交流型プラズマディスプレイパネル用の前面板
【課題】交流型プラズマディスプレイパネルの前面板の放電開始電圧を低減させる。
【解決手段】誘電体保護層１６の表面に、酸化マグネシウム１ｇに対してリチウムを７〜１００００μｇの範囲にて含有し、かつ電子線で励起させたときに発光する光のうち、２００〜３００ｎｍの波長範囲にある光の最大発光ピーク強度が、７００〜８００ｎｍの波長範囲にある光の最大発光ピーク強度の１／１００以下であるリチウム含有酸化マグネシウム粉末１７を点在させる。
【解決手段】誘電体保護層１６の表面に、酸化マグネシウム１ｇに対してリチウムを７〜１００００μｇの範囲にて含有し、かつ電子線で励起させたときに発光する光のうち、２００〜３００ｎｍの波長範囲にある光の最大発光ピーク強度が、７００〜８００ｎｍの波長範囲にある光の最大発光ピーク強度の１／１００以下であるリチウム含有酸化マグネシウム粉末１７を点在させる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、交流型プラズマディスプレイパネル用の前面板に関する。
【背景技術】
【０００２】
交流型プラズマディスプレイパネル（以下、ＡＣ型ＰＤＰという）は、一般に、画像表示面となる前面板と、放電ガスが充填された放電空間を挟んで対向配置された背面板とからなる。前面板は、前面透明基板、前面透明基板の上に形成された一対の放電電極、放電電極を被覆する誘電体層、そして誘電体層の表面に形成された誘電体保護層からなる。背面板は、背面透明基板、背面透明基板の上に形成されたアドレス電極、背面透明基板とアドレス電極とを被覆し、かつ放電空間を区画する隔壁、そして隔壁の表面に配置された赤、緑、青の蛍光体で形成された蛍光体層からなる。
【０００３】
誘電体保護層は、放電空間内にて生成するプラズマによるイオン衝撃から誘電体層を保護する機能と、ＡＣ型ＰＤＰの放電開始時には高い二次電子放出効率によって、放電開始電圧を低減させる機能とが要求される。これらの二つの機能を高い次元でバランスよく持っている材料として、酸化マグネシウムが広く利用されている。
【０００４】
特許文献１には、ＡＣ型ＰＤＰの放電開始電圧をさらに低減させるために、誘電体保護層の中にアルカリ金属を含有させる又は誘電体保護層の上にアルカリ金属からなる層を積層させることが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０００−６７７５９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１に記載されているように、誘電体保護層の中にリチウムなどのアルカリ金属を含有させる又は誘電体保護層の上にリチウムなどのアルカリ金属からなる層を積層させた場合では、ＡＣ型ＰＤＰの放電時にプラズマによるイオン衝撃によって、誘電体保護層あるいはその上に積層させたアルカリ金属からなる層の表面が削られたときに放電開始電圧の変動が大きくなる恐れがある。このプラズマによるイオン衝撃によって誘電体保護層が削られたときの放電開始電圧の変動を小さくするために、誘電体保護層の表面に放電開始電圧を低減させる効果を有する放電開始電圧低減材を点在させて、放電開始電圧低減材がプラズマによるイオン衝撃によって削られる確率を低減させることは有効であると考えられる。
従って、本発明の目的は、誘電体保護層の上に点在させることによってＡＣ型ＰＤＰの放電開始を低減させることができる新規な材料を開発し、長期間にわたって放電開始電圧が低い電圧で安定するＡＣ型ＰＤＰの前面板を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者は、ＡＣ型ＰＤＰの前面板の誘電体保護層の表面に、酸化マグネシウム１ｇに対してリチウムを７〜１００００μｇの範囲にて含有し、かつ酸化マグネシウム結晶内にフッ素を、酸化マグネシウム１ｇに対して１０μｇ以上含むことがないリチウム含有酸化マグネシウム粉末を点在させることによって、ＡＣ型ＰＤＰの放電開始電圧を低減させることが可能となることを見出した。
【０００８】
従って、本発明は、透明基板と、該透明基板の上に形成された一対の放電電極と、該放電電極を被覆する誘電体層と、該誘電体層の上に形成された誘電体保護層とを含む交流型プラズマディスプレイパネル用の前面板であって、該誘電体保護層の表面にリチウム含有酸化マグネシウム粉末が点在し、該リチウム含有酸化マグネシウム粉末が、酸化マグネシウム１ｇに対してリチウムを７〜１００００μｇの範囲にて含有し、かつ酸化マグネシウム結晶内にフッ素を酸化マグネシウム１ｇに対して１０μｇ以上含むことがないことを特徴とする交流型プラズマディスプレイパネル用の前面板にある。
【０００９】
本発明はまた、酸化マグネシウム１ｇに対してリチウムを７〜１００００μｇの範囲にて含有し、かつ酸化マグネシウム結晶内にフッ素を酸化マグネシウム１ｇに対して１０μｇ以上含むことがないリチウム含有酸化マグネシウム粉末にもある。
【００１０】
本発明はまた、透明基板と、該透明基板の上に形成された一対の放電電極と、該放電電極を被覆する誘電体層と、該誘電体層の上に形成された誘電体保護層とを含む交流型プラズマディスプレイパネル用の前面板であって、該誘電体保護層の表面にリチウム含有酸化マグネシウム粉末が点在し、該リチウム含有酸化マグネシウム粉末が、酸化マグネシウム１ｇに対してリチウムを７〜１００００μｇの範囲にて含有し、かつ該リチウム含有酸化マグネシウム粉末を、電子線で励起させたときに発光する光のうち、２００〜３００ｎｍの波長範囲にある光の最大発光ピーク強度が、７００〜８００ｎｍの波長範囲にある光の最大発光ピーク強度の１／１００以下であることを特徴とする交流型プラズマディスプレイパネル用の前面板にもある。
【００１１】
本発明はさらに、酸化マグネシウム１ｇに対してリチウムを７〜１００００μｇの範囲にて含有し、かつ電子線で励起させたときに発光する光のうち、２００〜３００ｎｍの波長範囲にある光の最大発光ピーク強度が、７００〜８００ｎｍの波長範囲にある光の最大発光ピーク強度の１／１００以下であるリチウム含有酸化マグネシウム粉末にもある。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の前面板では、誘電体保護層の表面にリチウム含有酸化マグネシウム粉末を点在させているので、ＡＣ型ＰＤＰの放電時にプラズマによるイオン衝撃によって、リチウム含有酸化マグネシウム粉末が削られる確率が少なくなる。また、リチウム含有酸化マグネシウム粉末を緻密な膜とするよりも点在させた方が、ＡＣ型ＰＤＰの放電空間に接するリチウム含有酸化マグネシウム粉末の面積が大きくなるので、リチウム含有酸化マグネシウム粉末から二次電子が発生し易くなる。このため本発明の前面板を用いたＡＣ型ＰＤＰは、放電開始電圧が長期間にわたって低い電圧で安定する。
また、本発明のリチウム含有酸化マグネシウム粉末をＡＣ型ＰＤＰの前面板に形成されている誘電体保護層の表面に点在させることによって、ＡＣ型ＰＤＰの放電開始電圧を長期間にわたって安定して低減させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明に従う前面板を備えたＡＣ型ＰＤＰの断面図の一例である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本発明のリチウム含有酸化マグネシウム粉末は、酸化マグネシウム１ｇに対してリチウムを７〜１００００μｇの範囲、好ましくは７〜８００μｇの範囲にて含有する。
【００１５】
本発明のリチウム含有酸化マグネシウム粉末では、酸化マグネシウムの結晶内に含まれるリチウムによって、酸化マグネシウムの禁制バンド中に不純物準位が形成される。この不純物準位が形成されることによって、酸化マグネシウムの二次電子放出効率が向上すると考えられる。本発明のリチウム含有酸化マグネシウム粉末では、リチウムの不純物準位が形成されることにより、電子線で励起させたときに７００〜８００ｎｍの波長範囲にある光が強く現れる傾向がある。
【００１６】
本発明のリチウム含有酸化マグネシウム粉末では、酸化マグネシウム結晶内にフッ素を多量に含有すると二次電子放出効率が低下する傾向がある。このため、本発明のリチウム含有酸化マグネシウム粉末では、酸化マグネシウム結晶内にフッ素を酸化マグネシウム１ｇに対して１０μｇ以上含まないことが必要である。酸化マグネシウム結晶内にフッ素を多量に含有すると、電子線で励起させたときに２００〜３００ｎｍの波長範囲にある光が強く現れる傾向がある。従って、酸化マグネシウム結晶内にフッ素量は、電子線で励起させたときに２００〜３００ｎｍの波長範囲にある光の最大発光ピーク強度から確認できる。すなわち、酸化マグネシウム結晶内にフッ素を酸化マグネシウム１ｇに対して１０μｇ以上含まないことは、リチウム含有酸化マグネシウム粉末を電子線で励起させたときに発光する光のうち、２００〜３００ｎｍの波長範囲にある光の最大発光ピーク強度が、７００〜８００ｎｍの波長範囲にある光の最大発光ピーク強度の１／１００以下であることによって確認することができる。２００〜３００ｎｍの波長範囲にある発光ピークは実質的に検出されないことが好ましい。ここで、発光ピークが実質的に検出されないとは、Ｓ／Ｎ比の３倍以上の発光ピークが検出されないことをいう。
【００１７】
本発明のリチウム含有酸化マグネシウム粉末は、ＢＥＴ比表面積が２〜１０ｍ2／ｇの範囲にあることが好ましい。
【００１８】
本発明のリチウム含有酸化マグネシウム粉末は、例えば、酸化マグネシウム粉末とリチウム化合物の粉末とを、酸化マグネシウム１ｇに対してリチウムの量が７〜１００００μｇの範囲となるように混合し、得られた粉末混合物を焼成する方法によって製造することができる。
【００１９】
酸化マグネシウム粉末は、気相法により製造された酸化マグネシウム粉末であることが好ましい。気相法とは、金属マグネシウムの蒸気と酸素とを反応させることによって、金属マグネシウムを酸化して、酸化マグネシウム粉末を製造する方法である。リチウム化合物粉末の例としては、水酸化リチウム粉末、炭酸リチウム粉末、硝酸リチウム粉末及びシュウ酸リチウム粉末を挙げることができる。
【００２０】
酸化マグネシウム粉末とリチウム化合物粉末との粉末混合物の焼成温度は、一般に４５０〜１２００℃の範囲、好ましくは７００〜１２００℃の範囲である。焼成時間は、一般に１０〜６００分の範囲である。
【００２１】
次に、本発明のＡＣ型ＰＤＰ用の前面板について、添付図面を参照しながら説明する。
図１は、本発明に従うＡＣ型ＰＤＰの前面板を備えたＡＣ型ＰＤＰの断面図である。図１において、ＡＣ型ＰＤＰは、前面板１０と放電ガスが充填された放電空間２０を挟んで対向配置された背面板３０とからなる。
【００２２】
前面板１０は、透明基板１１と、透明基板の上に形成された一対の放電電極１４ａ、１４ｂ（それぞれ、透明電極１２ａ、１２ｂとバス電極１３ａ、１３ｂとからなる）と、放電電極１４ａ、１４ｂを被覆する誘電体層１５と、誘電体層の上に形成された誘電体保護層１６と、誘電体保護層１６の表面に点在しているリチウム含有酸化マグネシウム粉末１７とからなる。
【００２３】
透明基板１１の例としてはガラス基板が挙げられる。透明電極１２ａ、１２ｂの材料の例としては、ＩＴＯ、ＺｎＯ及びＳｎＯ2を挙げることができる。バス電極１３ａ、１３ｂの材料の例としては、Ａｇ、Ａｌ、Ｃｒ／Ｃｕ／Ｃｒの積層金属材料を挙げることができる。
【００２４】
誘電体層１５は、一般に低融点ガラス組成物から形成されている。低融点ガラス組成物の例としては、酸化亜鉛、三酸化二ホウ素及び酸化ケイ素の混合物（ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2）を主成分とするガラス組成物、酸化鉛、三酸化二ホウ素及び酸化ケイ素の混合物（ＰｂＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2）を主成分とするガラス組成物、酸化鉛、三酸化二ホウ素、酸化ケイ素及び酸化アルミニウムの混合物（ＰｂＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3）を主成分とするガラス組成物、酸化鉛、酸化亜鉛、三酸化二ホウ素及び酸化ケイ素の混合物（ＰｂＯ−ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2）を主成分とする低融点ガラス組成物が挙げられる。誘電体層１５の厚さは、１０〜５０μｍの範囲にあることが好ましい。
【００２５】
誘電体保護層１６は、酸化マグネシウムから形成されていることが好ましい。酸化マグネシウムからなる誘電体保護層は、電子ビーム蒸着法により成形することが好ましい。誘電体保護層１６の厚さは、０．０１〜５０μｍの範囲にあることが好ましく、０．１〜１０μｍの範囲にあることが特に好ましい。
【００２６】
リチウム含有酸化マグネシウム粉末１７は、誘電体保護層１６の表面に一次粒子の形で点在していてもよいし、凝集粒子（二次粒子）として点在していてもよい。凝集粒子として存在する場合は、凝集粒子の平均サイズは、０．５〜１０μｍの範囲にあることが好ましい。誘電体保護層１６の表面に点在するリチウム含有酸化マグネシウム粉末の量は、誘電体保護層の表面をリチウム含有酸化マグネシウム粉末が占める占有面積が、誘電体保護層全体の面積に対して１〜３０％の範囲となる量であることが好ましく、５〜１５％の範囲となる量であることがより好ましい。リチウム含有酸化マグネシウム粉末の占有面積は、走査型電子顕微鏡により得られる誘電体保護層の拡大写真から測定することができる。
【００２７】
リチウム含有酸化マグネシウム粉末１７を誘電体保護層１６の表面に点在させる方法としては、リチウム含有酸化マグネシウム粉末の分散液を、誘電体保護層の上に塗布した後、乾燥する方法を用いることができる。分散液の溶媒の例としては、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、イソブチルアルコール、ｓ−ブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコールなどのアルコール類、アセトン、エチルメチルケトン、メチルプロピルケトンなどのケトン類を挙げることができる。
【００２８】
放電空間２０には、放電ガスが充填される。放電ガスとしては、一般にＸｅとＮｅの混合ガスが用いられる。
【００２９】
背面板３０は、透明基板３１と、透明基板３１の上に形成されたアドレス電極３２と、アドレス電極３２を被覆する誘電体層３３と、放電空間２０を区画する隔壁３４と、誘電体層３３と隔壁３４の表面に形成された蛍光体層３５とからなる。
【００３０】
透明基板３１の例としてはガラス基板が挙げられる。アドレス電極３２の材料の例としては、Ａｇ、Ａｌ、Ｃｒ／Ｃｕ／Ｃｒの積層金属材料を挙げることができる。誘電体層３３及び隔壁３４は、一般に低融点ガラス組成物からなる。低融点ガラス組成物の例は上記と同様である。蛍光体層３５は、一般に赤色発光蛍光体、緑色発光蛍光体及び青色発光蛍光体のうちのいずれかの蛍光体から形成される。
【実施例】
【００３１】
［実施例１］
（１）リチウム含有酸化マグネシウム粉末の製造
気相合成法により製造された酸化マグネシウム粉末（２０００Ａ、宇部マテリアルズ（株）製）と水酸化リチウム粉末とを、酸化マグネシウム１ｇに対してリチウムの量が５００μｇとなる割合で混合して粉末混合物を得た。得られた粉末混合物をアルミナ製るつぼに投入し、蓋をして電気炉に入れ、２４０℃／時間の昇温速度で７００℃まで上昇させ、次いでその温度で１８０分間焼成した。その後、炉内温度を２４０℃／時間の降温速度で室温まで冷却して、リチウム含有酸化マグネシウム粉末を得た。
【００３２】
（２）ＡＣ型ＰＤＰ用前面板の製造
ホウ珪酸ガラス（縦横の長さ５０ｍｍ、厚さ０．５５ｍｍ）の上に、互いに０．１ｍｍ間隔で平行に配置された一対の放電電極を１０組形成した。次いで、該放電電極の表面に低融点ガラス組成物を塗布して誘電体層（厚み：１０μｍ）を形成した。誘電体層の上に電子ビーム蒸着法により酸化マグネシウム製誘電体保護層（厚さ：１μｍ）を形成した。
次いで、上記（１）で製造したリチウム含有酸化マグネシウム粉末をイソプロピルアルコールに分散させたリチウム含有酸化マグネシウム粉末分散液を、エアーブラシで噴霧したのち、箱形電気炉に入れて、５００℃の温度で３０分間焼成して前面板を製造した。得られた前面板の誘電体保護層の表面に点在しているリチウム含有酸化マグネシウム粉末の面積占有率を走査型電子顕微鏡を用いて測定したところ、１０％であった。
【００３３】
（３）ＡＣ型ＰＤＰ用前面板の放電開始電圧の測定
上記（２）で製造したＡＣ型ＰＤＰ用の前面板の放電電極を電源に接続し、密閉容器に設置し、該密閉容器内の圧力を１ｋＰａ以下にまで減圧した後、キセノンガスを５体積％、ネオンガスを９５体積％の割合で含む混合ガスを６０ｋＰａの圧力となるまで封入した。この操作を３回繰り返した後、前面板の放電電極間に電圧を印加して、徐々に電圧を上昇させ、１０組全ての放電電極間で発光が見られたときの電圧を読み取り、この電圧を放電開始電圧とした。
【００３４】
表１に、リチウム含有酸化マグネシウム粉末のリチウム含有量、フッ素含有量及びＢＥＴ比表面積を、表２に、リチウム含有酸化マグネシウム粉末を電子線で励起させたときに発光する、２００〜３００ｎｍの波長範囲にある光と７００〜８００ｎｍの波長範囲にある光の最大発光ピーク強度を、そして表３に、ＡＣ型ＰＤＰ用前面板の放電開始電圧を示す。なお、リチウム含有量、フッ素含有量及び電子線で励起させたときの最大発光ピーク強度の測定方法は、次の通りである。
【００３５】
［リチウム含有量］
リチウム含有酸化マグネシウム粉末を酸で溶解し、得られた溶液中のリチウム量をＩＣＰ発光分析法により測定して、酸化マグネシウム１ｇに対する量に換算する。
［フッ素含有量］
リチウム含有酸化マグネシウム粉末を酸で溶解し、得られた溶液中のフッ素量をランタン−アリザリンコンプレキソン吸光光度法により測定して、酸化マグネシウム１ｇに対する量に換算する。フッ素の検出下限値は酸化マグネシウム１ｇに対する量で１０μｇである。
［電子線で励起させたときの最大発光ピーク強度］
リチウム含有酸化マグネシウム粉末に電子線を照射して、２００〜３００ｎｍの波長範囲にある光の最大発光ピーク強度と、７００〜８００ｎｍの波長範囲にある光の最大発光ピーク強度とを測定する。
【００３６】
［実施例２］
水酸化リチウム粉末の量を、酸化マグネシウム１ｇに対してリチウムの量を１００μｇとなる量としたこと、粉末混合物の焼成温度を９００℃とした以外は、実施例１と同様にして、リチウム含有酸化マグネシウム粉末を製造した。そして、このリチウム含有酸化マグネシウム粉末を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、ＡＣ型ＰＤＰ用前面板を製造し、その放電開始電圧を測定した。表１に、リチウム含有酸化マグネシウム粉末のリチウム含有量、フッ素含有量及びＢＥＴ比表面積を、表２に、リチウム含有酸化マグネシウム粉末を電子線で励起させたときに発光する、２００〜３００ｎｍの波長範囲にある光と７００〜８００ｎｍの波長範囲にある光の最大発光ピーク強度を、そして表３に、ＡＣ型ＰＤＰ用前面板の放電開始電圧を示す。
【００３７】
［実施例３］
水酸化リチウム粉末の量を、酸化マグネシウム１ｇに対してリチウムの量が１０μｇとなる量としたこと以外は、実施例１と同様にして、リチウム含有酸化マグネシウム粉末を製造した。そして、このリチウム含有酸化マグネシウム粉末を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、ＡＣ型ＰＤＰ用前面板を製造し、その放電開始電圧を測定した。表１に、リチウム含有酸化マグネシウム粉末のリチウム含有量、フッ素含有量及びＢＥＴ比表面積を、表２に、リチウム含有酸化マグネシウム粉末を電子線で励起させたときに発光する、２００〜３００ｎｍの波長範囲にある光と７００〜８００ｎｍの波長範囲にある光の最大発光ピーク強度を、そして表３に、ＡＣ型ＰＤＰ用前面板の放電開始電圧を示す。
【００３８】
［実施例４］
水酸化リチウム粉末の代わりに炭酸リチウム粉末を使用し、炭酸リチウム粉末の量を酸化マグネシウム１ｇに対してリチウムの量が５０００μｇとなる量としたこと、粉末混合物の焼成温度を５００℃とした以外は、実施例１と同様にして、リチウム含有酸化マグネシウム粉末を製造した。そして、このリチウム含有酸化マグネシウム粉末を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、ＡＣ型ＰＤＰ用前面板を製造し、その放電開始電圧を測定した。表１に、リチウム含有酸化マグネシウム粉末のリチウム含有量、フッ素含有量及びＢＥＴ比表面積を、表２に、リチウム含有酸化マグネシウム粉末を電子線で励起させたときに発光する、２００〜３００ｎｍの波長範囲にある光と７００〜８００ｎｍの波長範囲にある光の最大発光ピーク強度を、そして表３に、ＡＣ型ＰＤＰ用前面板の放電開始電圧を示す。
【００３９】
［実施例５］
水酸化リチウム粉末の代わりに炭酸リチウム粉末を使用し、炭酸リチウム粉末の量を酸化マグネシウム１ｇに対してリチウムの量が１００００μｇとなる量としたこと、粉末混合物の焼成温度を５００℃とした以外は、実施例１と同様にして、リチウム含有酸化マグネシウム粉末を製造した。そして、このリチウム含有酸化マグネシウム粉末を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、ＡＣ型ＰＤＰ用前面板を製造し、その放電開始電圧を測定した。表１に、リチウム含有酸化マグネシウム粉末のリチウム含有量、フッ素含有量及びＢＥＴ比表面積を、表２に、リチウム含有酸化マグネシウム粉末を電子線で励起させたときに発光する、２００〜３００ｎｍの波長範囲にある光と７００〜８００ｎｍの波長範囲にある光の最大発光ピーク強度を、そして表３に、ＡＣ型ＰＤＰ用前面板の放電開始電圧を示す。
【００４０】
［比較例１］
水酸化リチウム粉末の量を、酸化マグネシウム１ｇに対してリチウムの量が５μｇとなる量としたこと以外は、実施例１と同様にして、リチウム含有酸化マグネシウム粉末を製造した。そして、このリチウム含有酸化マグネシウム粉末を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、ＡＣ型ＰＤＰ用前面板を製造し、その放電開始電圧を測定した。表１に、リチウム含有酸化マグネシウム粉末のリチウム含有量、フッ素含有量及びＢＥＴ比表面積を、表２に、リチウム含有酸化マグネシウム粉末を電子線で励起させたときに発光する、２００〜３００ｎｍの波長範囲にある光と７００〜８００ｎｍの波長範囲にある光の最大発光ピーク強度を、そして表３に、ＡＣ型ＰＤＰ用前面板の放電開始電圧を示す。
【００４１】
［比較例２］
リチウム含有酸化マグネシウム粉末の代わりに、リチウム含有酸化マグネシウム粉末の酸化マグネシウム源として用いた酸化マグネシウム粉末（２０００Ａ、宇部マテリアルズ（株）製）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、ＡＣ型ＰＤＰ用前面板を製造し、その放電開始電圧を測定した。表１に、リチウム含有酸化マグネシウム粉末のリチウム含有量、フッ素含有量及びＢＥＴ比表面積を、表２に、リチウム含有酸化マグネシウム粉末を電子線で励起させたときに発光する、２００〜３００ｎｍの波長範囲にある光と７００〜８００ｎｍの波長範囲にある光の最大発光ピーク強度を、そして表３に、ＡＣ型ＰＤＰ用前面板の放電開始電圧を示す。
【００４２】
表１
────────────────────────────────────────
リチウム含有量 フッ素含有量 ＢＥＴ比表面積
（μｇ） （μｇ） （ｍ2／ｇ）
────────────────────────────────────────
実施例１ ５００ 検出下限値以下 ５．５６
実施例２ １００ 検出下限値以下 ５．７１
実施例３ １０ 検出下限値以下 ６．４３
実施例４ ５０００ 検出下限値以下 ３．０８
実施例５ １００００ 検出下限値以下 ３．１２
────────────────────────────────────────
比較例１ ５ 検出下限値以下 ７．３０
比較例２ ０ 検出下限値以下 ８．００
────────────────────────────────────────
【００４３】
表２
────────────────────────────────────────
２００〜３００ｎｍの波長範囲 ７００〜８００ｎｍの波長範囲
での最大発光ピーク強度 での最大発光ピーク強度
────────────────────────────────────────
実施例１ 実質的に検出されない １９０
実施例２ 実質的に検出されない １４０
実施例３ 実質的に検出されない １２０
実施例４ 実質的に検出されない ２４０
実施例５ 実質的に検出されない ２６０
────────────────────────────────────────
比較例１ 実質的に検出されない １０５
比較例２ 実質的に検出されない １００
────────────────────────────────────────
注）７００〜８００ｎｍの波長範囲での最大発光ピーク強度は、比較例２を１００とした相対値。
【００４４】
表３
────────────────────────────────────────
放電開始電圧（Ｖ）
────────────────────────────────────────
実施例１ １８０
実施例２ １７０
実施例３ １９０
実施例４ ２１０
実施例５ ２２０
────────────────────────────────────────
比較例１ ２６０
比較例２ ２７０
────────────────────────────────────────
【００４５】
上記表１〜３の結果から明らかなように、本発明に従うリチウム含有酸化マグネシウム粉末を誘電体保護層の上に点在させたＡＣ型ＰＤＰ用の前面板（実施例１〜５）は、リチウムを含有しない酸化マグネシウム粉末を誘電体保護層の上に点在させたＡＣ型ＰＤＰ用の前面板（比較例２）と比較して、放電開始電圧が低減する。
【符号の説明】
【００４６】
１０ 前面板
１１ 透明基板
１２ａ、１２ｂ 透明電極
１３ａ、１３ｂ バス電極
１４ａ、１４ｂ 放電電極
１５ 誘電体層
１６ 誘電体保護層
１７ リチウム含有酸化マグネシウム粉末
２０ 放電空間
３０ 背面板
３１ 透明基板
３２ アドレス電極
３３ 誘電体層
３４ 隔壁
３５ 蛍光体層
【技術分野】
【０００１】
本発明は、交流型プラズマディスプレイパネル用の前面板に関する。
【背景技術】
【０００２】
交流型プラズマディスプレイパネル（以下、ＡＣ型ＰＤＰという）は、一般に、画像表示面となる前面板と、放電ガスが充填された放電空間を挟んで対向配置された背面板とからなる。前面板は、前面透明基板、前面透明基板の上に形成された一対の放電電極、放電電極を被覆する誘電体層、そして誘電体層の表面に形成された誘電体保護層からなる。背面板は、背面透明基板、背面透明基板の上に形成されたアドレス電極、背面透明基板とアドレス電極とを被覆し、かつ放電空間を区画する隔壁、そして隔壁の表面に配置された赤、緑、青の蛍光体で形成された蛍光体層からなる。
【０００３】
誘電体保護層は、放電空間内にて生成するプラズマによるイオン衝撃から誘電体層を保護する機能と、ＡＣ型ＰＤＰの放電開始時には高い二次電子放出効率によって、放電開始電圧を低減させる機能とが要求される。これらの二つの機能を高い次元でバランスよく持っている材料として、酸化マグネシウムが広く利用されている。
【０００４】
特許文献１には、ＡＣ型ＰＤＰの放電開始電圧をさらに低減させるために、誘電体保護層の中にアルカリ金属を含有させる又は誘電体保護層の上にアルカリ金属からなる層を積層させることが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０００−６７７５９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１に記載されているように、誘電体保護層の中にリチウムなどのアルカリ金属を含有させる又は誘電体保護層の上にリチウムなどのアルカリ金属からなる層を積層させた場合では、ＡＣ型ＰＤＰの放電時にプラズマによるイオン衝撃によって、誘電体保護層あるいはその上に積層させたアルカリ金属からなる層の表面が削られたときに放電開始電圧の変動が大きくなる恐れがある。このプラズマによるイオン衝撃によって誘電体保護層が削られたときの放電開始電圧の変動を小さくするために、誘電体保護層の表面に放電開始電圧を低減させる効果を有する放電開始電圧低減材を点在させて、放電開始電圧低減材がプラズマによるイオン衝撃によって削られる確率を低減させることは有効であると考えられる。
従って、本発明の目的は、誘電体保護層の上に点在させることによってＡＣ型ＰＤＰの放電開始を低減させることができる新規な材料を開発し、長期間にわたって放電開始電圧が低い電圧で安定するＡＣ型ＰＤＰの前面板を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者は、ＡＣ型ＰＤＰの前面板の誘電体保護層の表面に、酸化マグネシウム１ｇに対してリチウムを７〜１００００μｇの範囲にて含有し、かつ酸化マグネシウム結晶内にフッ素を、酸化マグネシウム１ｇに対して１０μｇ以上含むことがないリチウム含有酸化マグネシウム粉末を点在させることによって、ＡＣ型ＰＤＰの放電開始電圧を低減させることが可能となることを見出した。
【０００８】
従って、本発明は、透明基板と、該透明基板の上に形成された一対の放電電極と、該放電電極を被覆する誘電体層と、該誘電体層の上に形成された誘電体保護層とを含む交流型プラズマディスプレイパネル用の前面板であって、該誘電体保護層の表面にリチウム含有酸化マグネシウム粉末が点在し、該リチウム含有酸化マグネシウム粉末が、酸化マグネシウム１ｇに対してリチウムを７〜１００００μｇの範囲にて含有し、かつ酸化マグネシウム結晶内にフッ素を酸化マグネシウム１ｇに対して１０μｇ以上含むことがないことを特徴とする交流型プラズマディスプレイパネル用の前面板にある。
【０００９】
本発明はまた、酸化マグネシウム１ｇに対してリチウムを７〜１００００μｇの範囲にて含有し、かつ酸化マグネシウム結晶内にフッ素を酸化マグネシウム１ｇに対して１０μｇ以上含むことがないリチウム含有酸化マグネシウム粉末にもある。
【００１０】
本発明はまた、透明基板と、該透明基板の上に形成された一対の放電電極と、該放電電極を被覆する誘電体層と、該誘電体層の上に形成された誘電体保護層とを含む交流型プラズマディスプレイパネル用の前面板であって、該誘電体保護層の表面にリチウム含有酸化マグネシウム粉末が点在し、該リチウム含有酸化マグネシウム粉末が、酸化マグネシウム１ｇに対してリチウムを７〜１００００μｇの範囲にて含有し、かつ該リチウム含有酸化マグネシウム粉末を、電子線で励起させたときに発光する光のうち、２００〜３００ｎｍの波長範囲にある光の最大発光ピーク強度が、７００〜８００ｎｍの波長範囲にある光の最大発光ピーク強度の１／１００以下であることを特徴とする交流型プラズマディスプレイパネル用の前面板にもある。
【００１１】
本発明はさらに、酸化マグネシウム１ｇに対してリチウムを７〜１００００μｇの範囲にて含有し、かつ電子線で励起させたときに発光する光のうち、２００〜３００ｎｍの波長範囲にある光の最大発光ピーク強度が、７００〜８００ｎｍの波長範囲にある光の最大発光ピーク強度の１／１００以下であるリチウム含有酸化マグネシウム粉末にもある。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の前面板では、誘電体保護層の表面にリチウム含有酸化マグネシウム粉末を点在させているので、ＡＣ型ＰＤＰの放電時にプラズマによるイオン衝撃によって、リチウム含有酸化マグネシウム粉末が削られる確率が少なくなる。また、リチウム含有酸化マグネシウム粉末を緻密な膜とするよりも点在させた方が、ＡＣ型ＰＤＰの放電空間に接するリチウム含有酸化マグネシウム粉末の面積が大きくなるので、リチウム含有酸化マグネシウム粉末から二次電子が発生し易くなる。このため本発明の前面板を用いたＡＣ型ＰＤＰは、放電開始電圧が長期間にわたって低い電圧で安定する。
また、本発明のリチウム含有酸化マグネシウム粉末をＡＣ型ＰＤＰの前面板に形成されている誘電体保護層の表面に点在させることによって、ＡＣ型ＰＤＰの放電開始電圧を長期間にわたって安定して低減させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明に従う前面板を備えたＡＣ型ＰＤＰの断面図の一例である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本発明のリチウム含有酸化マグネシウム粉末は、酸化マグネシウム１ｇに対してリチウムを７〜１００００μｇの範囲、好ましくは７〜８００μｇの範囲にて含有する。
【００１５】
本発明のリチウム含有酸化マグネシウム粉末では、酸化マグネシウムの結晶内に含まれるリチウムによって、酸化マグネシウムの禁制バンド中に不純物準位が形成される。この不純物準位が形成されることによって、酸化マグネシウムの二次電子放出効率が向上すると考えられる。本発明のリチウム含有酸化マグネシウム粉末では、リチウムの不純物準位が形成されることにより、電子線で励起させたときに７００〜８００ｎｍの波長範囲にある光が強く現れる傾向がある。
【００１６】
本発明のリチウム含有酸化マグネシウム粉末では、酸化マグネシウム結晶内にフッ素を多量に含有すると二次電子放出効率が低下する傾向がある。このため、本発明のリチウム含有酸化マグネシウム粉末では、酸化マグネシウム結晶内にフッ素を酸化マグネシウム１ｇに対して１０μｇ以上含まないことが必要である。酸化マグネシウム結晶内にフッ素を多量に含有すると、電子線で励起させたときに２００〜３００ｎｍの波長範囲にある光が強く現れる傾向がある。従って、酸化マグネシウム結晶内にフッ素量は、電子線で励起させたときに２００〜３００ｎｍの波長範囲にある光の最大発光ピーク強度から確認できる。すなわち、酸化マグネシウム結晶内にフッ素を酸化マグネシウム１ｇに対して１０μｇ以上含まないことは、リチウム含有酸化マグネシウム粉末を電子線で励起させたときに発光する光のうち、２００〜３００ｎｍの波長範囲にある光の最大発光ピーク強度が、７００〜８００ｎｍの波長範囲にある光の最大発光ピーク強度の１／１００以下であることによって確認することができる。２００〜３００ｎｍの波長範囲にある発光ピークは実質的に検出されないことが好ましい。ここで、発光ピークが実質的に検出されないとは、Ｓ／Ｎ比の３倍以上の発光ピークが検出されないことをいう。
【００１７】
本発明のリチウム含有酸化マグネシウム粉末は、ＢＥＴ比表面積が２〜１０ｍ2／ｇの範囲にあることが好ましい。
【００１８】
本発明のリチウム含有酸化マグネシウム粉末は、例えば、酸化マグネシウム粉末とリチウム化合物の粉末とを、酸化マグネシウム１ｇに対してリチウムの量が７〜１００００μｇの範囲となるように混合し、得られた粉末混合物を焼成する方法によって製造することができる。
【００１９】
酸化マグネシウム粉末は、気相法により製造された酸化マグネシウム粉末であることが好ましい。気相法とは、金属マグネシウムの蒸気と酸素とを反応させることによって、金属マグネシウムを酸化して、酸化マグネシウム粉末を製造する方法である。リチウム化合物粉末の例としては、水酸化リチウム粉末、炭酸リチウム粉末、硝酸リチウム粉末及びシュウ酸リチウム粉末を挙げることができる。
【００２０】
酸化マグネシウム粉末とリチウム化合物粉末との粉末混合物の焼成温度は、一般に４５０〜１２００℃の範囲、好ましくは７００〜１２００℃の範囲である。焼成時間は、一般に１０〜６００分の範囲である。
【００２１】
次に、本発明のＡＣ型ＰＤＰ用の前面板について、添付図面を参照しながら説明する。
図１は、本発明に従うＡＣ型ＰＤＰの前面板を備えたＡＣ型ＰＤＰの断面図である。図１において、ＡＣ型ＰＤＰは、前面板１０と放電ガスが充填された放電空間２０を挟んで対向配置された背面板３０とからなる。
【００２２】
前面板１０は、透明基板１１と、透明基板の上に形成された一対の放電電極１４ａ、１４ｂ（それぞれ、透明電極１２ａ、１２ｂとバス電極１３ａ、１３ｂとからなる）と、放電電極１４ａ、１４ｂを被覆する誘電体層１５と、誘電体層の上に形成された誘電体保護層１６と、誘電体保護層１６の表面に点在しているリチウム含有酸化マグネシウム粉末１７とからなる。
【００２３】
透明基板１１の例としてはガラス基板が挙げられる。透明電極１２ａ、１２ｂの材料の例としては、ＩＴＯ、ＺｎＯ及びＳｎＯ2を挙げることができる。バス電極１３ａ、１３ｂの材料の例としては、Ａｇ、Ａｌ、Ｃｒ／Ｃｕ／Ｃｒの積層金属材料を挙げることができる。
【００２４】
誘電体層１５は、一般に低融点ガラス組成物から形成されている。低融点ガラス組成物の例としては、酸化亜鉛、三酸化二ホウ素及び酸化ケイ素の混合物（ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2）を主成分とするガラス組成物、酸化鉛、三酸化二ホウ素及び酸化ケイ素の混合物（ＰｂＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2）を主成分とするガラス組成物、酸化鉛、三酸化二ホウ素、酸化ケイ素及び酸化アルミニウムの混合物（ＰｂＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3）を主成分とするガラス組成物、酸化鉛、酸化亜鉛、三酸化二ホウ素及び酸化ケイ素の混合物（ＰｂＯ−ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2）を主成分とする低融点ガラス組成物が挙げられる。誘電体層１５の厚さは、１０〜５０μｍの範囲にあることが好ましい。
【００２５】
誘電体保護層１６は、酸化マグネシウムから形成されていることが好ましい。酸化マグネシウムからなる誘電体保護層は、電子ビーム蒸着法により成形することが好ましい。誘電体保護層１６の厚さは、０．０１〜５０μｍの範囲にあることが好ましく、０．１〜１０μｍの範囲にあることが特に好ましい。
【００２６】
リチウム含有酸化マグネシウム粉末１７は、誘電体保護層１６の表面に一次粒子の形で点在していてもよいし、凝集粒子（二次粒子）として点在していてもよい。凝集粒子として存在する場合は、凝集粒子の平均サイズは、０．５〜１０μｍの範囲にあることが好ましい。誘電体保護層１６の表面に点在するリチウム含有酸化マグネシウム粉末の量は、誘電体保護層の表面をリチウム含有酸化マグネシウム粉末が占める占有面積が、誘電体保護層全体の面積に対して１〜３０％の範囲となる量であることが好ましく、５〜１５％の範囲となる量であることがより好ましい。リチウム含有酸化マグネシウム粉末の占有面積は、走査型電子顕微鏡により得られる誘電体保護層の拡大写真から測定することができる。
【００２７】
リチウム含有酸化マグネシウム粉末１７を誘電体保護層１６の表面に点在させる方法としては、リチウム含有酸化マグネシウム粉末の分散液を、誘電体保護層の上に塗布した後、乾燥する方法を用いることができる。分散液の溶媒の例としては、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、イソブチルアルコール、ｓ−ブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコールなどのアルコール類、アセトン、エチルメチルケトン、メチルプロピルケトンなどのケトン類を挙げることができる。
【００２８】
放電空間２０には、放電ガスが充填される。放電ガスとしては、一般にＸｅとＮｅの混合ガスが用いられる。
【００２９】
背面板３０は、透明基板３１と、透明基板３１の上に形成されたアドレス電極３２と、アドレス電極３２を被覆する誘電体層３３と、放電空間２０を区画する隔壁３４と、誘電体層３３と隔壁３４の表面に形成された蛍光体層３５とからなる。
【００３０】
透明基板３１の例としてはガラス基板が挙げられる。アドレス電極３２の材料の例としては、Ａｇ、Ａｌ、Ｃｒ／Ｃｕ／Ｃｒの積層金属材料を挙げることができる。誘電体層３３及び隔壁３４は、一般に低融点ガラス組成物からなる。低融点ガラス組成物の例は上記と同様である。蛍光体層３５は、一般に赤色発光蛍光体、緑色発光蛍光体及び青色発光蛍光体のうちのいずれかの蛍光体から形成される。
【実施例】
【００３１】
［実施例１］
（１）リチウム含有酸化マグネシウム粉末の製造
気相合成法により製造された酸化マグネシウム粉末（２０００Ａ、宇部マテリアルズ（株）製）と水酸化リチウム粉末とを、酸化マグネシウム１ｇに対してリチウムの量が５００μｇとなる割合で混合して粉末混合物を得た。得られた粉末混合物をアルミナ製るつぼに投入し、蓋をして電気炉に入れ、２４０℃／時間の昇温速度で７００℃まで上昇させ、次いでその温度で１８０分間焼成した。その後、炉内温度を２４０℃／時間の降温速度で室温まで冷却して、リチウム含有酸化マグネシウム粉末を得た。
【００３２】
（２）ＡＣ型ＰＤＰ用前面板の製造
ホウ珪酸ガラス（縦横の長さ５０ｍｍ、厚さ０．５５ｍｍ）の上に、互いに０．１ｍｍ間隔で平行に配置された一対の放電電極を１０組形成した。次いで、該放電電極の表面に低融点ガラス組成物を塗布して誘電体層（厚み：１０μｍ）を形成した。誘電体層の上に電子ビーム蒸着法により酸化マグネシウム製誘電体保護層（厚さ：１μｍ）を形成した。
次いで、上記（１）で製造したリチウム含有酸化マグネシウム粉末をイソプロピルアルコールに分散させたリチウム含有酸化マグネシウム粉末分散液を、エアーブラシで噴霧したのち、箱形電気炉に入れて、５００℃の温度で３０分間焼成して前面板を製造した。得られた前面板の誘電体保護層の表面に点在しているリチウム含有酸化マグネシウム粉末の面積占有率を走査型電子顕微鏡を用いて測定したところ、１０％であった。
【００３３】
（３）ＡＣ型ＰＤＰ用前面板の放電開始電圧の測定
上記（２）で製造したＡＣ型ＰＤＰ用の前面板の放電電極を電源に接続し、密閉容器に設置し、該密閉容器内の圧力を１ｋＰａ以下にまで減圧した後、キセノンガスを５体積％、ネオンガスを９５体積％の割合で含む混合ガスを６０ｋＰａの圧力となるまで封入した。この操作を３回繰り返した後、前面板の放電電極間に電圧を印加して、徐々に電圧を上昇させ、１０組全ての放電電極間で発光が見られたときの電圧を読み取り、この電圧を放電開始電圧とした。
【００３４】
表１に、リチウム含有酸化マグネシウム粉末のリチウム含有量、フッ素含有量及びＢＥＴ比表面積を、表２に、リチウム含有酸化マグネシウム粉末を電子線で励起させたときに発光する、２００〜３００ｎｍの波長範囲にある光と７００〜８００ｎｍの波長範囲にある光の最大発光ピーク強度を、そして表３に、ＡＣ型ＰＤＰ用前面板の放電開始電圧を示す。なお、リチウム含有量、フッ素含有量及び電子線で励起させたときの最大発光ピーク強度の測定方法は、次の通りである。
【００３５】
［リチウム含有量］
リチウム含有酸化マグネシウム粉末を酸で溶解し、得られた溶液中のリチウム量をＩＣＰ発光分析法により測定して、酸化マグネシウム１ｇに対する量に換算する。
［フッ素含有量］
リチウム含有酸化マグネシウム粉末を酸で溶解し、得られた溶液中のフッ素量をランタン−アリザリンコンプレキソン吸光光度法により測定して、酸化マグネシウム１ｇに対する量に換算する。フッ素の検出下限値は酸化マグネシウム１ｇに対する量で１０μｇである。
［電子線で励起させたときの最大発光ピーク強度］
リチウム含有酸化マグネシウム粉末に電子線を照射して、２００〜３００ｎｍの波長範囲にある光の最大発光ピーク強度と、７００〜８００ｎｍの波長範囲にある光の最大発光ピーク強度とを測定する。
【００３６】
［実施例２］
水酸化リチウム粉末の量を、酸化マグネシウム１ｇに対してリチウムの量を１００μｇとなる量としたこと、粉末混合物の焼成温度を９００℃とした以外は、実施例１と同様にして、リチウム含有酸化マグネシウム粉末を製造した。そして、このリチウム含有酸化マグネシウム粉末を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、ＡＣ型ＰＤＰ用前面板を製造し、その放電開始電圧を測定した。表１に、リチウム含有酸化マグネシウム粉末のリチウム含有量、フッ素含有量及びＢＥＴ比表面積を、表２に、リチウム含有酸化マグネシウム粉末を電子線で励起させたときに発光する、２００〜３００ｎｍの波長範囲にある光と７００〜８００ｎｍの波長範囲にある光の最大発光ピーク強度を、そして表３に、ＡＣ型ＰＤＰ用前面板の放電開始電圧を示す。
【００３７】
［実施例３］
水酸化リチウム粉末の量を、酸化マグネシウム１ｇに対してリチウムの量が１０μｇとなる量としたこと以外は、実施例１と同様にして、リチウム含有酸化マグネシウム粉末を製造した。そして、このリチウム含有酸化マグネシウム粉末を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、ＡＣ型ＰＤＰ用前面板を製造し、その放電開始電圧を測定した。表１に、リチウム含有酸化マグネシウム粉末のリチウム含有量、フッ素含有量及びＢＥＴ比表面積を、表２に、リチウム含有酸化マグネシウム粉末を電子線で励起させたときに発光する、２００〜３００ｎｍの波長範囲にある光と７００〜８００ｎｍの波長範囲にある光の最大発光ピーク強度を、そして表３に、ＡＣ型ＰＤＰ用前面板の放電開始電圧を示す。
【００３８】
［実施例４］
水酸化リチウム粉末の代わりに炭酸リチウム粉末を使用し、炭酸リチウム粉末の量を酸化マグネシウム１ｇに対してリチウムの量が５０００μｇとなる量としたこと、粉末混合物の焼成温度を５００℃とした以外は、実施例１と同様にして、リチウム含有酸化マグネシウム粉末を製造した。そして、このリチウム含有酸化マグネシウム粉末を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、ＡＣ型ＰＤＰ用前面板を製造し、その放電開始電圧を測定した。表１に、リチウム含有酸化マグネシウム粉末のリチウム含有量、フッ素含有量及びＢＥＴ比表面積を、表２に、リチウム含有酸化マグネシウム粉末を電子線で励起させたときに発光する、２００〜３００ｎｍの波長範囲にある光と７００〜８００ｎｍの波長範囲にある光の最大発光ピーク強度を、そして表３に、ＡＣ型ＰＤＰ用前面板の放電開始電圧を示す。
【００３９】
［実施例５］
水酸化リチウム粉末の代わりに炭酸リチウム粉末を使用し、炭酸リチウム粉末の量を酸化マグネシウム１ｇに対してリチウムの量が１００００μｇとなる量としたこと、粉末混合物の焼成温度を５００℃とした以外は、実施例１と同様にして、リチウム含有酸化マグネシウム粉末を製造した。そして、このリチウム含有酸化マグネシウム粉末を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、ＡＣ型ＰＤＰ用前面板を製造し、その放電開始電圧を測定した。表１に、リチウム含有酸化マグネシウム粉末のリチウム含有量、フッ素含有量及びＢＥＴ比表面積を、表２に、リチウム含有酸化マグネシウム粉末を電子線で励起させたときに発光する、２００〜３００ｎｍの波長範囲にある光と７００〜８００ｎｍの波長範囲にある光の最大発光ピーク強度を、そして表３に、ＡＣ型ＰＤＰ用前面板の放電開始電圧を示す。
【００４０】
［比較例１］
水酸化リチウム粉末の量を、酸化マグネシウム１ｇに対してリチウムの量が５μｇとなる量としたこと以外は、実施例１と同様にして、リチウム含有酸化マグネシウム粉末を製造した。そして、このリチウム含有酸化マグネシウム粉末を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、ＡＣ型ＰＤＰ用前面板を製造し、その放電開始電圧を測定した。表１に、リチウム含有酸化マグネシウム粉末のリチウム含有量、フッ素含有量及びＢＥＴ比表面積を、表２に、リチウム含有酸化マグネシウム粉末を電子線で励起させたときに発光する、２００〜３００ｎｍの波長範囲にある光と７００〜８００ｎｍの波長範囲にある光の最大発光ピーク強度を、そして表３に、ＡＣ型ＰＤＰ用前面板の放電開始電圧を示す。
【００４１】
［比較例２］
リチウム含有酸化マグネシウム粉末の代わりに、リチウム含有酸化マグネシウム粉末の酸化マグネシウム源として用いた酸化マグネシウム粉末（２０００Ａ、宇部マテリアルズ（株）製）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、ＡＣ型ＰＤＰ用前面板を製造し、その放電開始電圧を測定した。表１に、リチウム含有酸化マグネシウム粉末のリチウム含有量、フッ素含有量及びＢＥＴ比表面積を、表２に、リチウム含有酸化マグネシウム粉末を電子線で励起させたときに発光する、２００〜３００ｎｍの波長範囲にある光と７００〜８００ｎｍの波長範囲にある光の最大発光ピーク強度を、そして表３に、ＡＣ型ＰＤＰ用前面板の放電開始電圧を示す。
【００４２】
表１
────────────────────────────────────────
リチウム含有量 フッ素含有量 ＢＥＴ比表面積
（μｇ） （μｇ） （ｍ2／ｇ）
────────────────────────────────────────
実施例１ ５００ 検出下限値以下 ５．５６
実施例２ １００ 検出下限値以下 ５．７１
実施例３ １０ 検出下限値以下 ６．４３
実施例４ ５０００ 検出下限値以下 ３．０８
実施例５ １００００ 検出下限値以下 ３．１２
────────────────────────────────────────
比較例１ ５ 検出下限値以下 ７．３０
比較例２ ０ 検出下限値以下 ８．００
────────────────────────────────────────
【００４３】
表２
────────────────────────────────────────
２００〜３００ｎｍの波長範囲 ７００〜８００ｎｍの波長範囲
での最大発光ピーク強度 での最大発光ピーク強度
────────────────────────────────────────
実施例１ 実質的に検出されない １９０
実施例２ 実質的に検出されない １４０
実施例３ 実質的に検出されない １２０
実施例４ 実質的に検出されない ２４０
実施例５ 実質的に検出されない ２６０
────────────────────────────────────────
比較例１ 実質的に検出されない １０５
比較例２ 実質的に検出されない １００
────────────────────────────────────────
注）７００〜８００ｎｍの波長範囲での最大発光ピーク強度は、比較例２を１００とした相対値。
【００４４】
表３
────────────────────────────────────────
放電開始電圧（Ｖ）
────────────────────────────────────────
実施例１ １８０
実施例２ １７０
実施例３ １９０
実施例４ ２１０
実施例５ ２２０
────────────────────────────────────────
比較例１ ２６０
比較例２ ２７０
────────────────────────────────────────
【００４５】
上記表１〜３の結果から明らかなように、本発明に従うリチウム含有酸化マグネシウム粉末を誘電体保護層の上に点在させたＡＣ型ＰＤＰ用の前面板（実施例１〜５）は、リチウムを含有しない酸化マグネシウム粉末を誘電体保護層の上に点在させたＡＣ型ＰＤＰ用の前面板（比較例２）と比較して、放電開始電圧が低減する。
【符号の説明】
【００４６】
１０ 前面板
１１ 透明基板
１２ａ、１２ｂ 透明電極
１３ａ、１３ｂ バス電極
１４ａ、１４ｂ 放電電極
１５ 誘電体層
１６ 誘電体保護層
１７ リチウム含有酸化マグネシウム粉末
２０ 放電空間
３０ 背面板
３１ 透明基板
３２ アドレス電極
３３ 誘電体層
３４ 隔壁
３５ 蛍光体層
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板と、該透明基板の上に形成された一対の放電電極と、該放電電極を被覆する誘電体層と、該誘電体層の上に形成された誘電体保護層とを含む交流型プラズマディスプレイパネル用の前面板であって、該誘電体保護層の表面にリチウム含有酸化マグネシウム粉末が点在し、該リチウム含有酸化マグネシウム粉末が、酸化マグネシウム１ｇに対してリチウムを７〜１００００μｇの範囲にて含有し、かつ酸化マグネシウム結晶内にフッ素を酸化マグネシウム１ｇに対して１０μｇ以上含むことがないことを特徴とする交流型プラズマディスプレイパネル用の前面板。
【請求項２】
リチウム含有酸化マグネシウム粉末のリチウムの含有量が、酸化マグネシウム１ｇに対して７〜８００μｇの範囲にある請求項１に記載の交流型プラズマディスプレイパネル用の前面板。
【請求項３】
酸化マグネシウム１ｇに対してリチウムを７〜１００００μｇの範囲にて含有し、かつ酸化マグネシウム結晶内にフッ素を酸化マグネシウム１ｇに対して１０μｇ以上含むことがないリチウム含有酸化マグネシウム粉末。
【請求項４】
リチウムの含有量が、酸化マグネシウム１ｇに対して７〜８００μｇの範囲にある請求項３に記載のリチウム含有酸化マグネシウム粉末。
【請求項５】
透明基板と、該透明基板の上に形成された一対の放電電極と、該放電電極を被覆する誘電体層と、該誘電体層の上に形成された誘電体保護層とを含む交流型プラズマディスプレイパネル用の前面板であって、該誘電体保護層の表面にリチウム含有酸化マグネシウム粉末が点在し、該リチウム含有酸化マグネシウム粉末が、酸化マグネシウム１ｇに対してリチウムを７〜１００００μｇの範囲にて含有し、かつ該リチウム含有酸化マグネシウム粉末を、電子線で励起させたときに発光する光のうち、２００〜３００ｎｍの波長範囲にある光の最大発光ピーク強度が、７００〜８００ｎｍの波長範囲にある光の最大発光ピーク強度の１／１００以下であることを特徴とする交流型プラズマディスプレイパネル用の前面板。
【請求項６】
酸化マグネシウム１ｇに対してリチウムを７〜１００００μｇの範囲にて含有し、かつ電子線で励起させたときに発光する光のうち、２００〜３００ｎｍの波長範囲にある光の最大発光ピーク強度が、７００〜８００ｎｍの波長範囲にある光の最大発光ピーク強度の１／１００以下であるリチウム含有酸化マグネシウム粉末。
【請求項１】
透明基板と、該透明基板の上に形成された一対の放電電極と、該放電電極を被覆する誘電体層と、該誘電体層の上に形成された誘電体保護層とを含む交流型プラズマディスプレイパネル用の前面板であって、該誘電体保護層の表面にリチウム含有酸化マグネシウム粉末が点在し、該リチウム含有酸化マグネシウム粉末が、酸化マグネシウム１ｇに対してリチウムを７〜１００００μｇの範囲にて含有し、かつ酸化マグネシウム結晶内にフッ素を酸化マグネシウム１ｇに対して１０μｇ以上含むことがないことを特徴とする交流型プラズマディスプレイパネル用の前面板。
【請求項２】
リチウム含有酸化マグネシウム粉末のリチウムの含有量が、酸化マグネシウム１ｇに対して７〜８００μｇの範囲にある請求項１に記載の交流型プラズマディスプレイパネル用の前面板。
【請求項３】
酸化マグネシウム１ｇに対してリチウムを７〜１００００μｇの範囲にて含有し、かつ酸化マグネシウム結晶内にフッ素を酸化マグネシウム１ｇに対して１０μｇ以上含むことがないリチウム含有酸化マグネシウム粉末。
【請求項４】
リチウムの含有量が、酸化マグネシウム１ｇに対して７〜８００μｇの範囲にある請求項３に記載のリチウム含有酸化マグネシウム粉末。
【請求項５】
透明基板と、該透明基板の上に形成された一対の放電電極と、該放電電極を被覆する誘電体層と、該誘電体層の上に形成された誘電体保護層とを含む交流型プラズマディスプレイパネル用の前面板であって、該誘電体保護層の表面にリチウム含有酸化マグネシウム粉末が点在し、該リチウム含有酸化マグネシウム粉末が、酸化マグネシウム１ｇに対してリチウムを７〜１００００μｇの範囲にて含有し、かつ該リチウム含有酸化マグネシウム粉末を、電子線で励起させたときに発光する光のうち、２００〜３００ｎｍの波長範囲にある光の最大発光ピーク強度が、７００〜８００ｎｍの波長範囲にある光の最大発光ピーク強度の１／１００以下であることを特徴とする交流型プラズマディスプレイパネル用の前面板。
【請求項６】
酸化マグネシウム１ｇに対してリチウムを７〜１００００μｇの範囲にて含有し、かつ電子線で励起させたときに発光する光のうち、２００〜３００ｎｍの波長範囲にある光の最大発光ピーク強度が、７００〜８００ｎｍの波長範囲にある光の最大発光ピーク強度の１／１００以下であるリチウム含有酸化マグネシウム粉末。
【図１】
【公開番号】特開２０１２−１０９１１２（Ｐ２０１２−１０９１１２Ａ）
【公開日】平成２４年６月７日（２０１２．６．７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−２５６８６７（Ｐ２０１０−２５６８６７）
【出願日】平成２２年１１月１７日（２０１０．１１．１７）
【出願人】（０００１１９９８８）宇部マテリアルズ株式会社 (120)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年６月７日（２０１２．６．７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年１１月１７日（２０１０．１１．１７）
【出願人】（０００１１９９８８）宇部マテリアルズ株式会社 (120)
【Ｆターム（参考）】
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