ましくない。この範囲より大きいと出力特性が不良となるので好ましくない。
【００１７】本発明のフィルムにおいて、フィルムＡがフィルムＢを構成する熱可塑性樹脂より融点が４０℃以上低い熱可塑性樹脂を主成分とし、その中に含有される不活性粒子の粒径が５〜５０ｎｍ未満であることが好ましく、より好ましくは１０〜４０ｎｍ、さらに好ましくは１５〜３０ｎｍであることが望ましい。この範囲より小さいと滑り性と面耐久性が悪化し、この範囲より大きいとＳ／Ｎが低下するので好ましくない。また、Ａ面に存在する突起の数密度は８００万個／ｍｍ2 以上であることが好ましく、より好ましくは１２００万個／ｍｍ2 以上、さらに好ましくは１５００万個／ｍｍ2 以上であることが望ましい。この範囲より小さいと滑り性と面耐久性が悪化するので好ましくない。そして突起径については、４０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは６０ｎｍ以上１６０ｎｍ以下、さらに好ましくは８０ｎｍ以上１３０ｎｍ以下であることが望ましい。この範囲より小さいと滑り性、面耐久性が悪化し、大きいとＳ／Ｎが低下するので好ましくない。また、フィルムＡ中に含まれる不活性粒子の添加量が０．０５〜５重量％であることが好ましく、より好ましくは０．１〜４重量％、さらに好ましくは０．２５〜３重量％であることが望ましい。この範囲より小さいと滑り性と面耐久性が悪化し、大きいとＳ／Ｎが低下するので好ましくない。さらに、本発明のフィルムは、フィルムＡの厚さ（ｔA ）とフィルムＡに含まれる不活性粒子の粒径（ｄA ）が以下の関係を満たすことが好ましい。
０．１≦ｔA ／ｄA ≦３この範囲より小さいと滑り性、面耐久性が悪化し、大きいと出力特性が不良となるので好ましくない。さらに、フィルムＡを構成する熱可塑性樹脂に共重合熱可塑性性樹脂を用いると、高いＳ／Ｎが得られるので好ましい。
【００１８】本発明において、フィルムＢ中に含有される不活性粒子の粒径は５０〜４００ｎｍであることが好ましく、より好ましくは６０〜３５０ｎｍ、さらに好ましくは１００〜３００ｎｍであることが望ましい。この範囲より小さいと滑り性が悪化するので好ましくない。この範囲より大きいと出力特性が不良となるので好ましくない。また、添加量は０．１〜１０重量％であることが好ましく、より好ましくは０．５〜７重量％、さらに好ましくは１〜５重量％であることが望ましい。また、Ｂ面に存在する突起の数密度は２０万個／ｍｍ2 以上５００万個／ｍｍ2 以下であることが好ましく、より好ましくは５０万個／ｍｍ2 以上４００万個／ｍｍ2 以下、さらに好ましくは１００万個／ｍｍ2 以上３００万個／ｍｍ2 以下であることが望ましい。この範囲より小さいと滑り性が悪化し、大きいと出力特性が悪化する。そして突起径については、２００ｎｍ以上１５００ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは２５０ｎｍ以上１２００ｎｍ以下、さらに好ましくは３００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であることが望ましい。この範囲より小さいと滑り性が悪化し、大きいと出力特性が悪化する。
【００１９】本発明のフィルムを得るためには、その製造において、二軸延伸後、フィルムＡの融点以上、フィルムＢの融点以下で、より好ましくはフィルムＡの融点＋１０℃以上、フィルムＢの融点−１０℃以下で、さらに好ましくはフィルムＡの融点＋１５℃以上、フィルムＢの融点−１５℃以下で熱処理することが望ましい。
【００２０】本発明のフィルムは、少なくとも上記フィルムＡとフィルムＢとの二層積層構成を有するが、フィルムＡとフィルムＢの間にＣ層を設け、Ａ／Ｃ／Ｂの３層フィルムとしてもよい。この場合、中央のＣ層は不活性粒子を含まなくてもよいが、フィルムＡに含まれる粒子と同じ粒径の粒子を同量程度まで添加してもよい。
【００２１】本発明によって得られる二軸配向熱可塑性樹脂積層フィルムは、蒸着フィルム、特に３層蒸着フィルムにおいてその効果が顕著となる。
【００２２】本発明に使用する不活性粒子の種類は特に限定されないが、コロイダルシリカに起因する実質的に球形のシリカ粒子、架橋高分子による粒子（たとえば架橋ポリスチレン）などが挙げられる。特に１０重量％減量時温度（窒素中で熱重量分析装置島津製作所製ＴＧ−３０Ｍを用いて測定。昇温速度２０℃／分）が３８０℃以上になるまで架橋度を高くした架橋高分子粒子の場合に耐久性がより一層良好となるので特に望ましい。なお、コロイダルシリカに起因する球形シリカの場合にはアルコキシド法で製造された、ナトリウム含有量が少ない、実質的に球形のシリカの場合に耐久性がより一層良好となるので特に望ましい。
【００２３】次に本発明のフィルム及びそれを基材とする磁気記録媒体の製造方法について説明する。まず、熱可塑性樹脂Ａ、ＢまたはＣに不活性粒子を含有せしめる方法としては、不活性粒子をエチレングリコールのスラリーとし、ベント方式の２軸混練押出機を用いて熱可塑性樹脂に練り込む方法が、延伸破れなく、本発明範囲の厚さと平均粒径の関係、含有量の基材フィルムを得るのにきわめて有効である。粒子の含有量を調節する方法としては、上記方法で高濃度マスターを作っておき、それを製膜時に不活性粒子を実質的に含有しない熱可塑性樹脂で希釈して粒子の含有量を調節する方法が有効である。
【００２４】次に、不活性粒子を所定量含有する熱可塑性樹脂Ａ、ＢまたはＣのペレットを必要に応じて乾燥したのち、公知の溶融積層用押出装置に供給し、スリット状のダイからシート状に押出し、キャスティングロール上で冷却固化せしめて未延伸フィルムを作る。すなわち、Ａ／Ｂ２層の構成については２台の押出し機、２層のマニホールドまたは合流ブロックを用いて、熱可塑性樹脂Ａ、Ｂを積層し、口金から２層のシートを押し出し、キャスティングロールで冷却して未延伸フィルムを作る。この場合、熱可塑性樹脂Ａのポリマ流路に、スタティックミキサー、ギヤポンプを設置する方法は延伸破れなく、本発明範囲の厚さと平均粒径の関係、含有量、望ましい範囲の表層粒子濃度比のフィルムを得るのに有効である。また、合流ブロックとして矩形のフィードブロックを用いるのがきわめて有効である。また、Ａ／Ｃ／Ｂの構成の場合は３台の押出機を用いて同様に、３層のマニホールドまたは合流ブロックを用いて、熱可塑性樹脂Ａ、Ｃ、Ｂを積層し、口金から３層のシートを押し出し、キャスティングロールで冷却して未延伸フィルムを作る。
【００２５】次にこの未延伸フィルムを二軸延伸し、二軸配向せしめる。延伸方法としては、逐次二軸延伸法または同時二軸延伸法を用いることができる。ただし、最初に長手方向、次に幅方向の延伸を行なう逐次二軸延伸法を用い、長手方向の延伸を３段階以上に分けて、総縦延伸倍率を３．０〜６．５倍で行なう方法は、本発明範囲の厚さと平均粒径の関係、含有量のフィルムを得るのに有効である。長手方向延伸温度は熱可塑性樹脂の種類によって異なり一概には言えないが、通常、その１段目を５０〜１３０℃とし、２段目以降はそれより高くすることが本発明範囲の積層厚さ斑、本発明の望ましい範囲の表層粒子濃度比のフィルムを得るのに有効である。長手方向延伸速度は５０００〜５００００％／分の範囲が好適である。幅方向の延伸方法としてはステンタを用いる方法が一般的である。延伸倍率は、３．０〜５．０倍の範囲が適当である。幅方向の延伸速度は、１０００〜２００００％／分、温度は８０〜１６０℃の範囲が好適である。
【００２６】次にこの延伸フィルムを熱処理する。幅方向の延伸を行なった後、熱処理を行なわずにもう一度長手方向、幅方向の延伸を行なった後、熱処理することも可能である。
【００２７】次に、このフィルム上に磁性層となる金属薄膜を形成する。磁性層を形成する方法は公知の方法で行なうことができる。例えば、鉄、コバルト・ニッケルまたはその合金の金属薄膜を真空蒸着、イオンプレーティング、スパッタリング等により基材フィルム上に直接、あるいはアルミニウム、チタン、クロム等の下地薄膜を介して形成させるのが好ましい。
【００２８】〔特性の測定方法並びに効果の評価方法〕本発明の特性値の測定方法、並びに効果の評価方法は次のとおりである。
（１）粒子の平均粒径フィルムからポリエステルをプラズマ低温灰化処理法で除去し粒子を露出させる。処理条件はポリエステルは灰化されるが粒子はダメージを受けない条件を選択する。これを走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察し、粒子の画像をイメージアナライザーで処理する。観察箇所を変えて粒子数5,000 個以上で次の数値処理を行ない、それによって求めた数平均径Ｄを平均粒径とする。
Ｄ＝ΣＤｉ／Ｎここで、Ｄｉは粒子の円相当径、Ｎは粒子数である。
【００２９】（２）突起径、突起密度明石製作所（株）製ＳＥＭを用いてフィルム表面を粒径にもよるが、おおよそ数万倍で写真撮影し、２００個の粒子について突起径を写真測定し、その平均を突起径とする。また、これよりも低倍で２０視野撮影し、各視野に存在する突起個数の平均から突起密度を換算した。
【００３０】（３）粒子の含有量ポリエステルは溶解し粒子は溶解させない溶媒を選択し、粒子をポリエステルから遠心分離し、粒子の全体重量に対する比率（重量％）をもって粒子含有量とする。場合によっては赤外分光法の併用も有効である。
【００３１】（４）表面粗さパラメータＲａ（中心線平均粗さ）、Ｒｔ（最大高さ）、ＲＭＳ−ｎ（ピーク個数）
小坂研究所製の高精度段差測定器ＥＴ−１０を用いて測定した。条件は下記のとおりであり、２０回の測定の平均値をとった。
・触針先端半径：０．５μｍ・触針荷重 ：５ｍｇ・測定長 ：０．５ｍｍ・カットオフ値：０．００８ｍｍ
【００３２】（５）Ｓ／Ｎフィルムに真空蒸着機内で微量の酸素の存在下にコバルト・ニッケル合金（Ｎｉ２０重量％）高周波スパッタリング法により斜め蒸着し、厚さμｍの蒸着層を形成させた。続いてテープ幅にスリットし蒸着テープのパンケーキを作成した。このパンケーキから長さ２５０ｍの長さをＶＴＲカセットに組み込みＶＴＲカセットテープとした。このテープに家庭用ＶＴＲを用いてシバソク製のテレビ試験波形発生器（ＴＧ７／Ｕ７０６）により１００％クロマ信号を記録し、その再生信号からシバソク製カラービデオノイズ測定器（９２５Ｄ／１）でクロマＳ／Ｎを測定しこのクロマＳ／Ｎを市販されている８ｍｍビデオテープ（１２０分ＭＥ）と比較して１．０ｄＢ以上高いものをＳ／Ｎ良好、それ以下のものをＳ／Ｎ不良と判定した。
【００３３】（６）滑り性ＡＳＴＭ−Ｄ−１８９４Ｂ−６３に従い、スリップテスターを用いて測定した。Ａ面に関しては０．７未満を良好、０．７以上を不良と判定し、Ｂ面に関しては０．５未満を良好、０．５以上を不良と判定した。
【００３４】（７）面耐久性フィルムを幅1/2 インチのテ−プ状にスリットしたものをテ−プ走行性試験機を使用して、ガイドピン（表面粗度：Ｒａで１００ｎｍ）上を走行させる（走行速度1,000m/min、走行回数１０パス、巻き付け角：６０゜、走行張力：６５ｇ）。この時、フィルムに入った傷を顕微鏡で観察し、幅２．５μｍ以上の傷がテ−プ幅あたり２本未満は優、２本以上１０本未満は良、１０本以上は不良と判定した。優が望ましいが、良でも実用的には使用可能である。
【００３５】（８）積層樹脂層の厚さ２次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）を用いて、表面から深さ３０００ｎｍの範囲のフィルム中の粒子の内、最も高密度の粒子に起因する元素とポリエステルの炭素元素の濃度比（Ｍ+ ／Ｃ+ ）を粒子濃度とし、表面から深さ３０００ｎｍまでの厚さ方向の分析を行なう。表層では表面という界面のために粒子濃度は低く、表面から中に入るにつれて粒子濃度は高くなる。本発明フィルムの場合、一旦極大値となった粒子濃度がまた減少し始める。この濃度分布曲線をもとに表層粒子濃度が極大値の１／２となる深さ（この深さは極大値となる深さよりも深い）を求め、これを積層厚さとした。条件は次の通り。
■測定装置２次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）
西独、ＡＴＯＭＩＫＡ社製、Ａ−ＤＩＤＡ３０００■測定条件１次イオン種 ：Ｏ2 +１次イオン加速電圧 ：１２ＫＶ１次イオン電流 ：２００ｎＡラスター領域 ：４００μｍ□分析領域 ：ゲート３０％測定真空度 ：６．０×１０-9ＴｏｒｒＥ−ＧＵＮ ：０．５ＫＶ−３．０Ａなお、表面から深さ３０００ｎｍの範囲に最も多く含有する粒子が有機高分子粒子の場合はＳＩＭＳでは測定が難しいので、表面からエッチングしながらＸＰＳ（Ｘ線光電子分光法）、ＩＲ（赤外分光法）などで上記同様のデプスプロファイルを測定し積層厚さを求めても良いし、また、電子顕微鏡等による断面観察で粒子濃度の変化状態やポリマの違いによるコントラストの差から界面を認識し積層厚さを求めることもできる。さらには、積層ポリマを剥離後、薄膜段差測定機を用いて積層厚さを求めることもできる。
【００３６】
【実施例】本発明を実施例、比較例に基づいて説明する。
実施例１〜６、比較例１〜７平均粒径の異なる架橋ポリスチレン粒子、コロイダルシリカに起因するシリカ粒子を規定量含有するエチレングリコールスラリーを調製し、このエチレングリコールスラリーを１９０℃で１．５時間熱処理した後、テレフタル酸ジメチルまたはイソフタル酸ジメチル、テレフタル酸ジメチル混合物とエステル交換反応させ、重縮合し、該粒子を含有するポリエチレンテレフタレート（以下ＰＥＴと略す）のペレットＡ、Ｂ、Ｃを作った。この時、重縮合時間を調節し固有粘度を０．６５とした。
【００３７】これらのポリマをそれぞれ１８０℃で６時間減圧乾燥（３Torr）した後、３台の押出機にそれぞれ供給し２８０℃で溶融し、これらのポリマを合流ブロック（フィードブロック）で合流積層し、静電印加キャスト法を用いて表面温度３０℃のキャスティングドラムに巻きつけて冷却固化し、積層未延伸フィルムを作った。この時、厚さ調整はＡ層、Ｂ層についてはギヤポンプを用いて各層の厚さを調節し、Ｃ層の押出機の吐出量の調節により総厚さを調節した。
【００３８】この未延伸フィルムを温度８０℃にて長手方向に３．５倍延伸した。延伸は２組ずつのロ−ルの周速差で、４段階で行なった。得られた一軸延伸フィルムをステンタを用いて延伸速度2,000 ％／分で１００℃で幅方向に３．６倍延伸し、定長下で、所定の温度で５秒間熱処理し、総厚さ１０μｍの二軸配向積層フィルムを得た。
【００３９】これらのフィルムの片面に、真空蒸着機内で微量の酸素の存在化にコバルト・ニッケル合金（Ｎi ２０重量％）を高周波スパッタリング法により斜め蒸着し、厚さ０．２μｍの強磁性薄膜層を形成させた。続いてテープ幅にスリットし金属薄膜型磁気記録媒体を得た。
【００４０】得られたフィルムの評価結果をまとめて表１と表２に示した。それらから、フィルムの表面パラメータが本発明範囲内の場合は、蒸着テープとしたときのＳ／Ｎ、滑り性、面耐久性の全てを満足するフィルムが得られることがわかる。
【００４１】
【表１】
【００４２】
【表２】
【００４３】
【発明の効果】本発明においては、表面形態を特定した二軸配向熱可塑性樹脂積層フィルムとしたので、従来の熱可塑性フィルムに比べて、蒸着テープとした時に、高いＳ／Ｎと面耐久性とを有し、蒸着面、走行面ともに滑り性に極めて優れたフィルムが得られた。これはさらにまた、今後の磁気記録媒体の高品質化のために幅広く活用できるものである。
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、二軸配向熱可塑性樹脂積層フィルム、その製造方法及びそれを用いた金属薄膜型磁気記録媒体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】金属薄膜型磁気記録媒体としては、ポリエステルフィルムに金属薄膜型磁性層を設けてなる磁気記録媒体が知られている（たとえば特開昭５８−６８２２５号公報）。また、磁気記録のハード、ソフトの高性能化に伴い、磁気記録テープの磁性体も酸化物塗布、メタル塗布、そして蒸着へと移行してきた。こうした磁気記録の変化にあわせて磁気記録テープの基材フィルムにも数多くの改良が加えられてきた。従来の２層積層の二軸配向熱可塑性樹脂フィルムにおいて、片面について平滑性（磁気テープにした時のＳ／Ｎ（シグナル／ノイズ比）の高さに関与）と滑り性（磁気テープの走行性に関与）、面耐久性の３者を満足させたものがある（たとえば特開平２−７７４３１号公報）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記のような従来のフィルムでは、蒸着面に関して平滑性と滑り性、面耐久性を満足させることができないという問題があった。
【０００４】本発明は、かかる問題点を解決し、蒸着テープに用いた時にも高いＳ／Ｎを有し、しかも両面の滑り性、面耐久性が良好な二軸配向熱可塑性樹脂積層フィルム、その製造方法及びそれを用いた磁気記録媒体を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の二軸配向熱可塑性樹脂積層フィルムは、少なくとも２層の共押出による積層フィルムであって、フィルムの一方の面（Ａ面）の表面粗さが中心線平均粗さ（Ｒａ）で３ｎｍ未満かつそのピーク個数（ＲＭＳ−ｎ）が４０以上であり、反対側の面（Ｂ面）の表面粗さ（Ｒａ）が３〜５０ｎｍであり、かつ、Ａ面の表面全反射ラマン結晶化指数が２０ｃｍ-1以下であるものからなる。
【０００６】ここで、Ｂ面となるフィルム（フィルムＢとする）の厚さ（ｔB ）とフィルムＢに含まれる不活性粒子の粒径（ｄB ）が以下の関係を満たすことが好ましい。
０．１≦ｔB ／ｄB ≦３
【０００７】また、Ａ面となるフィルム（フィルムＡとする）がフィルムＢを構成する熱可塑性樹脂より融点が４０℃以上低い熱可塑性樹脂を主成分とし、その中に含有される不活性粒子の粒径が５〜５０ｎｍ未満であり、フィルムＡの厚さ（ｔA ）とフィルムＡに含まれる不活性粒子の粒径（ｄA ）が以下の関係を満たすことが好ましい。
０．１≦ｔA ／ｄA ≦３さらに、Ａ面に存在する突起の数密度が８００万個／ｍｍ2 以上であって、その突起径が４０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましい。
【０００８】また、フィルムＢ中に含有される不活性粒子の粒径が５０〜４００ｎｍであって、Ｂ面に存在する突起の数密度が２０〜５００万個／ｍｍ2 、その突起径が２００ｎｍ以上１５００ｎｍ以下であることが好ましい。
【０００９】このようなフィルムを製造するに際しては、二軸延伸した後、フィルムＡの融点以上、フィルムＢの融点以下の温度で熱処理するとよい。
【００１０】さらに、上記のような二軸配向熱可塑性樹脂フィルムを基材とし、該基材のＡ面に金属薄膜層を設けることにより、前述の問題を解消した磁気記録媒体が得られる。
【００１１】本発明を構成する熱可塑性樹脂は、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリフェニレンスルフィド等フィルム成形性を有するものであれば特に限定されないが、特にポリエステル、なかでもエチレンテレフタレート、エチレン−α，β−ビス（２−クロロフェノキシ）エタン−４，４’−ジカルボキシレート、エチレン−２，６−ナフタレート単位から選ばれた少なくとも一種の構造単位を主要構成成分とするのが望ましい。
【００１２】本発明のフィルムは、上記組成物を主要成分とするが、本発明の目的を阻害しない範囲内で、他種ポリマをブレンドしてもよいし、酸化防止剤、熱安定剤、滑剤、紫外線吸収剤、核生成剤等の無機または有機添加剤が添加されていてもよい。
【００１３】本発明のフィルムは上記組成物を二軸配向せしめたフィルムであって、その配向の程度を示す厚さ方向の屈折率比は特に限定されないが、例えばエチレンテレフタレートを主要な成分とするポリエステルの場合には０．９３５〜０．９７０の範囲である場合に、Ｓ／Ｎ、滑り性、面耐久性がより一層良好となるので特に望ましい。
【００１４】本発明のフィルムは、Ａ面の表面粗さが中心線平均粗さ（Ｒａ）にて３ｎｍ未満である。より好ましくは０．３〜２．５ｎｍ、さらに好ましくは０．５〜１．５ｎｍであることが望ましい。この範囲より小さいと滑り性、面耐久性が悪化し、この範囲より大きいとＳ／Ｎが低下するので好ましくない。また、Ｂ面の表面粗さ（Ｒａ）は、３〜５０ｎｍである。より好ましくは８〜４０ｎｍ、さらに好ましくは１２〜３０ｎｍであることが望ましい。この範囲より小さいと滑り性が悪化し、この範囲より大きいと出力特性が不良となるので好ましくない。また、ＲＭＳ−ｎが４０未満であるとＡ面のすべり性が悪化するので好ましくない。
【００１５】Ａ面の表面全反射ラマン結晶化指数は、２０ｃｍ-1以下とすることにより、耐久性がより一層良好となり、ハンドリング性も良好となる。
【００１６】本発明のフィルムは、フィルムＢの厚さ（ｔB ）、及び、フィルムＢに含まれる粒径（ｄB ）の間に、０．１≦ｔB ／ｄB ≦３という関係があることが好ましい。より好ましくは０．２以上２以下、さらに好ましくは０．５以上１．５以下である。この範囲より小さいと滑り性が悪化するので好ましくない。この範囲より大きいと出力特性が不良となるので好ましくない。
【００１７】本発明のフィルムにおいて、フィルムＡがフィルムＢを構成する熱可塑性樹脂より融点が４０℃以上低い熱可塑性樹脂を主成分とし、その中に含有される不活性粒子の粒径が５〜５０ｎｍ未満であることが好ましく、より好ましくは１０〜４０ｎｍ、さらに好ましくは１５〜３０ｎｍであることが望ましい。この範囲より小さいと滑り性と面耐久性が悪化し、この範囲より大きいとＳ／Ｎが低下するので好ましくない。また、Ａ面に存在する突起の数密度は８００万個／ｍｍ2 以上であることが好ましく、より好ましくは１２００万個／ｍｍ2 以上、さらに好ましくは１５００万個／ｍｍ2 以上であることが望ましい。この範囲より小さいと滑り性と面耐久性が悪化するので好ましくない。そして突起径については、４０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは６０ｎｍ以上１６０ｎｍ以下、さらに好ましくは８０ｎｍ以上１３０ｎｍ以下であることが望ましい。この範囲より小さいと滑り性、面耐久性が悪化し、大きいとＳ／Ｎが低下するので好ましくない。また、フィルムＡ中に含まれる不活性粒子の添加量が０．０５〜５重量％であることが好ましく、より好ましくは０．１〜４重量％、さらに好ましくは０．２５〜３重量％であることが望ましい。この範囲より小さいと滑り性と面耐久性が悪化し、大きいとＳ／Ｎが低下するので好ましくない。さらに、本発明のフィルムは、フィルムＡの厚さ（ｔA ）とフィルムＡに含まれる不活性粒子の粒径（ｄA ）が以下の関係を満たすことが好ましい。
０．１≦ｔA ／ｄA ≦３この範囲より小さいと滑り性、面耐久性が悪化し、大きいと出力特性が不良となるので好ましくない。さらに、フィルムＡを構成する熱可塑性樹脂に共重合熱可塑性性樹脂を用いると、高いＳ／Ｎが得られるので好ましい。
【００１８】本発明において、フィルムＢ中に含有される不活性粒子の粒径は５０〜４００ｎｍであることが好ましく、より好ましくは６０〜３５０ｎｍ、さらに好ましくは１００〜３００ｎｍであることが望ましい。この範囲より小さいと滑り性が悪化するので好ましくない。この範囲より大きいと出力特性が不良となるので好ましくない。また、添加量は０．１〜１０重量％であることが好ましく、より好ましくは０．５〜７重量％、さらに好ましくは１〜５重量％であることが望ましい。また、Ｂ面に存在する突起の数密度は２０万個／ｍｍ2 以上５００万個／ｍｍ2 以下であることが好ましく、より好ましくは５０万個／ｍｍ2 以上４００万個／ｍｍ2 以下、さらに好ましくは１００万個／ｍｍ2 以上３００万個／ｍｍ2 以下であることが望ましい。この範囲より小さいと滑り性が悪化し、大きいと出力特性が悪化する。そして突起径については、２００ｎｍ以上１５００ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは２５０ｎｍ以上１２００ｎｍ以下、さらに好ましくは３００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であることが望ましい。この範囲より小さいと滑り性が悪化し、大きいと出力特性が悪化する。
【００１９】本発明のフィルムを得るためには、その製造において、二軸延伸後、フィルムＡの融点以上、フィルムＢの融点以下で、より好ましくはフィルムＡの融点＋１０℃以上、フィルムＢの融点−１０℃以下で、さらに好ましくはフィルムＡの融点＋１５℃以上、フィルムＢの融点−１５℃以下で熱処理することが望ましい。
【００２０】本発明のフィルムは、少なくとも上記フィルムＡとフィルムＢとの二層積層構成を有するが、フィルムＡとフィルムＢの間にＣ層を設け、Ａ／Ｃ／Ｂの３層フィルムとしてもよい。この場合、中央のＣ層は不活性粒子を含まなくてもよいが、フィルムＡに含まれる粒子と同じ粒径の粒子を同量程度まで添加してもよい。
【００２１】本発明によって得られる二軸配向熱可塑性樹脂積層フィルムは、蒸着フィルム、特に３層蒸着フィルムにおいてその効果が顕著となる。
【００２２】本発明に使用する不活性粒子の種類は特に限定されないが、コロイダルシリカに起因する実質的に球形のシリカ粒子、架橋高分子による粒子（たとえば架橋ポリスチレン）などが挙げられる。特に１０重量％減量時温度（窒素中で熱重量分析装置島津製作所製ＴＧ−３０Ｍを用いて測定。昇温速度２０℃／分）が３８０℃以上になるまで架橋度を高くした架橋高分子粒子の場合に耐久性がより一層良好となるので特に望ましい。なお、コロイダルシリカに起因する球形シリカの場合にはアルコキシド法で製造された、ナトリウム含有量が少ない、実質的に球形のシリカの場合に耐久性がより一層良好となるので特に望ましい。
【００２３】次に本発明のフィルム及びそれを基材とする磁気記録媒体の製造方法について説明する。まず、熱可塑性樹脂Ａ、ＢまたはＣに不活性粒子を含有せしめる方法としては、不活性粒子をエチレングリコールのスラリーとし、ベント方式の２軸混練押出機を用いて熱可塑性樹脂に練り込む方法が、延伸破れなく、本発明範囲の厚さと平均粒径の関係、含有量の基材フィルムを得るのにきわめて有効である。粒子の含有量を調節する方法としては、上記方法で高濃度マスターを作っておき、それを製膜時に不活性粒子を実質的に含有しない熱可塑性樹脂で希釈して粒子の含有量を調節する方法が有効である。
【００２４】次に、不活性粒子を所定量含有する熱可塑性樹脂Ａ、ＢまたはＣのペレットを必要に応じて乾燥したのち、公知の溶融積層用押出装置に供給し、スリット状のダイからシート状に押出し、キャスティングロール上で冷却固化せしめて未延伸フィルムを作る。すなわち、Ａ／Ｂ２層の構成については２台の押出し機、２層のマニホールドまたは合流ブロックを用いて、熱可塑性樹脂Ａ、Ｂを積層し、口金から２層のシートを押し出し、キャスティングロールで冷却して未延伸フィルムを作る。この場合、熱可塑性樹脂Ａのポリマ流路に、スタティックミキサー、ギヤポンプを設置する方法は延伸破れなく、本発明範囲の厚さと平均粒径の関係、含有量、望ましい範囲の表層粒子濃度比のフィルムを得るのに有効である。また、合流ブロックとして矩形のフィードブロックを用いるのがきわめて有効である。また、Ａ／Ｃ／Ｂの構成の場合は３台の押出機を用いて同様に、３層のマニホールドまたは合流ブロックを用いて、熱可塑性樹脂Ａ、Ｃ、Ｂを積層し、口金から３層のシートを押し出し、キャスティングロールで冷却して未延伸フィルムを作る。
【００２５】次にこの未延伸フィルムを二軸延伸し、二軸配向せしめる。延伸方法としては、逐次二軸延伸法または同時二軸延伸法を用いることができる。ただし、最初に長手方向、次に幅方向の延伸を行なう逐次二軸延伸法を用い、長手方向の延伸を３段階以上に分けて、総縦延伸倍率を３．０〜６．５倍で行なう方法は、本発明範囲の厚さと平均粒径の関係、含有量のフィルムを得るのに有効である。長手方向延伸温度は熱可塑性樹脂の種類によって異なり一概には言えないが、通常、その１段目を５０〜１３０℃とし、２段目以降はそれより高くすることが本発明範囲の積層厚さ斑、本発明の望ましい範囲の表層粒子濃度比のフィルムを得るのに有効である。長手方向延伸速度は５０００〜５００００％／分の範囲が好適である。幅方向の延伸方法としてはステンタを用いる方法が一般的である。延伸倍率は、３．０〜５．０倍の範囲が適当である。幅方向の延伸速度は、１０００〜２００００％／分、温度は８０〜１６０℃の範囲が好適である。
【００２６】次にこの延伸フィルムを熱処理する。幅方向の延伸を行なった後、熱処理を行なわずにもう一度長手方向、幅方向の延伸を行なった後、熱処理することも可能である。
【００２７】次に、このフィルム上に磁性層となる金属薄膜を形成する。磁性層を形成する方法は公知の方法で行なうことができる。例えば、鉄、コバルト・ニッケルまたはその合金の金属薄膜を真空蒸着、イオンプレーティング、スパッタリング等により基材フィルム上に直接、あるいはアルミニウム、チタン、クロム等の下地薄膜を介して形成させるのが好ましい。
【００２８】〔特性の測定方法並びに効果の評価方法〕本発明の特性値の測定方法、並びに効果の評価方法は次のとおりである。
（１）粒子の平均粒径フィルムからポリエステルをプラズマ低温灰化処理法で除去し粒子を露出させる。処理条件はポリエステルは灰化されるが粒子はダメージを受けない条件を選択する。これを走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察し、粒子の画像をイメージアナライザーで処理する。観察箇所を変えて粒子数5,000 個以上で次の数値処理を行ない、それによって求めた数平均径Ｄを平均粒径とする。
Ｄ＝ΣＤｉ／Ｎここで、Ｄｉは粒子の円相当径、Ｎは粒子数である。
【００２９】（２）突起径、突起密度明石製作所（株）製ＳＥＭを用いてフィルム表面を粒径にもよるが、おおよそ数万倍で写真撮影し、２００個の粒子について突起径を写真測定し、その平均を突起径とする。また、これよりも低倍で２０視野撮影し、各視野に存在する突起個数の平均から突起密度を換算した。
【００３０】（３）粒子の含有量ポリエステルは溶解し粒子は溶解させない溶媒を選択し、粒子をポリエステルから遠心分離し、粒子の全体重量に対する比率（重量％）をもって粒子含有量とする。場合によっては赤外分光法の併用も有効である。
【００３１】（４）表面粗さパラメータＲａ（中心線平均粗さ）、Ｒｔ（最大高さ）、ＲＭＳ−ｎ（ピーク個数）
小坂研究所製の高精度段差測定器ＥＴ−１０を用いて測定した。条件は下記のとおりであり、２０回の測定の平均値をとった。
・触針先端半径：０．５μｍ・触針荷重 ：５ｍｇ・測定長 ：０．５ｍｍ・カットオフ値：０．００８ｍｍ
【００３２】（５）Ｓ／Ｎフィルムに真空蒸着機内で微量の酸素の存在下にコバルト・ニッケル合金（Ｎｉ２０重量％）高周波スパッタリング法により斜め蒸着し、厚さμｍの蒸着層を形成させた。続いてテープ幅にスリットし蒸着テープのパンケーキを作成した。このパンケーキから長さ２５０ｍの長さをＶＴＲカセットに組み込みＶＴＲカセットテープとした。このテープに家庭用ＶＴＲを用いてシバソク製のテレビ試験波形発生器（ＴＧ７／Ｕ７０６）により１００％クロマ信号を記録し、その再生信号からシバソク製カラービデオノイズ測定器（９２５Ｄ／１）でクロマＳ／Ｎを測定しこのクロマＳ／Ｎを市販されている８ｍｍビデオテープ（１２０分ＭＥ）と比較して１．０ｄＢ以上高いものをＳ／Ｎ良好、それ以下のものをＳ／Ｎ不良と判定した。
【００３３】（６）滑り性ＡＳＴＭ−Ｄ−１８９４Ｂ−６３に従い、スリップテスターを用いて測定した。Ａ面に関しては０．７未満を良好、０．７以上を不良と判定し、Ｂ面に関しては０．５未満を良好、０．５以上を不良と判定した。
【００３４】（７）面耐久性フィルムを幅1/2 インチのテ−プ状にスリットしたものをテ−プ走行性試験機を使用して、ガイドピン（表面粗度：Ｒａで１００ｎｍ）上を走行させる（走行速度1,000m/min、走行回数１０パス、巻き付け角：６０゜、走行張力：６５ｇ）。この時、フィルムに入った傷を顕微鏡で観察し、幅２．５μｍ以上の傷がテ−プ幅あたり２本未満は優、２本以上１０本未満は良、１０本以上は不良と判定した。優が望ましいが、良でも実用的には使用可能である。
【００３５】（８）積層樹脂層の厚さ２次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）を用いて、表面から深さ３０００ｎｍの範囲のフィルム中の粒子の内、最も高密度の粒子に起因する元素とポリエステルの炭素元素の濃度比（Ｍ+ ／Ｃ+ ）を粒子濃度とし、表面から深さ３０００ｎｍまでの厚さ方向の分析を行なう。表層では表面という界面のために粒子濃度は低く、表面から中に入るにつれて粒子濃度は高くなる。本発明フィルムの場合、一旦極大値となった粒子濃度がまた減少し始める。この濃度分布曲線をもとに表層粒子濃度が極大値の１／２となる深さ（この深さは極大値となる深さよりも深い）を求め、これを積層厚さとした。条件は次の通り。
西独、ＡＴＯＭＩＫＡ社製、Ａ−ＤＩＤＡ３０００
【００３６】
【実施例】本発明を実施例、比較例に基づいて説明する。
実施例１〜６、比較例１〜７平均粒径の異なる架橋ポリスチレン粒子、コロイダルシリカに起因するシリカ粒子を規定量含有するエチレングリコールスラリーを調製し、このエチレングリコールスラリーを１９０℃で１．５時間熱処理した後、テレフタル酸ジメチルまたはイソフタル酸ジメチル、テレフタル酸ジメチル混合物とエステル交換反応させ、重縮合し、該粒子を含有するポリエチレンテレフタレート（以下ＰＥＴと略す）のペレットＡ、Ｂ、Ｃを作った。この時、重縮合時間を調節し固有粘度を０．６５とした。
【００３７】これらのポリマをそれぞれ１８０℃で６時間減圧乾燥（３Torr）した後、３台の押出機にそれぞれ供給し２８０℃で溶融し、これらのポリマを合流ブロック（フィードブロック）で合流積層し、静電印加キャスト法を用いて表面温度３０℃のキャスティングドラムに巻きつけて冷却固化し、積層未延伸フィルムを作った。この時、厚さ調整はＡ層、Ｂ層についてはギヤポンプを用いて各層の厚さを調節し、Ｃ層の押出機の吐出量の調節により総厚さを調節した。
【００３８】この未延伸フィルムを温度８０℃にて長手方向に３．５倍延伸した。延伸は２組ずつのロ−ルの周速差で、４段階で行なった。得られた一軸延伸フィルムをステンタを用いて延伸速度2,000 ％／分で１００℃で幅方向に３．６倍延伸し、定長下で、所定の温度で５秒間熱処理し、総厚さ１０μｍの二軸配向積層フィルムを得た。
【００３９】これらのフィルムの片面に、真空蒸着機内で微量の酸素の存在化にコバルト・ニッケル合金（Ｎi ２０重量％）を高周波スパッタリング法により斜め蒸着し、厚さ０．２μｍの強磁性薄膜層を形成させた。続いてテープ幅にスリットし金属薄膜型磁気記録媒体を得た。
【００４０】得られたフィルムの評価結果をまとめて表１と表２に示した。それらから、フィルムの表面パラメータが本発明範囲内の場合は、蒸着テープとしたときのＳ／Ｎ、滑り性、面耐久性の全てを満足するフィルムが得られることがわかる。
【００４１】
【表１】
【００４２】
【表２】
【００４３】
【発明の効果】本発明においては、表面形態を特定した二軸配向熱可塑性樹脂積層フィルムとしたので、従来の熱可塑性フィルムに比べて、蒸着テープとした時に、高いＳ／Ｎと面耐久性とを有し、蒸着面、走行面ともに滑り性に極めて優れたフィルムが得られた。これはさらにまた、今後の磁気記録媒体の高品質化のために幅広く活用できるものである。
【特許請求の範囲】
【請求項１】 少なくとも２層の共押出による積層フィルムであって、フィルムの一方の面（Ａ面）の表面粗さが中心線平均粗さ（Ｒａ）で３ｎｍ未満かつそのピーク個数（ＲＭＳ−ｎ）が４０以上であり、反対側の面（Ｂ面）の表面粗さ（Ｒａ）が３〜５０ｎｍであり、かつ、Ａ面の表面全反射ラマン結晶化指数が２０ｃｍ-1以下であることを特徴とする二軸配向熱可塑性樹脂積層フィルム。
【請求項２】 Ｂ面となるフィルム（フィルムＢ）の厚さ（ｔB ）とフィルムＢに含まれる不活性粒子の粒径（ｄB ）が以下の関係を満たす請求項１の二軸配向熱可塑性樹脂積層フィルム。
０．１≦ｔB ／ｄB ≦３
【請求項３】 Ａ面となるフィルム（フィルムＡ）がフィルムＢを構成する熱可塑性樹脂より融点が４０℃以上低い熱可塑性樹脂を主成分とし、その中に含有される不活性粒子の粒径が５〜５０ｎｍ未満であり、フィルムＡの厚さ（ｔA）とフィルムＡに含まれる不活性粒子の粒径（ｄA ）が以下の関係を満たす請求項１又は２の二軸配向熱可塑性樹脂積層フィルム。
０．１≦ｔA ／ｄA ≦３
【請求項４】 前記Ａ面に存在する突起の数密度が８００万個／ｍｍ2 以上であり、その突起径が４０ｎｍ以上２００ｎｍ以下である請求項２又は３の二軸配向熱可塑性樹脂積層フィルム。
【請求項５】 フィルムＢ中に含有される不活性粒子の粒径が５０〜４００ｎｍである請求項２ないし４のいずれかに記載の二軸配向熱可塑性樹脂積層フィルム。
【請求項６】 前記Ｂ面に存在する突起の数密度が２０万個／ｍｍ2 以上５００万個／ｍｍ2 以下であり、その突起径が２００ｎｍ以上１５００ｎｍ以下である請求項１ないし５のいずれかに記載の二軸配向熱可塑性樹脂積層フィルム。
【請求項７】 二軸延伸した後、Ａ面となるフィルムＡの融点以上、Ｂ面となるフィルムＢの融点以下の温度で熱処理することを特徴とする請求項１ないし６のいずれかに記載の二軸配向熱可塑性樹脂積層フィルムの製造方法。
【請求項８】 請求項１の二軸配向熱可塑性樹脂積層フィルムを基材とし、該基材のＡ面に金属薄膜層を設けてなる磁気記録媒体。
【請求項１】 少なくとも２層の共押出による積層フィルムであって、フィルムの一方の面（Ａ面）の表面粗さが中心線平均粗さ（Ｒａ）で３ｎｍ未満かつそのピーク個数（ＲＭＳ−ｎ）が４０以上であり、反対側の面（Ｂ面）の表面粗さ（Ｒａ）が３〜５０ｎｍであり、かつ、Ａ面の表面全反射ラマン結晶化指数が２０ｃｍ-1以下であることを特徴とする二軸配向熱可塑性樹脂積層フィルム。
【請求項２】 Ｂ面となるフィルム（フィルムＢ）の厚さ（ｔB ）とフィルムＢに含まれる不活性粒子の粒径（ｄB ）が以下の関係を満たす請求項１の二軸配向熱可塑性樹脂積層フィルム。
０．１≦ｔB ／ｄB ≦３
【請求項３】 Ａ面となるフィルム（フィルムＡ）がフィルムＢを構成する熱可塑性樹脂より融点が４０℃以上低い熱可塑性樹脂を主成分とし、その中に含有される不活性粒子の粒径が５〜５０ｎｍ未満であり、フィルムＡの厚さ（ｔA）とフィルムＡに含まれる不活性粒子の粒径（ｄA ）が以下の関係を満たす請求項１又は２の二軸配向熱可塑性樹脂積層フィルム。
０．１≦ｔA ／ｄA ≦３
【請求項４】 前記Ａ面に存在する突起の数密度が８００万個／ｍｍ2 以上であり、その突起径が４０ｎｍ以上２００ｎｍ以下である請求項２又は３の二軸配向熱可塑性樹脂積層フィルム。
【請求項５】 フィルムＢ中に含有される不活性粒子の粒径が５０〜４００ｎｍである請求項２ないし４のいずれかに記載の二軸配向熱可塑性樹脂積層フィルム。
【請求項６】 前記Ｂ面に存在する突起の数密度が２０万個／ｍｍ2 以上５００万個／ｍｍ2 以下であり、その突起径が２００ｎｍ以上１５００ｎｍ以下である請求項１ないし５のいずれかに記載の二軸配向熱可塑性樹脂積層フィルム。
【請求項７】 二軸延伸した後、Ａ面となるフィルムＡの融点以上、Ｂ面となるフィルムＢの融点以下の温度で熱処理することを特徴とする請求項１ないし６のいずれかに記載の二軸配向熱可塑性樹脂積層フィルムの製造方法。
【請求項８】 請求項１の二軸配向熱可塑性樹脂積層フィルムを基材とし、該基材のＡ面に金属薄膜層を設けてなる磁気記録媒体。
【公開番号】特開平５−２１２７８８
【公開日】平成５年（１９９３）８月２４日
【国際特許分類】
【出願番号】特願平４−２９３８４８
【出願日】平成４年（１９９２）１０月６日
【出願人】（０００００３１５９）東レ株式会社 (7,677)
【公開日】平成５年（１９９３）８月２４日
【国際特許分類】
【出願日】平成４年（１９９２）１０月６日
【出願人】（０００００３１５９）東レ株式会社 (7,677)
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