偏光板の製造方法
【課題】偏光フィルムと保護層との接着強度が高く、耐擦傷性に優れた偏光板の製造方法を提供することにある。
【解決手段】本発明に係る偏光板の製造方法は、（ａ）偏光フィルムと前記偏光フィルムの第１の面の上に形成された第１の保護層との間、および前記偏光フィルムと前記偏光フィルムの第２の面の上に形成された第２の保護層との間に、放射線硬化型接着剤用組成物を供給する工程と、（ｂ）前記偏光フィルムと、前記第１の保護層と、前記第２の保護層と、を前記放射線硬化型接着剤用組成物を介して貼合する工程と、（ｃ）放射線を照射することにより前記放射線硬化型接着剤用組成物を硬化させて、放射線硬化型接着剤層を形成する工程と、を含み、少なくとも第１の保護層は、ケン化処理を行っていないことを特徴とする。
【解決手段】本発明に係る偏光板の製造方法は、（ａ）偏光フィルムと前記偏光フィルムの第１の面の上に形成された第１の保護層との間、および前記偏光フィルムと前記偏光フィルムの第２の面の上に形成された第２の保護層との間に、放射線硬化型接着剤用組成物を供給する工程と、（ｂ）前記偏光フィルムと、前記第１の保護層と、前記第２の保護層と、を前記放射線硬化型接着剤用組成物を介して貼合する工程と、（ｃ）放射線を照射することにより前記放射線硬化型接着剤用組成物を硬化させて、放射線硬化型接着剤層を形成する工程と、を含み、少なくとも第１の保護層は、ケン化処理を行っていないことを特徴とする。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偏光板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ（以下、「ＬＣＤ」という。）は、薄型、軽量、低消費電力という特徴から、パソコンのモニターを始めとしてテレビモニター、携帯電話などの表示デバイスとして使用されている。そして、ＬＣＤは近年、耐久性および耐熱性の要求される自動車用途、例えば、カーナビゲーション、自動車用インナーパネルといった用途に拡大されつつある。
【０００３】
ＬＣＤは、一般に、電場の印加により液晶分子の配向方向を制御することで偏光の通過、遮断を切り替える機能を持つ液晶セルと、それを挟む状態で透過軸を直角に配置された二枚の偏光板から構成される。
【０００４】
偏光板は、通常、透明性に優れた基板（光学フィルム）と、偏光子から形成される。また、偏光板は、光学フィルムを延伸し、透過光に位相差を与える機能を付与したフィルム（位相差フィルム）と、偏光子から形成されていてもよい。
【０００５】
前記偏光子としては、一般にポリビニルアルコール（以下、「ＰＶＡ」という。）にヨウ素や二色性染料を吸着、分散させた一軸配向フィルムが用いられている。このＰＶＡ系偏光子は、偏光機能に優れているが、耐熱性が低く、温度変化や水分量の変化によって寸法変化が起こり、偏光機能の低下をきたすことが知られている。それを防止するため、前記基板が、ＰＶＡ系偏光子の両面に保護層として接着されている。保護層としては、従来からトリアセチルセルロース樹脂フィルムや環状オレフィン系樹脂フィルムが主に用いられ、接着剤としてＰＶＡを含有する水系の接着剤が用いられている。トリアセチルセルロース樹脂フィルムを水系接着剤で接着する場合は、十分な接着強度を得るために、接着前にトリアセチルセルロース樹脂フィルムを高温のアルカリ水溶液に浸漬し、その表面のアセチル基をケン化して除去する必要がある（例えば、特許文献１および特許文献２参照）。
【０００６】
一方、昨今の液晶ディスプレイの大型化に伴い、ディスプレイへの写り込みが問題となり、その対策としてディスプレイの表面に反射防止層を形成することが一般的に行われている。その手法の一つに、ディスプレイ表面に保護層より屈折率の低い低屈折率層を設ける手法があり、低屈折率層としてコロイダルシリカや中空シリカ粒子を含有する硬化膜を使用することが提案されている。
【０００７】
しかしながら、シリカ粒子、特に中空シリカ粒子を含むフィルムをケン化処理すると、中空シリカ粒子は侵食されてしまい、反射防止層の耐擦傷性が低下する原因となっていた。ケン化処理の際に該反射防止層を保護するために、プロテクトフィルムを貼合する方法もあるが、その分コストが上昇してしまう。
【特許文献１】特開平９−２５８０２３号公報
【特許文献２】特開平１０−２６８１３３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、偏光フィルムと保護層との接着強度が高く、耐擦傷性に優れた偏光板の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明に係る偏光板の製造方法は、（ａ）偏光フィルムと前記偏光フィルムの第１の面の上に形成された第１の保護層との間、および前記偏光フィルムと前記偏光フィルムの第２の面の上に形成された第２の保護層との間に、放射線硬化型接着剤用組成物を供給する工程と、（ｂ）前記偏光フィルムと、前記第１の保護層と、前記第２の保護層と、を前記放射線硬化型接着剤用組成物を介して貼合する工程と、（ｃ）放射線を照射することにより前記放射線硬化型接着剤用組成物を硬化させて、放射線硬化型接着剤層を形成する工程と、を含み、少なくとも第１の保護層は、ケン化処理を行っていないことを特徴とする。
【００１０】
本発明に係る偏光板の製造方法は、前記工程（ａ）の前に、さらに、前記第１の保護層または前記第２の保護層の前記偏光フィルムを貼合する面にコロナ放電処理を行う工程を含むことができる。
【００１１】
本発明に係る偏光板の製造方法において、前記第１の保護層および前記第２の保護層の少なくとも一方は、紫外線吸収剤を含むことができる。
【００１２】
本発明に係る偏光板の製造方法において、前記第１の保護層または前記第２の保護層のうち紫外線透過率の高い保護層側から放射線を照射することができる。
【００１３】
本発明に係る偏光板の製造方法において、前記第２の保護層は、位相差フィルムの機能を兼ねることができる。
【００１４】
本発明に係る偏光板の製造方法は、さらに、前記第１の保護層の上に、ハードコート層を形成する工程を含むことができる。
【００１５】
本発明に係る偏光板の製造方法において、前記ハードコート層は、帯電防止機能を有することができる。
【００１６】
本発明に係る偏光板の製造方法は、さらに、前記ハードコート層の上に、低屈折率層を形成する工程を含むことができる。
【００１７】
本発明に係る偏光板の製造方法において、前記低屈折率層は、シリカ系中空粒子を含むことができる。
【００１８】
本発明に係る偏光板の製造方法において、前記放射線硬化型接着剤層は、少なくとも下記成分（ｄ）と、（ｅ）と、（ｆ）とを含む放射線硬化性液状樹脂組成物の硬化物であることができる。
（ｄ）脂環式エポキシ化合物、
（ｅ）水酸基を少なくとも１個含有し、数平均分子量が５００以上である化合物、
（ｆ）光酸発生剤。
【００１９】
本発明に係る偏光板の製造方法において、さらに、前記放射線硬化性液状樹脂組成物は、下記式（１）で表される成分を含むことができる。
【化２】
（Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立に一価の有機基であり、Ｒ１〜Ｒ３のうち少なくとも２つが−Ｒ４ＯＣＯＣＲ５＝ＣＨ２であり、Ｒ４は炭素数２〜８の２価の有機基であり、Ｒ５は水素原子またはメチル基である。）
【００２０】
本発明に係る偏光板の製造方法において、さらに、前記放射線硬化性液状樹脂組成物は、脂肪族エポキシ化合物を含むことができる。
【発明の効果】
【００２１】
上記偏光板の製造方法によれば、偏光フィルムと保護層とを放射線硬化型接着剤を介して貼合するため、従来の水系接着剤を用いる際に必要とされていたケン化処理工程を省くことができる。これにより、シリカ系中空粒子含有層の劣化を防止することができ、偏光板製造プロセスにおける耐擦傷性の低下を改善することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、本発明の好適な実施形態について、図面を参照しながら説明する。
【００２３】
１．偏光板の構成
まず、本実施形態に係る偏光板の製造方法によって、製造される偏光板の構成について説明する。図１は、本実施形態に係る偏光板１００の断面を示す模式図である。偏光板１００は、偏光フィルム１０と、偏光フィルム１０の第１の面の上に、第１の放射線硬化型接着剤層１２を介して形成された第１の保護層１４と、前記偏光フィルム１０の第２の面の上に、第２の放射線硬化型接着剤層１６を介して形成された第２の保護層１８と、から構成されている。偏光板１００には、第１の保護層１４の面の上にハードコート層２０が設けられている。さらに、偏光板１００には、ハードコート層２０の面の上に低屈折率層２２が設けられている。偏光板１００には、図１に示すように、第２の保護層１８の面の上に粘着剤層８０を介して、液晶パネル９０を設置することができる。
【００２４】
偏光フィルム１０は、入射光を互いに直行する２つの偏光成分に分け、その一方のみを通過させ、他の成分を吸収または分散させる働きを有するものをいずれも用いることができ、特に限定されない。
【００２５】
第１の保護層１４および第２の保護層１８の少なくとも一方は、紫外線吸収剤を含んでいるとよい。この紫外線吸収剤により、液晶デバイスを紫外線から保護することができる。ところが、放射線硬化型接着剤層１２および１６を硬化させるためには、少なくとも第１の保護層側または第２の保護層側から、紫外線を照射する必要がある。第１の保護層１４または第２の保護層１８に紫外線吸収剤が含まれていると、紫外線を照射しても放射線硬化型接着剤層１２および１６を十分に硬化することができない場合がある。そこで、第１の保護層１４または第２の保護層１８のうち、紫外線透過率の高い保護層側から放射線を照射するとよい。もちろん、両側から放射線を照射してもよい。
【００２６】
紫外線吸収剤を含む保護層が偏光フィルム１０の少なくとも一方の面にあれば、本来の目的とする液晶デバイスへの影響を抑制できるが、偏光フィルム１０へ与える影響を考慮すると、紫外線吸収剤を第１の保護層へ添加することが好ましい。
【００２７】
第２の保護層１８は、偏光フィルム１０を保護する機能のほか、液晶層の着色による補償や視野角による位相差変化の補償等の位相差フィルムとしての機能を兼ねることができる。例えば、第２の保護層１８としてポリマーフィルムを延伸することにより得られた複屈折フィルムを用いると、液晶層の複屈折を補償し、着色を除去することができる。
【００２８】
ハードコート層２０は、液晶セル９０への漏電を防止し、偏光板１００の機械的強度を高めることができる。例えば、ハードコート層２０に帯電防止剤を添加することにより、帯電防止機能を備えることができる。
【００２９】
低屈折率層２２を設けることにより低屈折率化することができる。これにより、偏光板１００に反射防止機能を備えることができる。
【００３０】
偏光板１００は、良好な偏光機能を有し、高温および高湿度の雰囲気下においても、放射線硬化型接着剤層１２および１６を介することにより、偏光フィルム１０と第１の保護層１４、および偏光フィルム１０と第２の保護層１８との強固な接着が長時間維持される。また、偏光板１００は、耐熱性、耐薬品性などの特性にも優れており、長期使用においても剥離、変形、位相差変化などが生じにくく、高い信頼性を有し、耐久性に優れ、ＬＣＤなどに好適に用いることができる。
【００３１】
偏光フィルム、第１および第２の保護層、放射線硬化型接着剤層、ハードコート層、シリカ系中空粒子含有層の機能および材質等については、後で詳細に説明する。
【００３２】
２．偏光板の製造方法
本実施形態に係る偏光板の製造方法は、下記の工程（ａ）〜（ｃ）を含み、少なくとも第１の保護層は、ケン化処理を行っていないことを特徴とするものである。
（ａ）偏光フィルムと前記偏光フィルムの第１の面の上に形成された第１の保護層との間、および前記偏光フィルムと前記偏光フィルムの第２の面の上に形成された第２の保護層との間に、放射線硬化型接着剤用組成物を供給する工程、
（ｂ）前記偏光フィルムと、前記第１の保護層と、前記第２の保護層と、を前記放射線硬化型接着剤用組成物を介して貼合する工程、
（ｃ）放射線を照射することにより前記放射線硬化型接着剤用組成物を硬化させて、放射線硬化型接着剤層を形成する工程。
【００３３】
以下、本実施の形態に係る偏光板１００を製造するための方法について図面を用いて具体的に説明する。図２は、偏光板１００の製造工程を説明するための模式図である。
【００３４】
工程（ａ）では、偏光フィルム１０と第１の保護層１４との間に、第１の接着剤供給部６０から、放射線硬化型接着剤用組成物を供給する。また、偏光フィルム１０と第２の保護層１８との間に、第２の接着剤供給部６２から放射線硬化型接着剤用組成物を供給する。
【００３５】
工程（ｂ）では、偏光フィルム１０と、第１の保護層１４と、第２の保護層１８と、を１対のロールからなる貼合ロール３０，３２により貼合し、圧着する。
【００３６】
工程（ｃ）では、第１の放射線照射部７０および第２の放射線照射部７２の少なくともいずれか一方から放射線を照射することにより、前記放射線硬化型接着剤用組成物を硬化させる。
【００３７】
まず、工程（ａ）について詳細に説明する。
【００３８】
第１の接着剤供給部６０は、偏光フィルム１０と第１の保護層１４との間に、放射線硬化型接着剤用組成物を噴射することにより供給している。第２の接着剤供給部６２は、偏光フィルム１０と第２の保護層１８との間に、放射線硬化型接着剤用組成物を噴射することにより供給している。
【００３９】
放射線硬化型接着剤層の膜厚は、放射線硬化型接着剤用組成物の供給量により調整することができるが、好ましくは０．５〜５μｍ、より好ましくは１〜３μｍである。また、接着剤供給部６０，６２は、放射線硬化型接着剤用組成物を噴射する装置に限定されず、放射線硬化型接着剤用組成物を塗布する装置に代えることもできる。
【００４０】
第１の保護層１４の偏光フィルム１０と接着する面とは反対の面に、ハードコート層や低屈折率層をあらかじめ貼り合わせておいてもよい。例えば、第１の保護層１４の上にハードコート層用組成物をワイヤーバーコータ等で均一の膜厚となるように塗工し、乾燥後、光を照射することにより、ハードコート層を形成することができる。さらに、ハードコート層の上に低屈折率層用組成物をワイヤーバーコータ等で均一の膜厚となるように塗工し、乾燥後、光を照射することにより、低屈折率層を形成することができる。
【００４１】
なお、放射線硬化型接着剤用組成物を供給する前に、第１の保護層１４および第２の保護層１８の偏光フィルム１０と貼合する面についてコロナ放電処理を行うとよい。これにより、偏光フィルム１０とそれぞれの保護層との接着性を高めることができる。例えば、保護層として環状オレフィン系樹脂を用いた場合、環状オレフィン系樹脂は、その表面に極性基がないため接着性に優れないことがある。このような場合に、コロナ放電処理を行うと、高周波高電圧を利用して大気中にコロナ放電を発生させ、それにより生成される官能基とともに、その電子を樹脂表面に照射することにより、樹脂表面の改質を行うことができる。
【００４２】
次に、工程（ｂ）について説明する。
【００４３】
偏光フィルム１０と、第１の保護層１４と、第２の保護層１８と、を１対のロールからなる貼合ロール３０，３２により圧着し貼り合わせる。図２に示すロール貼合は、積層すべき全ての層を一度に圧着することができ、貼合の工程数を減らすことができるので、生産性に優れている。
【００４４】
次に、工程（ｃ）について説明する。
【００４５】
第１の放射線照射部７０および第２の放射線照射部７２の少なくともいずれか一方から放射線を照射することにより、放射線硬化型接着剤層を硬化させる。放射線照射部に用いる光源としては、例えば、メタルハライドランプ、ハイパーメタルハライドランプ、ＬＥＤ光源等を使用することができる。放射線硬化型樹脂組成物中の光重合開始剤は、紫外線等の放射線により反応し、放射線硬化型接着剤層が瞬間的に硬化するため生産性に優れている。
【００４６】
ここで、本実施形態に係る一具体例として、第１の保護層１４は紫外線吸収剤を含み、第２の保護層１８は紫外線吸収剤を含まない場合について説明する。この例では、第２の保護層１８は、紫外線吸収剤を含まないため、放射線硬化性樹脂組成物中の光重合開始剤として、紫外線領域に吸収波長をもつ化合物を選択することができる。光源として、例えばメタルハライドランプを用いて、ナトリウムのＤ線（波長３６５ｎｍ）を含む紫外線を照射することにより、放射線硬化型接着剤層を硬化させることができる。その結果、偏光フィルム１０と第２の保護層１４とを接着することができる。
【００４７】
一方、第１の保護層１４は、紫外線吸収剤を含んでいるため、第１の放射線照射部７０から紫外線を照射しても第１の放射線硬化型接着剤層１２を十分に硬化させることができない。そこで、放射線硬化性樹脂組成物中の光重合開始剤として、４００ｎｍ以上に吸収波長をもつ化合物を選択し、４００ｎｍ以上の波長を含む放射線を第１の放射線照射部７０から照射することにより、第１の放射線硬化型接着剤層１２を硬化させることができる。光源として、例えば４０５ｎｍの波長の照射強度が強いハイパーメタルハライドランプを用いることができる。その結果、偏光フィルム１０と第１の保護層１４とを接着することができる。
【００４８】
上記工程（ａ）ないし（ｃ）を経て圧着された偏光板１００は、１対のロール４０，４２を介して偏光板巻取部５０で巻き取られる。
【００４９】
本実施形態に係る偏光板の製造方法は、偏光フィルム１０と第１の保護層１４，第２の保護層１８を接着するためにＰＶＡ系接着剤等の水系接着剤を使用せず、放射線硬化型接着剤を使用する。これにより、例えば、従来から保護層として利用されているトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムの表面に存在するアセチル基を除去するためのケン化処理を行う必要がない。本実施形態に係る偏光板の製造方法によれば、低屈折率層に添加された中空シリカ粒子は、ケン化処理により侵食されることなく、反射防止機能および耐擦傷性を損なうことがない。
【００５０】
３．偏光フィルム
本実施形態に係る偏光板において、偏光フィルムとしては、偏光フィルムとしての機能、すなわち、入射光を互いに直行する２つの偏光成分に分け、その一方のみを通過させ、他の成分を吸収または分散させる働きを有するものをいずれも用いることができ、特に限定されない。本実施形態で用いられる偏光フィルムとしては、例えば、ＰＶＡ・ヨウ素系偏光フィルム、ＰＶＡ系フィルムに二色性染料を吸着配向させたＰＶＡ・染料系偏光フィルム、ＰＶＡ系フィルムより脱水反応を誘起させたり、ポリ塩化ビニルフィルムの脱塩酸反応により、ポリエンを形成させたポリエン系偏光フィルム、分子内にカチオン基を含有する変性ＰＶＡからなるＰＶＡ系フィルムの表面および／または内部に二色性染料を有する偏光フィルムなどが挙げられる。これらのうち、最も好ましいものとしては、ＰＶＡ・ヨウ素系偏光フィルムが挙げられる。
【００５１】
本実施形態で用いられる偏光フィルムは、その製造方法も特に限定されない。例えば、ＰＶＡ系フィルムに延伸後ヨウ素イオンを吸着させる方法、ＰＶＡ系フィルムを二色性染料による染色後延伸する方法、ＰＶＡ系フィルムを延伸後二色性染料で染色する方法、二色性染料をＰＶＡ系フィルムに印刷後延伸する方法、ＰＶＡ系フィルムを延伸後、二色性染料を印刷する方法などの公知の方法が挙げられる。より具体的には、ヨウ素をヨウ化カリウム溶液に溶解して、高次のヨウ素イオンを作り、このイオンをＰＶＡ系フィルムに吸着させて延伸し、次いで１〜４％ホウ酸水溶液に浴温度３０〜４０℃で浸漬して偏光膜を製造する方法、あるいはＰＶＡフィルムを同様にホウ酸処理して一軸方向に３〜７倍程度延伸し、０．０５〜５％の二色性染料水溶液に浴温度３０〜４０℃で浸漬して染料を吸着し、８０〜１００℃で乾燥して熱固定して偏光フィルムを製造する方法などが挙げられる。
【００５２】
本実施形態で用いられる偏光フィルムの厚さは、特に限定されるものではないが、好ましくは１０〜５０μｍ、より好ましくは１５〜４５μｍ程度である。
【００５３】
これらの偏光フィルムは、そのまま本実施形態に係る偏光板の製造に用いてもよいが、隣接する接着剤層との接着強度を高める目的で表面処理を施すことができる。表面処理としては、プラズマ処理、コロナ処理、アルカリ処理、コーティング処理などを挙げることができる。
【００５４】
４．保護層
本実施形態に係る偏光板において、保護層としては、例えば、トリアセチルセルロースのようなアセテート系樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂等のポリエステル系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、環状オレフィン系樹脂、アクリル系樹脂などの光学的に透明な樹脂からなるフィルムを挙げることができる。
【００５５】
本願発明においては、第１または第２の保護層のうち、一方の保護層は紫外線防止性を有する保護層であり、他方の保護層は紫外線透過性を有する保護層であることが好ましい。
【００５６】
上記紫外線防止性を有する保護層は、偏光板が液晶セルの両面に配置される場合に、外部の紫外線から液晶セルを保護する役割を果たすものである。紫外線防止性を有する保護層には、上述したように紫外線吸収剤を適宜配合することができる。本実施形態に係る偏光板では、紫外線吸収剤を配合した紫外線防止性を有する保護層の波長３８０ｎｍにおける光の透過率が、例えば、１０％以下のものを好ましく用いることができる。
【００５７】
上記紫外線透過性を有する保護層は、当該保護層の側から放射線照射（光照射）を行うことにより、放射線硬化性組成物を硬化させるためのものである。紫外線透過性を有する保護層は、紫外線吸収剤を含まないか、または該保護層を介して光を照射することにより放射線硬化性組成物を硬化させることができる程度に紫外線吸収剤を含むことができる。本実施形態に係る偏光板では、紫外線透過性を有する保護層の波長３８０ｎｍにおける光の透過率が、例えば、６０％以上のものを好ましく用いることができる。
【００５８】
また、保護層は、上述したように位相差フィルムとしての機能を兼ねることもできる。
【００５９】
保護層の厚さは、特に限定されないが、例えば、１０〜２００μｍとなるように設定することができる。
【００６０】
また、保護層は放射線硬化性組成物の塗布前に表面処理を行うこともできる。表面処理としては、プラズマ処理、コロナ放電処理、アルカリ処理、コーティング処理などを挙げることができるが、これらのうち、コロナ放電処理を行うことが特に好ましい。
【００６１】
例えば、保護層として環状オレフィン系樹脂を用いた場合、環状オレフィン系樹脂は、その表面に極性基がないため接着性に優れないことがある。このような場合に、コロナ放電処理を行うと、高周波高電圧を利用して大気中にコロナ放電を発生させ、それにより生成される官能基とともに、その電子を樹脂表面に照射することにより、樹脂表面の改質を行うことができる。
【００６２】
５．放射線硬化型接着剤層
本実施形態において接着剤として使用される放射線硬化性組成物は、第１および第２の保護層と偏光フィルムとを接着させるためのものである。当該放射線硬化性組成物は、下記（ｄ）ないし（ｆ）、およびその他の任意成分を含有することができる。
（ｄ）：脂環式エポキシ化合物
（ｅ）：水酸基を少なくとも１個含有し、数平均分子量が５００以上である化合物
（ｆ）：光酸発生剤
【００６３】
以下、各成分について詳細に説明する。
【００６４】
５．１ 成分（ｄ）
放射線硬化性組成物を構成する成分（ｄ）は、脂環式エポキシ化合物、好ましくは１分子中に２個以上の脂環式エポキシ基を有する脂環式エポキシ化合物である。１分子中に２個以上の脂環式エポキシ基を有する脂環式エポキシ化合物を成分（ｄ）の全量中に５０質量％以上含有すると、良好な硬化速度や機械的強度を保つことができる。
【００６５】
成分（ｄ）として用いられる脂環式エポキシ化合物の具体例としては、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビス（３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル）アジペート、３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシル−３’，４’−エポキシ−６’−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、ε−カプロラクトン変性３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、トリメチルカプロラクトン変性３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、β−メチル−δ−バレロラクトン変性３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサン）、エチレングリコールのジ（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）エーテル、エチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、エポキシシクロへキサヒドロフタル酸ジオクチル、エポキシシクロヘキサヒドロフタル酸ジ−２−エチルヘキシル等が挙げられる。
【００６６】
これらの脂環式エポキシ化合物のうち、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ε−カプロラクトン変性３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、トリメチルカプロラクトン変性３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、β−メチル−δ−バレロラクトン変性３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレートがより好ましく、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペートがさらに好ましい。
【００６７】
これらの市販品としては、セロキサイド２０２１、セロキサイド２０２１Ｐ、セロキサイド２０８１、セロキサイド２０８３、セロキサイド２０８５、エポリードＧＴ−３００、エポリードＧＴ−３０１、エポリードＧＴ−３０２、エポリードＧＴ−４００、エポリード４０１、エポリード４０３（以上、ダイセル化学工業（株）製）等が挙げられる。
【００６８】
放射線硬化性組成物中の（ｄ）脂環式エポキシ化合物の含有率は、好ましくは１０〜８０質量％、より好ましくは１２〜７５質量％、特に好ましくは１５〜７０質量％である。該含有率が１０質量％未満では、接着剤層の機械的強度及び耐熱性が不十分になる傾向がある。該含有率が８０質量％を超えると、放射線硬化性組成物を硬化させてなる接着剤層の反り等の変形が大きくなる傾向がある。
【００６９】
５．２ 成分（ｅ）
放射線硬化性接着剤用組成物を構成する成分（ｅ）は、水酸基を１個以上含有し、数平均分子量が５００以上である化合物である。
【００７０】
成分（ｅ）は、１分子中に水酸基を１個以上、好ましくは１〜４個有する。成分（ｅ）の数平均分子量は、５００以上、好ましくは１，０００以上、より好ましくは１，５００以上である。該平均分子量の上限値は、特に限定されないが、接着剤用組成物の粘度の過度の増大を防ぐ観点から、好ましくは２０，０００、より好ましくは１０，０００である。該平均分子量が５００未満であると、偏光板の裁断時の耐裁断性に劣るため、好ましくない。なお、成分（ｅ）の数平均分子量は、ＡＳＴＭ Ｄ２５０３に従い測定した値である。成分（ｅ）を用いることにより、接着強度に優れた積層フィルムを得ることができる。
【００７１】
成分（ｅ）として好適に用いられる化合物としては、ポリカプロラクトンジオール、ポリエーテルジオール、ポリエステルジオール、その他のポリオールなどが挙げられる。
【００７２】
ポリカプロラクトンジオールとしては、例えば、ε−カプロラクトンとジオールとを反応させて得られるポリカプロラクトンジオール等が挙げられる。ここで用いられるジオールとしては、例えば、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、１，２−ポリブチレングリコール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、１，４−ブタンジオールなどが挙げられる。これらポリカプロラクトンジオールの市販品としては、プラクセル２０５、２０５Ｈ、２０５ＡＬ、２１２、２１２ＡＬ、２２０、２２０ＡＬ（以上、ダイセル化学工業（株）製）等が挙げられる。
【００７３】
ポリエーテルジオールとしては、脂肪族ポリエーテルジオールが好ましく、例えば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ポリヘキサメチレングリコール、ポリヘプタメチレングリコール、ポリデカメチレングリコールなどが挙げられる。これらのポリエーテルジオールの市販品としては、ＰＥＧ＃６００、＃１０００、＃１５００、＃１５４０、＃４０００（以上、ライオン社製）、エクセノール７２０、１０２０、２０２０、３０２０、５１０、プレミノールＰＰＧ４０００（以上、旭硝子社製）等を挙げることができる。
【００７４】
ポリエステルジオールとしては、脂肪族ジオール化合物と脂肪族ジカルボン酸化合物の共重合体が好ましい。脂肪族ジオール化合物としては、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、２−メチル−１，８−オクタンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール等が挙げられ、脂肪族ジカルボン酸としては、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、セバシン酸等が挙げられる。脂肪族ジオールは１種または２種以上を使用することができ、また、脂肪族ジカルボン酸も１種または２種以上を使用することができる。これらのポリエステルジオールの市販品としては、クラレポリオールＮ−２０１０、Ｏ−２０１０、Ｐ−５１０、Ｐ−１０１０、Ｐ−１０５０、Ｐ−２０１０、Ｐ−２０５０、Ｐ−３０１０、Ｐ−３０５０（以上、クラレ社製）等を挙げることができる。
【００７５】
上記その他のポリオールとしては、例えば、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエリスリトール、ソルビトール、スクロース、クオドロール等の３価以上の多価アルコールを、エチレンオキシド（ＥＯ）、プロピレンオキシド（ＰＯ）、ブチレンオキシド、テトラヒドロフラン等の環状エーテル化合物で変性することにより得られるポリエーテルポリオールを挙げることができる。このような化合物の具体例としては、ＥＯ変性トリメチロールプロパン、ＰＯ変性トリメチロールプロパン、テトラヒドロフラン変性トリメチロールプロパン、ＥＯ変性グリセリン、ＰＯ変性グリセリン、テトラヒドロフラン変性グリセリン、ＥＯ変性ペンタエリスリトール、ＰＯ変性ペンタエリスリトール、テトラヒドロフラン変性ペンタエリスリトール、ＥＯ変性ソルビトール、ＰＯ変性ソルビトール、ＥＯ変性スクロース、ＰＯ変性スクロース、ＥＯ変性スクロース、ＥＯ変性クオドール等を例示することができ、これらのうち、ＥＯ変性トリメチロールプロパン、ＰＯ変性トリメチロールプロパン、ＰＯ変性グリセリン、ＰＯ変性ソルビトールが好ましい。
【００７６】
上記その他のポリオールの市販品としては、サンニックスＴＰ−７００、サンニックスＧＰ−１０００、サンニックスＳＰ−７５０、サンニックスＧＰ−４００、サンニックスＧＰ−６００（以上、三洋化成（株）製）等を挙げることができる。
【００７７】
また、成分（ｅ）として好適に用いられるポリオールとしては、水酸基含有不飽和化合物の重合体を挙げることができる。上記水酸基含有不飽和化合物としては、水酸基含有（メタ）アクリレートが挙げられ、具体的には、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシアルキル（メタ）アクリロイルホスフェート、４−ヒドロキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールモノ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等が挙げられる。さらにアルキルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、グリシジル（メタ）アクリレート等のグリシジル基含有化合物と（メタ）アクリル酸との付加反応により得られる化合物が挙げられる。
【００７８】
また、成分（ｅ）は、下記式（２）で示されるポリカーボネートジオールであることも好ましい。
【化３】
（式中、Ｒ６およびＲ７はそれぞれ独立に炭素数２〜１２の２価の炭化水素基を表し、Ｒ８は、Ｒ６とＲ７のいずれかと同じ構造を表す。ｍは２〜１５０、ｎは０〜１５０であり、かつ、ｍ＋ｎは２〜２００である。）
【００７９】
上記式（２）で表されるポリカーボネートジオールの製造方法としては特に限定されるものではなく、ジオール化合物とカーボネート化合物のエステル交換反応、ジオール化合物とホスゲンの重縮合反応等、既知の方法が挙げられる。成分（Ｂ）の製造に使用されるジオール化合物としては、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，９−ノナンジオール、２−メチル−１，８−オクタンジオール等が挙げられる。また、適度な接着強度を得るには、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール等の炭素数６の脂肪族炭化水素基を含有するポリカーボネートジオールがより好ましい。
【００８０】
ポリカーボネートジオールとして好適に用いられる化合物の市販品としては、ＤＮ−９８０、９８１、９８２、９８３（以上、日本ポリウレタン社製）、ＰＣ−８０００（ＰＰＧ社製）、ＰＣ−ＴＨＦ−ＣＤ（ＢＡＳＦ社製）、クラレポリオールＣ−５９０、Ｃ−１０９０、Ｃ−２０５０、Ｃ−２０９０、Ｃ−３０９０、Ｃ−２０６５Ｎ、Ｃ−２０１５Ｎ（以上、（株）クラレ製）、プラクセルＣＤ ＣＤ２１０ＰＬ、プラクセルＣＤ ＣＤ２２０ＰＬ（以上、ダイセル化学工業（株）製）等が挙げられる。
【００８１】
放射線硬化性接着剤用組成物中、成分（ｅ）の含有率は、好ましくは２〜５０質量％、より好ましくは３〜４５質量％、特に好ましくは３〜４０質量％である。該含有率が２質量％未満であると、接着剤層の接着強度が劣るため好ましくない。一方、上記含有率が５０質量％を超えると、放射線硬化性接着剤用組成物の粘度が高くなりすぎて塗工性が悪くなったり、接着剤層と被着体との接着強度が劣ることがあり、好ましくない。
【００８２】
５．３ 成分（ｆ）
放射線硬化性組成物を構成する成分（ｆ）は、光酸発生剤である。
【００８３】
光酸発生剤は、光を受けることによりルイス酸を放出する光カチオン重合開始剤である。
【００８４】
上記光酸発生剤の例として、例えば、下記一般式（３）で表される構造を有するオニウム塩が挙げられる。このオニウム塩は、４００ｎｍ未満に実質的な光吸収波長を有する。
【化４】
（式中、カチオンはオニウムイオンであり、ＺはＳ、Ｓｅ、Ｔｅ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｏ、Ｉ、Ｂｒ、ＣｌまたはＮ２を示し、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１およびＲ１２は、互いに同一または異なる有機基を示す。ａ、ｂ、ｃおよびｄは、それぞれ０〜３の整数であって、（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ−ｐ）はＺの価数に等しい。Ｍは、ハロゲン化物錯体［ＭＸｑ＋ｐ］の中心原子を構成する金属またはメタロイドを示し、例えば、Ｂ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｆｅ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ａｌ、Ｃａ、Ｉｎ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｃ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｏ等である。Ｘは、例えば、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ等のハロゲン原子であり、ｐはハロゲン化物錯体イオンの正味の電荷であり、ｑはＭの原子価である。）
【００８５】
上記一般式（３）において、オニウムイオンの具体例としては、ジフェニルヨードニウム、４−メトキシジフェニルヨードニウム、ビス（４−メチルフェニル）ヨードニウム、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウム等のジアリールヨードニウムや、トリフェニルスルホニウム、ジフェニル−４−チオフェノキシフェニルスルホニウム等のトリアリールスルホニウムや、ビス［４−（ジフェニルスルホニオ）−フェニル］スルフィド、ビス［４−（ジ（４−（２−ヒドロキシエチル）フェニル）スルホニオ）−フェニル］スルフィド、η５−２，４−（シクロペンタジエニル）［１，２，３，４，５，６−η］−（メチルエチル）−ベンゼン］−鉄（１＋）等が挙げられる。
【００８６】
前記一般式（３）において、アニオン［ＭＸｑ＋ｐ］の具体例としては、テトラフルオロボレート（ＢＦ４−）、ヘキサフルオロホスフェート（ＰＦ６−）、ヘキサフルオロアンチモネート（ＳｂＦ６−）、ヘキサフルオロアルセネート（ＡｓＦ６−）、ヘキサクロロアンチモネート（ＳｂＣｌ６−）等が挙げられる。
【００８７】
また、一般式［ＭＸｑ（ＯＨ）−］で表されるアニオンを有するオニウム塩を使用することができる。さらに、過塩素酸イオン（ＣｌＯ４−）、トリフルオロメタンスルフォン酸イオン（ＣＦ３ＳＯ３−）、フルオロスルフォン酸イオン（ＦＳＯ３−）、トルエンスルフォン酸イオン、トリニトロベンゼンスルフォン酸アニオン、トリニトロトルエンスルフォン酸アニオン等の他のアニオンを有するオニウム塩を使用することもできる。
【００８８】
成分（ｆ）として用いられるオニウム塩の例としては、例えば特開昭５０−１５１９９６号公報、特開昭５０−１５８６８０号公報等に記載の芳香族ハロニウム塩、特開昭５０−１５１９９７号公報、特開昭５２−３０８９９号公報、特開昭５６−５５４２０号公報、特開昭５５−１２５１０５号公報等に記載のＶＩＡ族芳香族オニウム塩、特開昭５０−１５８６９８号公報等に記載のＶＡ族芳香族オニウム塩、特開昭５６−８４２８号公報、特開昭５６−１４９４０２号公報、特開昭５７−１９２４２９号公報等に記載のオキソスルホキソニウム塩、特開昭４９−１７０４０号公報等に記載の芳香族ジアゾニウム塩、米国特許第４,１３９,６５５号明細書に記載のチオビリリウム塩等が挙げられる。また、鉄／アレン錯体、アルミニウム錯体／光分解ケイ素化合物系開始剤等も挙げることができる。成分（ｆ）として好ましく用いられる光酸発生剤は、ジアリールヨードニウム塩、トリアリールスルホニウム塩等の芳香族オニウム塩等であり、より好ましくはトリアリールスルホニウム塩である。
【００８９】
（ｆ）光酸発生剤の市販品の例としては、ＵＶＩ−６９５０、ＵＶＩ−６９７０、ＵＶＩ−６９７４、ＵＶＩ−６９９０（以上、ユニオンカーバイド社製）、アデカオプトマーＳＰ−１５０、ＳＰ−１５１、ＳＰ−１７０、ＳＰ−１７２（以上、旭電化工業（株）製）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４、Ｉｒｇａｃｕｒｅ２６１（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、ＣＩ−２４８１、ＣＩ−２６２４、ＣＩ−２６３９、ＣＩ−２０６４（以上、日本曹達（株）製）、ＣＤ−１０１０、ＣＤ−１０１１、ＣＤ−１０１２（以上、サートマー社製）、ＤＴＳ−１０２、ＤＴＳ−１０３、ＮＡＴ−１０３、ＮＤＳ−１０３、ＴＰＳ−１０３、ＭＤＳ−１０３、ＭＰＩ−１０３、ＢＢＩ−１０３（以上、みどり化学（株）製）、ＰＣＩ−０６１Ｔ、ＰＣＩ−０６２Ｔ、ＰＣＩ−０２０Ｔ、ＰＣＩ−０２２Ｔ（以上、日本化薬（株）製）、ＣＰＩ−１１０Ａ、ＣＰＩ−１０１Ａ（以上、サンアプロ（株））等を挙げることができる。これらのうち、ＵＶＩ−６９７０、ＵＶＩ−６９７４、アデカオプトマーＳＰ−１７０、ＳＰ−１７２、ＣＤ−１０１２、ＭＰＩ−１０３、ＣＰＩ−１１０Ａ、ＣＰＩ−１０１Ａは、これらを含有してなる組成物に高い光硬化感度を発現させることができることから特に好ましい。上記の光酸発生剤は、１種単独でまたは２種以上組み合わせて用いることができる。
【００９０】
なお、光酸発生剤による酸の発生を促進させるために、増感剤を併用してもよい。増感剤の例としては、ジヒドロキシベンゼン、トリヒドロキシベンゼン、ヒドロキシアセトフェノン、ジヒドロキシジフェニルメタン等が挙げられる。
【００９１】
放射線硬化性組成物中、（ｆ）光酸発生剤の含有率は、好ましくは０．１〜１０質量％、より好ましくは０．２〜５質量％、特に好ましくは０．３〜３質量％である。該含有率が０．１質量％未満であると、放射線硬化性組成物の放射線硬化性が低下し、十分な機械的強度を有する接着剤層を形成することができないため好ましくない。該含有率が１０質量％を超えると、光酸発生剤が接着剤層の長期特性に悪影響を及ぼす可能性があるため、好ましくない。
【００９２】
５．４ その他の成分
本実施形態で接着剤として使用される放射線硬化性組成物は、さらに、下記成分（ｇ）や（ｈ）を添加することができる。
【００９３】
５．４．１ 成分（ｇ）
上記放射線硬化性組成物は、さらに成分（ｇ）として、下記式（１）で表される重合性不飽和基を有するイソシアヌル酸誘導体を添加することができる。
【化５】
（式（１）中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立に、一価の有機基であって、Ｒ１〜Ｒ３のうち少なくとも２つが、−Ｒ４ＯＣＯＣＲ５＝ＣＨ２であり、Ｒ４は、炭素数２〜８の２価の有機基であり、Ｒ５は、水素原子またはメチル基である。）
【００９４】
成分（ｇ）は、放射線硬化性接着剤用組成物の硬化性（硬化速度）を向上させる機能を有する。成分（ｇ）は分子中に重合性不飽和基を２個以上有することが好ましい。重合性不飽和基は、特に限定されないが、（メタ）アクリレート基であることが好ましい。重合性不飽和基を２個以上有することで架橋密度が高まり、これを添加することによる硬度の低下を少なくすることができる。
【００９５】
本実施形態において用いることができる成分（ｇ）の具体例としては、トリス［２−（メタ）アクリロイルオキシエチル］イソシアヌレート、ビス［２−（メタ）アクリロイルオキシエチル］（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、ビス［２−（メタ）アクリロイルオキシエチル］イソシアヌレート、及びこれらの出発アルコール類へのエチレンオキシド（ＥＯ）、プロピレンオキシド、またはカプロラクタム付加物の（メタ）アクリレート等を挙げることができる。これらのうち、トリス［２−（メタ）アクリロイルオキシエチル］イソシアヌレート、ビス［２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートが特に好ましい。
【００９６】
成分（ｇ）として好適に使用できる市販品としては、アロニックス Ｍ−２１５、Ｍ−３１３、Ｍ−３１５、Ｍ−３２５、Ｍ−３２６、Ｍ−３２７（以上、東亜合成化学工業（株）製）、ＳＲ−３６８（サートマー社製）等を挙げることができる。上記の化合物は、１種単独で、又は２種以上組み合わせて使用することができる。
【００９７】
放射線硬化性組成物中、成分（ｇ）の含有量は、有機溶剤を除く組成物全量を１００質量％として、好ましくは、３〜４０質量％、より好ましくは、５〜３５質量％、特に好ましくは、７〜３０質量％である。３質量％未満であると、光照射直後の硬化性が不十分なことがあり、４０質量％を超えると、ＰＶＡ系成形体との接着強度が劣ることがある。
【００９８】
５．４．２ 成分（ｈ）
上記放射線硬化性組成物は、さらに成分（ｈ）として、脂肪族エポキシ化合物を添加することができる。成分（ｈ）の脂肪族エポキシ化合物は、接着剤層の機械的強度等をコントロールするために添加される任意成分である。
【００９９】
上記脂肪族エポキシ化合物の具体例としては、例えば１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル類；エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン等の脂肪族多価アルコールに１種または２種以上のアルキレンオキサイドを付加することにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル類；脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステル類；脂肪族高級アルコールのモノグリシジルエーテル類；高級脂肪酸のグリシジルエステル類；エポキシ化大豆油；エポキシステアリン酸ブチル；エポキシステアリン酸オクチル；エポキシ化アマニ油；エポキシ化ポリブタジエン等が挙げられる。
【０１００】
上記放射線硬化性組成物中、（ｈ）脂肪族エポキシ化合物の含有率は、好ましくは０〜５０質量％、より好ましくは０〜４５質量％、特に好ましくは０〜４０質量％である。該含有率が５０質量％を超えると、必須成分である（ｈ）脂環式エポキシ化合物等の含有率が小さくなり、本発明の効果が得られ難くなるため好ましくない。
【０１０１】
また、本実施形態で用いられる放射線硬化性組成物には、本発明の目的、効果を損なわない範囲において、その他の任意成分として各種の添加剤を配合することができる。かかる添加剤としては、エポキシ樹脂、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリウレタン、ポリブタジエン、ポリクロロプレン、ポリエーテル、ポリエステル、スチレン−ブタジエンブロック共重合体、石油樹脂、キシレン樹脂、ケトン樹脂、セルロース樹脂、フッ素系オリゴマー、シリコーン系オリゴマー、ポリスルフィド系オリゴマー等のポリマーあるいはオリゴマー；フェノチアジン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール等の重合禁止剤；重合開始助剤；レベリング剤；濡れ性改良剤；界面活性剤；可塑剤；紫外線吸収剤；シランカップリング剤；無機充填剤；顔料；染料等を挙げることができる。
【０１０２】
上記放射線硬化性組成物は、上記成分（ｄ）ないし（ｆ）、および必要に応じて上記任意成分を均一に混合することによって調製することができる。このようにして得られる放射線硬化性組成物の粘度（２５℃）は、通常２，０００ｍＰａ・ｓ以下、好ましくは５００ｍＰａ・ｓ以下、より好ましくは３００ｍＰａ・ｓ以下である。
【０１０３】
なお、放射線硬化性組成物には、必要に応じて有機溶媒等の溶剤を添加することができる。しかし、本願発明においては、無溶剤でも放射線硬化性組成物を調製することができる。本願発明においては、作業環境の維持、環境負荷等の面から、溶剤を含まないことが好ましい。また、放射線硬化性組成物はフィルター等でろ過したものを使用することも好ましい。
【０１０４】
放射線硬化性組成物は、放射線を照射することにより硬化させることができる。ここで、放射線としては、特に限定されないが、紫外線や電子線が多く用いられる。
【０１０５】
放射線は、空気などの酸素を含有する雰囲気下または窒素などの不活性ガスにより酸素を含有しない雰囲気下で、０．１〜３Ｊ／ｃｍ２の照射量とすることが好ましく、０．５〜２Ｊ／ｃｍ２の照射量とすることがさらに好ましい。
【０１０６】
放射線硬化型接着剤層の厚さの上限値は、特に限定するものではないが、好ましくは５０μｍ以下である。放射線硬化型接着剤層の厚さの下限値は、特に限定するものではないが、好ましくは１μｍ以上である。放射線硬化型接着剤層の光透過率は、好ましくは８０％以上、特に好ましくは９０％以上である。
【０１０７】
６．ハードコート層
本実施形態に係る偏光板の製造方法において、必要に応じて第１の保護層の面の上にハードコート層を形成することができる。ハードコート層は、高い表面硬度を有する層である。したがって、偏光板にハードコート層を形成すると、偏光板の耐擦傷性および機械的強度を高めることができる。
【０１０８】
ハードコート層の形成材料としては、二酸化ケイ素等の無機活性エネルギー硬化性樹脂、またはエポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂等の有機活性エネルギー硬化性樹脂を挙げることができる。また、ハードコート層には、必要に応じて帯電防止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、染料や顔料等の着色剤、可塑剤、滑剤、界面活性剤などを添加することができる。
【０１０９】
具体的には、ハードコート層に帯電防止剤を添加して、帯電防止機能を付与する場合がある。例えば、第１の保護層が環状オレフィン系樹脂からなる場合には、含水率が極めて低いため静電気を帯びやすいという性質がある。ＬＣＤの組立時において、第１の保護層が静電気を帯びていると、液晶セルに帯電し故障の原因となることがある。
【０１１０】
また、ハードコート層を防眩処理することもできる。防眩処理とは、一般的にはハードコート層の表面に微細な凹凸を有する硬い透明樹脂層を形成することをいう。これにより、外光を拡散反射させて反射像をぼかすことができるため、窓や照明機器等の光による周辺環境の写り込みを防止し視認性を向上させることができる。
【０１１１】
ハードコート層の厚さは、好ましくは０．５〜５０μｍであって、より好ましくは１〜３０μｍである。ハードコート層の屈折率は、好ましくは１．４５〜１．７０であり、より好ましくは１．４５〜１．６０である。
【０１１２】
７．低屈折率層
本実施形態に係る偏光板の製造方法において、ハードコート層若しくは第１の保護層の面の上に、低屈折率層を形成することができる。低屈折率層を形成することにより、偏光板に光の反射防止機能を付与することができる。
【０１１３】
低屈折率層の形成材料としては、例えば、含フッ素重合体含有硬化性組成物、アクリルモノマー、含フッ素アクリルモノマー、エポキシ基含有化合物、含フッ素エポキシ基含有化合物等の硬化物を挙げることができる。さらに低屈折率層の屈折率を低下させるために、これにシリカ等の中空粒子を添加することもできる。シリカ系中空粒子の粒子径は、好ましくは５〜１００ｎｍであり、より好ましくは２０〜８０ｎｍである。この範囲であると、優れた低屈折率を実現することができる。
【０１１４】
例えば、屈折率が１．４５〜１．７０のハードコート層の上に屈折率が１．３０〜１．４５の低屈折率層を形成することによって、偏光板は優れた反射防止機能を備えることができる。
【０１１５】
低屈折率層の厚さは、好ましくは０．０５〜０．２０μｍであり、より好ましくは０．０８〜０．１２μｍである。
【０１１６】
８．実施例
以下、本発明について実施例を挙げてさらに具体的に説明する。本発明は、以下の実施例に限定されるものではない。
【０１１７】
８．１ シリカ系中空粒子含有コート材の作製
（ａ）水酸基含有含フッ素重合体の合成
内容積２．０リットルの電磁撹拌機付きステンレス製オートクレーブを窒素ガスで十分置換した後、酢酸エチル４００ｇ、パーフルオロ（プロピルビニルエーテル）５３．２ｇ、エチルビニルエーテル３６．１ｇ、ヒドロキシエチルビニルエーテル４４．０ｇ、過酸化ラウロイル１．０ｇ、アゾ基含有ポリジメチルシロキサン（ＶＰＳ１００１（商品名）、和光純薬工業株式会社製）６．０ｇおよびノニオン性反応性乳化剤（ＮＥ−３０（商品名）、旭電化工業株式会社製）２０．０ｇを仕込み、ドライアイス−メタノールで−５０℃まで冷却した後、再度窒素ガスで系内の酸素を除去した。
【０１１８】
次いで、ヘキサフルオロプロピレン１２０．０ｇを仕込み、昇温を開始した。オートクレーブ内の温度が６０℃に達した時点での圧力は、５．３×１０５Ｐａを示した。その後、７０℃で２０時間撹拌下に反応を継続し、圧力が１．７×１０５Ｐａに低下した時点でオートクレーブを水冷し、反応を停止させた。室温に達した後、未反応モノマーを放出してオートクレーブを開放し、固形分濃度２６．４％のポリマー溶液を得た。得られたポリマー溶液をメタノールに投入しポリマーを析出させた後、メタノールにて洗浄し、５０℃にて真空乾燥を行い２２０ｇの水酸基含有含フッ素重合体を得た。これを水酸基含有含フッ素重合体とする。使用した単量体と溶剤の仕込み量を表１に示す。
【０１１９】
【表１】
【０１２０】
得られた水酸基含有フッ素重合体について、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるポリスチレン換算数平均分子量およびアリザリンコンプレクソン法によるフッ素含量をそれぞれ測定した。また、１Ｈ−ＮＭＲ、１３Ｃ−ＮＭＲの両ＮＭＲ分析結果、元素分析結果およびフッ素含量から、水酸基含有含フッ素重合体を構成する各単量体成分の割合を決定した。結果を表２に示す。
【０１２１】
【表２】
【０１２２】
なお、ＶＰＳ１００１は、数平均分子量が７〜９万、ポリシロキサン部分の分子量が約１０，０００のアゾ基含有ポリジメチルシロキサンである。ＮＥ−３０は、ノニオン性反応性乳化剤である。
【０１２３】
（ｂ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体（メタアクリル変性フッ素重合体）の合成
電磁撹拌機、ガラス製冷却管および温度計を備えた容量１リットルのセパラブルフラスコに、上記（ａ）で得られた水酸基含有含フッ素重合体を５０．０ｇ、重合禁止剤として２，６−ジ−ｔ−ブチルメチルフェノール０．０１ｇおよびメチルイソブチルケトン（以下、「ＭＩＢＫ」ともいう。）３７０ｇを仕込み、２０℃で水酸基含有含フッ素重合体がＭＩＢＫに溶解して、溶液が透明・均一になるまで撹拌を行った。次いで、この系に２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート１５．１ｇを添加し、溶液が均一になるまで撹拌した後、ジブチルチンジラウレート０．１ｇを添加して反応を開始し、系の温度を５５〜６５℃に保持し５時間撹拌を継続することにより、エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体のＭＩＢＫ溶液を得た。この溶液をアルミ皿に２ｇ秤量後、１５０℃のホットプレート上で５分間乾燥、秤量して固形分含量を求めたところ、１５．０重量％であった。使用した化合物、溶剤および固形分含量を表３に示す。
【０１２４】
【表３】
【０１２５】
（ｃ）特定有機化合物の製造
乾燥空気中、メルカプトプロピルトリメトキシシラン２３．０部、ジブチルスズジラウレート０．５部からなる溶液に対し、イソホロンジイソシアネート６０．０部を撹拌しながら５０℃で１時間かけて滴下後、７０℃で３時間撹拌した。これに新中村化学株式会社製「ＮＫエステルＡ−ＴＭＭ−３ＬＭ−Ｎ（ペンタエリスリトールトリアクリレート６０質量％とペンタエリスリトールテトラアクリレート４０質量％とからなる。このうち、反応に関与するのは、水酸基を有するペンタエリスリトールトリアクリレートのみである。）」２０２．０部を３０℃で１時間かけて滴下後、６０℃で３時間加熱撹拌することで特定有機化合物を得た。
【０１２６】
生成物の赤外吸収スペクトルは、原料中のメルカプト基に特徴的な２５５０ｃｍ−１の吸収ピークおよびイソシアネート基に特徴的な２２６０ｃｍ−１の吸収ピークが消失し、新たに［−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−］基および［−Ｓ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−］基中のカルボニルに特徴的な１６６０ｃｍ−１のピークおよびアクリロイル基に特徴的な１７２０ｃｍ−１のピークが観察され、重合性不飽和基としてのアクリロイル基と［−Ｓ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−］基、［−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−］基を共に有する特定有機化合物が生成していることを示した。
【０１２７】
（ｄ）アクリル変性中空シリカ粒子の製造
上記（ｃ）で合成した特定有機化合物３部、中空シリカ粒子Ｃ−１（触媒化成工業株式会社製、商品名「ＪＸ１００９ＳＩＶ」）１３７部（固形分３０部）、イオン交換水０．１部、０．０５ｍｏｌ／Ｌの希硫酸０．０１部、オルトギ酸メチルエステル１．４部を用いてアクリル変性中空シリカ粒子Ｃ−２を得た。アクリル変性中空シリカ粒子の固形分含量を求めたところ、２５質量％であった。
【０１２８】
（ｅ）中空粒子含有コート剤組成１の作製
表４に示すように、上記（ｂ）で得たエチレン性不飽和基含有含フッ素重合体のＭＩＢＫ溶液を６７ｇ（固形分として１０ｇ）、ペンタエリスリトールヒドロキシトリアクリレート（日本化薬株式会社製、商品名「ＰＥＴ−３０」）を２９ｇ、上記（ｄ）で得たアクリル変性中空シリカ粒子Ｃ−２分散液を２２８ｇ（固形分として５７ｇ）、２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］−フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製、商品名「Ｉｒｇａｃｕｒｅ１２７」）を３ｇ、アクリル変性ポリジメチルシロキサン（チッソ株式会社製、商品名「サイラプレーンＦＭ−０７２５」）を１ｇおよびＭＩＢＫ９００ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１６２９ｇを、撹拌機をつけたガラス製セパラブルフラスコに仕込み、室温にて１時間撹拌し均一な硬化性樹脂組成物を得た。また、上記（ｂ）に記載した方法により固形分濃度を求めたところ３．５重量％であった。
【０１２９】
（ｆ）中空粒子含有コート剤組成２の作製
表４に示すように、ペンタエリスリトールヒドロキシトリアクリレート（日本化薬株式会社製、商品名「ＰＥＴ−３０」）を３９ｇ、中空シリカ粒子Ｃ−１（触媒化成工業株式会社製、商品名「ＪＸ１００９ＳＩＶ」）を２５９ｇ（固形分として５７ｇ）、２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］−フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製、商品名「Ｉｒｇａｃｕｒｅ１２７」）を３ｇ、アクリル変性ポリジメチルシロキサン（チッソ株式会社製、商品名「サイラプレーンＦＭ−０７２５」）を１ｇおよびＭＩＢＫ９２６ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１６２９ｇを、撹拌機をつけたガラス製セパラブルフラスコに仕込み、室温にて１時間撹拌し均一な硬化性樹脂組成物を得た。また、上記（ｂ）に記載した方法により固形分濃度を求めたところ３．５重量％であった。
【０１３０】
【表４】
【０１３１】
８．２ ハードコート用組成物の調製
紫外線を遮断した容器中において、ペンタエリスリトールヒドロキシトリアクリレート９５質量部、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン５重量部、ＭＩＢＫ１００重量部を５０℃で２時間撹拌することで均一な溶液のハードコート層用組成物を得た。この組成物をアルミ皿に２ｇ秤量後、１２０℃のホットプレート上で１時間乾燥、秤量して固形分含量を求めたところ、５０重量％であった。
【０１３２】
８．３ 保護フィルム１の作製
本実施例において、保護フィルム１とは、第１の保護層、ハードコート層、および中空粒子含有コート層の３層を積層したフィルムのことをいう。保護フィルム１は、下記の工程（ａ）〜（ｃ）により作製した。保護フィルム１−１ないし１−６の作製に用いた材料および表面処理方法について表５にまとめた。
【０１３３】
（ａ）ハードコート層の形成
第１の保護層に「８．２ ハードコート用組成物の調製」で調製したハードコート層用組成物をワイヤーバーコータで膜厚６μｍとなるように塗工し、オーブン中、８０℃で１分間乾燥し、塗膜を形成した。次いで、空気下、高圧水銀ランプを用いて、３００ｍＪ／ｃｍ２の光照射条件で紫外線を照射し、硬化性樹脂組成物塗工用基材を作製した。
【０１３４】
（ｂ）中空粒子含有コート層の形成
上記の工程（ａ）で得られた硬化性樹脂組成物塗工用基材のハードコート層の上にワイヤーバーコータを用いて膜厚０．１μｍとなるように中空粒子含有コート剤組成１または２を塗工し、８０℃で１分間乾燥し、塗膜を形成した。次いで、窒素気流下、高圧水銀ランプを用いて、３００ｍＪ／ｃｍ２の光照射条件で紫外線を照射し、反射防止膜を作製した。
【０１３５】
（ｃ）フィルム表面処理
（ｃ１）コロナ放電処理
コロナ表面処理装置（春日電機社製「ＡＧＦ−０１２」）を用い、３２０Ｗ・分／ｍ２の放電量で、ハードコート層および中空粒子含有コート層を形成した側と反対側のフィルム表面にコロナ放電処理を行い、処理後１時間以内に貼合を行った。
【０１３６】
（ｃ２）ケン化処理（アルカリ処理）
ハードコート層および中空粒子含有コート層を形成したＴＡＣフィルムを１．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液に、５５℃で２分間浸漬した。室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸を用いて中和した。再度、室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。このようにしてフィルムの両表面をケン化処理した。
【０１３７】
【表５】
【０１３８】
８．４ 保護フィルム２の作製
保護フィルム２とは、第２の保護層のことをいい、通常偏光フィルムと貼合する面とは反対の面に液晶パネルを設置する。保護フィルム２を下記の製法により作製した。
【０１３９】
三井化学株式会社製の「アペルＡＰＬ６０１３Ｔ」（商品名）をシクロペンタンに溶解させ、樹脂濃度３０質量％の樹脂溶液とした。この樹脂溶液をポリエチレンテレフタレートフィルム上にバーコーターで塗布し、１時間静置した後、８０℃で１２時間乾燥させて膜厚７２μｍのアペルフィルムを得た。
【０１４０】
ポリプラスチックス社製の「ＴＯＰＡＳ５０１３」（商品名）を塩化メチレンに溶解させ、樹脂濃度３０質量％の樹脂溶液とした。この樹脂溶液をポリエチレンテレフタレートフィルム上にバーコーターで塗布し、１時間静置した後、８０℃で１２時間乾燥させて膜厚７５μｍのトパスフィルムを得た。
【０１４１】
セルロースアセテート（酢化度６０．８％）１００質量部、トリフェニルホスフェート１２質量部、塩化メチレン３００質量部、メタノール５０質量部を密閉容器に投入し、加圧下で８０℃に保温し撹拌しながら完全に溶解した。次にこの溶液をろ過し、冷却して３０℃に保ち、ガラス基板に貼り付けたＰＥＴフィルム上に１５ミルのアプリケーターで塗布した。この状態で５分間静置した後、さらに１００℃のオーブンで１時間乾燥を終了させ、膜厚８０μｍのＴＡＣフィルム（紫外線吸収剤なし）を得た。
【０１４２】
さらに、保護フィルム２として、ＪＳＲ株式会社製「アートンＲ５３００」（商品名）、ＪＳＲ株式会社製「アートンＲ５３００Ｕ」（商品名）（紫外線吸収剤入りフィルム）、日本ゼオン株式会社製「ゼオノアＺＦ１４−１００」（商品名）を用いた。これらの保護フィルムについては、特に加工することなくそのまま使用した。
【０１４３】
８．５ 偏光フィルムの作製
ホウ酸２０質量部、ヨウ素０．２質量部、ヨウ化カリウム０．５質量部を水４８０質量部に溶解させて染色液を調製した。この染色液にＰＶＡフィルム（アイセロ社製、「ビニロンフィルム＃４０」）を３０秒浸漬した後、フィルムを一方向に２倍延伸し、乾燥させて、膜厚３０μｍのＰＶＡフィルムを作製した。
【０１４４】
８．６ 接着剤の調製
（ａ）ＵＶ接着剤の調製
（ａ１）ＵＶ接着剤１の調製
東亜合成株式会社製「アロニクスＭ−３１５」１２部、ダイセル化学工業株式会社製「セロキサイド２０２１Ｐ」３２．５部、株式会社クラレ製「クラレポリオールＣ−２０９０」１０部、サンアプロ株式会社製「ＣＰＩ−１１０Ａ」２．５部、阪本薬品工業株式会社製「ＳＲ−ＮＰＧ」３３部、三洋化成工業株式会社製「サンニックスＧＰ−４００」８部、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製「Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４」２部を混合し、ＵＶ接着剤１を調製した。
【０１４５】
（ａ２）ＵＶ接着剤２の調製
４−ヒドロキシブチルアクリレート５８．８部、ビニルエステル樹脂（ビスフェノール系ビニルエステル）１９．６部、ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン１９．６部、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド１．１部、日本化薬株式会社製「ＫＡＹＡＭＥＲ ＰＭ−２」０．１部、２−メルカプトベンゾチアゾール０．５部、住友化学株式会社製「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ ＧＡ８０」０．３部を混合し、ＵＶ接着剤２を調製した。
【０１４６】
（ｂ）水系接着剤の調製
ポリビニルアルコール系樹脂である和光純薬工業株式会社製「１６３−０３０４５（分子量：２２，０００、ケン化度：８８モル％）」に、水を加えて固形分濃度が７重量％の水溶液を調製した。一方、ポリウレタン系樹脂である大日本インキ化学工業株式会社製「ＷＬＳ−２０１（固形分濃度３５重量％）」１００部に、ポリエポキシ系硬化剤である大日本インキ化学工業株式会社製「ＣＲ−５Ｌ（有効成分１００％品）」５部を配合し、水で希釈して固形分濃度が２０重量％の水溶液を調製した。得られたポリウレタン系樹脂水溶液とポリビニルアルコール系樹脂水溶液とを、重量比で１：１（固形分重量比で８０：２０）の割合で混合し、固形分濃度が１５重量％の混合接着剤を調製した。
【０１４７】
８．７ 貼合方法
（ａ）ＵＶ接着剤
ＵＶ接着剤１または２をワイヤーバーコータ＃３を用いて、保護フィルム２上に塗工し、その上に「８．４ 偏光フィルムの作製」で作製したＰＶＡフィルムを気泡等の欠陥が入らないように貼合した。次に、保護フィルム１上にＵＶ接着剤１または２をワイヤーバーコータ＃３を用いて塗工し、上記貼合したフィルムのＰＶＡ上に、気泡等の欠陥が入らないように貼合した。ガラス板上に保護フィルム２が上になるように保護フィルム１の四方をテープで固定し、メタルハライドランプ（照度２２０ｍＷ／ｃｍ２、照射光量１，０００ｍＪ／ｃｍ２）で保護フィルム２の側から光照射し、２３℃、５０％ＲＨで２４時間静置した。
【０１４８】
（ｂ）水系接着剤
水系接着剤をワイヤーバーコータ＃３を用いて保護フィルム２上に塗工し、その上に「８．４ 偏光フィルムの作製」で作製したＰＶＡフィルムを気泡等の欠陥が入らないように貼合した。次に、保護フィルム１上に、水系接着剤をワイヤーバーコータ＃３を用いて塗工し、上記貼合したフィルムのＰＶＡ上に、気泡等の欠陥が入らないように貼合した。フィルムが剥がれないように固定し、８０℃で１時間加熱した後、２３℃、５０％ＲＨで２４時間静置した。
【０１４９】
８．８ 評価方法
（ａ）耐擦傷性（スチールウール耐性テスト）
スチールウール（ボンスターＮｏ．００００、日本スチールウール株式会社製）を学振型摩擦堅牢度試験機（ＡＢ−３０１、テスター産業（株）製）に取り付け、硬化膜の表面を荷重５００ｇの条件で１０回繰り返し擦過し、当該硬化膜の表面における傷の発生の有無を、以下の基準により目視で確認した。評価基準は以下のとおりである。結果を表６および表７に示す。
◎：硬化膜に傷が発生しない。
○：硬化膜の剥離や傷の発生がほとんど認められないか、あるいは硬化膜にわずかな細い傷が認められる。
×：硬化膜全面に筋状の傷、あるいは硬化膜の剥離が認められる。
【０１５０】
接着剤としてＵＶ接着剤を用いた場合には、ケン化処理工程を省くことができる。そのため保護フィルム１は、その種類によらず優れた耐擦傷性を示した（実施例１〜１１参照）。しかし、接着剤として水系接着剤を用いた場合には、接着強度を高めるためにケン化処理を行う必要がある。そうすると、上記試験により保護フィルム１の全面に筋上の傷、あるいは硬化膜の剥離が認められた（比較例１〜３）。
【０１５１】
（ｂ）剥離強度
作製した貼合フィルムの剥離強度は、「ＪＩＳ Ｋ ６８５４−４ 接着剤−剥離接着強さ試験法 第４部：浮動ローラ法」に準じて測定した。作製した貼合フィルムを金属板（ステンレス製、寸法：長さ２００ｍｍ、幅２５ｍｍ、厚み１．５ｍｍ）上に両面粘着テープ（ＳＴ−４１６Ｐ、住友スリーエム社製）で固定した。カッターナイフを用い、貼合フィルムの長手方向の端を剥離した。ＪＩＳ法に従い、浮動ローラにサンプルを取り付け、剥離したフィルムサンプルの端を引っ張り試験機のつかみ具に固定し、引っ張り試験機にて浮動ローラを３００ｍｍ／分の速度で上昇させ、フィルムが剥離するときの平均剥離力（単位：Ｎ）を測定した。結果を表６および表７に示す。
【０１５２】
剥離強度の評価は、平均剥離力が１．５Ｎ以上、もしくは貼合フィルムが破壊あるいは貼合フィルムの端を剥離できない場合を剥離強度○、平均剥離力が０．６Ｎ以上１．５Ｎ未満の場合を剥離強度△、平均剥離力が０．６Ｎ未満の場合を剥離強度×とした。
【０１５３】
接着剤の種類、保護フィルムの種類、保護フィルムの貼合面処理方法によらず、優れた剥離強度が得られた。
【０１５４】
【表６】
【０１５５】
【表７】
【図面の簡単な説明】
【０１５６】
【図１】本実施形態に係る偏光板の断面を示す模式図である。
【図２】本実施形態に係る偏光板の製造方法を説明する模式図である。
【符号の説明】
【０１５７】
１０…偏光フィルム、１２…第１の放射線硬化型接着剤層、１４…第１の保護層、１６…第２の放射線硬化型接着剤層、１８…第２の保護層、２０…ハードコート層、２０…低屈折率層、３０，３２…貼合ロール、４０，４２…ロール、５０…偏光板巻取部、６０，６２…接着剤供給部、７０，７２…放射線照射部、８０…粘着剤層、９０…液晶パネル、偏光板…１００
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偏光板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ（以下、「ＬＣＤ」という。）は、薄型、軽量、低消費電力という特徴から、パソコンのモニターを始めとしてテレビモニター、携帯電話などの表示デバイスとして使用されている。そして、ＬＣＤは近年、耐久性および耐熱性の要求される自動車用途、例えば、カーナビゲーション、自動車用インナーパネルといった用途に拡大されつつある。
【０００３】
ＬＣＤは、一般に、電場の印加により液晶分子の配向方向を制御することで偏光の通過、遮断を切り替える機能を持つ液晶セルと、それを挟む状態で透過軸を直角に配置された二枚の偏光板から構成される。
【０００４】
偏光板は、通常、透明性に優れた基板（光学フィルム）と、偏光子から形成される。また、偏光板は、光学フィルムを延伸し、透過光に位相差を与える機能を付与したフィルム（位相差フィルム）と、偏光子から形成されていてもよい。
【０００５】
前記偏光子としては、一般にポリビニルアルコール（以下、「ＰＶＡ」という。）にヨウ素や二色性染料を吸着、分散させた一軸配向フィルムが用いられている。このＰＶＡ系偏光子は、偏光機能に優れているが、耐熱性が低く、温度変化や水分量の変化によって寸法変化が起こり、偏光機能の低下をきたすことが知られている。それを防止するため、前記基板が、ＰＶＡ系偏光子の両面に保護層として接着されている。保護層としては、従来からトリアセチルセルロース樹脂フィルムや環状オレフィン系樹脂フィルムが主に用いられ、接着剤としてＰＶＡを含有する水系の接着剤が用いられている。トリアセチルセルロース樹脂フィルムを水系接着剤で接着する場合は、十分な接着強度を得るために、接着前にトリアセチルセルロース樹脂フィルムを高温のアルカリ水溶液に浸漬し、その表面のアセチル基をケン化して除去する必要がある（例えば、特許文献１および特許文献２参照）。
【０００６】
一方、昨今の液晶ディスプレイの大型化に伴い、ディスプレイへの写り込みが問題となり、その対策としてディスプレイの表面に反射防止層を形成することが一般的に行われている。その手法の一つに、ディスプレイ表面に保護層より屈折率の低い低屈折率層を設ける手法があり、低屈折率層としてコロイダルシリカや中空シリカ粒子を含有する硬化膜を使用することが提案されている。
【０００７】
しかしながら、シリカ粒子、特に中空シリカ粒子を含むフィルムをケン化処理すると、中空シリカ粒子は侵食されてしまい、反射防止層の耐擦傷性が低下する原因となっていた。ケン化処理の際に該反射防止層を保護するために、プロテクトフィルムを貼合する方法もあるが、その分コストが上昇してしまう。
【特許文献１】特開平９−２５８０２３号公報
【特許文献２】特開平１０−２６８１３３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、偏光フィルムと保護層との接着強度が高く、耐擦傷性に優れた偏光板の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明に係る偏光板の製造方法は、（ａ）偏光フィルムと前記偏光フィルムの第１の面の上に形成された第１の保護層との間、および前記偏光フィルムと前記偏光フィルムの第２の面の上に形成された第２の保護層との間に、放射線硬化型接着剤用組成物を供給する工程と、（ｂ）前記偏光フィルムと、前記第１の保護層と、前記第２の保護層と、を前記放射線硬化型接着剤用組成物を介して貼合する工程と、（ｃ）放射線を照射することにより前記放射線硬化型接着剤用組成物を硬化させて、放射線硬化型接着剤層を形成する工程と、を含み、少なくとも第１の保護層は、ケン化処理を行っていないことを特徴とする。
【００１０】
本発明に係る偏光板の製造方法は、前記工程（ａ）の前に、さらに、前記第１の保護層または前記第２の保護層の前記偏光フィルムを貼合する面にコロナ放電処理を行う工程を含むことができる。
【００１１】
本発明に係る偏光板の製造方法において、前記第１の保護層および前記第２の保護層の少なくとも一方は、紫外線吸収剤を含むことができる。
【００１２】
本発明に係る偏光板の製造方法において、前記第１の保護層または前記第２の保護層のうち紫外線透過率の高い保護層側から放射線を照射することができる。
【００１３】
本発明に係る偏光板の製造方法において、前記第２の保護層は、位相差フィルムの機能を兼ねることができる。
【００１４】
本発明に係る偏光板の製造方法は、さらに、前記第１の保護層の上に、ハードコート層を形成する工程を含むことができる。
【００１５】
本発明に係る偏光板の製造方法において、前記ハードコート層は、帯電防止機能を有することができる。
【００１６】
本発明に係る偏光板の製造方法は、さらに、前記ハードコート層の上に、低屈折率層を形成する工程を含むことができる。
【００１７】
本発明に係る偏光板の製造方法において、前記低屈折率層は、シリカ系中空粒子を含むことができる。
【００１８】
本発明に係る偏光板の製造方法において、前記放射線硬化型接着剤層は、少なくとも下記成分（ｄ）と、（ｅ）と、（ｆ）とを含む放射線硬化性液状樹脂組成物の硬化物であることができる。
（ｄ）脂環式エポキシ化合物、
（ｅ）水酸基を少なくとも１個含有し、数平均分子量が５００以上である化合物、
（ｆ）光酸発生剤。
【００１９】
本発明に係る偏光板の製造方法において、さらに、前記放射線硬化性液状樹脂組成物は、下記式（１）で表される成分を含むことができる。
【化２】
（Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立に一価の有機基であり、Ｒ１〜Ｒ３のうち少なくとも２つが−Ｒ４ＯＣＯＣＲ５＝ＣＨ２であり、Ｒ４は炭素数２〜８の２価の有機基であり、Ｒ５は水素原子またはメチル基である。）
【００２０】
本発明に係る偏光板の製造方法において、さらに、前記放射線硬化性液状樹脂組成物は、脂肪族エポキシ化合物を含むことができる。
【発明の効果】
【００２１】
上記偏光板の製造方法によれば、偏光フィルムと保護層とを放射線硬化型接着剤を介して貼合するため、従来の水系接着剤を用いる際に必要とされていたケン化処理工程を省くことができる。これにより、シリカ系中空粒子含有層の劣化を防止することができ、偏光板製造プロセスにおける耐擦傷性の低下を改善することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、本発明の好適な実施形態について、図面を参照しながら説明する。
【００２３】
１．偏光板の構成
まず、本実施形態に係る偏光板の製造方法によって、製造される偏光板の構成について説明する。図１は、本実施形態に係る偏光板１００の断面を示す模式図である。偏光板１００は、偏光フィルム１０と、偏光フィルム１０の第１の面の上に、第１の放射線硬化型接着剤層１２を介して形成された第１の保護層１４と、前記偏光フィルム１０の第２の面の上に、第２の放射線硬化型接着剤層１６を介して形成された第２の保護層１８と、から構成されている。偏光板１００には、第１の保護層１４の面の上にハードコート層２０が設けられている。さらに、偏光板１００には、ハードコート層２０の面の上に低屈折率層２２が設けられている。偏光板１００には、図１に示すように、第２の保護層１８の面の上に粘着剤層８０を介して、液晶パネル９０を設置することができる。
【００２４】
偏光フィルム１０は、入射光を互いに直行する２つの偏光成分に分け、その一方のみを通過させ、他の成分を吸収または分散させる働きを有するものをいずれも用いることができ、特に限定されない。
【００２５】
第１の保護層１４および第２の保護層１８の少なくとも一方は、紫外線吸収剤を含んでいるとよい。この紫外線吸収剤により、液晶デバイスを紫外線から保護することができる。ところが、放射線硬化型接着剤層１２および１６を硬化させるためには、少なくとも第１の保護層側または第２の保護層側から、紫外線を照射する必要がある。第１の保護層１４または第２の保護層１８に紫外線吸収剤が含まれていると、紫外線を照射しても放射線硬化型接着剤層１２および１６を十分に硬化することができない場合がある。そこで、第１の保護層１４または第２の保護層１８のうち、紫外線透過率の高い保護層側から放射線を照射するとよい。もちろん、両側から放射線を照射してもよい。
【００２６】
紫外線吸収剤を含む保護層が偏光フィルム１０の少なくとも一方の面にあれば、本来の目的とする液晶デバイスへの影響を抑制できるが、偏光フィルム１０へ与える影響を考慮すると、紫外線吸収剤を第１の保護層へ添加することが好ましい。
【００２７】
第２の保護層１８は、偏光フィルム１０を保護する機能のほか、液晶層の着色による補償や視野角による位相差変化の補償等の位相差フィルムとしての機能を兼ねることができる。例えば、第２の保護層１８としてポリマーフィルムを延伸することにより得られた複屈折フィルムを用いると、液晶層の複屈折を補償し、着色を除去することができる。
【００２８】
ハードコート層２０は、液晶セル９０への漏電を防止し、偏光板１００の機械的強度を高めることができる。例えば、ハードコート層２０に帯電防止剤を添加することにより、帯電防止機能を備えることができる。
【００２９】
低屈折率層２２を設けることにより低屈折率化することができる。これにより、偏光板１００に反射防止機能を備えることができる。
【００３０】
偏光板１００は、良好な偏光機能を有し、高温および高湿度の雰囲気下においても、放射線硬化型接着剤層１２および１６を介することにより、偏光フィルム１０と第１の保護層１４、および偏光フィルム１０と第２の保護層１８との強固な接着が長時間維持される。また、偏光板１００は、耐熱性、耐薬品性などの特性にも優れており、長期使用においても剥離、変形、位相差変化などが生じにくく、高い信頼性を有し、耐久性に優れ、ＬＣＤなどに好適に用いることができる。
【００３１】
偏光フィルム、第１および第２の保護層、放射線硬化型接着剤層、ハードコート層、シリカ系中空粒子含有層の機能および材質等については、後で詳細に説明する。
【００３２】
２．偏光板の製造方法
本実施形態に係る偏光板の製造方法は、下記の工程（ａ）〜（ｃ）を含み、少なくとも第１の保護層は、ケン化処理を行っていないことを特徴とするものである。
（ａ）偏光フィルムと前記偏光フィルムの第１の面の上に形成された第１の保護層との間、および前記偏光フィルムと前記偏光フィルムの第２の面の上に形成された第２の保護層との間に、放射線硬化型接着剤用組成物を供給する工程、
（ｂ）前記偏光フィルムと、前記第１の保護層と、前記第２の保護層と、を前記放射線硬化型接着剤用組成物を介して貼合する工程、
（ｃ）放射線を照射することにより前記放射線硬化型接着剤用組成物を硬化させて、放射線硬化型接着剤層を形成する工程。
【００３３】
以下、本実施の形態に係る偏光板１００を製造するための方法について図面を用いて具体的に説明する。図２は、偏光板１００の製造工程を説明するための模式図である。
【００３４】
工程（ａ）では、偏光フィルム１０と第１の保護層１４との間に、第１の接着剤供給部６０から、放射線硬化型接着剤用組成物を供給する。また、偏光フィルム１０と第２の保護層１８との間に、第２の接着剤供給部６２から放射線硬化型接着剤用組成物を供給する。
【００３５】
工程（ｂ）では、偏光フィルム１０と、第１の保護層１４と、第２の保護層１８と、を１対のロールからなる貼合ロール３０，３２により貼合し、圧着する。
【００３６】
工程（ｃ）では、第１の放射線照射部７０および第２の放射線照射部７２の少なくともいずれか一方から放射線を照射することにより、前記放射線硬化型接着剤用組成物を硬化させる。
【００３７】
まず、工程（ａ）について詳細に説明する。
【００３８】
第１の接着剤供給部６０は、偏光フィルム１０と第１の保護層１４との間に、放射線硬化型接着剤用組成物を噴射することにより供給している。第２の接着剤供給部６２は、偏光フィルム１０と第２の保護層１８との間に、放射線硬化型接着剤用組成物を噴射することにより供給している。
【００３９】
放射線硬化型接着剤層の膜厚は、放射線硬化型接着剤用組成物の供給量により調整することができるが、好ましくは０．５〜５μｍ、より好ましくは１〜３μｍである。また、接着剤供給部６０，６２は、放射線硬化型接着剤用組成物を噴射する装置に限定されず、放射線硬化型接着剤用組成物を塗布する装置に代えることもできる。
【００４０】
第１の保護層１４の偏光フィルム１０と接着する面とは反対の面に、ハードコート層や低屈折率層をあらかじめ貼り合わせておいてもよい。例えば、第１の保護層１４の上にハードコート層用組成物をワイヤーバーコータ等で均一の膜厚となるように塗工し、乾燥後、光を照射することにより、ハードコート層を形成することができる。さらに、ハードコート層の上に低屈折率層用組成物をワイヤーバーコータ等で均一の膜厚となるように塗工し、乾燥後、光を照射することにより、低屈折率層を形成することができる。
【００４１】
なお、放射線硬化型接着剤用組成物を供給する前に、第１の保護層１４および第２の保護層１８の偏光フィルム１０と貼合する面についてコロナ放電処理を行うとよい。これにより、偏光フィルム１０とそれぞれの保護層との接着性を高めることができる。例えば、保護層として環状オレフィン系樹脂を用いた場合、環状オレフィン系樹脂は、その表面に極性基がないため接着性に優れないことがある。このような場合に、コロナ放電処理を行うと、高周波高電圧を利用して大気中にコロナ放電を発生させ、それにより生成される官能基とともに、その電子を樹脂表面に照射することにより、樹脂表面の改質を行うことができる。
【００４２】
次に、工程（ｂ）について説明する。
【００４３】
偏光フィルム１０と、第１の保護層１４と、第２の保護層１８と、を１対のロールからなる貼合ロール３０，３２により圧着し貼り合わせる。図２に示すロール貼合は、積層すべき全ての層を一度に圧着することができ、貼合の工程数を減らすことができるので、生産性に優れている。
【００４４】
次に、工程（ｃ）について説明する。
【００４５】
第１の放射線照射部７０および第２の放射線照射部７２の少なくともいずれか一方から放射線を照射することにより、放射線硬化型接着剤層を硬化させる。放射線照射部に用いる光源としては、例えば、メタルハライドランプ、ハイパーメタルハライドランプ、ＬＥＤ光源等を使用することができる。放射線硬化型樹脂組成物中の光重合開始剤は、紫外線等の放射線により反応し、放射線硬化型接着剤層が瞬間的に硬化するため生産性に優れている。
【００４６】
ここで、本実施形態に係る一具体例として、第１の保護層１４は紫外線吸収剤を含み、第２の保護層１８は紫外線吸収剤を含まない場合について説明する。この例では、第２の保護層１８は、紫外線吸収剤を含まないため、放射線硬化性樹脂組成物中の光重合開始剤として、紫外線領域に吸収波長をもつ化合物を選択することができる。光源として、例えばメタルハライドランプを用いて、ナトリウムのＤ線（波長３６５ｎｍ）を含む紫外線を照射することにより、放射線硬化型接着剤層を硬化させることができる。その結果、偏光フィルム１０と第２の保護層１４とを接着することができる。
【００４７】
一方、第１の保護層１４は、紫外線吸収剤を含んでいるため、第１の放射線照射部７０から紫外線を照射しても第１の放射線硬化型接着剤層１２を十分に硬化させることができない。そこで、放射線硬化性樹脂組成物中の光重合開始剤として、４００ｎｍ以上に吸収波長をもつ化合物を選択し、４００ｎｍ以上の波長を含む放射線を第１の放射線照射部７０から照射することにより、第１の放射線硬化型接着剤層１２を硬化させることができる。光源として、例えば４０５ｎｍの波長の照射強度が強いハイパーメタルハライドランプを用いることができる。その結果、偏光フィルム１０と第１の保護層１４とを接着することができる。
【００４８】
上記工程（ａ）ないし（ｃ）を経て圧着された偏光板１００は、１対のロール４０，４２を介して偏光板巻取部５０で巻き取られる。
【００４９】
本実施形態に係る偏光板の製造方法は、偏光フィルム１０と第１の保護層１４，第２の保護層１８を接着するためにＰＶＡ系接着剤等の水系接着剤を使用せず、放射線硬化型接着剤を使用する。これにより、例えば、従来から保護層として利用されているトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムの表面に存在するアセチル基を除去するためのケン化処理を行う必要がない。本実施形態に係る偏光板の製造方法によれば、低屈折率層に添加された中空シリカ粒子は、ケン化処理により侵食されることなく、反射防止機能および耐擦傷性を損なうことがない。
【００５０】
３．偏光フィルム
本実施形態に係る偏光板において、偏光フィルムとしては、偏光フィルムとしての機能、すなわち、入射光を互いに直行する２つの偏光成分に分け、その一方のみを通過させ、他の成分を吸収または分散させる働きを有するものをいずれも用いることができ、特に限定されない。本実施形態で用いられる偏光フィルムとしては、例えば、ＰＶＡ・ヨウ素系偏光フィルム、ＰＶＡ系フィルムに二色性染料を吸着配向させたＰＶＡ・染料系偏光フィルム、ＰＶＡ系フィルムより脱水反応を誘起させたり、ポリ塩化ビニルフィルムの脱塩酸反応により、ポリエンを形成させたポリエン系偏光フィルム、分子内にカチオン基を含有する変性ＰＶＡからなるＰＶＡ系フィルムの表面および／または内部に二色性染料を有する偏光フィルムなどが挙げられる。これらのうち、最も好ましいものとしては、ＰＶＡ・ヨウ素系偏光フィルムが挙げられる。
【００５１】
本実施形態で用いられる偏光フィルムは、その製造方法も特に限定されない。例えば、ＰＶＡ系フィルムに延伸後ヨウ素イオンを吸着させる方法、ＰＶＡ系フィルムを二色性染料による染色後延伸する方法、ＰＶＡ系フィルムを延伸後二色性染料で染色する方法、二色性染料をＰＶＡ系フィルムに印刷後延伸する方法、ＰＶＡ系フィルムを延伸後、二色性染料を印刷する方法などの公知の方法が挙げられる。より具体的には、ヨウ素をヨウ化カリウム溶液に溶解して、高次のヨウ素イオンを作り、このイオンをＰＶＡ系フィルムに吸着させて延伸し、次いで１〜４％ホウ酸水溶液に浴温度３０〜４０℃で浸漬して偏光膜を製造する方法、あるいはＰＶＡフィルムを同様にホウ酸処理して一軸方向に３〜７倍程度延伸し、０．０５〜５％の二色性染料水溶液に浴温度３０〜４０℃で浸漬して染料を吸着し、８０〜１００℃で乾燥して熱固定して偏光フィルムを製造する方法などが挙げられる。
【００５２】
本実施形態で用いられる偏光フィルムの厚さは、特に限定されるものではないが、好ましくは１０〜５０μｍ、より好ましくは１５〜４５μｍ程度である。
【００５３】
これらの偏光フィルムは、そのまま本実施形態に係る偏光板の製造に用いてもよいが、隣接する接着剤層との接着強度を高める目的で表面処理を施すことができる。表面処理としては、プラズマ処理、コロナ処理、アルカリ処理、コーティング処理などを挙げることができる。
【００５４】
４．保護層
本実施形態に係る偏光板において、保護層としては、例えば、トリアセチルセルロースのようなアセテート系樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂等のポリエステル系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、環状オレフィン系樹脂、アクリル系樹脂などの光学的に透明な樹脂からなるフィルムを挙げることができる。
【００５５】
本願発明においては、第１または第２の保護層のうち、一方の保護層は紫外線防止性を有する保護層であり、他方の保護層は紫外線透過性を有する保護層であることが好ましい。
【００５６】
上記紫外線防止性を有する保護層は、偏光板が液晶セルの両面に配置される場合に、外部の紫外線から液晶セルを保護する役割を果たすものである。紫外線防止性を有する保護層には、上述したように紫外線吸収剤を適宜配合することができる。本実施形態に係る偏光板では、紫外線吸収剤を配合した紫外線防止性を有する保護層の波長３８０ｎｍにおける光の透過率が、例えば、１０％以下のものを好ましく用いることができる。
【００５７】
上記紫外線透過性を有する保護層は、当該保護層の側から放射線照射（光照射）を行うことにより、放射線硬化性組成物を硬化させるためのものである。紫外線透過性を有する保護層は、紫外線吸収剤を含まないか、または該保護層を介して光を照射することにより放射線硬化性組成物を硬化させることができる程度に紫外線吸収剤を含むことができる。本実施形態に係る偏光板では、紫外線透過性を有する保護層の波長３８０ｎｍにおける光の透過率が、例えば、６０％以上のものを好ましく用いることができる。
【００５８】
また、保護層は、上述したように位相差フィルムとしての機能を兼ねることもできる。
【００５９】
保護層の厚さは、特に限定されないが、例えば、１０〜２００μｍとなるように設定することができる。
【００６０】
また、保護層は放射線硬化性組成物の塗布前に表面処理を行うこともできる。表面処理としては、プラズマ処理、コロナ放電処理、アルカリ処理、コーティング処理などを挙げることができるが、これらのうち、コロナ放電処理を行うことが特に好ましい。
【００６１】
例えば、保護層として環状オレフィン系樹脂を用いた場合、環状オレフィン系樹脂は、その表面に極性基がないため接着性に優れないことがある。このような場合に、コロナ放電処理を行うと、高周波高電圧を利用して大気中にコロナ放電を発生させ、それにより生成される官能基とともに、その電子を樹脂表面に照射することにより、樹脂表面の改質を行うことができる。
【００６２】
５．放射線硬化型接着剤層
本実施形態において接着剤として使用される放射線硬化性組成物は、第１および第２の保護層と偏光フィルムとを接着させるためのものである。当該放射線硬化性組成物は、下記（ｄ）ないし（ｆ）、およびその他の任意成分を含有することができる。
（ｄ）：脂環式エポキシ化合物
（ｅ）：水酸基を少なくとも１個含有し、数平均分子量が５００以上である化合物
（ｆ）：光酸発生剤
【００６３】
以下、各成分について詳細に説明する。
【００６４】
５．１ 成分（ｄ）
放射線硬化性組成物を構成する成分（ｄ）は、脂環式エポキシ化合物、好ましくは１分子中に２個以上の脂環式エポキシ基を有する脂環式エポキシ化合物である。１分子中に２個以上の脂環式エポキシ基を有する脂環式エポキシ化合物を成分（ｄ）の全量中に５０質量％以上含有すると、良好な硬化速度や機械的強度を保つことができる。
【００６５】
成分（ｄ）として用いられる脂環式エポキシ化合物の具体例としては、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビス（３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル）アジペート、３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシル−３’，４’−エポキシ−６’−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、ε−カプロラクトン変性３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、トリメチルカプロラクトン変性３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、β−メチル−δ−バレロラクトン変性３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサン）、エチレングリコールのジ（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）エーテル、エチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、エポキシシクロへキサヒドロフタル酸ジオクチル、エポキシシクロヘキサヒドロフタル酸ジ−２−エチルヘキシル等が挙げられる。
【００６６】
これらの脂環式エポキシ化合物のうち、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ε−カプロラクトン変性３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、トリメチルカプロラクトン変性３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、β−メチル−δ−バレロラクトン変性３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレートがより好ましく、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペートがさらに好ましい。
【００６７】
これらの市販品としては、セロキサイド２０２１、セロキサイド２０２１Ｐ、セロキサイド２０８１、セロキサイド２０８３、セロキサイド２０８５、エポリードＧＴ−３００、エポリードＧＴ−３０１、エポリードＧＴ−３０２、エポリードＧＴ−４００、エポリード４０１、エポリード４０３（以上、ダイセル化学工業（株）製）等が挙げられる。
【００６８】
放射線硬化性組成物中の（ｄ）脂環式エポキシ化合物の含有率は、好ましくは１０〜８０質量％、より好ましくは１２〜７５質量％、特に好ましくは１５〜７０質量％である。該含有率が１０質量％未満では、接着剤層の機械的強度及び耐熱性が不十分になる傾向がある。該含有率が８０質量％を超えると、放射線硬化性組成物を硬化させてなる接着剤層の反り等の変形が大きくなる傾向がある。
【００６９】
５．２ 成分（ｅ）
放射線硬化性接着剤用組成物を構成する成分（ｅ）は、水酸基を１個以上含有し、数平均分子量が５００以上である化合物である。
【００７０】
成分（ｅ）は、１分子中に水酸基を１個以上、好ましくは１〜４個有する。成分（ｅ）の数平均分子量は、５００以上、好ましくは１，０００以上、より好ましくは１，５００以上である。該平均分子量の上限値は、特に限定されないが、接着剤用組成物の粘度の過度の増大を防ぐ観点から、好ましくは２０，０００、より好ましくは１０，０００である。該平均分子量が５００未満であると、偏光板の裁断時の耐裁断性に劣るため、好ましくない。なお、成分（ｅ）の数平均分子量は、ＡＳＴＭ Ｄ２５０３に従い測定した値である。成分（ｅ）を用いることにより、接着強度に優れた積層フィルムを得ることができる。
【００７１】
成分（ｅ）として好適に用いられる化合物としては、ポリカプロラクトンジオール、ポリエーテルジオール、ポリエステルジオール、その他のポリオールなどが挙げられる。
【００７２】
ポリカプロラクトンジオールとしては、例えば、ε−カプロラクトンとジオールとを反応させて得られるポリカプロラクトンジオール等が挙げられる。ここで用いられるジオールとしては、例えば、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、１，２−ポリブチレングリコール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、１，４−ブタンジオールなどが挙げられる。これらポリカプロラクトンジオールの市販品としては、プラクセル２０５、２０５Ｈ、２０５ＡＬ、２１２、２１２ＡＬ、２２０、２２０ＡＬ（以上、ダイセル化学工業（株）製）等が挙げられる。
【００７３】
ポリエーテルジオールとしては、脂肪族ポリエーテルジオールが好ましく、例えば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ポリヘキサメチレングリコール、ポリヘプタメチレングリコール、ポリデカメチレングリコールなどが挙げられる。これらのポリエーテルジオールの市販品としては、ＰＥＧ＃６００、＃１０００、＃１５００、＃１５４０、＃４０００（以上、ライオン社製）、エクセノール７２０、１０２０、２０２０、３０２０、５１０、プレミノールＰＰＧ４０００（以上、旭硝子社製）等を挙げることができる。
【００７４】
ポリエステルジオールとしては、脂肪族ジオール化合物と脂肪族ジカルボン酸化合物の共重合体が好ましい。脂肪族ジオール化合物としては、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、２−メチル−１，８−オクタンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール等が挙げられ、脂肪族ジカルボン酸としては、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、セバシン酸等が挙げられる。脂肪族ジオールは１種または２種以上を使用することができ、また、脂肪族ジカルボン酸も１種または２種以上を使用することができる。これらのポリエステルジオールの市販品としては、クラレポリオールＮ−２０１０、Ｏ−２０１０、Ｐ−５１０、Ｐ−１０１０、Ｐ−１０５０、Ｐ−２０１０、Ｐ−２０５０、Ｐ−３０１０、Ｐ−３０５０（以上、クラレ社製）等を挙げることができる。
【００７５】
上記その他のポリオールとしては、例えば、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエリスリトール、ソルビトール、スクロース、クオドロール等の３価以上の多価アルコールを、エチレンオキシド（ＥＯ）、プロピレンオキシド（ＰＯ）、ブチレンオキシド、テトラヒドロフラン等の環状エーテル化合物で変性することにより得られるポリエーテルポリオールを挙げることができる。このような化合物の具体例としては、ＥＯ変性トリメチロールプロパン、ＰＯ変性トリメチロールプロパン、テトラヒドロフラン変性トリメチロールプロパン、ＥＯ変性グリセリン、ＰＯ変性グリセリン、テトラヒドロフラン変性グリセリン、ＥＯ変性ペンタエリスリトール、ＰＯ変性ペンタエリスリトール、テトラヒドロフラン変性ペンタエリスリトール、ＥＯ変性ソルビトール、ＰＯ変性ソルビトール、ＥＯ変性スクロース、ＰＯ変性スクロース、ＥＯ変性スクロース、ＥＯ変性クオドール等を例示することができ、これらのうち、ＥＯ変性トリメチロールプロパン、ＰＯ変性トリメチロールプロパン、ＰＯ変性グリセリン、ＰＯ変性ソルビトールが好ましい。
【００７６】
上記その他のポリオールの市販品としては、サンニックスＴＰ−７００、サンニックスＧＰ−１０００、サンニックスＳＰ−７５０、サンニックスＧＰ−４００、サンニックスＧＰ−６００（以上、三洋化成（株）製）等を挙げることができる。
【００７７】
また、成分（ｅ）として好適に用いられるポリオールとしては、水酸基含有不飽和化合物の重合体を挙げることができる。上記水酸基含有不飽和化合物としては、水酸基含有（メタ）アクリレートが挙げられ、具体的には、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシアルキル（メタ）アクリロイルホスフェート、４−ヒドロキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールモノ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等が挙げられる。さらにアルキルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、グリシジル（メタ）アクリレート等のグリシジル基含有化合物と（メタ）アクリル酸との付加反応により得られる化合物が挙げられる。
【００７８】
また、成分（ｅ）は、下記式（２）で示されるポリカーボネートジオールであることも好ましい。
【化３】
（式中、Ｒ６およびＲ７はそれぞれ独立に炭素数２〜１２の２価の炭化水素基を表し、Ｒ８は、Ｒ６とＲ７のいずれかと同じ構造を表す。ｍは２〜１５０、ｎは０〜１５０であり、かつ、ｍ＋ｎは２〜２００である。）
【００７９】
上記式（２）で表されるポリカーボネートジオールの製造方法としては特に限定されるものではなく、ジオール化合物とカーボネート化合物のエステル交換反応、ジオール化合物とホスゲンの重縮合反応等、既知の方法が挙げられる。成分（Ｂ）の製造に使用されるジオール化合物としては、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，９−ノナンジオール、２−メチル−１，８−オクタンジオール等が挙げられる。また、適度な接着強度を得るには、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール等の炭素数６の脂肪族炭化水素基を含有するポリカーボネートジオールがより好ましい。
【００８０】
ポリカーボネートジオールとして好適に用いられる化合物の市販品としては、ＤＮ−９８０、９８１、９８２、９８３（以上、日本ポリウレタン社製）、ＰＣ−８０００（ＰＰＧ社製）、ＰＣ−ＴＨＦ−ＣＤ（ＢＡＳＦ社製）、クラレポリオールＣ−５９０、Ｃ−１０９０、Ｃ−２０５０、Ｃ−２０９０、Ｃ−３０９０、Ｃ−２０６５Ｎ、Ｃ−２０１５Ｎ（以上、（株）クラレ製）、プラクセルＣＤ ＣＤ２１０ＰＬ、プラクセルＣＤ ＣＤ２２０ＰＬ（以上、ダイセル化学工業（株）製）等が挙げられる。
【００８１】
放射線硬化性接着剤用組成物中、成分（ｅ）の含有率は、好ましくは２〜５０質量％、より好ましくは３〜４５質量％、特に好ましくは３〜４０質量％である。該含有率が２質量％未満であると、接着剤層の接着強度が劣るため好ましくない。一方、上記含有率が５０質量％を超えると、放射線硬化性接着剤用組成物の粘度が高くなりすぎて塗工性が悪くなったり、接着剤層と被着体との接着強度が劣ることがあり、好ましくない。
【００８２】
５．３ 成分（ｆ）
放射線硬化性組成物を構成する成分（ｆ）は、光酸発生剤である。
【００８３】
光酸発生剤は、光を受けることによりルイス酸を放出する光カチオン重合開始剤である。
【００８４】
上記光酸発生剤の例として、例えば、下記一般式（３）で表される構造を有するオニウム塩が挙げられる。このオニウム塩は、４００ｎｍ未満に実質的な光吸収波長を有する。
【化４】
（式中、カチオンはオニウムイオンであり、ＺはＳ、Ｓｅ、Ｔｅ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｏ、Ｉ、Ｂｒ、ＣｌまたはＮ２を示し、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１およびＲ１２は、互いに同一または異なる有機基を示す。ａ、ｂ、ｃおよびｄは、それぞれ０〜３の整数であって、（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ−ｐ）はＺの価数に等しい。Ｍは、ハロゲン化物錯体［ＭＸｑ＋ｐ］の中心原子を構成する金属またはメタロイドを示し、例えば、Ｂ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｆｅ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ａｌ、Ｃａ、Ｉｎ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｃ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｏ等である。Ｘは、例えば、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ等のハロゲン原子であり、ｐはハロゲン化物錯体イオンの正味の電荷であり、ｑはＭの原子価である。）
【００８５】
上記一般式（３）において、オニウムイオンの具体例としては、ジフェニルヨードニウム、４−メトキシジフェニルヨードニウム、ビス（４−メチルフェニル）ヨードニウム、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウム等のジアリールヨードニウムや、トリフェニルスルホニウム、ジフェニル−４−チオフェノキシフェニルスルホニウム等のトリアリールスルホニウムや、ビス［４−（ジフェニルスルホニオ）−フェニル］スルフィド、ビス［４−（ジ（４−（２−ヒドロキシエチル）フェニル）スルホニオ）−フェニル］スルフィド、η５−２，４−（シクロペンタジエニル）［１，２，３，４，５，６−η］−（メチルエチル）−ベンゼン］−鉄（１＋）等が挙げられる。
【００８６】
前記一般式（３）において、アニオン［ＭＸｑ＋ｐ］の具体例としては、テトラフルオロボレート（ＢＦ４−）、ヘキサフルオロホスフェート（ＰＦ６−）、ヘキサフルオロアンチモネート（ＳｂＦ６−）、ヘキサフルオロアルセネート（ＡｓＦ６−）、ヘキサクロロアンチモネート（ＳｂＣｌ６−）等が挙げられる。
【００８７】
また、一般式［ＭＸｑ（ＯＨ）−］で表されるアニオンを有するオニウム塩を使用することができる。さらに、過塩素酸イオン（ＣｌＯ４−）、トリフルオロメタンスルフォン酸イオン（ＣＦ３ＳＯ３−）、フルオロスルフォン酸イオン（ＦＳＯ３−）、トルエンスルフォン酸イオン、トリニトロベンゼンスルフォン酸アニオン、トリニトロトルエンスルフォン酸アニオン等の他のアニオンを有するオニウム塩を使用することもできる。
【００８８】
成分（ｆ）として用いられるオニウム塩の例としては、例えば特開昭５０−１５１９９６号公報、特開昭５０−１５８６８０号公報等に記載の芳香族ハロニウム塩、特開昭５０−１５１９９７号公報、特開昭５２−３０８９９号公報、特開昭５６−５５４２０号公報、特開昭５５−１２５１０５号公報等に記載のＶＩＡ族芳香族オニウム塩、特開昭５０−１５８６９８号公報等に記載のＶＡ族芳香族オニウム塩、特開昭５６−８４２８号公報、特開昭５６−１４９４０２号公報、特開昭５７−１９２４２９号公報等に記載のオキソスルホキソニウム塩、特開昭４９−１７０４０号公報等に記載の芳香族ジアゾニウム塩、米国特許第４,１３９,６５５号明細書に記載のチオビリリウム塩等が挙げられる。また、鉄／アレン錯体、アルミニウム錯体／光分解ケイ素化合物系開始剤等も挙げることができる。成分（ｆ）として好ましく用いられる光酸発生剤は、ジアリールヨードニウム塩、トリアリールスルホニウム塩等の芳香族オニウム塩等であり、より好ましくはトリアリールスルホニウム塩である。
【００８９】
（ｆ）光酸発生剤の市販品の例としては、ＵＶＩ−６９５０、ＵＶＩ−６９７０、ＵＶＩ−６９７４、ＵＶＩ−６９９０（以上、ユニオンカーバイド社製）、アデカオプトマーＳＰ−１５０、ＳＰ−１５１、ＳＰ−１７０、ＳＰ−１７２（以上、旭電化工業（株）製）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４、Ｉｒｇａｃｕｒｅ２６１（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、ＣＩ−２４８１、ＣＩ−２６２４、ＣＩ−２６３９、ＣＩ−２０６４（以上、日本曹達（株）製）、ＣＤ−１０１０、ＣＤ−１０１１、ＣＤ−１０１２（以上、サートマー社製）、ＤＴＳ−１０２、ＤＴＳ−１０３、ＮＡＴ−１０３、ＮＤＳ−１０３、ＴＰＳ−１０３、ＭＤＳ−１０３、ＭＰＩ−１０３、ＢＢＩ−１０３（以上、みどり化学（株）製）、ＰＣＩ−０６１Ｔ、ＰＣＩ−０６２Ｔ、ＰＣＩ−０２０Ｔ、ＰＣＩ−０２２Ｔ（以上、日本化薬（株）製）、ＣＰＩ−１１０Ａ、ＣＰＩ−１０１Ａ（以上、サンアプロ（株））等を挙げることができる。これらのうち、ＵＶＩ−６９７０、ＵＶＩ−６９７４、アデカオプトマーＳＰ−１７０、ＳＰ−１７２、ＣＤ−１０１２、ＭＰＩ−１０３、ＣＰＩ−１１０Ａ、ＣＰＩ−１０１Ａは、これらを含有してなる組成物に高い光硬化感度を発現させることができることから特に好ましい。上記の光酸発生剤は、１種単独でまたは２種以上組み合わせて用いることができる。
【００９０】
なお、光酸発生剤による酸の発生を促進させるために、増感剤を併用してもよい。増感剤の例としては、ジヒドロキシベンゼン、トリヒドロキシベンゼン、ヒドロキシアセトフェノン、ジヒドロキシジフェニルメタン等が挙げられる。
【００９１】
放射線硬化性組成物中、（ｆ）光酸発生剤の含有率は、好ましくは０．１〜１０質量％、より好ましくは０．２〜５質量％、特に好ましくは０．３〜３質量％である。該含有率が０．１質量％未満であると、放射線硬化性組成物の放射線硬化性が低下し、十分な機械的強度を有する接着剤層を形成することができないため好ましくない。該含有率が１０質量％を超えると、光酸発生剤が接着剤層の長期特性に悪影響を及ぼす可能性があるため、好ましくない。
【００９２】
５．４ その他の成分
本実施形態で接着剤として使用される放射線硬化性組成物は、さらに、下記成分（ｇ）や（ｈ）を添加することができる。
【００９３】
５．４．１ 成分（ｇ）
上記放射線硬化性組成物は、さらに成分（ｇ）として、下記式（１）で表される重合性不飽和基を有するイソシアヌル酸誘導体を添加することができる。
【化５】
（式（１）中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立に、一価の有機基であって、Ｒ１〜Ｒ３のうち少なくとも２つが、−Ｒ４ＯＣＯＣＲ５＝ＣＨ２であり、Ｒ４は、炭素数２〜８の２価の有機基であり、Ｒ５は、水素原子またはメチル基である。）
【００９４】
成分（ｇ）は、放射線硬化性接着剤用組成物の硬化性（硬化速度）を向上させる機能を有する。成分（ｇ）は分子中に重合性不飽和基を２個以上有することが好ましい。重合性不飽和基は、特に限定されないが、（メタ）アクリレート基であることが好ましい。重合性不飽和基を２個以上有することで架橋密度が高まり、これを添加することによる硬度の低下を少なくすることができる。
【００９５】
本実施形態において用いることができる成分（ｇ）の具体例としては、トリス［２−（メタ）アクリロイルオキシエチル］イソシアヌレート、ビス［２−（メタ）アクリロイルオキシエチル］（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、ビス［２−（メタ）アクリロイルオキシエチル］イソシアヌレート、及びこれらの出発アルコール類へのエチレンオキシド（ＥＯ）、プロピレンオキシド、またはカプロラクタム付加物の（メタ）アクリレート等を挙げることができる。これらのうち、トリス［２−（メタ）アクリロイルオキシエチル］イソシアヌレート、ビス［２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートが特に好ましい。
【００９６】
成分（ｇ）として好適に使用できる市販品としては、アロニックス Ｍ−２１５、Ｍ−３１３、Ｍ−３１５、Ｍ−３２５、Ｍ−３２６、Ｍ−３２７（以上、東亜合成化学工業（株）製）、ＳＲ−３６８（サートマー社製）等を挙げることができる。上記の化合物は、１種単独で、又は２種以上組み合わせて使用することができる。
【００９７】
放射線硬化性組成物中、成分（ｇ）の含有量は、有機溶剤を除く組成物全量を１００質量％として、好ましくは、３〜４０質量％、より好ましくは、５〜３５質量％、特に好ましくは、７〜３０質量％である。３質量％未満であると、光照射直後の硬化性が不十分なことがあり、４０質量％を超えると、ＰＶＡ系成形体との接着強度が劣ることがある。
【００９８】
５．４．２ 成分（ｈ）
上記放射線硬化性組成物は、さらに成分（ｈ）として、脂肪族エポキシ化合物を添加することができる。成分（ｈ）の脂肪族エポキシ化合物は、接着剤層の機械的強度等をコントロールするために添加される任意成分である。
【００９９】
上記脂肪族エポキシ化合物の具体例としては、例えば１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル類；エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン等の脂肪族多価アルコールに１種または２種以上のアルキレンオキサイドを付加することにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル類；脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステル類；脂肪族高級アルコールのモノグリシジルエーテル類；高級脂肪酸のグリシジルエステル類；エポキシ化大豆油；エポキシステアリン酸ブチル；エポキシステアリン酸オクチル；エポキシ化アマニ油；エポキシ化ポリブタジエン等が挙げられる。
【０１００】
上記放射線硬化性組成物中、（ｈ）脂肪族エポキシ化合物の含有率は、好ましくは０〜５０質量％、より好ましくは０〜４５質量％、特に好ましくは０〜４０質量％である。該含有率が５０質量％を超えると、必須成分である（ｈ）脂環式エポキシ化合物等の含有率が小さくなり、本発明の効果が得られ難くなるため好ましくない。
【０１０１】
また、本実施形態で用いられる放射線硬化性組成物には、本発明の目的、効果を損なわない範囲において、その他の任意成分として各種の添加剤を配合することができる。かかる添加剤としては、エポキシ樹脂、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリウレタン、ポリブタジエン、ポリクロロプレン、ポリエーテル、ポリエステル、スチレン−ブタジエンブロック共重合体、石油樹脂、キシレン樹脂、ケトン樹脂、セルロース樹脂、フッ素系オリゴマー、シリコーン系オリゴマー、ポリスルフィド系オリゴマー等のポリマーあるいはオリゴマー；フェノチアジン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール等の重合禁止剤；重合開始助剤；レベリング剤；濡れ性改良剤；界面活性剤；可塑剤；紫外線吸収剤；シランカップリング剤；無機充填剤；顔料；染料等を挙げることができる。
【０１０２】
上記放射線硬化性組成物は、上記成分（ｄ）ないし（ｆ）、および必要に応じて上記任意成分を均一に混合することによって調製することができる。このようにして得られる放射線硬化性組成物の粘度（２５℃）は、通常２，０００ｍＰａ・ｓ以下、好ましくは５００ｍＰａ・ｓ以下、より好ましくは３００ｍＰａ・ｓ以下である。
【０１０３】
なお、放射線硬化性組成物には、必要に応じて有機溶媒等の溶剤を添加することができる。しかし、本願発明においては、無溶剤でも放射線硬化性組成物を調製することができる。本願発明においては、作業環境の維持、環境負荷等の面から、溶剤を含まないことが好ましい。また、放射線硬化性組成物はフィルター等でろ過したものを使用することも好ましい。
【０１０４】
放射線硬化性組成物は、放射線を照射することにより硬化させることができる。ここで、放射線としては、特に限定されないが、紫外線や電子線が多く用いられる。
【０１０５】
放射線は、空気などの酸素を含有する雰囲気下または窒素などの不活性ガスにより酸素を含有しない雰囲気下で、０．１〜３Ｊ／ｃｍ２の照射量とすることが好ましく、０．５〜２Ｊ／ｃｍ２の照射量とすることがさらに好ましい。
【０１０６】
放射線硬化型接着剤層の厚さの上限値は、特に限定するものではないが、好ましくは５０μｍ以下である。放射線硬化型接着剤層の厚さの下限値は、特に限定するものではないが、好ましくは１μｍ以上である。放射線硬化型接着剤層の光透過率は、好ましくは８０％以上、特に好ましくは９０％以上である。
【０１０７】
６．ハードコート層
本実施形態に係る偏光板の製造方法において、必要に応じて第１の保護層の面の上にハードコート層を形成することができる。ハードコート層は、高い表面硬度を有する層である。したがって、偏光板にハードコート層を形成すると、偏光板の耐擦傷性および機械的強度を高めることができる。
【０１０８】
ハードコート層の形成材料としては、二酸化ケイ素等の無機活性エネルギー硬化性樹脂、またはエポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂等の有機活性エネルギー硬化性樹脂を挙げることができる。また、ハードコート層には、必要に応じて帯電防止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、染料や顔料等の着色剤、可塑剤、滑剤、界面活性剤などを添加することができる。
【０１０９】
具体的には、ハードコート層に帯電防止剤を添加して、帯電防止機能を付与する場合がある。例えば、第１の保護層が環状オレフィン系樹脂からなる場合には、含水率が極めて低いため静電気を帯びやすいという性質がある。ＬＣＤの組立時において、第１の保護層が静電気を帯びていると、液晶セルに帯電し故障の原因となることがある。
【０１１０】
また、ハードコート層を防眩処理することもできる。防眩処理とは、一般的にはハードコート層の表面に微細な凹凸を有する硬い透明樹脂層を形成することをいう。これにより、外光を拡散反射させて反射像をぼかすことができるため、窓や照明機器等の光による周辺環境の写り込みを防止し視認性を向上させることができる。
【０１１１】
ハードコート層の厚さは、好ましくは０．５〜５０μｍであって、より好ましくは１〜３０μｍである。ハードコート層の屈折率は、好ましくは１．４５〜１．７０であり、より好ましくは１．４５〜１．６０である。
【０１１２】
７．低屈折率層
本実施形態に係る偏光板の製造方法において、ハードコート層若しくは第１の保護層の面の上に、低屈折率層を形成することができる。低屈折率層を形成することにより、偏光板に光の反射防止機能を付与することができる。
【０１１３】
低屈折率層の形成材料としては、例えば、含フッ素重合体含有硬化性組成物、アクリルモノマー、含フッ素アクリルモノマー、エポキシ基含有化合物、含フッ素エポキシ基含有化合物等の硬化物を挙げることができる。さらに低屈折率層の屈折率を低下させるために、これにシリカ等の中空粒子を添加することもできる。シリカ系中空粒子の粒子径は、好ましくは５〜１００ｎｍであり、より好ましくは２０〜８０ｎｍである。この範囲であると、優れた低屈折率を実現することができる。
【０１１４】
例えば、屈折率が１．４５〜１．７０のハードコート層の上に屈折率が１．３０〜１．４５の低屈折率層を形成することによって、偏光板は優れた反射防止機能を備えることができる。
【０１１５】
低屈折率層の厚さは、好ましくは０．０５〜０．２０μｍであり、より好ましくは０．０８〜０．１２μｍである。
【０１１６】
８．実施例
以下、本発明について実施例を挙げてさらに具体的に説明する。本発明は、以下の実施例に限定されるものではない。
【０１１７】
８．１ シリカ系中空粒子含有コート材の作製
（ａ）水酸基含有含フッ素重合体の合成
内容積２．０リットルの電磁撹拌機付きステンレス製オートクレーブを窒素ガスで十分置換した後、酢酸エチル４００ｇ、パーフルオロ（プロピルビニルエーテル）５３．２ｇ、エチルビニルエーテル３６．１ｇ、ヒドロキシエチルビニルエーテル４４．０ｇ、過酸化ラウロイル１．０ｇ、アゾ基含有ポリジメチルシロキサン（ＶＰＳ１００１（商品名）、和光純薬工業株式会社製）６．０ｇおよびノニオン性反応性乳化剤（ＮＥ−３０（商品名）、旭電化工業株式会社製）２０．０ｇを仕込み、ドライアイス−メタノールで−５０℃まで冷却した後、再度窒素ガスで系内の酸素を除去した。
【０１１８】
次いで、ヘキサフルオロプロピレン１２０．０ｇを仕込み、昇温を開始した。オートクレーブ内の温度が６０℃に達した時点での圧力は、５．３×１０５Ｐａを示した。その後、７０℃で２０時間撹拌下に反応を継続し、圧力が１．７×１０５Ｐａに低下した時点でオートクレーブを水冷し、反応を停止させた。室温に達した後、未反応モノマーを放出してオートクレーブを開放し、固形分濃度２６．４％のポリマー溶液を得た。得られたポリマー溶液をメタノールに投入しポリマーを析出させた後、メタノールにて洗浄し、５０℃にて真空乾燥を行い２２０ｇの水酸基含有含フッ素重合体を得た。これを水酸基含有含フッ素重合体とする。使用した単量体と溶剤の仕込み量を表１に示す。
【０１１９】
【表１】
【０１２０】
得られた水酸基含有フッ素重合体について、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるポリスチレン換算数平均分子量およびアリザリンコンプレクソン法によるフッ素含量をそれぞれ測定した。また、１Ｈ−ＮＭＲ、１３Ｃ−ＮＭＲの両ＮＭＲ分析結果、元素分析結果およびフッ素含量から、水酸基含有含フッ素重合体を構成する各単量体成分の割合を決定した。結果を表２に示す。
【０１２１】
【表２】
【０１２２】
なお、ＶＰＳ１００１は、数平均分子量が７〜９万、ポリシロキサン部分の分子量が約１０，０００のアゾ基含有ポリジメチルシロキサンである。ＮＥ−３０は、ノニオン性反応性乳化剤である。
【０１２３】
（ｂ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体（メタアクリル変性フッ素重合体）の合成
電磁撹拌機、ガラス製冷却管および温度計を備えた容量１リットルのセパラブルフラスコに、上記（ａ）で得られた水酸基含有含フッ素重合体を５０．０ｇ、重合禁止剤として２，６−ジ−ｔ−ブチルメチルフェノール０．０１ｇおよびメチルイソブチルケトン（以下、「ＭＩＢＫ」ともいう。）３７０ｇを仕込み、２０℃で水酸基含有含フッ素重合体がＭＩＢＫに溶解して、溶液が透明・均一になるまで撹拌を行った。次いで、この系に２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート１５．１ｇを添加し、溶液が均一になるまで撹拌した後、ジブチルチンジラウレート０．１ｇを添加して反応を開始し、系の温度を５５〜６５℃に保持し５時間撹拌を継続することにより、エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体のＭＩＢＫ溶液を得た。この溶液をアルミ皿に２ｇ秤量後、１５０℃のホットプレート上で５分間乾燥、秤量して固形分含量を求めたところ、１５．０重量％であった。使用した化合物、溶剤および固形分含量を表３に示す。
【０１２４】
【表３】
【０１２５】
（ｃ）特定有機化合物の製造
乾燥空気中、メルカプトプロピルトリメトキシシラン２３．０部、ジブチルスズジラウレート０．５部からなる溶液に対し、イソホロンジイソシアネート６０．０部を撹拌しながら５０℃で１時間かけて滴下後、７０℃で３時間撹拌した。これに新中村化学株式会社製「ＮＫエステルＡ−ＴＭＭ−３ＬＭ−Ｎ（ペンタエリスリトールトリアクリレート６０質量％とペンタエリスリトールテトラアクリレート４０質量％とからなる。このうち、反応に関与するのは、水酸基を有するペンタエリスリトールトリアクリレートのみである。）」２０２．０部を３０℃で１時間かけて滴下後、６０℃で３時間加熱撹拌することで特定有機化合物を得た。
【０１２６】
生成物の赤外吸収スペクトルは、原料中のメルカプト基に特徴的な２５５０ｃｍ−１の吸収ピークおよびイソシアネート基に特徴的な２２６０ｃｍ−１の吸収ピークが消失し、新たに［−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−］基および［−Ｓ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−］基中のカルボニルに特徴的な１６６０ｃｍ−１のピークおよびアクリロイル基に特徴的な１７２０ｃｍ−１のピークが観察され、重合性不飽和基としてのアクリロイル基と［−Ｓ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−］基、［−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−］基を共に有する特定有機化合物が生成していることを示した。
【０１２７】
（ｄ）アクリル変性中空シリカ粒子の製造
上記（ｃ）で合成した特定有機化合物３部、中空シリカ粒子Ｃ−１（触媒化成工業株式会社製、商品名「ＪＸ１００９ＳＩＶ」）１３７部（固形分３０部）、イオン交換水０．１部、０．０５ｍｏｌ／Ｌの希硫酸０．０１部、オルトギ酸メチルエステル１．４部を用いてアクリル変性中空シリカ粒子Ｃ−２を得た。アクリル変性中空シリカ粒子の固形分含量を求めたところ、２５質量％であった。
【０１２８】
（ｅ）中空粒子含有コート剤組成１の作製
表４に示すように、上記（ｂ）で得たエチレン性不飽和基含有含フッ素重合体のＭＩＢＫ溶液を６７ｇ（固形分として１０ｇ）、ペンタエリスリトールヒドロキシトリアクリレート（日本化薬株式会社製、商品名「ＰＥＴ−３０」）を２９ｇ、上記（ｄ）で得たアクリル変性中空シリカ粒子Ｃ−２分散液を２２８ｇ（固形分として５７ｇ）、２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］−フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製、商品名「Ｉｒｇａｃｕｒｅ１２７」）を３ｇ、アクリル変性ポリジメチルシロキサン（チッソ株式会社製、商品名「サイラプレーンＦＭ−０７２５」）を１ｇおよびＭＩＢＫ９００ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１６２９ｇを、撹拌機をつけたガラス製セパラブルフラスコに仕込み、室温にて１時間撹拌し均一な硬化性樹脂組成物を得た。また、上記（ｂ）に記載した方法により固形分濃度を求めたところ３．５重量％であった。
【０１２９】
（ｆ）中空粒子含有コート剤組成２の作製
表４に示すように、ペンタエリスリトールヒドロキシトリアクリレート（日本化薬株式会社製、商品名「ＰＥＴ−３０」）を３９ｇ、中空シリカ粒子Ｃ−１（触媒化成工業株式会社製、商品名「ＪＸ１００９ＳＩＶ」）を２５９ｇ（固形分として５７ｇ）、２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］−フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製、商品名「Ｉｒｇａｃｕｒｅ１２７」）を３ｇ、アクリル変性ポリジメチルシロキサン（チッソ株式会社製、商品名「サイラプレーンＦＭ−０７２５」）を１ｇおよびＭＩＢＫ９２６ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１６２９ｇを、撹拌機をつけたガラス製セパラブルフラスコに仕込み、室温にて１時間撹拌し均一な硬化性樹脂組成物を得た。また、上記（ｂ）に記載した方法により固形分濃度を求めたところ３．５重量％であった。
【０１３０】
【表４】
【０１３１】
８．２ ハードコート用組成物の調製
紫外線を遮断した容器中において、ペンタエリスリトールヒドロキシトリアクリレート９５質量部、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン５重量部、ＭＩＢＫ１００重量部を５０℃で２時間撹拌することで均一な溶液のハードコート層用組成物を得た。この組成物をアルミ皿に２ｇ秤量後、１２０℃のホットプレート上で１時間乾燥、秤量して固形分含量を求めたところ、５０重量％であった。
【０１３２】
８．３ 保護フィルム１の作製
本実施例において、保護フィルム１とは、第１の保護層、ハードコート層、および中空粒子含有コート層の３層を積層したフィルムのことをいう。保護フィルム１は、下記の工程（ａ）〜（ｃ）により作製した。保護フィルム１−１ないし１−６の作製に用いた材料および表面処理方法について表５にまとめた。
【０１３３】
（ａ）ハードコート層の形成
第１の保護層に「８．２ ハードコート用組成物の調製」で調製したハードコート層用組成物をワイヤーバーコータで膜厚６μｍとなるように塗工し、オーブン中、８０℃で１分間乾燥し、塗膜を形成した。次いで、空気下、高圧水銀ランプを用いて、３００ｍＪ／ｃｍ２の光照射条件で紫外線を照射し、硬化性樹脂組成物塗工用基材を作製した。
【０１３４】
（ｂ）中空粒子含有コート層の形成
上記の工程（ａ）で得られた硬化性樹脂組成物塗工用基材のハードコート層の上にワイヤーバーコータを用いて膜厚０．１μｍとなるように中空粒子含有コート剤組成１または２を塗工し、８０℃で１分間乾燥し、塗膜を形成した。次いで、窒素気流下、高圧水銀ランプを用いて、３００ｍＪ／ｃｍ２の光照射条件で紫外線を照射し、反射防止膜を作製した。
【０１３５】
（ｃ）フィルム表面処理
（ｃ１）コロナ放電処理
コロナ表面処理装置（春日電機社製「ＡＧＦ−０１２」）を用い、３２０Ｗ・分／ｍ２の放電量で、ハードコート層および中空粒子含有コート層を形成した側と反対側のフィルム表面にコロナ放電処理を行い、処理後１時間以内に貼合を行った。
【０１３６】
（ｃ２）ケン化処理（アルカリ処理）
ハードコート層および中空粒子含有コート層を形成したＴＡＣフィルムを１．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液に、５５℃で２分間浸漬した。室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸を用いて中和した。再度、室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。このようにしてフィルムの両表面をケン化処理した。
【０１３７】
【表５】
【０１３８】
８．４ 保護フィルム２の作製
保護フィルム２とは、第２の保護層のことをいい、通常偏光フィルムと貼合する面とは反対の面に液晶パネルを設置する。保護フィルム２を下記の製法により作製した。
【０１３９】
三井化学株式会社製の「アペルＡＰＬ６０１３Ｔ」（商品名）をシクロペンタンに溶解させ、樹脂濃度３０質量％の樹脂溶液とした。この樹脂溶液をポリエチレンテレフタレートフィルム上にバーコーターで塗布し、１時間静置した後、８０℃で１２時間乾燥させて膜厚７２μｍのアペルフィルムを得た。
【０１４０】
ポリプラスチックス社製の「ＴＯＰＡＳ５０１３」（商品名）を塩化メチレンに溶解させ、樹脂濃度３０質量％の樹脂溶液とした。この樹脂溶液をポリエチレンテレフタレートフィルム上にバーコーターで塗布し、１時間静置した後、８０℃で１２時間乾燥させて膜厚７５μｍのトパスフィルムを得た。
【０１４１】
セルロースアセテート（酢化度６０．８％）１００質量部、トリフェニルホスフェート１２質量部、塩化メチレン３００質量部、メタノール５０質量部を密閉容器に投入し、加圧下で８０℃に保温し撹拌しながら完全に溶解した。次にこの溶液をろ過し、冷却して３０℃に保ち、ガラス基板に貼り付けたＰＥＴフィルム上に１５ミルのアプリケーターで塗布した。この状態で５分間静置した後、さらに１００℃のオーブンで１時間乾燥を終了させ、膜厚８０μｍのＴＡＣフィルム（紫外線吸収剤なし）を得た。
【０１４２】
さらに、保護フィルム２として、ＪＳＲ株式会社製「アートンＲ５３００」（商品名）、ＪＳＲ株式会社製「アートンＲ５３００Ｕ」（商品名）（紫外線吸収剤入りフィルム）、日本ゼオン株式会社製「ゼオノアＺＦ１４−１００」（商品名）を用いた。これらの保護フィルムについては、特に加工することなくそのまま使用した。
【０１４３】
８．５ 偏光フィルムの作製
ホウ酸２０質量部、ヨウ素０．２質量部、ヨウ化カリウム０．５質量部を水４８０質量部に溶解させて染色液を調製した。この染色液にＰＶＡフィルム（アイセロ社製、「ビニロンフィルム＃４０」）を３０秒浸漬した後、フィルムを一方向に２倍延伸し、乾燥させて、膜厚３０μｍのＰＶＡフィルムを作製した。
【０１４４】
８．６ 接着剤の調製
（ａ）ＵＶ接着剤の調製
（ａ１）ＵＶ接着剤１の調製
東亜合成株式会社製「アロニクスＭ−３１５」１２部、ダイセル化学工業株式会社製「セロキサイド２０２１Ｐ」３２．５部、株式会社クラレ製「クラレポリオールＣ−２０９０」１０部、サンアプロ株式会社製「ＣＰＩ−１１０Ａ」２．５部、阪本薬品工業株式会社製「ＳＲ−ＮＰＧ」３３部、三洋化成工業株式会社製「サンニックスＧＰ−４００」８部、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製「Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４」２部を混合し、ＵＶ接着剤１を調製した。
【０１４５】
（ａ２）ＵＶ接着剤２の調製
４−ヒドロキシブチルアクリレート５８．８部、ビニルエステル樹脂（ビスフェノール系ビニルエステル）１９．６部、ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン１９．６部、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド１．１部、日本化薬株式会社製「ＫＡＹＡＭＥＲ ＰＭ−２」０．１部、２−メルカプトベンゾチアゾール０．５部、住友化学株式会社製「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ ＧＡ８０」０．３部を混合し、ＵＶ接着剤２を調製した。
【０１４６】
（ｂ）水系接着剤の調製
ポリビニルアルコール系樹脂である和光純薬工業株式会社製「１６３−０３０４５（分子量：２２，０００、ケン化度：８８モル％）」に、水を加えて固形分濃度が７重量％の水溶液を調製した。一方、ポリウレタン系樹脂である大日本インキ化学工業株式会社製「ＷＬＳ−２０１（固形分濃度３５重量％）」１００部に、ポリエポキシ系硬化剤である大日本インキ化学工業株式会社製「ＣＲ−５Ｌ（有効成分１００％品）」５部を配合し、水で希釈して固形分濃度が２０重量％の水溶液を調製した。得られたポリウレタン系樹脂水溶液とポリビニルアルコール系樹脂水溶液とを、重量比で１：１（固形分重量比で８０：２０）の割合で混合し、固形分濃度が１５重量％の混合接着剤を調製した。
【０１４７】
８．７ 貼合方法
（ａ）ＵＶ接着剤
ＵＶ接着剤１または２をワイヤーバーコータ＃３を用いて、保護フィルム２上に塗工し、その上に「８．４ 偏光フィルムの作製」で作製したＰＶＡフィルムを気泡等の欠陥が入らないように貼合した。次に、保護フィルム１上にＵＶ接着剤１または２をワイヤーバーコータ＃３を用いて塗工し、上記貼合したフィルムのＰＶＡ上に、気泡等の欠陥が入らないように貼合した。ガラス板上に保護フィルム２が上になるように保護フィルム１の四方をテープで固定し、メタルハライドランプ（照度２２０ｍＷ／ｃｍ２、照射光量１，０００ｍＪ／ｃｍ２）で保護フィルム２の側から光照射し、２３℃、５０％ＲＨで２４時間静置した。
【０１４８】
（ｂ）水系接着剤
水系接着剤をワイヤーバーコータ＃３を用いて保護フィルム２上に塗工し、その上に「８．４ 偏光フィルムの作製」で作製したＰＶＡフィルムを気泡等の欠陥が入らないように貼合した。次に、保護フィルム１上に、水系接着剤をワイヤーバーコータ＃３を用いて塗工し、上記貼合したフィルムのＰＶＡ上に、気泡等の欠陥が入らないように貼合した。フィルムが剥がれないように固定し、８０℃で１時間加熱した後、２３℃、５０％ＲＨで２４時間静置した。
【０１４９】
８．８ 評価方法
（ａ）耐擦傷性（スチールウール耐性テスト）
スチールウール（ボンスターＮｏ．００００、日本スチールウール株式会社製）を学振型摩擦堅牢度試験機（ＡＢ−３０１、テスター産業（株）製）に取り付け、硬化膜の表面を荷重５００ｇの条件で１０回繰り返し擦過し、当該硬化膜の表面における傷の発生の有無を、以下の基準により目視で確認した。評価基準は以下のとおりである。結果を表６および表７に示す。
◎：硬化膜に傷が発生しない。
○：硬化膜の剥離や傷の発生がほとんど認められないか、あるいは硬化膜にわずかな細い傷が認められる。
×：硬化膜全面に筋状の傷、あるいは硬化膜の剥離が認められる。
【０１５０】
接着剤としてＵＶ接着剤を用いた場合には、ケン化処理工程を省くことができる。そのため保護フィルム１は、その種類によらず優れた耐擦傷性を示した（実施例１〜１１参照）。しかし、接着剤として水系接着剤を用いた場合には、接着強度を高めるためにケン化処理を行う必要がある。そうすると、上記試験により保護フィルム１の全面に筋上の傷、あるいは硬化膜の剥離が認められた（比較例１〜３）。
【０１５１】
（ｂ）剥離強度
作製した貼合フィルムの剥離強度は、「ＪＩＳ Ｋ ６８５４−４ 接着剤−剥離接着強さ試験法 第４部：浮動ローラ法」に準じて測定した。作製した貼合フィルムを金属板（ステンレス製、寸法：長さ２００ｍｍ、幅２５ｍｍ、厚み１．５ｍｍ）上に両面粘着テープ（ＳＴ−４１６Ｐ、住友スリーエム社製）で固定した。カッターナイフを用い、貼合フィルムの長手方向の端を剥離した。ＪＩＳ法に従い、浮動ローラにサンプルを取り付け、剥離したフィルムサンプルの端を引っ張り試験機のつかみ具に固定し、引っ張り試験機にて浮動ローラを３００ｍｍ／分の速度で上昇させ、フィルムが剥離するときの平均剥離力（単位：Ｎ）を測定した。結果を表６および表７に示す。
【０１５２】
剥離強度の評価は、平均剥離力が１．５Ｎ以上、もしくは貼合フィルムが破壊あるいは貼合フィルムの端を剥離できない場合を剥離強度○、平均剥離力が０．６Ｎ以上１．５Ｎ未満の場合を剥離強度△、平均剥離力が０．６Ｎ未満の場合を剥離強度×とした。
【０１５３】
接着剤の種類、保護フィルムの種類、保護フィルムの貼合面処理方法によらず、優れた剥離強度が得られた。
【０１５４】
【表６】
【０１５５】
【表７】
【図面の簡単な説明】
【０１５６】
【図１】本実施形態に係る偏光板の断面を示す模式図である。
【図２】本実施形態に係る偏光板の製造方法を説明する模式図である。
【符号の説明】
【０１５７】
１０…偏光フィルム、１２…第１の放射線硬化型接着剤層、１４…第１の保護層、１６…第２の放射線硬化型接着剤層、１８…第２の保護層、２０…ハードコート層、２０…低屈折率層、３０，３２…貼合ロール、４０，４２…ロール、５０…偏光板巻取部、６０，６２…接着剤供給部、７０，７２…放射線照射部、８０…粘着剤層、９０…液晶パネル、偏光板…１００
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）偏光フィルムと前記偏光フィルムの第１の面の上に形成された第１の保護層との間、および前記偏光フィルムと前記偏光フィルムの第２の面の上に形成された第２の保護層との間に、放射線硬化型接着剤用組成物を供給する工程と、
（ｂ）前記偏光フィルムと、前記第１の保護層と、前記第２の保護層と、を前記放射線硬化型接着剤用組成物を介して貼合する工程と、
（ｃ）放射線を照射することにより前記放射線硬化型接着剤用組成物を硬化させて、放射線硬化型接着剤層を形成する工程と、
を含み、少なくとも第１の保護層は、ケン化処理を行っていない、偏光板の製造方法。
【請求項２】
請求項１において、
前記工程（ａ）の前に、さらに、前記第１の保護層または前記第２の保護層の前記偏光フィルムを貼合する面にコロナ放電処理を行う工程を含む、偏光板の製造方法。
【請求項３】
請求項１または２において、
前記第１の保護層および前記第２の保護層の少なくとも一方は、紫外線吸収剤を含む、偏光板の製造方法。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれかにおいて、
前記第１の保護層または前記第２の保護層のうち紫外線透過率の高い保護層側から放射線を照射する、偏光板の製造方法。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれかにおいて、
前記第２の保護層は、位相差フィルムの機能を兼ねた、偏光板の製造方法。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれかにおいて、
さらに、前記第１の保護層の上に、ハードコート層を形成する工程を含む、偏光板の製造方法。
【請求項７】
請求項６において、
前記ハードコート層は、帯電防止機能を有する、偏光板の製造方法。
【請求項８】
請求項６または７において、
さらに、前記ハードコート層の上に、低屈折率層を形成する工程を含む、偏光板の製造方法。
【請求項９】
請求項８において、
前記低屈折率層は、シリカ系中空粒子を含む、偏光板の製造方法。
【請求項１０】
請求項１ないし９のいずれかにおいて、
前記放射線硬化型接着剤層は、少なくとも下記成分（ｄ）と、（ｅ）と、（ｆ）とを含む放射線硬化性液状樹脂組成物の硬化物である、偏光板の製造方法。
（ｄ）脂環式エポキシ化合物、
（ｅ）水酸基を少なくとも１個含有し、数平均分子量が５００以上である化合物、
（ｆ）光酸発生剤。
【請求項１１】
請求項１０において、
さらに、前記放射線硬化性液状樹脂組成物は、下記式（１）で表される成分を含む、偏光板の製造方法。
【化１】
（Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立に一価の有機基であり、Ｒ１〜Ｒ３のうち少なくとも２つが−Ｒ４ＯＣＯＣＲ５＝ＣＨ２であり、Ｒ４は炭素数２〜８の２価の有機基であり、Ｒ５は水素原子またはメチル基である。）
【請求項１２】
請求項１０または１１において、
さらに、前記放射線硬化性液状樹脂組成物は、脂肪族エポキシ化合物を含む、偏光板の製造方法。
【請求項１】
（ａ）偏光フィルムと前記偏光フィルムの第１の面の上に形成された第１の保護層との間、および前記偏光フィルムと前記偏光フィルムの第２の面の上に形成された第２の保護層との間に、放射線硬化型接着剤用組成物を供給する工程と、
（ｂ）前記偏光フィルムと、前記第１の保護層と、前記第２の保護層と、を前記放射線硬化型接着剤用組成物を介して貼合する工程と、
（ｃ）放射線を照射することにより前記放射線硬化型接着剤用組成物を硬化させて、放射線硬化型接着剤層を形成する工程と、
を含み、少なくとも第１の保護層は、ケン化処理を行っていない、偏光板の製造方法。
【請求項２】
請求項１において、
前記工程（ａ）の前に、さらに、前記第１の保護層または前記第２の保護層の前記偏光フィルムを貼合する面にコロナ放電処理を行う工程を含む、偏光板の製造方法。
【請求項３】
請求項１または２において、
前記第１の保護層および前記第２の保護層の少なくとも一方は、紫外線吸収剤を含む、偏光板の製造方法。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれかにおいて、
前記第１の保護層または前記第２の保護層のうち紫外線透過率の高い保護層側から放射線を照射する、偏光板の製造方法。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれかにおいて、
前記第２の保護層は、位相差フィルムの機能を兼ねた、偏光板の製造方法。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれかにおいて、
さらに、前記第１の保護層の上に、ハードコート層を形成する工程を含む、偏光板の製造方法。
【請求項７】
請求項６において、
前記ハードコート層は、帯電防止機能を有する、偏光板の製造方法。
【請求項８】
請求項６または７において、
さらに、前記ハードコート層の上に、低屈折率層を形成する工程を含む、偏光板の製造方法。
【請求項９】
請求項８において、
前記低屈折率層は、シリカ系中空粒子を含む、偏光板の製造方法。
【請求項１０】
請求項１ないし９のいずれかにおいて、
前記放射線硬化型接着剤層は、少なくとも下記成分（ｄ）と、（ｅ）と、（ｆ）とを含む放射線硬化性液状樹脂組成物の硬化物である、偏光板の製造方法。
（ｄ）脂環式エポキシ化合物、
（ｅ）水酸基を少なくとも１個含有し、数平均分子量が５００以上である化合物、
（ｆ）光酸発生剤。
【請求項１１】
請求項１０において、
さらに、前記放射線硬化性液状樹脂組成物は、下記式（１）で表される成分を含む、偏光板の製造方法。
【化１】
（Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立に一価の有機基であり、Ｒ１〜Ｒ３のうち少なくとも２つが−Ｒ４ＯＣＯＣＲ５＝ＣＨ２であり、Ｒ４は炭素数２〜８の２価の有機基であり、Ｒ５は水素原子またはメチル基である。）
【請求項１２】
請求項１０または１１において、
さらに、前記放射線硬化性液状樹脂組成物は、脂肪族エポキシ化合物を含む、偏光板の製造方法。
【図１】
【図２】
【図２】
【公開番号】特開２００９−７５１９２（Ｐ２００９−７５１９２Ａ）
【公開日】平成２１年４月９日（２００９．４．９）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−２４１９４５（Ｐ２００７−２４１９４５）
【出願日】平成１９年９月１９日（２００７．９．１９）
【出願人】（０００００４１７８）ＪＳＲ株式会社 (3,320)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年４月９日（２００９．４．９）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年９月１９日（２００７．９．１９）
【出願人】（０００００４１７８）ＪＳＲ株式会社 (3,320)
【Ｆターム（参考）】
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